JP2001176394A - Forming method for rear face board of plasma display panel - Google Patents
Forming method for rear face board of plasma display panelInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの背面板形成に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the formation of a back plate of a plasma display panel.
【0002】[0002]
【従来の技術】薄型の大画面用カラー表示装置等に用い
られるプラズマディスプレイパネルは、微小な表示セル
と呼ばれる隔壁で囲まれた空間に、対向する電極を設
け、前記空間に希ガス等の放電可能なガスを封入した構
造を成しており、対向する電極間に放電によりプラズマ
を発生させ、該プラズマにより蛍光体を発光させて画面
の発光素子として利用するものである。2. Description of the Related Art A plasma display panel used for a thin large-screen color display device or the like is provided with opposing electrodes in a space surrounded by partition walls called minute display cells, and discharges rare gas or the like into the space. It has a structure in which a possible gas is sealed, generates plasma by discharge between opposing electrodes, and emits a phosphor by the plasma to be used as a light emitting element of a screen.
【0003】具体的な構造は、背面板の一面に多数の障
壁を形成して各障壁間をセルとし、このセルの底面に電
極を備えたものを背面板とする。この背面板に対してセ
ルの内壁面に蛍光体を塗布し、一方、電極を備えた前面
板を背面板の隔壁上に接合して、セルにガスを封入する
ことにより、プラズマ表示装置を構成する。なお、電極
は直行するように配置する。In a specific structure, a large number of barriers are formed on one surface of a back plate, and a cell is provided between the barriers. A back plate is provided with electrodes on the bottom surface of the cell. A phosphor is applied to the inner wall surface of the cell with respect to the back plate, and a front plate provided with electrodes is joined to a partition of the back plate, and a gas is sealed in the cell to form a plasma display device. I do. Note that the electrodes are arranged so as to be orthogonal.
【0004】一般にプラズマディスプレイパネルの背面
板上の障壁の製造方法としては、背面板上に障壁形成用
組成物から成るペーストをスクリーン印刷法により障壁
パターンの印刷・乾燥を繰り返し、所定の高さまで積層
して障壁形状を形成した後、焼成して焼き固める方式が
知られているが、この方式は、繰り返し工程数が多い
上、ダレやスクリーン印刷版のメッシュに起因する障壁
底部の乱れや、印刷時の位置ズレ、スクリーン印刷版自
体の伸びによる変形等のため、良好な寸法精度を得られ
ず、高精細化への対応は難しい。In general, as a method of manufacturing a barrier on a back plate of a plasma display panel, a paste comprising a composition for forming a barrier is repeatedly printed and dried on a back plate by a screen printing method to a predetermined height, and laminated to a predetermined height. After the barrier shape is formed, a method of baking and solidifying is known.However, this method has a large number of repeated steps, and the barrier bottom is disturbed due to sagging and the mesh of the screen printing plate, and printing is performed. Due to misalignment at the time and deformation due to elongation of the screen printing plate itself, good dimensional accuracy cannot be obtained, and it is difficult to cope with high definition.
【0005】他には、スクリーン印刷法に変わる障壁形
成方法として、背面板上に必要な厚さで障壁形成材料を
層状に形成し、マスクパターンを用いてサンドブラスト
加工で不要な部分を研削削除して障壁形状を形成する方
式が知られているが、この方式は、障壁形成部分以外の
障壁材料が削除されるため製造コストが高くなる問題が
あり、また、更なる高精細化に対応するため、幅が狭い
障壁を細かいピッチで形成しようとした場合には、障壁
が高くなるほどサンドブラスト加工で不要部分を研削削
除するのに伴い障壁部側面も研削されるために、加工中
に障壁が破損したり、焼成時の障壁破損の原因になるこ
とがあり、高精細化への対応は難しい。As another barrier forming method instead of the screen printing method, a barrier forming material is formed in a required thickness on a back plate, and unnecessary portions are ground and removed by sandblasting using a mask pattern. There is known a method of forming a barrier shape by using such a method. However, this method has a problem in that a barrier material other than a barrier forming portion is deleted, thereby increasing a manufacturing cost, and also in order to cope with higher definition. However, when trying to form a narrow barrier at a fine pitch, the higher the barrier, the more the unnecessary parts are ground by sandblasting, and the side of the barrier is also ground, so the barrier is damaged during processing. Or it may cause barrier breakage during firing, making it difficult to respond to high definition.
【0006】そこで、特開平9−134676に示され
るように、ガラス粉体と骨材とバインダ−との混合物か
らなる隔壁形成材料を、隔壁の反転パターンをもつ成型
型中に充填して得た成型体と背面板を接合一体化して隔
壁を形成する方式が提案されている。Therefore, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-134676, a partition wall forming material comprising a mixture of glass powder, aggregate and binder was filled in a mold having a reverse pattern of partition walls. A method has been proposed in which a partition is formed by joining and integrating a molded body and a back plate.
【0007】また、特開平10−302614に示され
るように、ガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物か
らなる隔壁形成材料を背面板に塗布し、複数の溝を刻設
したロールの表面で塗布面を加圧しながら回転させて、
隔壁形成材料を塑性変形させてロールの円周溝に隔壁を
形成する方式も提案されている。Further, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-302614, a partition wall forming material comprising a mixture of glass powder, aggregate and binder is applied to a back plate, and a plurality of grooves are formed on the surface of a roll. Rotate while applying pressure to the application surface,
A method of forming a partition in a circumferential groove of a roll by plastically deforming a partition forming material has also been proposed.
【0008】これらの方式では、形状、寸法精度とも良
好な隔壁の形成また隔壁形成材料の無駄もなく製造コス
トも安価に押さえることが可能である。In these methods, it is possible to form a partition having good shape and dimensional accuracy and to reduce the manufacturing cost without wasting the material for forming the partition.
【0009】また、これらの方式では、成形型に隔壁形
成材料を充填する際に、成形型の溝部のみに充填した場
合には、隔壁部のみの形成となるが、溝部のみでなく成
形型表面にも隔壁形成材料を膜状に残した場合、膜状の
隔壁形成材料は誘電体層となり、隔壁と誘電体層の一括
形成が可能になる。なお、従来のガラス粉末と骨材とバ
インダーとの混合物のバインダーの成分比は10〜20
%である。また、従来のガラス粉末と骨材とバインダー
の混合物において従来は軟化点500〜550℃のガラ
ス粉末を使っている。また、従来のガラス粉末と骨材と
バインダーの混合物において、従来は骨材は10〜20
%含まれている。In these systems, when the mold is filled with the partition wall forming material and only the groove of the mold is filled, only the partition wall is formed, but not only the groove but also the surface of the mold. When the partition wall forming material is also left in a film state, the film partition wall forming material becomes a dielectric layer, and the partition walls and the dielectric layer can be formed at once. In addition, the component ratio of the binder of the mixture of the conventional glass powder, the aggregate, and the binder is 10 to 20.
%. Further, in the conventional mixture of glass powder, aggregate and binder, glass powder having a softening point of 500 to 550 ° C. is conventionally used. Further, in the conventional mixture of glass powder, aggregate and binder, the aggregate is conventionally 10 to 20.
%include.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
パネルの背面板における誘電体層においては、電極上に
かぶる誘電体の厚みが大きいと非常に高い放電開始電圧
が必要となるため、誘電体層の厚みは約15μm程度が
限度であり、誘電体層全体の膜厚は5〜20μm程度の
間で均一に形成する必要がある。In the dielectric layer on the back plate of the plasma display panel, a very high discharge starting voltage is required if the thickness of the dielectric covering the electrode is large. Is about 15 μm, and the thickness of the entire dielectric layer must be uniform between about 5 and 20 μm.
【0011】そこで、上記の方式にて隔壁及び誘電体を
一括形成する場合、成形型に隔壁形成材料を充填する方
式として、成形型上に隔壁形成材料をスクリーン印刷や
ドクター又はプレスロール等による埋め込みにて充填す
る方式と、隔壁を形成したい基板上に隔壁形成材料を所
定の膜厚で塗布した上に成形型を加圧圧着させる方式が
ある。Therefore, when the partition walls and the dielectric are simultaneously formed by the above-mentioned method, the partition wall forming material is filled in the mold by screen printing or embedding by a doctor or a press roll. And a method in which a material for forming a partition is applied in a predetermined thickness on a substrate on which a partition is to be formed, and then a molding die is press-compressed.
【0012】しかしながら、実際に成形型に隔壁形成材
料を充填させると、直接成形型上に隔壁形成材料を充填
する方式では、スクリーンメッシュ跡やスキージ、ドク
ター、プレスロールの加圧ムラ等が原因となり、また、
基板上の隔壁形成材料に成形型を加圧圧着する方式で
は、基板のうねりや成形型の加圧ムラが原因となり、誘
電体に相当する部分の膜厚を5〜20μmの間で均一に
形成することは非常に困難である。これは基板が大型化
すると更に困難になる。However, when the mold is actually filled with the partition-forming material, the method of directly filling the mold with the partition-forming material may be caused by screen mesh marks, unevenness in the pressure of squeegees, doctors, press rolls, and the like. ,Also,
In the method in which the mold is pressed and pressed against the material for forming the partition walls on the substrate, the thickness of the portion corresponding to the dielectric is uniformly formed between 5 and 20 μm due to the undulation of the substrate and the unevenness of the pressure of the mold. It is very difficult to do. This becomes more difficult as the size of the substrate increases.
【0013】誘電体層の膜厚が均一でないと、プラズマ
ディスプレイパネルを点灯させる際に、誘電体の膜厚差
が原因となり、放電のアドレス時間に差が生じる。If the thickness of the dielectric layer is not uniform, a difference in the thickness of the dielectric is caused when the plasma display panel is turned on, which causes a difference in the discharge address time.
【0014】また、誘電体を薄膜化させて形成する場合
には、成形型への隔壁形成材料の充填ムラによって、隔
壁及び誘電体形成時に電極が露出する不良が発生しやす
い。In the case where the dielectric is formed into a thin film, a defect that the electrodes are exposed during the formation of the partition and the dielectric is likely to occur due to uneven filling of the material for forming the partition into the mold.
【0015】本発明は、上記のような問題を解決すべく
なされたものであり、均一性の良好な隔壁及び均一性の
良好な膜厚を持つ誘電体を低コストにて得られ、大画面
化が容易に実現可能なプラズマディスプレイ用背面板の
製造方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and can provide a partition having good uniformity and a dielectric having a good uniform thickness at a low cost, and have a large screen. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a rear panel for a plasma display, which can be easily realized.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題を
解決するため、ストライプ状若しくは所定形状の溝部を
持つ成形型にガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物
を充填し、セラミックス又はガラスからなる基板上に当
接して、基板上に隔壁及び誘電体を一括にて形成する方
法に於いて、ガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物
のバインダー成分比を40〜60%とすることを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの背面板形成方法を提
供する。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention fills a mold having a stripe or a groove with a predetermined shape with a mixture of glass powder, aggregate and a binder, and mixes the mixture with a ceramic or a binder. In a method in which a partition wall and a dielectric are collectively formed on a substrate made of glass by abutting on the substrate, a binder component ratio of a mixture of glass powder, aggregate, and a binder is set to 40 to 60%. A method for forming a back plate of a plasma display panel is provided.
【0017】さらに本発明は、請求項1に於いて、ガラ
ス粉体と骨材とバインダーとの混合物に軟化点400〜
500℃のガラス粉体を使用することを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネルの背面板形成方法を提供する。Further, according to the present invention, the mixture of the glass powder, the aggregate and the binder has a softening point of 400-400.
Provided is a method for forming a back plate of a plasma display panel, wherein a glass powder at 500 ° C. is used.
【0018】さらに本発明は、ストライプ状若しくは所
定形状の溝部を持つ成形型にガラス粉体と骨材とバイン
ダーとの混合物を充填し、セラミックス又はガラスから
なる基板上に当接して、基板上に隔壁及び誘電体を一括
にて形成する方法に於いて、成形型の溝部にガラス粉体
とバインダーの混合物を充填した後、成形型表面に更に
バインダー成分比が40〜60%のガラス粉体と骨材と
バインダーとの混合物を塗布することを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネルの背面板形成方法を提供する。Further, the present invention provides a mold having a stripe-shaped or predetermined-shaped groove filled with a mixture of glass powder, aggregate, and a binder, and brought into contact with a substrate made of ceramics or glass. In the method of forming the partition wall and the dielectric at one time, after filling the mixture of the glass powder and the binder into the groove of the mold, the surface of the mold is further filled with a glass powder having a binder component ratio of 40 to 60%. A method for forming a back plate of a plasma display panel, comprising applying a mixture of an aggregate and a binder.
【0019】さらに本発明は、ストライプ状若しくは所
定形状の溝部を持つ成形型にガラス粉体と骨材とバイン
ダーとの混合物を充填し、セラミックス又はガラスから
なる基板上に当接して、基板上に隔壁及び誘電体を一括
にて形成する方法に於いて、成形型の溝部にガラス粉体
とバインダーの混合物を充填した後、成形型表面に更に
軟化点400〜500℃のガラス粉体を使用したガラス
粉体と骨材とバインダーとの混合物を塗布することを特
徴とするプラズマディスプレイパネルの背面板形成方法
を提供する。Further, the present invention provides a mold having a stripe or a groove having a predetermined shape filled with a mixture of a glass powder, an aggregate and a binder, and brought into contact with a substrate made of ceramics or glass. In the method of forming the partition wall and the dielectric at one time, after filling the mixture of the glass powder and the binder into the groove of the mold, a glass powder having a softening point of 400 to 500 ° C. was further used on the surface of the mold. A method for forming a back plate of a plasma display panel, comprising applying a mixture of glass powder, aggregate, and a binder.
【0020】さらに本発明は、ストライプ状若しくは所
定形状の溝部を持つ成形型にガラス粉体と骨材とバイン
ダーとの混合物を充填し、セラミックス又はガラスから
なる基板上に当接して、基板上に隔壁及び誘電体を一括
にて形成する方法に於いて、成形型の溝部にガラス粉体
とバインダーの混合物を充填した後、成形型表面に更に
骨材を0〜5%混入したガラス粉体と骨材とバインダー
との混合物を塗布することを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの背面板形成方法を提供する。Further, the present invention provides a mold having a groove having a stripe shape or a predetermined shape filled with a mixture of glass powder, an aggregate and a binder, and brought into contact with a substrate made of ceramics or glass. In the method of forming the partition wall and the dielectric at one time, after filling the mixture of the glass powder and the binder into the groove of the mold, the surface of the mold is further mixed with a glass powder containing 0 to 5% of aggregate. A method for forming a back plate of a plasma display panel, comprising applying a mixture of an aggregate and a binder.
【0021】さらに本発明は、ストライプ状若しくは所
定形状の溝部を持つ成形型にガラス粉体と骨材とバイン
ダーとの混合物を充填し、セラミックス又はガラスから
なる基板上に当接して、基板上に隔壁及び誘電体を一括
にて形成する方法に於いて、請求項3〜5の特徴を少な
くとも2つ以上を併せ持つプラズマディスプレイパネル
の背面板形成方法を提供する。Further, the present invention provides a mold having a stripe or a groove having a predetermined shape filled with a mixture of glass powder, aggregate, and a binder, and brought into contact with a substrate made of ceramics or glass. In a method of forming a partition and a dielectric collectively, there is provided a method of forming a back plate of a plasma display panel having at least two of the features of claims 3 to 5.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0023】まず本発明のプラズマディスプレイパネル
の背面板形成におけるガラス粉体と骨材とバインダーと
の混合物からなる隔壁形成材料について説明する。First, a material for forming a partition wall composed of a mixture of glass powder, aggregate, and a binder in forming the back plate of the plasma display panel of the present invention will be described.
【0024】本方式で使用される隔壁形成材料として
は、成形型の溝部に充填する必要があるため流動性を有
するペースト状であることが好ましく、最終的な構造物
となる無機成分であるガラス粉末骨材と隔壁形状を成形
する機能を持つ有機成分であるバインダーから構成され
る。The partition wall forming material used in the present method is preferably in the form of a paste having fluidity because it is necessary to fill the grooves of the mold, and glass which is an inorganic component to be the final structure It is composed of a powder aggregate and a binder which is an organic component having a function of forming a partition wall shape.
【0025】バインダーの機能としては、成形型の溝部
に充填する段階ではペースト状であり、成形型より離型
する段階では硬化させて、形状を保持する強度を保有し
ている、という物である。この硬化形態としては、蒸発
硬化型、熱硬化型、2液硬化型、紫外線、電子線、X線
等の電離放射線硬化型等を選択することが出来る。具体
的には、蒸発硬化型の場合、汎用の天然樹脂、半合成樹
脂、合成樹脂を溶剤に溶解させた樹脂溶液を用いる。熱
硬化型、2液硬化型、電離放射線硬化型では、反応性樹
脂、反応性モノマー等と重合開始剤の組み合わせを用い
る。また、これらの硬化形態を二つ以上組み合わせても
良い。The function of the binder is that the binder is in a paste form at the stage of filling the groove of the mold, and is cured at the stage of releasing from the mold, and has a strength to maintain the shape. . As the curing mode, an evaporation curing type, a thermosetting type, a two-part curing type, an ionizing radiation curing type such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and the like can be selected. Specifically, in the case of the evaporative curing type, a resin solution in which a general-purpose natural resin, semi-synthetic resin, or synthetic resin is dissolved in a solvent is used. In the case of the thermosetting type, the two-part curing type, and the ionizing radiation curing type, a combination of a reactive resin, a reactive monomer and the like and a polymerization initiator is used. Further, two or more of these curing forms may be combined.
【0026】無機成分としては、目的最高温度で焼結す
る鉛系あるいは非鉛系低融点ガラス粉末、焼成時に障壁
の形状を保持する骨材(高融点ガラス、アルミナ、ムラ
イト、ジルコニア、チタニア等)、焼成後の隔壁の色を
決定する顔料から構成される。Examples of the inorganic component include a lead-based or lead-free low-melting glass powder which is sintered at the intended maximum temperature, an aggregate which retains the shape of the barrier during firing (high-melting glass, alumina, mullite, zirconia, titania, etc.) And a pigment that determines the color of the partition wall after firing.
【0027】上記の隔壁形成材料により隔壁形状を形成
した基板を焼成し、バインダーを消失させ、低融点ガラ
スを主成分とする無機成分を焼き固めることによって無
機物の隔壁を形成することが出来る。The substrate having the partition wall shape formed by the above-described partition wall forming material is baked, the binder is eliminated, and the inorganic component mainly composed of the low melting point glass is baked and solidified, whereby the inorganic partition wall can be formed.
【0028】このとき、隔壁形成材料におけるバインダ
ーの成分比を多くすると、焼成時には隔壁形成材料中に
含まれるバインダー成分が全て焼き飛び無機成分のみが
残るため、焼成時の隔壁形成材料の収縮率は大きくな
る。また、無機成分である低融点ガラス粉末を軟化点の
低いものにすると、焼成時には隔壁形成材料中の低融点
ガラス粉末がより緻密に焼き固まり、焼成後のガラス粉
末の粒子間の隙間がより少なくなるため、やはり焼成時
の隔壁形成材料の収縮率が大きくなる。また、隔壁形成
材料における無機成分に焼成時の形状保持のために含ま
れている骨材の成分比を少なくすると、焼成時に隔壁形
成材料中の低融点ガラスが軟化したときに形状保持力が
弱くなって流れやすくなるため、焼成時に低融点ガラス
粉末がより緻密に焼き固まり隔壁形成材料の収縮率はや
や大きくなり、さらに隔壁形成材料の膜厚ムラが均され
て緩和される。しかしながら、収縮率が大きすぎると焼
成時に隔壁の割れが生じるため、バインダー成分比は4
0〜60%、低融点ガラスの融点は400〜500℃、
骨材の成分比は0〜5%の間にて設定する。At this time, when the component ratio of the binder in the partition wall forming material is increased, the binder component contained in the partition wall forming material is entirely burned out during firing, and only the inorganic component remains. growing. Further, when the low melting point glass powder, which is an inorganic component, has a low softening point, the low melting point glass powder in the partition wall forming material is more densely baked during firing, and the gap between the particles of the fired glass powder is smaller. Therefore, the shrinkage ratio of the partition wall forming material during firing also increases. Further, when the component ratio of the aggregate contained in the inorganic component in the partition wall forming material for holding the shape during firing is reduced, the shape holding force is weak when the low melting point glass in the partition wall forming material is softened during firing. As a result, the low-melting-point glass powder is baked more densely during firing, so that the shrinkage ratio of the partition wall forming material is slightly increased, and the unevenness of the film thickness of the partition wall forming material is evened out. However, if the shrinkage is too large, the partition walls crack during firing, so that the binder component ratio is 4%.
0-60%, the melting point of the low melting glass is 400-500 ° C,
The component ratio of the aggregate is set between 0 and 5%.
【0029】本発明によるプラズマディスプレイパネル
の形成方法では、上記隔壁形成材料を成形型に充填し
て、基板上に隔壁形状を形成する。成形型は所望の隔壁
形状の凹型となるようなストライプ状若しくは所定の形
状の溝を持つ。溝の断面形状にも必要に応じて、隔壁の
頭部から底部まで均一な幅のものの他に、頭部から底部
に向かって幅が増えていくテーパ形状のもの、頭部から
底部へ段階的に幅が増えていく階段状のものが考えられ
る。さらに、成形型の形態として、前記溝部を平面部に
有する板状若しくはブロック状のもの、溝部を曲面部に
有するローラー状若しくはローラーの一部のものが考え
られる。また、成形型の素材としては、金属型の他にも
樹脂型がある。In the method of forming a plasma display panel according to the present invention, the above-mentioned material for forming a partition is filled in a mold to form a partition on a substrate. The mold has a groove having a stripe shape or a predetermined shape so as to form a concave shape having a desired partition shape. If necessary, in addition to a uniform width from the head to the bottom of the partition, a tapered shape with a width increasing from the head to the bottom, stepwise from the head to the bottom It is possible to consider a step-like thing whose width increases. Further, as the form of the molding die, a plate-like or block-like shape having the groove portion on a flat surface portion, a roller-like shape having a groove portion on a curved surface portion, or a part of a roller can be considered. As a material of the molding die, there is a resin type other than the metal type.
【0030】次に、成形型への隔壁形成材料の充填方法
として、図1〜図2若しくは図7に示すように直接成形
型に隔壁形成材料を充填する方式と、図3〜図4若しく
は図8に示すような基板上に塗布した隔壁形成材料に成
形型を加圧圧着する方式がある。成形型に直接充填する
場合、スクリーン印刷、ドクターコート、ロールプレ
ス、ロールコータ、平プレス等の方式で溝部に隔壁形成
材料を埋め込む。ドクター等によるかき取りや材料硬化
後の研磨等の工程により、溝部のみにすり切りで材料を
埋め込むと隔壁部のみが形成できるが、成形型表面にも
一定の膜厚で隔壁形成材料を供給することにより、隔壁
と誘電体を一括で形成することが可能になる。基板上に
塗布した材料に成形型を圧着する場合、溝部を平面部に
持つ成形型では平プレス様、溝部を曲面部に持つ成形型
はロールプレス様に加圧圧着する。このとき、基板表面
と成形型表面に均一なギャップを持たせることにより、
隔壁と誘電体を一括で形成することが出来る。Next, as a method of filling the mold with the partition wall forming material, a method of directly filling the mold with the partition wall forming material as shown in FIG. 1 to FIG. 2 or FIG. As shown in FIG. 8, there is a method in which a molding die is press-bonded to a partition wall forming material applied on a substrate. In the case of directly filling the mold, the partition wall forming material is embedded in the groove by a method such as screen printing, doctor coating, roll press, roll coater, and flat press. By embedding the material only by cutting into the grooves by scraping with a doctor or polishing after hardening the material, only the partition can be formed. Thereby, the partition and the dielectric can be formed at once. When a molding die is press-bonded to a material applied on a substrate, a press having a groove portion on a flat portion is press-bonded by a flat press, and a molding die having a groove portion on a curved surface portion is pressure-pressed by a roll press. At this time, by giving a uniform gap between the substrate surface and the mold surface,
The partition and the dielectric can be formed at once.
【0031】また、図9に示すように、成形型への隔壁
形成材料の充填方法として、成形型の溝内部には収縮率
の小さい隔壁形成材料を充填し、成形型の表面に収縮率
の大きい隔壁形成材料を均一な膜厚で塗布する2層方式
にすれば、隔壁の高さは焼成時の収縮が少なく高アスペ
クト比が保たれる。As shown in FIG. 9, as a method of filling the mold with the partition wall forming material, the inside of the groove of the mold is filled with the partition wall forming material having a small shrinkage, and the surface of the mold is filled with the shrinkage. If a two-layer system in which a large partition wall forming material is applied with a uniform film thickness is used, the height of the partition walls is less shrunk during firing and a high aspect ratio is maintained.
【0032】この方式では、直接成形型に収縮率の小さ
い隔壁形成材料を充填し、その表面に収縮率の大きい隔
壁形成材料を塗布する方法や、基板上に下層に収縮率の
大きい隔壁形成材料を塗布し、その上に収縮率の小さい
隔壁形成材料を積層して、成形型を加圧圧着する方法
や、収縮率の大きい隔壁形成材料を塗布した基板上に収
縮率の小さな隔壁形成材料を直接充填した成形型を加圧
圧着する方法がある。このとき、収縮率の小さな隔壁形
成材料は成形型の溝部にすり切りで充填されるのが理想
的であるが、成形型の表面に均一に薄膜で残っても、逆
に均一な高さ分だけ収縮率の大きい隔壁形成材料が溝内
部に入り込むことになってもかまわない。In this method, a partition forming material having a small shrinkage is filled in a direct molding die, and a partition forming material having a large shrinkage is applied to the surface thereof. Is applied, and a partition wall forming material having a small shrinkage rate is laminated thereon, and a mold is pressed and pressed, or a partition wall forming material having a small shrinkage rate is coated on a substrate coated with a partition wall forming material having a large shrinkage rate. There is a method in which a directly filled mold is pressure-compressed. At this time, it is ideal that the partition wall forming material having a small shrinkage is filled into the groove of the mold by cutting, but even if the material remains uniformly in the form of a thin film on the surface of the mold, on the contrary, only by the uniform height The partition wall forming material having a large shrinkage rate may enter the inside of the groove.
【0033】次に、図5に示すように、成形型によって
隔壁形状となった隔壁形成材料から、成形型を離型す
る。直接成形型上に隔壁形成材料を充填した場合は、硬
化させた隔壁形成材料を基板上に転写して離型する。こ
のとき、離型をしやすいように、隔壁形成材料と基板の
間に接着剤、粘着剤を使用する場合がある。Next, as shown in FIG. 5, the molding die is released from the partition wall forming material which has been formed into a partition shape by the molding die. When the partition forming material is directly filled on the mold, the cured partition forming material is transferred onto the substrate and released. At this time, an adhesive or a pressure sensitive adhesive may be used between the partition wall forming material and the substrate to facilitate release.
【0034】最後に図6に示すように、隔壁及び誘電体
を形成した基板を焼成し、有機分を消失させ、低融点ガ
ラスを主成分とする無機成分を焼き固めることによって
無機物の隔壁及び誘電体を形成するが、隔壁形成材料の
収縮率を大きく設定したため、誘電体は薄膜化し、さら
に膜厚ムラも収縮することによって膜厚差が緩和され、
膜厚が均一化する。Finally, as shown in FIG. 6, the substrate on which the barrier ribs and the dielectric are formed is baked to eliminate the organic components and to harden the inorganic component mainly composed of the low-melting-point glass. Although the body is formed, the shrinkage of the material for forming the partition walls is set to be large, so that the dielectric is thinned, and the film thickness unevenness also shrinks, thereby reducing the difference in film thickness.
The film thickness becomes uniform.
【0035】[0035]
【実施例】以下に具体的な実施例により本発明を説明す
る。なお、本発明は後述する実施例に何ら限定されるも
のではない。The present invention will be described below with reference to specific examples. Note that the present invention is not limited to the embodiments described below.
【0036】<実施例1>本発明によるプラズマディス
プレイパネル背面板形成方法の一実施例について説明す
る。<Embodiment 1> One embodiment of a method for forming a back plate of a plasma display panel according to the present invention will be described.
【0037】まず、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料とした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 37.8質量部 Al2O3 7.3質量部 TiO2 4.9質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 27.8質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 19.4質量部 ベンゾフェノン 2.8質量部First, the following were kneaded with a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low-melting glass powder 37.8 parts by weight Al 2 O 3 7.3 parts by mass TiO 2 4.9 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 27.8 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 19. 4 parts by mass Benzophenone 2.8 parts by mass
【0038】次に、底部幅50μm、開口幅80μm、
深さ200μmの溝部を150μmピッチのストライプ
状に有する板状の金属成形型に上記隔壁形成材料をドク
ターコートにて充填した。このとき、隔壁形成材料は溝
内部のみでなく、成形型表面にも膜厚約20μmにて供
給した。Next, the bottom width is 50 μm, the opening width is 80 μm,
The above-mentioned partition wall forming material was filled in a plate-shaped metal mold having a groove part having a depth of 200 μm in a stripe shape with a pitch of 150 μm by doctor coating. At this time, the material for forming the partition wall was supplied not only to the inside of the groove but also to the surface of the mold at a thickness of about 20 μm.
【0039】成形型に充填した隔壁形成材料に高圧水銀
灯による露光装置にて2000mj/cm2の露光を
し、硬化させた。The material for forming the partition walls filled in the mold was exposed to light of 2000 mj / cm 2 by an exposure device using a high-pressure mercury lamp, and was cured.
【0040】次に、厚み2.8mmの23インチサイズ
のソーダライムガラス基板上に、スクリーン印刷にてA
gを主成分とする電極ペーストを用いて幅50μmのス
トライプ状に150μmピッチで全面に形成した後、焼
成して電極付ガラス基板を作製した。Next, A was screen-printed on a 23-inch soda-lime glass substrate having a thickness of 2.8 mm.
g was formed over the entire surface at a pitch of 150 μm using an electrode paste containing g as a main component at a pitch of 150 μm, followed by firing to produce a glass substrate with electrodes.
【0041】次に、上記電極付ガラス基板上に粘着剤を
ドクターコートにて膜厚約5μm程度で塗布し、その上
に成形型を平プレスにて加圧圧着した後、成形型のみを
剥離し、ガラス基板上に隔壁形成体を形成した。Next, an adhesive is applied on the glass substrate with electrodes to a thickness of about 5 μm by doctor coating, and a mold is pressed thereon by a flat press, and then only the mold is peeled off. Then, a partition wall forming body was formed on the glass substrate.
【0042】次いで、前記隔壁形成体を形成したガラス
基板を所定温度に保持して脱バインダーし、各材料主成
分により焼成雰囲気を適宜変更し、550〜580℃の
温度で10分間焼成し、高さ120μm、幅50μm、
ピッチ150μmの隔壁と同時に、膜厚12μm(電極
上8μm)、膜厚ムラ1μm以内の誘電体を形成するこ
とが出来た。Next, the glass substrate on which the partition wall-formed body was formed was debindered at a predetermined temperature, and the firing atmosphere was appropriately changed according to the main components of each material, and the glass substrate was fired at a temperature of 550 to 580 ° C. for 10 minutes. 120 μm in width, 50 μm in width,
At the same time as the partition walls having a pitch of 150 μm, a dielectric having a thickness of 12 μm (8 μm above the electrode) and a thickness unevenness of 1 μm or less could be formed.
【0043】<実施例2>次に本発明によるプラズマデ
ィスプレイパネル背面板形成方法の他の一実施例につい
て説明する。<Embodiment 2> Another embodiment of the method of forming a plasma display panel back plate according to the present invention will now be described.
【0044】まず、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料とした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 37.8質量部 (軟化点400℃) Al2O3 7.3質量部 TiO2 4.9質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 27.8質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 19.4質量部 ベンゾフェノン 2.8質量部First, the following were kneaded in a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low-melting glass powder 37.8 parts by weight (softening point 400 ℃) Al 2 O 3 7.3 parts by mass TiO 2 4.9 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 27.8 parts by 2 -Hydroxypropyl acrylate 19.4 parts by mass Benzophenone 2.8 parts by mass
【0045】上記隔壁形成材料を用い、実施例1と同様
の条件にてして、電極基板上に隔壁を形成したところ、
高さ140μm、幅50μm、ピッチ150μmの隔壁
と同時に、膜厚10μm(電極上5μm)、膜厚ムラ1
μm以内の誘電体を形成することが出来た。When a partition was formed on the electrode substrate under the same conditions as in Example 1 using the above-described partition forming material,
Simultaneously with the partition having a height of 140 μm, a width of 50 μm, and a pitch of 150 μm, the film thickness is 10 μm (5 μm on the electrode), and the film thickness unevenness
It was possible to form a dielectric within μm.
【0046】<実施例3>次に本発明によるプラズマデ
ィスプレイパネル背面板形成方法の他の一実施例につい
て説明する。<Embodiment 3> Another embodiment of the method of forming a plasma display panel back plate according to the present invention will now be described.
【0047】まず、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料とした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 72質量部 Al2O3 3質量部 TiO2 2質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 13質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 9質量部 ベンゾフェノン 1質量部First, the following were kneaded with a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low melting point glass frit 72 parts by weight Al 2 O 3 3 parts by weight TiO 2 2 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 13 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 9 parts by benzophenone 1 part by weight
【0048】上記隔壁形成材料を用い、実施例1と同様
の条件にてして、電極基板上に隔壁を形成したところ、
高さ140μm、幅50μm、ピッチ150μmの隔壁
と同時に、膜厚17μm(電極上12μm)、膜厚ムラ
1μm以内の誘電体を形成することが出来た。When a partition was formed on an electrode substrate using the above-described material for forming a partition under the same conditions as in Example 1, a partition was formed.
At the same time as the partition having a height of 140 μm, a width of 50 μm, and a pitch of 150 μm, a dielectric having a film thickness of 17 μm (12 μm on the electrode) and a film thickness unevenness of 1 μm or less could be formed.
【0049】<実施例4>次に本発明によるプラズマデ
ィスプレイパネル背面板形成方法の他の一実施例につい
て説明する。<Embodiment 4> Next, another embodiment of the method for forming the back plate of the plasma display panel according to the present invention will be described.
【0050】まず、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料Aとした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 62質量部 Al2O3 12質量部 TiO2 8質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 10質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 7質量部 ベンゾフェノン 1質量部First, the following were kneaded with a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material A. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low melting point glass frit 62 parts by weight Al 2 O 3 12 parts by TiO 2 8 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 10 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 7 parts Benzophenone 1 part by weight
【0051】次に、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料Bとした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 37.8質量部 Al2O3 7.3質量部 TiO2 4.9質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 27.8質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 19.4質量部 ベンゾフェノン 2.8質量部Next, the following materials were kneaded by a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material B. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low-melting glass powder 37.8 parts by weight Al 2 O 3 7.3 parts by mass TiO 2 4.9 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 27.8 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 19. 4 parts by mass Benzophenone 2.8 parts by mass
【0052】次に、底部幅50μm、開口幅80μm、
深さ150μmの溝部を150μmピッチのストライプ
状に有する板状の金属成形型に上記隔壁形成材料Aをド
クターコートにてすり切り充填した。Next, the bottom width is 50 μm, the opening width is 80 μm,
The partition wall forming material A was abraded and filled with a doctor coat into a plate-shaped metal mold having a 150 μm-deep groove in a 150 μm pitch stripe shape.
【0053】次に、隔壁形成材料Bを成形型表面にドク
ターコートにて膜厚約20μmで塗布した。Next, the partition wall forming material B was applied to the surface of the mold by a doctor coat with a film thickness of about 20 μm.
【0054】成形型に充填した隔壁形成材料に高圧水銀
灯による露光装置にて2000mj/cm2の露光を
し、硬化させた。The material for forming the partition walls filled in the mold was exposed to light of 2000 mj / cm 2 by an exposure device using a high-pressure mercury lamp, and was cured.
【0055】次に、厚み2.8mmの23インチサイズ
のソーダライムガラス基板上に、スクリーン印刷にてA
gを主成分とする電極ペーストを用いて幅50μmのス
トライプ状に150μmピッチで全面に形成した後、焼
成して電極付ガラス基板を作製した。Next, A was screen-printed on a 23-inch soda-lime glass substrate having a thickness of 2.8 mm.
g was formed over the entire surface at a pitch of 150 μm using an electrode paste containing g as a main component at a pitch of 150 μm, followed by firing to produce a glass substrate with electrodes.
【0056】次に、上記電極付ガラス基板上に粘着剤を
ドクターコートにて膜厚約5μm程度で塗布し、その上
に成形型を平プレスにて加圧圧着した後、成形型のみを
剥離し、ガラス基板上に隔壁形成体を形成した。Next, an adhesive is applied to the above glass substrate with electrodes by doctor coating to a thickness of about 5 μm, and a mold is pressed thereon by a flat press, and then only the mold is peeled off. Then, a partition wall forming body was formed on the glass substrate.
【0057】次いで、前記隔壁形成体を形成したガラス
基板を所定温度に保持して脱バインダーし、各材料主成
分により焼成雰囲気を適宜変更し、550〜580℃の
温度で10分間焼成し、高さ120μm、幅50μm、
ピッチ150μmの隔壁と同時に、膜厚12μm(電極
上8μm)、膜厚ムラ1μm以内の誘電体を形成するこ
とが出来た。Next, the glass substrate on which the above-mentioned partition wall forming body is formed is debound from the glass substrate at a predetermined temperature, and the firing atmosphere is appropriately changed according to the main components of each material, and the glass substrate is fired at a temperature of 550 to 580 ° C. for 10 minutes. 120 μm in width, 50 μm in width,
At the same time as the partition walls having a pitch of 150 μm, a dielectric having a thickness of 12 μm (8 μm above the electrode) and a thickness unevenness of 1 μm or less could be formed.
【0058】<実施例5>次に本発明によるプラズマデ
ィスプレイパネル背面板形成方法の他の一実施例につい
て説明する。<Embodiment 5> Another embodiment of the method of forming the back plate of the plasma display panel according to the present invention will be described below.
【0059】まず、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料Aとした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 62質量部 Al2O3 12質量部 TiO2 8質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 10質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 7質量部 ベンゾフェノン 1質量部First, the following materials were kneaded by a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material A. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low melting point glass frit 62 parts by weight Al 2 O 3 12 parts by TiO 2 8 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 10 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 7 parts Benzophenone 1 part by weight
【0060】次に、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料Bとした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 37.8質量部 (軟化点400℃) Al2O3 7.3質量部 TiO2 4.9質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 27.8質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 19.4質量部 ベンゾフェノン 2.8質量部Next, the following components were kneaded by a roll mill to obtain a paste-like partition wall forming material B. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low-melting glass powder 37.8 parts by weight (softening point 400 ℃) Al 2 O 3 7.3 parts by mass TiO 2 4.9 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 27.8 parts by 2 -Hydroxypropyl acrylate 19.4 parts by mass Benzophenone 2.8 parts by mass
【0061】上記隔壁形成材料を用い、実施例4と同様
の条件にてして、電極基板上に隔壁を形成したところ、
高さ140μm、幅50μm、ピッチ150μmの隔壁
と同時に、膜厚10μm(電極上5μm)、膜厚ムラ1
μm以内の誘電体を形成することが出来た。A partition was formed on the electrode substrate under the same conditions as in Example 4 using the above-described partition forming material.
Simultaneously with the partition having a height of 140 μm, a width of 50 μm, and a pitch of 150 μm, the film thickness is 10 μm (5 μm on the electrode), and the film thickness unevenness
It was possible to form a dielectric within μm.
【0062】<実施例6>次に本発明によるプラズマデ
ィスプレイパネル背面板形成方法の他の一実施例につい
て説明する。<Embodiment 6> Next, another embodiment of the method of forming the back plate of the plasma display panel according to the present invention will be described.
【0063】まず、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料Aとした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 62質量部 Al2O3 12質量部 TiO2 8質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 10質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 7質量部 ベンゾフェノン 1質量部First, the following were kneaded by a roll mill to obtain a paste-form partition wall forming material A. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low melting point glass frit 62 parts by weight Al 2 O 3 12 parts by TiO 2 8 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 10 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 7 parts Benzophenone 1 part by weight
【0064】次に、以下のものをロールミルにて混練
し、ペースト状の隔壁形成材料Bとした。 PbO−B2O3−SiO2系低融点ガラス粉末 72質量部 Al2O3 3質量部 TiO2 2質量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 13質量部 2−ヒドロキシプロピルアクリレート 9質量部 ベンゾフェノン 1質量部Next, the following were kneaded with a roll mill to obtain a paste-form partition wall forming material B. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based low melting point glass frit 72 parts by weight Al 2 O 3 3 parts by weight TiO 2 2 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate 13 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate 9 parts by benzophenone 1 part by weight
【0065】上記隔壁形成材料を用い、実施例1と同様
の条件にてして、電極基板上に隔壁を形成したところ、
高さ140μm、幅50μm、ピッチ150μmの隔壁
と同時に、膜厚17μm(電極上12μm)、膜厚ムラ
1μm以内の誘電体を形成することが出来た。When a partition was formed on an electrode substrate using the above-mentioned material for forming a partition under the same conditions as in Example 1, a partition was formed.
At the same time as the partition having a height of 140 μm, a width of 50 μm, and a pitch of 150 μm, a dielectric having a film thickness of 17 μm (12 μm on the electrode) and a film thickness unevenness of 1 μm or less could be formed.
【0066】[0066]
【発明の効果】本発明によるプラズマディスプレイパネ
ルの形成方法は、上記のように、セラミックス粉体また
はガラス粉体とバインダーとの混合物を、成形型のスト
ライプ状若しくは所定の形状の溝部を利用して基板上に
隔壁形状を成す方式であり、隔壁と誘電体を一括に形成
する方式であるが、前記セラミックス粉体またはガラス
粉体とバインダーとの混合物のバインダーの比率を00
〜00%としたり、またはガラス粉体の融点を00〜0
0℃として、焼成時の収縮率を大きくすることにより、
焼成後に形成される誘電体層を容易に不良の発生もなく
薄膜化することが可能である。According to the method of forming a plasma display panel of the present invention, as described above, a mixture of a ceramic powder or a glass powder and a binder is formed by utilizing a striped or predetermined groove of a molding die. This is a method of forming a partition wall shape on a substrate, and a method of forming a partition wall and a dielectric all at once. The binder ratio of the mixture of the ceramic powder or the glass powder and the binder is set to 00.
0000%, or the melting point of the glass powder is
By setting the temperature to 0 ° C. and increasing the shrinkage during firing,
It is possible to easily reduce the thickness of the dielectric layer formed after firing without causing any defect.
【0067】さらに成形型のストライプ状若しくは所定
の形状の溝部にセラミックス粉体またはガラス粉体とバ
インダーとの混合物を充填する際に、誘電体層にあたる
部分は所望の誘電体の膜厚よりも厚く供給すれば良いた
め、充填条件の設定が容易であり、簡単に均一な膜厚を
形成することが出来、更に焼成時の収縮率が大きいた
め、充填時に生じるわずかな膜厚差が焼成時に緩和され
る効果があり、優れた膜厚均一性を持つ誘電体を形成す
ることが可能である。Further, when filling a mixture of a ceramic powder or a glass powder and a binder into a striped or predetermined groove of a molding die, a portion corresponding to a dielectric layer is thicker than a desired dielectric film thickness. Since it is sufficient to supply, it is easy to set filling conditions, a uniform film thickness can be easily formed, and a large shrinkage rate during firing reduces a slight difference in film thickness caused during filling during firing. Therefore, it is possible to form a dielectric having excellent film thickness uniformity.
【図1】本発明における成形型への隔壁材料充填工程の
概略図FIG. 1 is a schematic view of a step of filling a partition material into a mold according to the present invention.
【図2】本発明における成形型への隔壁材料充填工程の
概略図FIG. 2 is a schematic view of a process of filling a partition material into a mold according to the present invention.
【図3】本発明における成形型への隔壁材料充填工程の
概略図FIG. 3 is a schematic view of a step of filling a partition wall material into a mold according to the present invention.
【図4】本発明における成形型への隔壁材料充填工程の
概略図FIG. 4 is a schematic view of a step of filling a partitioning material into a mold according to the present invention.
【図5】本発明における成形型の離型工程の概略図FIG. 5 is a schematic view of a mold releasing step of the present invention.
【図6】本発明における焼成工程の概略図FIG. 6 is a schematic diagram of a firing step in the present invention.
【図7】本発明における成形型への隔壁材料充填工程の
概略図FIG. 7 is a schematic view of a step of filling a partition material into a mold according to the present invention.
【図8】本発明における成形型への隔壁材料充填工程の
概略図FIG. 8 is a schematic view of a step of filling a partition material into a mold according to the present invention.
【図9】本発明における成形型への隔壁材料充填の概略
図FIG. 9 is a schematic diagram of filling a partition material into a mold according to the present invention.
1・・・成形型 2・・・隔壁形成材料 3・・・基板 4・・・隔壁形成材料A(収縮率小) 5・・・隔壁形成材料B(収縮率大) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mold 2 ... Partition wall forming material 3 ... Substrate 4 ... Partition forming material A (small shrinkage) 5 ... Partition forming material B (large shrinkage)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新井 潤一 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 渡邊 英三郎 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA05 AA09 5C040 FA01 FA02 GD07 GD09 GF02 GF18 GF19 JA20 MA22 MA23 MA26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Junichi Arai 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Inside Toppan Printing Co., Ltd. (72) Inventor Eisaburo Watanabe 1-15-1 Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan F-term (reference) in Printing Co., Ltd. 5C027 AA05 AA09 5C040 FA01 FA02 GD07 GD09 GF02 GF18 GF19 JA20 MA22 MA23 MA26
Claims (6)
つ成形型にガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物を
充填し、セラミックス又はガラスからなる基板上に当接
して、基板上に隔壁及び誘電体を一括にて形成する方法
に於いて、ガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物の
バインダー成分比を40〜60%とすることを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの背面板形成方法。1. A mold having stripes or grooves of a predetermined shape is filled with a mixture of glass powder, aggregate and a binder, and is brought into contact with a substrate made of ceramics or glass to form partitions and dielectrics on the substrate. A method of forming a body at once, wherein a binder component ratio of a mixture of a glass powder, an aggregate, and a binder is set to 40 to 60%.
インダーとの混合物に軟化点400〜500℃のガラス
粉体を使用することを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの背面板形成方法。2. The method according to claim 1, wherein a glass powder having a softening point of 400 to 500 ° C. is used as a mixture of the glass powder, the aggregate and the binder. .
つ成形型にガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物を
充填し、セラミックス又はガラスからなる基板上に当接
して、基板上に隔壁及び誘電体を一括にて形成する方法
に於いて、成形型の溝部にガラス粉体とバインダーの混
合物を充填した後、成形型表面に更にバインダー成分比
が40〜60%のガラス粉体と骨材とバインダーとの混
合物を塗布することを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの背面板形成方法。3. A mold having stripes or grooves of a predetermined shape is filled with a mixture of glass powder, aggregate and a binder, and is brought into contact with a substrate made of ceramics or glass. In the method of forming the body in a lump, after filling a mixture of glass powder and a binder into a groove of a molding die, the surface of the molding die is further mixed with a glass powder having a binder component ratio of 40 to 60% and an aggregate. A method for forming a back plate of a plasma display panel, comprising applying a mixture with a binder.
つ成形型にガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物を
充填し、セラミックス又はガラスからなる基板上に当接
して、基板上に隔壁及び誘電体を一括にて形成する方法
に於いて、成形型の溝部にガラス粉体とバインダーの混
合物を充填した後、成形型表面に更に軟化点400〜5
00℃のガラス粉体を使用したガラス粉体と骨材とバイ
ンダーとの混合物を塗布することを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネルの背面板形成方法。4. A mold having stripes or grooves of a predetermined shape is filled with a mixture of glass powder, aggregate, and a binder, and is brought into contact with a substrate made of ceramics or glass. In the method of forming the body at once, after filling the mixture of the glass powder and the binder into the groove of the mold, the softening point is further increased to 400 to 5 on the surface of the mold.
A method for forming a back plate of a plasma display panel, comprising applying a mixture of glass powder, aggregate, and a binder using glass powder at 00 ° C.
つ成形型にガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物を
充填し、セラミックス又はガラスからなる基板上に当接
して、基板上に隔壁及び誘電体を一括にて形成する方法
に於いて、成形型の溝部にガラス粉体とバインダーの混
合物を充填した後、成形型表面に更に骨材を0〜5%混
入したガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物を塗布
することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背
面板形成方法。5. A mold having stripes or grooves of predetermined shape is filled with a mixture of glass powder, aggregate and a binder, and is brought into contact with a substrate made of ceramics or glass to form partitions and dielectrics on the substrate. In the method of forming the body in a lump, after filling the mixture of the glass powder and the binder into the groove of the mold, the glass powder and the aggregate further mixed with 0-5% of the aggregate are added to the surface of the mold. A method for forming a back plate of a plasma display panel, comprising applying a mixture with a binder.
つ成形型にガラス粉体と骨材とバインダーとの混合物を
充填し、セラミックス又はガラスからなる基板上に当接
して、基板上に隔壁及び誘電体を一括にて形成する方法
に於いて、請求項3〜5の特徴を少なくとも2つ以上を
併せ持つプラズマディスプレイパネルの背面板形成方
法。6. A mold having stripes or grooves of a predetermined shape is filled with a mixture of glass powder, aggregate and a binder, and is brought into contact with a substrate made of ceramics or glass to form partitions and dielectrics on the substrate. 6. A method of forming a body in a lump, the method comprising forming at least two of the features of claims 3 to 5 together.
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---|---|---|---|
JP35414599A JP2001176394A (en) | 1999-12-14 | 1999-12-14 | Forming method for rear face board of plasma display panel |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP35414599A JP2001176394A (en) | 1999-12-14 | 1999-12-14 | Forming method for rear face board of plasma display panel |
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Publication Number | Publication Date |
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Country | Link |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003253205A (en) * | 2002-02-27 | 2003-09-10 | Hitachi Chem Co Ltd | Siliceous film-forming composition, method for producing siliceous film and electronic part |
JP2003253204A (en) * | 2002-02-27 | 2003-09-10 | Hitachi Chem Co Ltd | Siliceous film-forming composition, method for producing siliceous film and electronic part |
JP2003253206A (en) * | 2002-02-27 | 2003-09-10 | Hitachi Chem Co Ltd | Siliceous film-forming composition, method for producing siliceous film and electronic part |
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-
1999
- 1999-12-14 JP JP35414599A patent/JP2001176394A/en active Pending
Cited By (4)
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