JP2000030476A - Nonvolatile semiconductor storage and threshold voltage writing method - Google Patents

Nonvolatile semiconductor storage and threshold voltage writing method

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JP2000030476A
JP2000030476A JP19935598A JP19935598A JP2000030476A JP 2000030476 A JP2000030476 A JP 2000030476A JP 19935598 A JP19935598 A JP 19935598A JP 19935598 A JP19935598 A JP 19935598A JP 2000030476 A JP2000030476 A JP 2000030476A
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JP
Japan
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voltage
write
initial
writing
memory cell
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JP19935598A
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Japanese (ja)
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Hideo Inoue
英生 井上
Sayuri Nakahira
小百合 中平
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Renesas Design Corp
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Renesas Design Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform the write-in of a threshold voltage whose accuracy is high and which has good efficiency by performing the write-in of the threshold voltage while lowering a write voltage to be impressed on the drain terminal of a nonvolatile memory cell. SOLUTION: At the time of writing a threshold voltage to a nonvolatile memory 1, a pulse voltage corresponding to an initial write voltage is impressed on a bit line 4 by outputting a high initial write voltage from an initial voltage generating circuit 6 while turning the switch 7a of a drain voltage control circuit 7 on and operating transistors 9,10 for controlling the inputting of a pulse and the inputting of a write voltage. Here, the pulse voltage is impressed on a memory cell 1 in which a threshold voltage is to be written as a drain electrode. During the impressing of the voltage, the movement of electrons is generated from the source electrode of the cell to the drain electrode of the cell and one part of the electrons pierces a tunnel oxidized film to perform the injecting of charge to a floating gate of the cell. After the outputting of this high voltage initial write pulse is repeated by a prescribed times, the cumulative write voltage of the cell 1 is set to a prescribed threshold voltage by repeating a write-in with a standard write voltage while changing over the switch 7a to a switch 7b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は不揮発性メモリセ
ルを有する不揮発性半導体記憶装置および閾値電圧書込
み方法に係り、特に、不揮発性メモリセルに所定の閾値
電圧を精度良く且つ効率よく書込みを行なうための改良
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device having a nonvolatile memory cell and a threshold voltage writing method, and more particularly to a method for writing a predetermined threshold voltage to a nonvolatile memory cell accurately and efficiently. It is related to the improvement of.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は特開平7−249294号公報な
どに開示された従来の不揮発性半導体記憶装置の一部の
構成を示すブロック図である。図において、1,2,3
はそれぞれフローティングゲートを有し、ゲート電極に
ワード線が接続されるとともにソース電極が接地された
トランジスタからなる不揮発性メモリセルであり、4は
これら複数の不揮発性メモリセル1,2,3のドレイン
電極に接続されたビット線であり、29は書込みパルス
を発生するパルス発生回路、8は高圧側電源端子、9,
10,11,12はそれぞれこの高圧側電源端子8とビ
ット線4との間において互いのドレイン電極とソース電
極が直列に接続された制御トランジスタであり、上記書
込みパルスは上記複数の制御トランジスタのうちの1つ
(9)のゲート電極に印加されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a block diagram showing a partial configuration of a conventional nonvolatile semiconductor memory device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-249294. In the figure, 1, 2, 3
Is a nonvolatile memory cell having a floating gate, a word line connected to the gate electrode and a transistor grounded at the source electrode, and 4 is the drain of these nonvolatile memory cells 1, 2, 3 A bit line 29 connected to the electrodes; 29, a pulse generating circuit for generating a write pulse; 8, a high-voltage side power supply terminal;
Reference numerals 10, 11, and 12 denote control transistors each having a drain electrode and a source electrode connected in series between the high-voltage side power supply terminal 8 and the bit line 4, respectively. Is applied to one of the (9) gate electrodes.

【0003】次に動作について説明する。パルス発生回
路29から書込みパルスが出力されると、それに応じた
書込み電圧がビット線4および各不揮発性メモリセル
1,2,3のドレイン電圧に印加される。そして、書込
みを行う不揮発性メモリセル(例えば1)のゲート電極
には高圧側電源電圧が供給されているので、上記書込み
パルスの印加に応じてゲート電極からドレイン電極に移
動するホットエレクトロンの一部がトンネル酸化膜を突
き抜けてフローティングゲートに注入される。そして、
この書込みパルスを何度か供給することにより、上記フ
ローティングゲートには所定量の電荷が蓄積され、これ
により所定の読み出し閾値電圧が設定される。
Next, the operation will be described. When a write pulse is output from the pulse generation circuit 29, a write voltage corresponding to the write pulse is applied to the bit line 4 and the drain voltages of the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3. Since the high-voltage side power supply voltage is supplied to the gate electrode of the nonvolatile memory cell (for example, 1) for writing, a part of the hot electrons moving from the gate electrode to the drain electrode in response to the application of the write pulse. Is injected into the floating gate through the tunnel oxide film. And
By supplying the write pulse several times, a predetermined amount of charge is accumulated in the floating gate, and thereby a predetermined read threshold voltage is set.

【0004】図8はこのような従来の不揮発性半導体記
憶装置における累積書込みパルス数と読み出し閾値電圧
との関係を示す書込み特性図である。図において、横軸
は累積書込みパルス数、縦軸は読み出し閾値電圧であ
る。同図に示すように、書込みパルスが供給されるたび
に読み出し閾値電圧は上昇し、最終的には所望の閾値電
圧が得られるまで累積書込み電圧は上昇する。
FIG. 8 is a write characteristic diagram showing the relationship between the cumulative number of write pulses and the read threshold voltage in such a conventional nonvolatile semiconductor memory device. In the figure, the horizontal axis represents the cumulative number of write pulses, and the vertical axis represents the read threshold voltage. As shown in the figure, each time a write pulse is supplied, the read threshold voltage increases, and finally, the cumulative write voltage increases until a desired threshold voltage is obtained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の不揮発性半導体
記憶装置および閾値電圧書込み方法は以上のように構成
されているので、一連の書込みにおいて使用される書込
みを制御する電圧は一定である。その結果、閾値電圧の
ばらつきを抑えようとする場合には、低い電圧を有する
書込みパルスを用いて一連の書込み動作を繰り返すこと
となって書込み時間の長期化を来し、逆に、書込み時間
を抑えようとする場合には、高い電圧を有する書込みパ
ルスを用いて一連の書込み動作を繰り返すこととなって
閾値電圧のばらつきを顕在化させてしまうという課題が
あった。
Since the conventional nonvolatile semiconductor memory device and the threshold voltage writing method are configured as described above, the voltage for controlling the writing used in a series of writing is constant. As a result, when trying to suppress the variation in the threshold voltage, a series of write operations is repeated using a write pulse having a low voltage, resulting in a longer write time, and conversely, a longer write time. In the case of suppressing it, there is a problem in that a series of write operations is repeated using a write pulse having a high voltage, thereby causing a variation in threshold voltage to become apparent.

【0006】そして、不揮発性半導体記憶装置の揮発不
良をベークによってスクリーニングテストするような場
合においては、そのテスト電圧と各不揮発性メモリセル
1,2,3の閾値電圧との電圧差を非常に小さく設定す
る必要があって(書込み深さを浅く揃える必要があ
り)、不揮発性メモリセル1,2,3の累積書込み電圧
の電圧ばらつきを非常に小さく抑える必要があるので、
非常に長い書込み時間が必要となってしまっていた。ま
た、一般的な不揮発性半導体記憶装置では、このような
スクリーニングテストをその各製造段階、例えばウェハ
段階、チップ段階、パッケージング段階などにおいてそ
れぞれ行っており、記憶容量の増大に伴ってこの書込み
時間の長期化は深刻な問題となっている。
In a case where a screening test is performed by baking for a volatile defect of the nonvolatile semiconductor memory device, the voltage difference between the test voltage and the threshold voltage of each of the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3 is extremely small. Since it is necessary to set (it is necessary to make the writing depth shallow), it is necessary to keep the voltage variation of the cumulative writing voltage of the nonvolatile memory cells 1, 2, 3 very small.
A very long writing time was required. In a general non-volatile semiconductor memory device, such a screening test is performed at each manufacturing stage, for example, at a wafer stage, a chip stage, a packaging stage, and the like. Is a serious problem.

【0007】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、不揮発性メモリセルに所定の閾値
電圧を精度良く且つ効率よく書込みを行なうことができ
る不揮発性半導体記憶装置および閾値電圧書込み方法を
得ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a nonvolatile semiconductor memory device and a threshold voltage capable of accurately and efficiently writing a predetermined threshold voltage to a nonvolatile memory cell. The purpose is to obtain a writing method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明に係る閾値電圧
書込み方法は、不揮発性半導体記憶装置の不揮発性メモ
リセルに閾値電圧を書込む閾値電圧書込み方法におい
て、上記不揮発性メモリセルのドレイン端子に印加する
書込み電圧を暫時低下させつつ上記不揮発性メモリセル
への閾値電圧の書込みを行なうものである。
A threshold voltage writing method according to the present invention is a threshold voltage writing method for writing a threshold voltage to a nonvolatile memory cell of a nonvolatile semiconductor memory device. This is to write the threshold voltage to the nonvolatile memory cell while temporarily reducing the applied write voltage.

【0009】この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
は、不揮発性メモリセルと、当該不揮発性メモリセルに
閾値電圧を書込む際に利用される標準書込み電圧を出力
する標準電圧発生回路と、上記標準書込み電圧よりも高
い初期書込み電圧を出力する1又は複数の初期電圧発生
回路と、上記標準書込み電圧および上記1又は複数の初
期書込み電圧が入力され、これらの書込み電圧を切替え
て上記不揮発性メモリセルのドレイン端子に供給し且つ
当該ドレイン端子の電圧が暫時低下するように供給する
ドレイン電圧制御回路とを備えたものである。
A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention comprises: a nonvolatile memory cell; a standard voltage generating circuit for outputting a standard write voltage used when writing a threshold voltage to the nonvolatile memory cell; One or a plurality of initial voltage generating circuits for outputting an initial write voltage higher than a write voltage, and the standard write voltage and the one or a plurality of initial write voltages are inputted, and the nonvolatile memory cells are switched by switching these write voltages. And a drain voltage control circuit for supplying the voltage to the drain terminal and for reducing the voltage of the drain terminal for a while.

【0010】この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
は、不揮発性メモリセルの累積書込み電圧が入力され、
この累積書込み電圧が目標閾値電圧よりも低い暫定閾値
電圧を超えたら切替信号を出力する切替信号発生回路を
設け、ドレイン電圧制御回路は上記切替信号に基づいて
不揮発性メモリセルのドレイン端子に供給する書込み電
圧を切替えるものである。
In a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, a cumulative write voltage of a nonvolatile memory cell is inputted,
A switching signal generating circuit is provided for outputting a switching signal when the cumulative writing voltage exceeds a provisional threshold voltage lower than the target threshold voltage, and a drain voltage control circuit supplies the switching signal to the drain terminal of the nonvolatile memory cell based on the switching signal. This is for switching the write voltage.

【0011】この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
は、初期電圧発生回路による書込み回数をカウントし、
このカウント値に応じた初期書込み制御信号を出力する
初期書込み監視回路を設け、ドレイン電圧制御回路は上
記初期書込み制御信号に基づいて上記初期書込み時に使
用する書込み電圧を変更するものである。
[0011] The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention counts the number of times of writing by the initial voltage generating circuit,
An initial write monitor circuit for outputting an initial write control signal according to the count value is provided, and the drain voltage control circuit changes a write voltage used at the time of the initial write based on the initial write control signal.

【0012】この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
は、初期書込み制御信号を記憶する初期書込み情報メモ
リを設け、ドレイン電圧制御回路はこの初期書込み情報
メモリに記憶された初期書込み制御信号に基づいて上記
初期書込み時に使用する書込み電圧を選択するものであ
る。
A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention includes an initial write information memory for storing an initial write control signal, and the drain voltage control circuit performs the above-described operation based on the initial write control signal stored in the initial write information memory. This is for selecting a write voltage to be used at the time of initial writing.

【0013】この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
は、不揮発性メモリセルと、上記不揮発性メモリセルの
ドレイン端子と電源電圧との間に接続された1又は複数
のトランジスタと、上記1又は複数のトランジスタのう
ちの1つのトランジスタのゲートに接続されたドレイン
電圧制御端子とを備えたものである。
A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention includes a nonvolatile memory cell, one or more transistors connected between a drain terminal of the nonvolatile memory cell and a power supply voltage, A drain voltage control terminal connected to the gate of one of the transistors.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による不
揮発性半導体記憶装置の一部の構成を示すブロック図で
ある。図において、1,2,3はそれぞれフローティン
グゲートを有し、ゲート電極にワード線が接続されると
ともにソース電極が接地されたトランジスタからなる不
揮発性メモリセルであり、4はこれら複数の不揮発性メ
モリセル1,2,3のドレイン電極に接続されたビット
線であり、5は不揮発性メモリセル1,2,3に所定の
電圧ばらつき精度で閾値電圧までの書込みを行なうこと
ができる標準書込み電圧を出力する標準電圧発生回路、
6はこの標準書込み電圧よりも高い初期書込み電圧を出
力する初期電圧発生回路、7は標準書込み電圧および初
期書込み電圧が入力される2つのスイッチ7a,7bを
有するドレイン電圧制御回路、8は高圧側電源端子、
9,10,11,12はそれぞれこの高圧側電源端子8
とビット線4との間において互いのドレイン電極とソー
ス電極が直列に接続された制御トランジスタ、13は上
記ビット線4に接続されたセンスアンプである。また、
制御トランジスタ9のゲート電極には電圧パルスが書込
み許可信号として入力され、制御トランジスタ10のゲ
ート電極には書込み電圧が入力され、制御トランジスタ
12および制御トランジスタ12のゲート電極には上記
ビット線のセレクト信号が入力されており、以下におい
て、制御トランジスタ9をパルス入力制御トランジスタ
(トランジスタ)、制御トランジスタ10を書込み電圧
入力制御トランジスタ(ドレイン電圧制御回路、トラン
ジスタ)、制御トランジスタ11および制御トランジス
タ12をそれぞれセレクト制御トランジスタ(トランジ
スタ)とよぶ。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, reference numerals 1, 2, and 3 denote nonvolatile memory cells each having a floating gate, a transistor having a gate electrode connected to a word line and a source electrode grounded, and 4 represents a plurality of nonvolatile memories. Reference numeral 5 denotes a bit line connected to the drain electrodes of the cells 1, 2, and 3, and 5 denotes a standard write voltage at which the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3 can be written to a threshold voltage with a predetermined voltage variation accuracy. Output standard voltage generator,
Reference numeral 6 denotes an initial voltage generating circuit that outputs an initial write voltage higher than the standard write voltage, 7 denotes a drain voltage control circuit having two switches 7a and 7b to which the standard write voltage and the initial write voltage are input, and 8 denotes a high voltage side. Power terminal,
Reference numerals 9, 10, 11 and 12 denote the high-voltage power supply terminals 8 respectively.
A control transistor 13 having a drain electrode and a source electrode connected in series between the bit line 4 and the bit line 4, and a sense amplifier 13 connected to the bit line 4. Also,
A voltage pulse is input to the gate electrode of the control transistor 9 as a write enable signal, a write voltage is input to the gate electrode of the control transistor 10, and the select signal of the bit line is input to the control transistor 12 and the gate electrode of the control transistor 12. In the following, the control transistor 9 is a pulse input control transistor (transistor), the control transistor 10 is a write voltage input control transistor (a drain voltage control circuit, a transistor), and the control transistor 11 and the control transistor 12 are each selectively controlled. It is called a transistor.

【0015】次に動作について説明する。まず、不揮発
性メモリセル1に対して閾値電圧を書込む動作について
説明する。この際、高圧側電源端子8および不揮発性メ
モリセル1のゲート電極には上記初期書込み電圧よりも
高い第一電源電圧が供給され、他の不揮発性メモリセル
2,3のゲート電極には上記初期書込み電圧よりも低い
第二電源電圧が供給される。また、セレクト制御トラン
ジスタ11,12にはセレクト信号が入力される。
Next, the operation will be described. First, an operation of writing a threshold voltage to the nonvolatile memory cell 1 will be described. At this time, the first power supply voltage higher than the initial write voltage is supplied to the high-voltage side power supply terminal 8 and the gate electrode of the nonvolatile memory cell 1, and the gate electrodes of the other nonvolatile memory cells 2 and 3 are supplied with the initial power supply voltage. A second power supply voltage lower than the write voltage is supplied. A select signal is input to the select control transistors 11 and 12.

【0016】このような設定状態において、ドレイン電
圧制御回路7はまず初期電圧発生回路6に接続されたス
イッチ7aをON制御して高電圧の初期書込み電圧を出
力するとともにパルス入力制御トランジスタ9に書き込
み許可信号としてのパルスを入力する。これにより、パ
ルス入力制御トランジスタ9および書込み電圧入力制御
トランジスタ10は動作し、この初期書込み電圧に応じ
たパルス電圧がビット線4に印加される。すると、書込
みを行なう不揮発性メモリセル1では上記パルス電圧が
ドレイン電極として印加されることになるため、このパ
ルス電圧が印加されている期間において、ソース電極か
らドレイン電極へのホットエレクトロンの移動が生じ、
このホットエレクトロンの一部がトンネル酸化膜を突き
抜けてフローティングゲートへの電荷注入が行われる。
これに対して書込みを行なわない不揮発性メモリセル
2,3ではゲート電極に低い電圧が印加されているた
め、ホットエレクトロンの一部がトンネル酸化膜を突き
抜けることはなく、フローティングゲートへの電荷注入
は行われない。
In such a setting state, the drain voltage control circuit 7 first turns on the switch 7a connected to the initial voltage generation circuit 6 to output a high initial write voltage and write it to the pulse input control transistor 9. Input a pulse as a permission signal. As a result, the pulse input control transistor 9 and the write voltage input control transistor 10 operate, and a pulse voltage corresponding to the initial write voltage is applied to the bit line 4. Then, in the nonvolatile memory cell 1 where writing is performed, the above-mentioned pulse voltage is applied as the drain electrode, so that hot electrons move from the source electrode to the drain electrode while the pulse voltage is applied. ,
Some of the hot electrons penetrate through the tunnel oxide film and charge is injected into the floating gate.
On the other hand, in the non-volatile memory cells 2 and 3 where writing is not performed, since a low voltage is applied to the gate electrodes, some of the hot electrons do not penetrate through the tunnel oxide film, and charge injection into the floating gate is not performed. Not done.

【0017】このような高電圧の初期書込みパルスの出
力を所定の回数繰り返した後、ドレイン電圧制御回路7
は、ON制御するスイッチをスイッチ7aからスイッチ
7bに切替え、低電圧の標準書込み電圧を出力する。そ
して、この標準書込み電圧による書込みを繰り返して、
書込みを行なった不揮発性メモリセル1の累積書込み電
圧を所定の閾値電圧に設定する。なお、この所定の閾値
電圧に設定する際には標準書込み電圧を用いているの
で、不揮発性メモリセル1の最終的な累積書込み電圧は
閾値電圧に対して所定の電圧ばらつき精度にて書込みを
行うことができる。また、他の不揮発性メモリセル2,
3に書込みを行なう場合には同様に、当該不揮発性メモ
リセル2,3のゲート電極に第一電源電圧を供給し、こ
の状態で書込みパルスを印加すればよい。
After repeating the output of the high voltage initial write pulse a predetermined number of times, the drain voltage control circuit 7
Switches the switch to be ON-controlled from the switch 7a to the switch 7b, and outputs a low standard write voltage. Then, writing with this standard writing voltage is repeated,
The cumulative write voltage of the written nonvolatile memory cell 1 is set to a predetermined threshold voltage. Since the standard write voltage is used when setting the predetermined threshold voltage, the final cumulative write voltage of the nonvolatile memory cell 1 is written with a predetermined voltage variation accuracy with respect to the threshold voltage. be able to. In addition, other nonvolatile memory cells 2,
Similarly, when writing to the memory cell 3, the first power supply voltage is supplied to the gate electrodes of the nonvolatile memory cells 2 and 3, and a write pulse may be applied in this state.

【0018】次に不揮発性メモリセル1,2,3の読み
出し動作について説明する。読み出しを行う不揮発性メ
モリセル(例えば1)のゲート電極に第二電源電圧を供
給し、この状態でセンスアンプ13が上記ビット線4に
電流の供給制御を行う。そして、所定の閾値電圧に書込
みがなされている場合には、上記読み出しを行う不揮発
性メモリセル(例えば1)ではフローティングゲートに
注入された電荷のためにソースとドレインとの間に反転
領域が形成されることはなく、ビット線4に電流が流れ
ることはない。逆に、所定の閾値電圧に書込みがなされ
ていない場合には、読み出しを行う不揮発性メモリセル
(例えば2)ではフローティングゲートに電荷は注入さ
れておらず、上記ゲート電極の電圧によりソースとドレ
インとの間に反転領域が形成され、ビット線に電流が流
れる。なお、センスアンプ13はこのビット線4に流れ
る電流に応じたレベルを有する検出電圧信号を出力す
る。
Next, the read operation of the nonvolatile memory cells 1, 2, 3 will be described. The second power supply voltage is supplied to the gate electrode of the nonvolatile memory cell (for example, 1) from which reading is performed. In this state, the sense amplifier 13 controls the supply of current to the bit line 4. When writing is performed at a predetermined threshold voltage, an inversion region is formed between the source and the drain due to the charge injected into the floating gate in the nonvolatile memory cell (for example, 1) that performs the reading. No current flows through the bit line 4. Conversely, when writing is not performed to the predetermined threshold voltage, no charge is injected into the floating gate in the nonvolatile memory cell (for example, 2) from which reading is performed, and the source and drain are not charged by the voltage of the gate electrode. An inversion region is formed between them, and a current flows through the bit line. The sense amplifier 13 outputs a detection voltage signal having a level corresponding to the current flowing through the bit line 4.

【0019】図2はこの発明の実施の形態1による累積
書込みパルス数と読み出し閾値電圧との関係を示す書込
み特性図である。図において、横軸は累積書込みパルス
数、縦軸は読み出し閾値電圧である。同図から明らかな
ように、書込みの初期段階では高い電圧の書込みパルス
によって一気に書込みがなされ、書込みの後期段階では
低い電圧の書込みパルスによってゆっくりと書込みがな
され、その結果累積書込み電圧が所定の閾値電圧まで書
込みがなされている。なお、同図において、Aは上記所
定の閾値電圧よりも少し低い電圧レベルに設定された暫
定閾値電圧であり、ドレイン電圧制御回路7はこの暫定
閾値電圧まで累積書込み電圧を書込んだら上記書込みパ
ルスの電圧を切替えるように設定されている。
FIG. 2 is a write characteristic diagram showing the relationship between the cumulative number of write pulses and the read threshold voltage according to the first embodiment of the present invention. In the figure, the horizontal axis represents the cumulative number of write pulses, and the vertical axis represents the read threshold voltage. As can be seen from the figure, in the initial stage of writing, writing is performed at once with a high-voltage writing pulse, and in the latter stage of writing, writing is performed slowly with a low-voltage writing pulse. Writing is performed up to the voltage. In FIG. 3, A is a provisional threshold voltage set at a voltage level slightly lower than the predetermined threshold voltage, and the drain voltage control circuit 7 writes the cumulative write voltage up to the provisional threshold voltage, Is set so as to switch the voltage.

【0020】以上のように、この実施の形態1によれ
ば、不揮発性メモリセル1,2,3に閾値電圧を書込む
際に利用される標準書込み電圧を出力する標準電圧発生
回路5と、上記標準書込み電圧よりも高い初期書込み電
圧を出力する初期電圧発生回路6と、上記標準書込み電
圧および上記初期書込み電圧が入力され、最初に初期書
込み電圧、後に標準書込み電圧を上記不揮発性メモリセ
ル1,2,3のドレイン端子に暫時低下するように供給
するドレイン電圧制御回路7およびパルス入力制御トラ
ンジスタ9とを設けて、少ない書込み回数で累積書込み
電圧を一気に高め、且つ、標準書込み電圧に基づく電圧
ばらつき精度にて閾値電圧を書込むことができる。従っ
て、従来のように標準書込み電圧のみで閾値電圧までの
書込みを行なった場合に比べて少ない書込み回数で閾値
電圧までの書込みを行なうことができ、しかも、従来の
ように標準書込み電圧のみで閾値電圧までの書込みを行
なった場合と同等に閾値電圧のばらつきを抑えることが
できる効果がある。また、この実施の形態1においては
従来よりも書込み時間を短縮することができるので、そ
の分、標準書込み電圧を従来よりも低い電圧にすること
により、従来と同等の書込み時間で閾値電圧までの書込
みを行なうことができ、しかも、従来よりも電圧ばらつ
きを抑えることもできる効果がある。
As described above, according to the first embodiment, the standard voltage generating circuit 5 for outputting the standard write voltage used for writing the threshold voltage to the nonvolatile memory cells 1, 2, 3; An initial voltage generating circuit 6 for outputting an initial write voltage higher than the standard write voltage, the standard write voltage and the initial write voltage being input, the initial write voltage being applied first, and then the standard write voltage being applied to the nonvolatile memory cell 1. , 2 and 3 are provided with a drain voltage control circuit 7 and a pulse input control transistor 9 for temporarily reducing the accumulated write voltage with a small number of write operations, and a voltage based on the standard write voltage. The threshold voltage can be written with variation accuracy. Therefore, it is possible to perform writing up to the threshold voltage with a smaller number of times of writing as compared with the case where writing up to the threshold voltage is performed only with the standard write voltage as in the related art. There is an effect that variation in threshold voltage can be suppressed as in the case where writing up to the voltage is performed. Further, in the first embodiment, the writing time can be shortened as compared with the conventional case, and accordingly, the standard writing voltage is set to a voltage lower than that of the conventional case. There is an effect that writing can be performed and voltage variation can be suppressed as compared with the related art.

【0021】従って、この実施の形態1によれば、閾値
電圧のばらつきを抑えつつ書込み時間をも抑えることが
できるので、例えば、不揮発性半導体記憶装置の揮発不
良をベークによってスクリーニングテストするような場
合においても不揮発性メモリセル1,2,3の累積書込
み電圧の電圧ばらつきを非常に小さく抑えつつ短時間で
書込みを行うことができ、一般的な不揮発性半導体記憶
装置においてその各製造段階において上記ベークによる
スクリーニングテストを行っても短時間に書込みを行う
ことができ、出荷テスト時間を格段に短縮させる効果が
ある。
Therefore, according to the first embodiment, the writing time can be suppressed while suppressing the variation in the threshold voltage. For example, in the case where a screening test is performed by baking for a volatile defect of the nonvolatile semiconductor memory device. In this case, writing can be performed in a short time while the voltage variation of the cumulative writing voltage of the nonvolatile memory cells 1, 2 and 3 is kept very small. The writing can be performed in a short time even if the screening test is performed by the above method, and the shipping test time is significantly reduced.

【0022】実施の形態2.図3はこの発明の実施の形
態2による不揮発性半導体記憶装置の一部の構成を示す
ブロック図である。図において、14は不揮発性メモリ
セル1,2,3の読み出し値に応じて変化する判定信号
(切替信号)を出力するセンスアンプ(切替信号発生回
路)、15は標準書込み電圧や初期書込み電圧とともに
この判定信号が入力され、この判定信号が変化したらが
ON制御するスイッチをスイッチ15aからスイッチ1
5bに切替えて書込み電圧を出力するドレイン電圧制御
回路、16は閾値電圧を出力する閾値電圧発生回路、1
7は暫定閾値電圧を出力する暫定閾値電圧発生回路、1
8は閾値電圧あるいは暫定閾値電圧が入力される2つの
スイッチ18a,18bを有し、書込み時の初期状態に
おいてはスイッチ18bをON制御して各不揮発性メモ
リセル1,2,3のゲート電極(ワード線)に暫定閾値
電圧を出力し、書込み時の後期状態においてはスイッチ
18aをON制御して各不揮発性メモリセル1,2,3
のゲート電極(ワード線)に閾値電圧を出力するベリフ
ァイ電圧切替え回路である。これ以外の構成は実施の形
態1と同様であり同一の符号を付して説明を省略する。
Embodiment 2 FIG. FIG. 3 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, reference numeral 14 denotes a sense amplifier (switching signal generation circuit) that outputs a determination signal (switching signal) that changes according to the read values of the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3, and reference numeral 15 denotes a standard write voltage and an initial write voltage. When this determination signal is input and the determination signal changes, the switch to be turned on is changed from the switch 15a to the switch 1
5b is a drain voltage control circuit that outputs a write voltage by switching to 5b, 16 is a threshold voltage generation circuit that outputs a threshold voltage, 1
7 is a provisional threshold voltage generation circuit that outputs a provisional threshold voltage,
Reference numeral 8 has two switches 18a and 18b to which a threshold voltage or a provisional threshold voltage is input. In an initial state at the time of writing, the switch 18b is turned on to control the gate electrodes of the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3. A temporary threshold voltage is output to the non-volatile memory cells 1, 2, 3, and 3 in the later state of the write operation.
Is a verify voltage switching circuit that outputs a threshold voltage to the gate electrode (word line). The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0023】次に動作について説明する。初期書込みパ
ルスが所定の不揮発性メモリセル(例えば1)に入力さ
れると、その度にベリファイ電圧切替え回路18は、当
該不揮発性メモリセル(例えば1)のゲート電極に暫定
閾値電圧を出力し、センスアンプ14はその暫定閾値電
圧に基づく累積書込み電圧の読み出し判定結果に応じた
判定信号を出力する。そして、この初期書込みパルスに
よる書込みと判定動作とを繰り返すうちに、フローティ
ングゲートの電荷注入量が増加して累積書込み電圧が暫
定閾値電圧を超えるので、上記暫定閾値電圧に基づく累
積書込み電圧の読み出し判定結果が変化し、それに応じ
た判定信号も変化する。
Next, the operation will be described. Each time the initial write pulse is input to a predetermined nonvolatile memory cell (for example, 1), the verify voltage switching circuit 18 outputs a provisional threshold voltage to the gate electrode of the nonvolatile memory cell (for example, 1), The sense amplifier 14 outputs a determination signal according to the read determination result of the accumulated write voltage based on the provisional threshold voltage. Then, while the writing by the initial write pulse and the determination operation are repeated, the charge injection amount of the floating gate increases and the cumulative write voltage exceeds the provisional threshold voltage. Therefore, the read determination of the cumulative write voltage based on the provisional threshold voltage is performed. The result changes, and the corresponding determination signal changes.

【0024】判定信号が変化すると、ドレイン電圧制御
回路15はON制御するスイッチをスイッチ15aから
スイッチ15bに切替えて低電圧の標準書込み電圧を出
力し、ベリファイ電圧切替え回路18は、当該不揮発性
メモリセル(例えば1)のゲート電極に出力する電圧を
閾値電圧に切替える。そして、この標準書込み電圧によ
る書込みと判定動作を繰り返し、センスアンプ14の閾
値電圧に基づく累積書込み電圧の読み出し判定結果(判
定信号)が再び変化したら、WREN信号によるパルス
出力を終了する。これ以外の動作は実施の形態1と同様
であり説明を省略する。
When the determination signal changes, the drain voltage control circuit 15 switches the switch to be turned on from the switch 15a to the switch 15b to output a low standard write voltage, and the verify voltage switching circuit 18 The voltage output to the (for example, 1) gate electrode is switched to the threshold voltage. Then, the writing with the standard write voltage and the judging operation are repeated, and when the read judgment result (judgment signal) of the accumulated write voltage based on the threshold voltage of the sense amplifier 14 changes again, the pulse output by the WREN signal ends. Other operations are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0025】以上のように、この実施の形態2によれ
ば、不揮発性メモリセル1,2,3の累積書込み電圧が
入力され、この累積書込み電圧が目標閾値電圧よりも低
い暫定閾値電圧を超えたら判定信号を出力するセンスア
ンプ14を設け、ドレイン電圧制御回路15は上記判定
信号に基づいて不揮発性メモリセル1,2,3のドレイ
ン端子に供給する書込み電圧を初期書込み電圧から標準
書込み電圧に切替えるので、累積書込み電圧が閾値電圧
を超える前に確実に書込みパルスの電圧を低下させるこ
とができる効果がある。従って、不揮発性半導体記憶装
置の書込み特性ばらつきによらず、暫定閾値電圧を超え
た時点で確実に書込みパルスの電圧を初期書込み電圧か
ら標準書込み電圧に切替えることができ、暫定閾値電圧
を閾値電圧に近接して設定し、書込み回数の削減効果を
最大限に発揮させつつも、累積書込み電圧が誤って閾値
電圧を超えてしまうことを防止することができる効果が
ある。
As described above, according to the second embodiment, the cumulative write voltage of the nonvolatile memory cells 1, 2, 3 is input, and the cumulative write voltage exceeds the provisional threshold voltage lower than the target threshold voltage. Then, a sense amplifier 14 for outputting a determination signal is provided, and the drain voltage control circuit 15 changes the write voltage supplied to the drain terminals of the nonvolatile memory cells 1, 2, 3 from the initial write voltage to the standard write voltage based on the determination signal. Since the switching is performed, there is an effect that the voltage of the write pulse can be surely reduced before the cumulative write voltage exceeds the threshold voltage. Therefore, the voltage of the write pulse can be reliably switched from the initial write voltage to the standard write voltage when the temporary threshold voltage is exceeded, regardless of the write characteristic variation of the nonvolatile semiconductor memory device. There is an effect that it is possible to prevent the accumulated write voltage from exceeding the threshold voltage erroneously while being set close to and maximizing the effect of reducing the number of times of writing while maximizing the effect of reducing the number of times of writing.

【0026】実施の形態3.図4はこの発明の実施の形
態3による不揮発性半導体記憶装置の一部の構成を示す
ブロック図である。図において、19,20,21はそ
れぞれ不揮発性メモリセル1,2,3に対する初期書込
み電圧の書込み回数をカウントする初期書込み回数カウ
ンタ(初期書込み監視回路)、22は標準的な初期書込
み電圧の書込み回数を記憶する基準カウンタ(初期書込
み監視回路)、23はこれら4つのカウンタ19,2
0,21,22のカウント値が入力されて、上記初期書
込み電圧の書込み回数の平均値と上記標準的な初期書込
み電圧の書込み回数とを比較し、これらの大小関係に応
じて異なる初期書込み制御信号を出力する比較器(初期
書込み監視回路)、24は初期電圧発生回路6の初期書
込み電圧よりも高い電圧を有する特高初期書込み電圧を
出力する特高初期電圧発生回路(初期電圧発生回路)、
25は標準書込み電圧、初期書込み電圧や特高初期書込
み電圧が入力される3つのスイッチ25a,25b,2
5cを有し、上記初期書込み制御信号に応じたスイッチ
をON制御して初期書込み電圧を出力し、判定信号が変
化したらがON制御するスイッチをスイッチ25bに切
替えて後期書込み電圧を出力するドレイン電圧制御回路
である。これ以外の構成は実施の形態2と同様であり同
一の符号を付して説明を省略する。
Embodiment 3 FIG. FIG. 4 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 3 of the present invention. In the figure, reference numerals 19, 20, and 21 denote initial write number counters (initial write monitoring circuits) for counting the number of times of initial write voltage applied to the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3, respectively, and reference numeral 22 denotes a standard initial write voltage write. A reference counter (initial write monitoring circuit) 23 for storing the number of times is provided by these four counters 19 and 2.
The count values of 0, 21, and 22 are input, and the average value of the number of times of writing of the initial writing voltage is compared with the number of times of writing of the standard initial writing voltage. A comparator (initial write monitoring circuit) 24 that outputs a signal, and an extra high initial voltage generation circuit (initial voltage generation circuit) 24 that outputs an extra high initial write voltage having a voltage higher than the initial write voltage of the initial voltage generation circuit 6 ,
Reference numeral 25 denotes three switches 25a, 25b, and 2 to which a standard write voltage, an initial write voltage, and an extra-high initial write voltage are input.
5c, a drain voltage for turning on a switch corresponding to the initial write control signal to output an initial write voltage, and switching a switch to be turned on to a switch 25b to output a late write voltage when the determination signal changes. It is a control circuit. The other configuration is the same as that of the second embodiment, and the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0027】次に動作について説明する。不揮発性半導
体記憶装置に対する閾値書込みを開始すると、ドレイン
電圧制御回路25は初期書込み電圧に基づく初期書込み
電圧を発生し、この初期書込み電圧により最初の不揮発
性メモリセル1,2,3の書込みが開始される。そし
て、初期書込み回数カウンタ(例えば19)は最初の不
揮発性メモリセル(例えば1)に対する初期書込みパル
スの書込み回数をカウントし、その回数を記憶する。そ
して、この最初の不揮発性メモリセル(例えば1)に対
する閾値電圧の書込みが終了したら、ドレイン電圧制御
回路25は再び初期書込み電圧に基づく初期書込み電圧
を発生し、この初期書込み電圧により2番目の不揮発性
メモリセル(例えば2)の書込みが開始される。このよ
うな動作を繰り返すことにより、上記複数の初期書込み
回数カウンタ19,20,21には順次所定の初期書込
み回数が記憶される。
Next, the operation will be described. When threshold writing to the nonvolatile semiconductor memory device is started, the drain voltage control circuit 25 generates an initial write voltage based on the initial write voltage, and the initial write voltage starts writing to the first nonvolatile memory cells 1, 2, and 3. Is done. Then, the initial write number counter (for example, 19) counts the number of times of writing the initial write pulse to the first nonvolatile memory cell (for example, 1) and stores the number. When the writing of the threshold voltage to the first nonvolatile memory cell (for example, 1) is completed, the drain voltage control circuit 25 again generates an initial write voltage based on the initial write voltage, and the second nonvolatile memory cell is generated by the initial write voltage. Writing of the volatile memory cell (for example, 2) is started. By repeating such an operation, a predetermined number of initial writings is sequentially stored in the plurality of initial writing number counters 19, 20, and 21.

【0028】全ての初期書込み回数カウンタ19,2
0,21に所定の初期書込み回数が記憶されると、比較
器23は全ての初期書込み回数カウンタ19,20,2
1の初期書込み回数の平均値と基準カウンタ22に記憶
された標準的な書込み回数とを比較し、これらの大小関
係に応じて異なる初期書込み制御信号を出力する。
All initial write counters 19 and 2
When the predetermined number of initial write times is stored in 0, 21, the comparator 23 sets all the initial write number counters 19, 20, 2.
The average value of the initial number of times of writing 1 is compared with the standard number of times of writing stored in the reference counter 22, and a different initial writing control signal is output in accordance with the magnitude relation.

【0029】そして、ドレイン電圧制御回路25は、こ
の初期書込み制御信号に応じて初期書込み電圧に使用す
る電圧を標準書込み電圧、初期書込み電圧、特高初期書
込み電圧の内から選択し、その電圧に変更する。この実
施の形態3では、全ての初期書込み回数カウンタ19,
20,21の初期書込み回数の平均値が基準カウンタ2
2に記憶された標準的な書込み回数よりも所定値以上大
きい場合の初期書込み制御信号が入力されたときには、
特高初期書込み電圧を初期書込み電圧として使用し、全
ての初期書込み回数カウンタ19,20,21の初期書
込み回数の平均値が基準カウンタ22に記憶された標準
的な書込み回数よりも所定値以上小さい場合の初期書込
み制御信号が入力されたときには、標準書込み電圧を初
期書込み電圧として使用し、これ以外の場合の初期書込
み制御信号が入力されたときには、初期書込み電圧を初
期書込み電圧として使用するように設定した。これ以外
の動作は実施の形態2と同様であり説明を省略する。
The drain voltage control circuit 25 selects a voltage to be used as the initial write voltage from the standard write voltage, the initial write voltage, and the extra-high initial write voltage in accordance with the initial write control signal, and sets the selected voltage to the selected voltage. change. In the third embodiment, all the initial write counters 19,
The average value of the initial write times of 20, 21 is the reference counter 2
When the initial write control signal is input in a case where the initial write control signal is larger than the standard number of times of writing stored in 2 by a predetermined value or more,
The extra high initial write voltage is used as the initial write voltage, and the average value of the initial write times of all the initial write number counters 19, 20, and 21 is smaller than the standard write number stored in the reference counter 22 by a predetermined value or more. In this case, when the initial write control signal is input, the standard write voltage is used as the initial write voltage, and when the initial write control signal is input in other cases, the initial write voltage is used as the initial write voltage. Set. Other operations are the same as those in the second embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0030】以上のように、この実施の形態3によれ
ば、不揮発性半導体記憶装置の初めの数ビット(この実
施の形態では3)を初期書込み電圧により書込むととも
に、初期書込み回数カウンタ19,20,21がそれに
よる書込み回数をカウントし、比較器23がこのカウン
ト値に応じた初期書込み制御信号を出力し、ドレイン電
圧制御回路25はこの初期書込み制御信号に基づいて初
期書込み時に使用する書込み電圧を変更する。従って、
不揮発性メモリセル1,2,3の不揮発性半導体記憶装
置の特性ばらつきがあったとしても、それに応じて最適
な書込み電圧を用いて初期書込みを行なうことができる
効果がある。
As described above, according to the third embodiment, the first few bits (3 in this embodiment) of the nonvolatile semiconductor memory device are written with the initial write voltage, and the initial write number counter 19, 20 and 21 count the number of times of writing, the comparator 23 outputs an initial write control signal corresponding to the count value, and the drain voltage control circuit 25 writes based on the initial write control signal the write used in the initial write. Change the voltage. Therefore,
Even if the characteristics of the nonvolatile semiconductor memory devices of the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3 fluctuate, the initial write can be performed using the optimum write voltage.

【0031】実施の形態4.図5はこの発明の実施の形
態4による不揮発性半導体記憶装置の一部の構成を示す
ブロック図である。図において、26は初期書込み制御
信号を記憶する初期書込み情報メモリセルである。これ
以外の構成は実施の形態3と同様であり同一の符号を付
して説明を省略する。
Embodiment 4 FIG. FIG. 5 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 4 of the present invention. In the figure, reference numeral 26 denotes an initial write information memory cell for storing an initial write control signal. The other configuration is the same as that of the third embodiment, and the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0032】次に動作について説明する。初期書込み情
報メモリセル26は、不揮発性半導体記憶装置の最初の
テストにおいて、比較器23から出力される初期書込み
制御信号を記憶する。そして、2回目以降のテストにお
いては、ドレイン電圧制御回路25は、書込み開始時に
初期書込み情報メモリセル26に記憶された初期書込み
制御信号を呼び出し、この呼び出した初期書込み制御信
号に応じて初期書込み電圧に使用する電圧を標準書込み
電圧、初期書込み電圧、特高初期書込み電圧のうちから
選択する。これ以外の動作は実施の形態3と同様であり
説明を省略する。
Next, the operation will be described. The initial write information memory cell 26 stores an initial write control signal output from the comparator 23 in the first test of the nonvolatile semiconductor memory device. Then, in the second and subsequent tests, the drain voltage control circuit 25 calls the initial write control signal stored in the initial write information memory cell 26 at the start of writing, and sets the initial write voltage in accordance with the called initial write control signal. Is selected from the standard write voltage, the initial write voltage, and the extra high initial write voltage. Other operations are the same as those in the third embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0033】以上のように、この実施の形態4によれ
ば、初期書込み制御信号を記憶する初期書込み情報メモ
リセル26を設け、ドレイン電圧制御回路25は2回目
以降の書込みテストにおいてはこの初期書込み情報メモ
リセル26に記憶された初期書込み制御信号に基づいて
上記初期書込み時に使用する書込み電圧を選択するの
で、2回目以降のテストにおいては常に最適な書込み電
圧を用いて初期書込みを行なうことができる効果があ
る。
As described above, according to the fourth embodiment, the initial write information memory cell 26 for storing the initial write control signal is provided, and the drain voltage control circuit 25 performs the initial write in the second and subsequent write tests. Since the write voltage to be used at the time of the initial write is selected based on the initial write control signal stored in the information memory cell 26, the initial write can be always performed using the optimum write voltage in the second and subsequent tests. effective.

【0034】実施の形態5.図6はこの発明の実施の形
態5による不揮発性半導体記憶装置の一部の構成を示す
ブロック図である。図において、27は書込み電圧入力
制御トランジスタ10のベース電極に接続され、不揮発
性半導体記憶装置の外部の回路に接続されるドレイン電
圧制御端子、28はこのドレイン電圧制御端子27に接
続されて任意の電圧を発生することができる外部パルス
発生装置である。これ以外の構成は実施の形態1と同様
であり同一の符号を付して説明を省略する。
Embodiment 5 FIG. 6 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 5 of the present invention. In the figure, 27 is a drain voltage control terminal connected to the base electrode of the write voltage input control transistor 10 and connected to a circuit external to the nonvolatile semiconductor memory device, and 28 is connected to the drain voltage control terminal 27 and An external pulse generator capable of generating a voltage. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0035】次に動作について説明する。書込み時にお
いて、外部電圧発生装置28は、まず、ドレイン電圧制
御端子27に初期書込み電圧を有する外部初期書込み電
圧を入力する。これにより書込み電圧入力制御トランジ
スタ10は動作し、所定の不揮発性メモリセル(例えば
1)のフローティングゲートには電荷が注入され、この
不揮発性メモリセル(例えば1)の読み出し閾値電圧が
上昇する。外部電圧発生装置28は、この初期書込み電
圧による外部初期書込みパルスを所定の回数出力した
後、標準書込み電圧を有する外部初期書込み電圧を出力
する。そして、この標準書込み電圧の外部初期書込みパ
ルスによる書込みを繰り返して、不揮発性メモリセル
(例えば1)の累積書込み電圧を所定の閾値電圧に設定
する。なお、この所定の閾値電圧に設定する際には標準
書込み電圧を用いているので、不揮発性メモリセル(例
えば1)の最終的な累積書込み電圧は閾値電圧に対して
所定の電圧ばらつき精度にて書込みを行うことができ
る。これ以外の動作は実施の形態1と同様であり説明を
省略する。
Next, the operation will be described. At the time of writing, first, the external voltage generator 28 inputs an external initial write voltage having an initial write voltage to the drain voltage control terminal 27. As a result, the write voltage input control transistor 10 operates, charges are injected into the floating gate of a predetermined nonvolatile memory cell (for example, 1), and the read threshold voltage of this nonvolatile memory cell (for example, 1) increases. The external voltage generator 28 outputs the external initial write pulse having the standard write voltage after outputting the external initial write pulse based on the initial write voltage a predetermined number of times. Then, the writing with the external initial writing pulse of the standard writing voltage is repeated to set the cumulative writing voltage of the nonvolatile memory cell (for example, 1) to a predetermined threshold voltage. Since the standard write voltage is used when setting the predetermined threshold voltage, the final cumulative write voltage of the nonvolatile memory cell (for example, 1) is determined with a predetermined voltage variation accuracy with respect to the threshold voltage. Writing can be performed. Other operations are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0036】この実施の形態5によれば、不揮発性メモ
リセル1,2,3と、上記不揮発性メモリセル1,2,
3のドレイン端子と電源電圧との間に接続された複数の
制御トランジスタ9,10,11,12と、上記複数の
制御トランジスタのうちの1つの制御トランジスタ(書
込み電圧入力制御トランジスタ10)のゲートに接続さ
れたドレイン電圧制御端子27とを備えているので、こ
のドレイン電圧制御端子27に印加する電圧を初期書込
み電圧から標準書込み電圧に低下させつつ不揮発性メモ
リセル1,2,3への閾値電圧の書込みを行なうことが
できる。従って、例えば、初期電圧としては標準書込み
電圧よりも高い書込み電圧をドレイン電圧制御端子27
に印加して少ない書込み回数で累積書込み電圧を一気に
高め、且つ、最終的にはドレイン電圧制御端子27に標
準書込み電圧を印加して少しずつ累積書込み電圧を上昇
させることにより、従来のように標準書込み電圧のみで
閾値電圧までの書込みを行なった場合に比べて少ない書
込み回数で閾値電圧までの書込みを行なうことができ、
しかも、従来のように標準書込み電圧のみで閾値電圧ま
での書込みを行なった場合と同等に閾値電圧のばらつき
を抑えることができる効果がある。
According to the fifth embodiment, the nonvolatile memory cells 1, 2, 3 and the nonvolatile memory cells 1, 2, 2, 3
3 and a plurality of control transistors 9, 10, 11, and 12 connected between the drain terminal and the power supply voltage, and a gate of one of the plurality of control transistors (write voltage input control transistor 10). And a drain voltage control terminal 27 connected thereto, so that the voltage applied to the drain voltage control terminal 27 is reduced from the initial write voltage to the standard write voltage while the threshold voltage applied to the nonvolatile memory cells 1, 2, and 3 is reduced. Can be written. Therefore, for example, as the initial voltage, a write voltage higher than the standard write voltage is set to the drain voltage control terminal 27.
To increase the cumulative write voltage at a stretch with a small number of write times, and finally increase the cumulative write voltage little by little by applying a standard write voltage to the drain voltage control terminal 27. Writing up to the threshold voltage can be performed with a smaller number of times of writing as compared to the case where writing up to the threshold voltage is performed only with the writing voltage,
In addition, there is an effect that variation in threshold voltage can be suppressed as in the case where writing up to the threshold voltage is performed using only the standard write voltage as in the related art.

【0037】従って、この実施の形態5によれば、閾値
電圧のばらつきを抑えつつ書込み時間をも抑えることが
できるので、例えば、不揮発性半導体記憶装置の揮発不
良をベークによってスクリーニングテストするような場
合においても不揮発性メモリセル1,2,3の累積書込
み電圧の電圧ばらつきを非常に小さく抑えつつ短時間で
書込みを行うことができ、一般的な不揮発性半導体記憶
装置においてその各製造段階において上記ベークによる
スクリーニングテストを行っても短時間に書込みを行う
ことができ、出荷テスト時間を格段に短縮させる効果が
ある。
Therefore, according to the fifth embodiment, the writing time can be suppressed while suppressing the variation in the threshold voltage. For example, in the case where a screening test is performed by baking for a volatile defect of the nonvolatile semiconductor memory device. In this case, writing can be performed in a short time while the voltage variation of the cumulative writing voltage of the nonvolatile memory cells 1, 2 and 3 is kept very small. The writing can be performed in a short time even if the screening test is performed by the above method, and the shipping test time is significantly reduced.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、不揮
発性メモリセルのドレイン端子に印加する書込み電圧を
暫時低下させつつ上記不揮発性メモリセルへの閾値電圧
の書込みを行なうので、例えば、初期電圧としては標準
書込み電圧よりも高い書込み電圧を使用して少ない書込
み回数で累積書込み電圧を一気に高め、且つ、最終的に
は標準書込み電圧にて少しずつ累積書込み電圧を上昇さ
せることができるので、従来のように標準書込み電圧の
みで閾値電圧までの書込みを行なった場合に比べて少な
い書込み回数で閾値電圧までの書込みを行なうことがで
き、しかも、従来のように標準書込み電圧のみで閾値電
圧までの書込みを行なった場合と同等に閾値電圧のばら
つきを抑えることができる効果がある。
As described above, according to the present invention, the threshold voltage is written to the nonvolatile memory cell while temporarily lowering the write voltage applied to the drain terminal of the nonvolatile memory cell. As the initial voltage, a write voltage higher than the standard write voltage is used, and the cumulative write voltage can be increased at a stretch with a small number of write operations, and finally, the cumulative write voltage can be gradually increased with the standard write voltage. Therefore, it is possible to perform writing up to the threshold voltage with a smaller number of times of writing as compared with the case where writing up to the threshold voltage is performed only with the standard write voltage as in the conventional case, and furthermore, as in the conventional case, the threshold voltage is written only with the standard write voltage. Thus, there is an effect that variation in threshold voltage can be suppressed as in the case where writing is performed up to.

【0039】この発明によれば、揮発性メモリセルに閾
値電圧を書込む際に利用される標準書込み電圧を出力す
る標準電圧発生回路と、上記標準書込み電圧よりも高い
初期書込み電圧を出力する1又は複数の初期電圧発生回
路と、上記標準書込み電圧および上記1又は複数の初期
書込み電圧が入力され、これらの書込み電圧を切替えて
上記不揮発性メモリセルのドレイン端子に供給し且つ当
該ドレイン端子の電圧が暫時低下するように供給するド
レイン電圧制御回路とを設けて、初期電圧としては標準
書込み電圧よりも高い書込み電圧を使用して少ない書込
み回数で累積書込み電圧を一気に高め、且つ、最終的に
は標準書込み電圧にて少しずつ累積書込み電圧を上昇さ
せることができるので、従来のように標準書込み電圧の
みで閾値電圧までの書込みを行なった場合に比べて少な
い書込み回数で閾値電圧までの書込みを行なうことがで
き、しかも、従来のように標準書込み電圧のみで閾値電
圧までの書込みを行なった場合と同等に閾値電圧のばら
つきを抑えることができる効果がある。
According to the present invention, a standard voltage generating circuit for outputting a standard write voltage used when writing a threshold voltage to a volatile memory cell, and an initial write voltage for outputting an initial write voltage higher than the standard write voltage Or, a plurality of initial voltage generating circuits, the standard write voltage and the one or more initial write voltages are input, and these write voltages are switched and supplied to the drain terminal of the nonvolatile memory cell, and the voltage of the drain terminal is changed. And a drain voltage control circuit for supplying the voltage so as to temporarily decrease the voltage, and use a higher write voltage than the standard write voltage as the initial voltage to increase the cumulative write voltage at once with a small number of write operations, and finally, Since the cumulative write voltage can be increased little by little with the standard write voltage, the threshold voltage can be increased only with the standard write voltage as in the past. Writing up to the threshold voltage can be performed with a smaller number of times of writing as compared to the case where writing is performed, and the variation in threshold voltage is the same as when writing up to the threshold voltage with only the standard writing voltage as in the conventional case. There is an effect that can be suppressed.

【0040】この発明によれば、不揮発性メモリセルの
累積書込み電圧が入力され、この累積書込み電圧が目標
閾値電圧よりも低い暫定閾値電圧を超えたら切替信号を
出力する切替信号発生回路を設け、ドレイン電圧制御回
路は上記切替信号に基づいて不揮発性メモリセルのドレ
イン端子に供給する書込み電圧を切替えるので、累積書
込み電圧が目標とする閾値電圧を超える前に確実に書込
み電圧を低下させることができる効果がある。
According to the present invention, there is provided a switching signal generating circuit for receiving a cumulative writing voltage of a nonvolatile memory cell, outputting a switching signal when the cumulative writing voltage exceeds a provisional threshold voltage lower than a target threshold voltage, Since the drain voltage control circuit switches the write voltage supplied to the drain terminal of the nonvolatile memory cell based on the switching signal, the write voltage can be surely reduced before the cumulative write voltage exceeds the target threshold voltage. effective.

【0041】この発明によれば、初期電圧発生回路によ
る書込み回数をカウントし、このカウント値に応じた初
期書込み制御信号を出力する初期書込み監視回路を設
け、ドレイン電圧制御回路は上記初期書込み制御信号に
基づいて上記初期書込み時に使用する書込み電圧を変更
するので、不揮発性メモリセルの特性にばらつきがあっ
たとしても、それに応じて最適な書込み電圧を用いて初
期書込みを行なうことができる効果がある。
According to the present invention, there is provided an initial write monitor circuit for counting the number of times of writing by the initial voltage generating circuit and outputting an initial write control signal corresponding to the count value. The write voltage used at the time of the above-mentioned initial write is changed on the basis of the above, so that even if the characteristics of the nonvolatile memory cells vary, there is an effect that the initial write can be performed using the optimum write voltage in accordance therewith. .

【0042】この発明によれば、初期書込み制御信号を
記憶する初期書込み情報メモリを設け、ドレイン電圧制
御回路はこの初期書込み情報メモリに記憶された初期書
込み制御信号に基づいて上記初期書込み時に使用する書
込み電圧を選択するので、一端初期書込み監視回路から
初期書込み制御信号が出力された後は、常に最適な書込
み電圧を用いて初期書込みを行なうことができる効果が
ある。
According to the present invention, the initial write information memory for storing the initial write control signal is provided, and the drain voltage control circuit is used at the time of the initial write based on the initial write control signal stored in the initial write information memory. Since the write voltage is selected, after the initial write control signal is once output from the initial write monitoring circuit, the initial write can be always performed using the optimum write voltage.

【0043】この発明によれば、不揮発性メモリセル
と、上記不揮発性メモリセルのドレイン端子と電源電圧
との間に接続された1又は複数のトランジスタと、上記
1又は複数のトランジスタのうちの1つのトランジスタ
のゲートに接続されたドレイン電圧制御端子とを備えて
いるので、このドレイン電圧制御端子に印加する電圧を
暫時低下させつつ上記不揮発性メモリセルへの閾値電圧
の書込みを行なうことができる。従って、例えば、初期
電圧としては標準書込み電圧よりも高い書込み電圧をド
レイン電圧制御端子に印加して少ない書込み回数で累積
書込み電圧を一気に高め、且つ、最終的にはドレイン電
圧制御端子に標準書込み電圧を印加して少しずつ累積書
込み電圧を上昇させることにより、従来のように標準書
込み電圧のみで閾値電圧までの書込みを行なった場合に
比べて少ない書込み回数で閾値電圧までの書込みを行な
うことができ、しかも、従来のように標準書込み電圧の
みで閾値電圧までの書込みを行なった場合と同等に閾値
電圧のばらつきを抑えることができる効果がある。
According to the present invention, the nonvolatile memory cell, one or more transistors connected between the drain terminal of the nonvolatile memory cell and the power supply voltage, and one of the one or more transistors Since the semiconductor device includes the drain voltage control terminal connected to the gates of the two transistors, the threshold voltage can be written to the nonvolatile memory cell while temporarily reducing the voltage applied to the drain voltage control terminal. Therefore, for example, a write voltage higher than the standard write voltage is applied to the drain voltage control terminal as the initial voltage, and the cumulative write voltage is increased at a stretch with a small number of write operations, and finally, the standard write voltage is applied to the drain voltage control terminal. To increase the cumulative write voltage little by little, the write up to the threshold voltage can be performed with a smaller number of write times compared to the case where the write up to the threshold voltage is performed using only the standard write voltage as in the conventional case. In addition, there is an effect that the variation of the threshold voltage can be suppressed as in the case where the writing up to the threshold voltage is performed only with the standard write voltage as in the related art.

【0044】従って、以上の発明においては、閾値電圧
のばらつきを抑えつつ書込み時間をも抑えることができ
るので、例えば、不揮発性半導体記憶装置の揮発不良を
ベークによってスクリーニングテストするような場合に
おいても不揮発性メモリセルの累積書込み電圧の電圧ば
らつきを非常に小さく抑えつつ短時間で書込みを行うこ
とができ、一般的な不揮発性半導体記憶装置においてそ
の各製造段階において上記ベークによるスクリーニング
テストを行っても、短時間に書込みを行うことができる
効果がある。
Therefore, in the above invention, the writing time can be suppressed while suppressing the variation of the threshold voltage. For example, even when a screening test is performed by baking for a volatile defect of the nonvolatile semiconductor memory device, the nonvolatile memory can be used. Writing can be performed in a short time while the voltage variation of the cumulative writing voltage of the non-volatile memory cell is kept very small, and even if the screening test by the bake is performed at each manufacturing stage in a general nonvolatile semiconductor memory device, There is an effect that writing can be performed in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1による不揮発性半導
体記憶装置の一部の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 この発明の実施の形態1による累積書込みパ
ルス数と読み出し閾値電圧との関係を示す書込み特性図
である。
FIG. 2 is a write characteristic diagram showing a relationship between a cumulative number of write pulses and a read threshold voltage according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 この発明の実施の形態2による不揮発性半導
体記憶装置の一部の構成を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention;

【図4】 この発明の実施の形態3による不揮発性半導
体記憶装置の一部の構成を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention;

【図5】 この発明の実施の形態4による不揮発性半導
体記憶装置の一部の構成を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】 この発明の実施の形態5による不揮発性半導
体記憶装置の一部の構成を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a partial configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention;

【図7】 従来の不揮発性半導体記憶装置の一部の構成
を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a part of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【図8】 従来の不揮発性半導体記憶装置における累積
書込みパルス数と読み出し閾値電圧との関係を示す書込
み特性図である。
FIG. 8 is a write characteristic diagram showing a relationship between the cumulative number of write pulses and a read threshold voltage in a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3 不揮発性メモリセル、5 標準電圧発生回
路、6 初期電圧発生回路、7,15,25 ドレイン
電圧制御回路、9 パルス入力制御トランジスタ(トラ
ンジスタ)、10 書込み電圧入力制御トランジスタ
(ドレイン電圧制御回路、トランジスタ)、11,12
セレクト制御トランジスタ(トランジスタ)、14
センスアンプ(切替信号発生回路)、19,20,21
初期書込み回数カウンタ(初期書込み監視回路)、2
2 基準カウンタ(初期書込み監視回路)、23 比較
器(初期書込み監視回路)、24 特高初期電圧発生回
路(初期電圧発生回路)、26 初期書込み情報メモリ
セル、27 ドレイン電圧制御端子。
1, 2, 3 nonvolatile memory cell, 5 standard voltage generator, 6 initial voltage generator, 7, 15, 25 drain voltage control circuit, 9 pulse input control transistor (transistor), 10 write voltage input control transistor (drain voltage Control circuit, transistor), 11, 12
Select control transistor (transistor), 14
Sense amplifier (switching signal generation circuit), 19, 20, 21
Initial write counter (initial write monitoring circuit), 2
2 Reference counter (initial writing monitoring circuit), 23 Comparator (initial writing monitoring circuit), 24 Extra high initial voltage generating circuit (initial voltage generating circuit), 26 Initial writing information memory cell, 27 Drain voltage control terminal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中平 小百合 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5B025 AA01 AC01 AD04 AE05  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Sayuri Nakahira 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo F-term in Mitsubishi Electric Corporation (reference) 5B025 AA01 AC01 AD04 AE05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不揮発性半導体記憶装置の不揮発性メモ
リセルに閾値電圧を書込む閾値電圧書込み方法におい
て、 上記不揮発性メモリセルのドレイン端子に印加する書込
み電圧を暫時低下させつつ上記不揮発性メモリセルへの
閾値電圧の書込みを行なうことを特徴とするメモリセル
への閾値電圧書込み方法。
1. A threshold voltage writing method for writing a threshold voltage in a nonvolatile memory cell of a nonvolatile semiconductor memory device, wherein the write voltage applied to a drain terminal of the nonvolatile memory cell is temporarily reduced while the nonvolatile memory cell is Writing a threshold voltage to a memory cell.
【請求項2】 不揮発性メモリセルと、当該不揮発性メ
モリセルに閾値電圧を書込む際に利用される標準書込み
電圧を出力する標準電圧発生回路と、上記標準書込み電
圧よりも高い初期書込み電圧を出力する1又は複数の初
期電圧発生回路と、上記標準書込み電圧および上記1又
は複数の初期書込み電圧が入力され、これらの書込み電
圧を切替えて上記不揮発性メモリセルのドレイン端子に
供給し且つ当該ドレイン端子の電圧が暫時低下するよう
に供給するドレイン電圧制御回路とを備えた不揮発性半
導体記憶装置。
2. A nonvolatile memory cell, a standard voltage generating circuit for outputting a standard write voltage used for writing a threshold voltage to the nonvolatile memory cell, and an initial write voltage higher than the standard write voltage. One or a plurality of initial voltage generating circuits to be output, the standard write voltage and the one or a plurality of initial write voltages are input, and these write voltages are switched to be supplied to a drain terminal of the nonvolatile memory cell and to be supplied to the drain. A non-volatile semiconductor memory device comprising: a drain voltage control circuit for supplying a voltage of a terminal so as to temporarily decrease.
【請求項3】 不揮発性メモリセルの累積書込み電圧が
入力され、この累積書込み電圧が目標閾値電圧よりも低
い暫定閾値電圧を超えたら切替信号を出力する切替信号
発生回路を設け、ドレイン電圧制御回路は上記切替信号
に基づいて不揮発性メモリセルのドレイン端子に供給す
る書込み電圧を切替えることを特徴とする請求項2記載
の不揮発性半導体記憶装置。
3. A switching signal generating circuit for receiving a cumulative writing voltage of a nonvolatile memory cell and outputting a switching signal when the cumulative writing voltage exceeds a provisional threshold voltage lower than a target threshold voltage, wherein a drain voltage control circuit is provided. 3. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 2, wherein said switch switches a write voltage supplied to a drain terminal of said nonvolatile memory cell based on said switching signal.
【請求項4】 初期電圧発生回路による書込み回数をカ
ウントし、このカウント値に応じた初期書込み制御信号
を出力する初期書込み監視回路を設け、ドレイン電圧制
御回路は上記初期書込み制御信号に基づいて上記初期書
込み時に使用する書込み電圧を変更することを特徴とす
る請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置。
4. An initial write monitoring circuit which counts the number of write operations by an initial voltage generation circuit and outputs an initial write control signal according to the count value, wherein the drain voltage control circuit performs the above-mentioned operation based on the initial write control signal 3. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 2, wherein a write voltage used at the time of initial write is changed.
【請求項5】 初期書込み制御信号を記憶する初期書込
み情報メモリを設け、ドレイン電圧制御回路はこの初期
書込み情報メモリに記憶された初期書込み制御信号に基
づいて上記初期書込み時に使用する書込み電圧を選択す
ることを特徴とする請求項4記載の不揮発性半導体記憶
装置。
5. An initial write information memory for storing an initial write control signal, and a drain voltage control circuit selects a write voltage to be used at the time of the initial write based on the initial write control signal stored in the initial write information memory. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 4, wherein:
【請求項6】 不揮発性メモリセルと、上記不揮発性メ
モリセルのドレイン端子と電源電圧との間に接続された
1又は複数のトランジスタと、上記1又は複数のトラン
ジスタのうちの1つのトランジスタのゲートに接続され
たドレイン電圧制御端子とを備えた不揮発性半導体記憶
装置。
6. A nonvolatile memory cell, one or more transistors connected between a drain terminal of the nonvolatile memory cell and a power supply voltage, and a gate of one of the one or more transistors And a drain voltage control terminal connected to the nonvolatile semiconductor memory device.
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