JP2000009812A - 電圧波形測定プローブ - Google Patents
電圧波形測定プローブInfo
- Publication number
- JP2000009812A JP2000009812A JP10172366A JP17236698A JP2000009812A JP 2000009812 A JP2000009812 A JP 2000009812A JP 10172366 A JP10172366 A JP 10172366A JP 17236698 A JP17236698 A JP 17236698A JP 2000009812 A JP2000009812 A JP 2000009812A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- electro
- electrode
- capacitive coupling
- capacitance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電圧波形測定プローブに関し、プローブ先端
電極や探針に起因する浮遊容量の影響を抑制してプロー
ブの入力容量を低減し、また、探針を電気光学効果を持
つ結晶に対して着脱自在に取り付ける。 【解決手段】 電気光学効果を持つ電気光学素子2を透
過した光の偏光状態の変化を検出することにより電圧波
形を測定する電圧波形測定プローブ1の電気光学素子2
の一端に容量結合部7を有するプローブ電極3を取り付
けるとともに、プローブ電極3を構成するプローブ先端
電極5或いは針状電極6を、電気光学素子2側に設けた
プローブ接続電極4に対して着脱自在に取り付ける。
電極や探針に起因する浮遊容量の影響を抑制してプロー
ブの入力容量を低減し、また、探針を電気光学効果を持
つ結晶に対して着脱自在に取り付ける。 【解決手段】 電気光学効果を持つ電気光学素子2を透
過した光の偏光状態の変化を検出することにより電圧波
形を測定する電圧波形測定プローブ1の電気光学素子2
の一端に容量結合部7を有するプローブ電極3を取り付
けるとともに、プローブ電極3を構成するプローブ先端
電極5或いは針状電極6を、電気光学素子2側に設けた
プローブ接続電極4に対して着脱自在に取り付ける。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電圧波形測定プロー
ブに関するものであり、特に、プローブ先端針の固着構
造に特徴のある電気光学効果を用いて半導体大規模集積
回路装置(LSI装置)内部の微細配線に印加されてい
る電圧を測定するための電圧波形測定プローブに関する
ものである。
ブに関するものであり、特に、プローブ先端針の固着構
造に特徴のある電気光学効果を用いて半導体大規模集積
回路装置(LSI装置)内部の微細配線に印加されてい
る電圧を測定するための電圧波形測定プローブに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体大規模集積回路装置等の半導体装
置を設計・製造する上で、半導体装置内部の配線に印加
されている電圧波形を正確に捕らえておくことは必要不
可欠であるが、半導体装置の集積度の向上に伴って、配
線幅は狭くなってきており、光学顕微鏡を用いて微細配
線にプローブを接触させて電圧波形を測定する従来の方
法では対応が難しくなってきている。
置を設計・製造する上で、半導体装置内部の配線に印加
されている電圧波形を正確に捕らえておくことは必要不
可欠であるが、半導体装置の集積度の向上に伴って、配
線幅は狭くなってきており、光学顕微鏡を用いて微細配
線にプローブを接触させて電圧波形を測定する従来の方
法では対応が難しくなってきている。
【0003】この様な問題を解決するものとして、電気
光学効果を持つ結晶、即ち、電気光学結晶(EO結晶)
を用いた光テスタが使用されており、測定点の近傍に配
置した電気光学結晶にレーザ光を照射し、配線に印加さ
れた電圧に基づいて電気光学結晶に誘起された複屈折率
変化による電気光学結晶を透過または反射したレーザ光
の偏光状態変化を検出し、その偏光量に基づいて電圧を
測定するものである(必要ならば、J.A.Valdm
anis,ELECTRONICS Letters,
Vol.23,p.1308,1987参照)。
光学効果を持つ結晶、即ち、電気光学結晶(EO結晶)
を用いた光テスタが使用されており、測定点の近傍に配
置した電気光学結晶にレーザ光を照射し、配線に印加さ
れた電圧に基づいて電気光学結晶に誘起された複屈折率
変化による電気光学結晶を透過または反射したレーザ光
の偏光状態変化を検出し、その偏光量に基づいて電圧を
測定するものである(必要ならば、J.A.Valdm
anis,ELECTRONICS Letters,
Vol.23,p.1308,1987参照)。
【0004】この場合に使用するレーザ光は、CW光
(連続発振光)を用いることもあるが、より高速な電気
信号波形を測定するために、超短パルス光を用いてサン
プリングを行う電気光学サンプリング法が用いられてお
り、この方法においては、電気光学効果の応答が早く、
且つ、光パルスも極めて短いものが得られるため、超高
時間分解能が得られる。
(連続発振光)を用いることもあるが、より高速な電気
信号波形を測定するために、超短パルス光を用いてサン
プリングを行う電気光学サンプリング法が用いられてお
り、この方法においては、電気光学効果の応答が早く、
且つ、光パルスも極めて短いものが得られるため、超高
時間分解能が得られる。
【0005】しかし、通常この電気光学サンプリング法
においては、空間分解能がレーザ光のビーム径で制限さ
れるため、サブミクロンオーダーの幅の微細配線の電圧
測定を行うことができず、そのために、導電性を有する
W等からなる先端の鋭い探針を電気光学結晶に取付けて
プローブ自身にAFM(原子間力顕微鏡)機能を持た
せ、この探針を配線に接触させることによりサブミクロ
ンオーダーの幅の微細配線の電圧測定を可能にしてい
る。
においては、空間分解能がレーザ光のビーム径で制限さ
れるため、サブミクロンオーダーの幅の微細配線の電圧
測定を行うことができず、そのために、導電性を有する
W等からなる先端の鋭い探針を電気光学結晶に取付けて
プローブ自身にAFM(原子間力顕微鏡)機能を持た
せ、この探針を配線に接触させることによりサブミクロ
ンオーダーの幅の微細配線の電圧測定を可能にしてい
る。
【0006】ここで、図6を参照して、実用化されてい
る従来の電気光学効果を用いたプローブを説明する。 図6参照 図6は、電気光学効果を用いた従来のプローブの一例の
概略的断面図であり、プローブは、プローブヘッド3
1、プローブヘッド31を支持する支持筐体32、プロ
ーブヘッド31を走査するピエゾアクチュエータによる
XYZピエゾステージ33、プローブヘッド31にレー
ザ光を照射するレーザ光源41、及び、照射したレーザ
光の反射光から電圧の検出を行う偏光解析部34から構
成されている。
る従来の電気光学効果を用いたプローブを説明する。 図6参照 図6は、電気光学効果を用いた従来のプローブの一例の
概略的断面図であり、プローブは、プローブヘッド3
1、プローブヘッド31を支持する支持筐体32、プロ
ーブヘッド31を走査するピエゾアクチュエータによる
XYZピエゾステージ33、プローブヘッド31にレー
ザ光を照射するレーザ光源41、及び、照射したレーザ
光の反射光から電圧の検出を行う偏光解析部34から構
成されている。
【0007】この内、プローブヘッド31は、Bi12S
iO20或いはZnTe等の電気光学結晶35、電気光学
結晶35の一方の面に反射電極(図示せず)を介して取
り付けられた探針36、GND電位等の参照電圧を印加
するためのITO等の透明電極(図示せず)を設けた電
気光学結晶35の他方の面に対向固定されるチューブ3
7、チューブ37を支持する2枚の平行な板バネ38,
39から構成される。
iO20或いはZnTe等の電気光学結晶35、電気光学
結晶35の一方の面に反射電極(図示せず)を介して取
り付けられた探針36、GND電位等の参照電圧を印加
するためのITO等の透明電極(図示せず)を設けた電
気光学結晶35の他方の面に対向固定されるチューブ3
7、チューブ37を支持する2枚の平行な板バネ38,
39から構成される。
【0008】このチューブ37は、水平方向に高剛性を
有し、且つ、垂直方向には低剛性であり、探針36の変
位により探針36が配線等に接触した場合のチューブ3
7の上下動は、容量式変位センサ40によって測定され
る。
有し、且つ、垂直方向には低剛性であり、探針36の変
位により探針36が配線等に接触した場合のチューブ3
7の上下動は、容量式変位センサ40によって測定され
る。
【0009】また、偏光解析部34には、レーザダイオ
ードを備えたレーザ光源41からのパルスレーザ光42
を透過すると共に、電気光学結晶35からの反射光の内
の特定の偏光成分を光検出器48に導く偏光ビームスプ
リッタ43、反射光の偏光軸を回転させるファラデー回
転子44、ファラデー回転子44を透過したパルスレー
ザ光42を透過すると共に、電気光学結晶35からの反
射光の内の特定の偏光成分を光検出器47に導く偏光ビ
ームスプリッタ45、偏光ビームスプリッタ45を透過
した直線偏光のパルスレーザ光42を楕円偏光に変換す
るλ/4板46、2つの光検出器47,48の検出出力
を入力してその差動出力を電圧波形として出力する差動
増幅器(図示を省略)等から構成される。
ードを備えたレーザ光源41からのパルスレーザ光42
を透過すると共に、電気光学結晶35からの反射光の内
の特定の偏光成分を光検出器48に導く偏光ビームスプ
リッタ43、反射光の偏光軸を回転させるファラデー回
転子44、ファラデー回転子44を透過したパルスレー
ザ光42を透過すると共に、電気光学結晶35からの反
射光の内の特定の偏光成分を光検出器47に導く偏光ビ
ームスプリッタ45、偏光ビームスプリッタ45を透過
した直線偏光のパルスレーザ光42を楕円偏光に変換す
るλ/4板46、2つの光検出器47,48の検出出力
を入力してその差動出力を電圧波形として出力する差動
増幅器(図示を省略)等から構成される。
【0010】この場合、探針36が接触している配線に
印加されている被測定信号によって電気光学結晶35の
屈折率がポッケルス効果によって変化し、それによって
この電気光学結晶35の内部を通過するレーザ光の偏光
状態が変化し、この偏光状態が変化した反射光を偏光解
析部34に設けたλ/4板46で直線偏光に変換し、直
線偏光の内の一方の成分、例えば、S偏光成分を偏光ビ
ームスプリッタ45で選択的に反射して光検出器47で
検出される。
印加されている被測定信号によって電気光学結晶35の
屈折率がポッケルス効果によって変化し、それによって
この電気光学結晶35の内部を通過するレーザ光の偏光
状態が変化し、この偏光状態が変化した反射光を偏光解
析部34に設けたλ/4板46で直線偏光に変換し、直
線偏光の内の一方の成分、例えば、S偏光成分を偏光ビ
ームスプリッタ45で選択的に反射して光検出器47で
検出される。
【0011】一方、偏光ビームスプリッタ45を透過し
た直線偏光の内の他方の成分、例えば、P偏光成分は、
ファラデー回転子44によって偏光軸が偏光ビームスプ
リッタ43で反射が生ずるように回転され、反射した光
は光検出器48で検出され、光検出器47で検出された
出力と、光検出器48で検出された出力を差動増幅器で
比較増幅するものであり、差動増幅器の出力、即ち、光
検出器47で検出された出力と、光検出器48で検出さ
れた出力との比率の変化により配線に印加されている被
測定信号を検出するものである。
た直線偏光の内の他方の成分、例えば、P偏光成分は、
ファラデー回転子44によって偏光軸が偏光ビームスプ
リッタ43で反射が生ずるように回転され、反射した光
は光検出器48で検出され、光検出器47で検出された
出力と、光検出器48で検出された出力を差動増幅器で
比較増幅するものであり、差動増幅器の出力、即ち、光
検出器47で検出された出力と、光検出器48で検出さ
れた出力との比率の変化により配線に印加されている被
測定信号を検出するものである。
【0012】この様な電圧波形測定プローブにおいて、
電気光学結晶35の透明電極側にGND電位等の一定の
参照電圧を印加しているので、電気光学結晶35の両端
にかかる電圧が一定となり、正確な電圧振幅の測定が可
能になる。
電気光学結晶35の透明電極側にGND電位等の一定の
参照電圧を印加しているので、電気光学結晶35の両端
にかかる電圧が一定となり、正確な電圧振幅の測定が可
能になる。
【0013】また、この様な電気光学結晶35の電気光
学効果は極めて微小であるため、直流電圧成分を高い精
度で測定することは難しいが、電気光学結晶35は僅か
な電気伝導性を有するので、電気光学結晶35の参照電
極となる透明電極から配線を引き出して高インピーダン
ス入力の増幅器に接続することで、直流電圧成分も高い
精度で測定することが可能になる(必要ならば、特願平
8−263397号参照)。
学効果は極めて微小であるため、直流電圧成分を高い精
度で測定することは難しいが、電気光学結晶35は僅か
な電気伝導性を有するので、電気光学結晶35の参照電
極となる透明電極から配線を引き出して高インピーダン
ス入力の増幅器に接続することで、直流電圧成分も高い
精度で測定することが可能になる(必要ならば、特願平
8−263397号参照)。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】この様な電圧測定プロ
ーブを用いて高周波デバイス、DRAM(ダイナミック
・ランダム・アクセス・メモリ)、或いは、SRAM
(スタティック・ランダム・アクセス・メモリ)の内部
回路等の敏感な回路の電圧波形に影響を与えることなく
精度良く測定するためには、入力容量の極めて小さなプ
ローブヘッド使用する必要がある。
ーブを用いて高周波デバイス、DRAM(ダイナミック
・ランダム・アクセス・メモリ)、或いは、SRAM
(スタティック・ランダム・アクセス・メモリ)の内部
回路等の敏感な回路の電圧波形に影響を与えることなく
精度良く測定するためには、入力容量の極めて小さなプ
ローブヘッド使用する必要がある。
【0015】しかし、測定対象の電圧を電気光学結晶に
確実に印加するために、電気光学結晶にプローブ先端電
極や探針をコンタクトすると、電気光学結晶の持つ容量
や導電性部材であるプローブ先端電極や探針に起因して
浮遊容量が増加し、この浮遊容量が測定対象への負荷と
なり、正確な電圧波形測定ができなくなるという問題が
ある。
確実に印加するために、電気光学結晶にプローブ先端電
極や探針をコンタクトすると、電気光学結晶の持つ容量
や導電性部材であるプローブ先端電極や探針に起因して
浮遊容量が増加し、この浮遊容量が測定対象への負荷と
なり、正確な電圧波形測定ができなくなるという問題が
ある。
【0016】また、探針として先端が極めて細い針を使
用すれば、LSI内部のサブミクロン幅の配線の電圧波
形測定も可能となり、且つ、この探針をAFM動作させ
て画像をえることによってプローブ位置を決定すること
も可能になるが、この場合には、探針の先端が極めて細
いため、配線との接触或いはAFM動作において探針の
先端が曲がりやすくなる。探針先端が曲がってしまう
と、AFMの分解能が劣化し、配線への電気的コンタク
トも困難になるので、探針を磁石で吸着するようにする
などして交換可能にしておく必要があるが、その場合に
は、探針取り付け部分の大型化して、浮遊容量が増加し
てしまうという問題がある。
用すれば、LSI内部のサブミクロン幅の配線の電圧波
形測定も可能となり、且つ、この探針をAFM動作させ
て画像をえることによってプローブ位置を決定すること
も可能になるが、この場合には、探針の先端が極めて細
いため、配線との接触或いはAFM動作において探針の
先端が曲がりやすくなる。探針先端が曲がってしまう
と、AFMの分解能が劣化し、配線への電気的コンタク
トも困難になるので、探針を磁石で吸着するようにする
などして交換可能にしておく必要があるが、その場合に
は、探針取り付け部分の大型化して、浮遊容量が増加し
てしまうという問題がある。
【0017】したがって、本発明は、プローブ先端電極
や探針に起因する浮遊容量の影響を抑制してプローブの
入力容量を低減し、また、探針を電気光学効果を持つ電
気光学結晶に対して着脱自在に取り付けることを目的と
する。
や探針に起因する浮遊容量の影響を抑制してプローブの
入力容量を低減し、また、探針を電気光学効果を持つ電
気光学結晶に対して着脱自在に取り付けることを目的と
する。
【0018】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理的構
成の説明図であり、この図1を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明する。 図1参照 (1)本発明は、電気光学効果を持つ電気光学素子2の
一端に容量結合部7を有するプローブ電極3を取り付け
るとともに、電気光学素子2を透過した光の偏光状態の
変化を検出することにより電圧波形を測定する電圧波形
測定プローブ1において、プローブ電極3を構成するプ
ローブ先端電極5或いは針状電極6が、電気光学素子2
側に設けたプローブ接続電極4に対して着脱自在に取り
付けられることを特徴とする。
成の説明図であり、この図1を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明する。 図1参照 (1)本発明は、電気光学効果を持つ電気光学素子2の
一端に容量結合部7を有するプローブ電極3を取り付け
るとともに、電気光学素子2を透過した光の偏光状態の
変化を検出することにより電圧波形を測定する電圧波形
測定プローブ1において、プローブ電極3を構成するプ
ローブ先端電極5或いは針状電極6が、電気光学素子2
側に設けたプローブ接続電極4に対して着脱自在に取り
付けられることを特徴とする。
【0019】この様に、プローブ電極3を電気光学素子
2に着脱自在に取り付けることにより、針状電極6先端
の微細化により被測定配線に接触した針状電極6先端が
曲がった場合に、簡単に交換することができるので、A
FM分解能と配線への電気的コンタクト性能を低下させ
ずに測定することができる。
2に着脱自在に取り付けることにより、針状電極6先端
の微細化により被測定配線に接触した針状電極6先端が
曲がった場合に、簡単に交換することができるので、A
FM分解能と配線への電気的コンタクト性能を低下させ
ずに測定することができる。
【0020】また、この場合、プローブ電極3に意図的
に直列容量を設けることによって、電気光学素子2の両
端電極間の容量をC0 、容量結合部7の容量をC1 とし
た場合、浮遊容量を無視した場合、その全体の容量C
は、 C=(C0 ×C1 )/(C0 +C1 ) となり、C1 を小さくすることによってプローブの入力
容量を任意に小さくすることができる。
に直列容量を設けることによって、電気光学素子2の両
端電極間の容量をC0 、容量結合部7の容量をC1 とし
た場合、浮遊容量を無視した場合、その全体の容量C
は、 C=(C0 ×C1 )/(C0 +C1 ) となり、C1 を小さくすることによってプローブの入力
容量を任意に小さくすることができる。
【0021】特に、容量結合部7の取り付け位置を、で
きるだけ針状電極6の先端に近い位置にすることによっ
て、それ以降の金属部分による浮遊容量は等価的に容量
結合部7の容量C1 に直列接続されることになるので、
入力容量の増加を防ぐことができる。さらに、容量結合
部7の容量値C1 の異なるものを作成しておけば、用途
に応じて使い分けたり、或いは、容量結合部7を持たな
い通常の探針に付け替えることも可能である。
きるだけ針状電極6の先端に近い位置にすることによっ
て、それ以降の金属部分による浮遊容量は等価的に容量
結合部7の容量C1 に直列接続されることになるので、
入力容量の増加を防ぐことができる。さらに、容量結合
部7の容量値C1 の異なるものを作成しておけば、用途
に応じて使い分けたり、或いは、容量結合部7を持たな
い通常の探針に付け替えることも可能である。
【0022】(2)また、本発明は、上記(1)におい
て、プローブ先端電極5或いはプローブ接続電極4の一
方が永久磁石によって構成され、且つ、プローブ先端電
極5或いはプローブ接続電極4の他方が永久磁石或いは
強磁性体によって構成され、両者の間に容量結合部7を
設けたことを特徴とする。
て、プローブ先端電極5或いはプローブ接続電極4の一
方が永久磁石によって構成され、且つ、プローブ先端電
極5或いはプローブ接続電極4の他方が永久磁石或いは
強磁性体によって構成され、両者の間に容量結合部7を
設けたことを特徴とする。
【0023】この様に、着脱を永久磁石、特に、アルニ
コ系磁石、フェライト磁石等の磁化した保磁力の大きな
強磁性体と、強磁性体、特に、電磁軟鉄等の磁化してい
ない高透磁率の強磁性体、或いは、永久磁石同士の磁力
によって行うことにより、着脱が容易になるが、そのた
めには、永久磁石或いは強磁性体としてある程度の大き
さが必要になり、大きさに伴う浮遊容量の増加の影響を
緩和するためには、プローブ先端電極5或いはプローブ
接続電極4を電気光学素子2側に設けたプローブ接続電
極4に対して容量結合部7を介して着脱自在に取り付け
れば良く、それによって、着脱構造の周りの浮遊容量の
影響をあまり受けずに効果的に入力容量を低減すること
ができる。なお、プローブ先端電極5或いはプローブ接
続電極4の一方を磁化していない強磁性体、或いは、保
磁力の小さな強磁性体とする場合には、形状が薄い場合
などには斜めに付いたりして吸着が不安定となる場合が
あるが、両方とも保磁力の大きな永久磁石とし、互いに
異なる極同士を接合面とすれば、より安定に吸着するこ
とができる。
コ系磁石、フェライト磁石等の磁化した保磁力の大きな
強磁性体と、強磁性体、特に、電磁軟鉄等の磁化してい
ない高透磁率の強磁性体、或いは、永久磁石同士の磁力
によって行うことにより、着脱が容易になるが、そのた
めには、永久磁石或いは強磁性体としてある程度の大き
さが必要になり、大きさに伴う浮遊容量の増加の影響を
緩和するためには、プローブ先端電極5或いはプローブ
接続電極4を電気光学素子2側に設けたプローブ接続電
極4に対して容量結合部7を介して着脱自在に取り付け
れば良く、それによって、着脱構造の周りの浮遊容量の
影響をあまり受けずに効果的に入力容量を低減すること
ができる。なお、プローブ先端電極5或いはプローブ接
続電極4の一方を磁化していない強磁性体、或いは、保
磁力の小さな強磁性体とする場合には、形状が薄い場合
などには斜めに付いたりして吸着が不安定となる場合が
あるが、両方とも保磁力の大きな永久磁石とし、互いに
異なる極同士を接合面とすれば、より安定に吸着するこ
とができる。
【0024】(3)また、本発明は、上記(1)または
(2)において、容量結合部7が抵抗体によって構成さ
れることを特徴とする。
(2)において、容量結合部7が抵抗体によって構成さ
れることを特徴とする。
【0025】この様に、容量結合部7を抵抗体で構成す
ることにより、等価的には、容量結合部7の容量C1 に
抵抗R1 が並列接続した構成になり、この抵抗R1 が電
気光学素子2に直列接続された状態となるので、直流電
圧を電気光学素子2に導き、簡単な容量結合部7の構成
によって低周波さらには直流電圧までの測定が可能にな
る。
ることにより、等価的には、容量結合部7の容量C1 に
抵抗R1 が並列接続した構成になり、この抵抗R1 が電
気光学素子2に直列接続された状態となるので、直流電
圧を電気光学素子2に導き、簡単な容量結合部7の構成
によって低周波さらには直流電圧までの測定が可能にな
る。
【0026】(4)また、本発明は、上記(2)におい
て、容量結合部7が高抵抗性または絶縁性の強磁性体或
いは高抵抗性または絶縁性の永久磁石のいずれかで構成
されることを特徴とする。
て、容量結合部7が高抵抗性または絶縁性の強磁性体或
いは高抵抗性または絶縁性の永久磁石のいずれかで構成
されることを特徴とする。
【0027】この様に、容量結合部7を高抵抗性または
絶縁性の強磁性体で構成した場合には、プローブ先端電
極5或いはプローブ接続電極4の一方を構成する永久磁
石に対して着脱自在にするための強磁性体を別個に設け
る必要がなく、また、容量結合部7を永久磁石で構成す
る場合には、プローブ先端電極5或いはプローブ接続電
極4の一方を構成する永久磁石または強磁性体に対して
着脱自在にするための永久磁石を別個に設ける必要がな
く、いずれの場合にも構成が簡素化され、さらに、磁力
による結合が誘電体層等を介することなく直接的に行わ
れるので、取り付けが強固になる。なお、高抵抗性また
は絶縁性の強磁性体或いは高抵抗性または絶縁性の永久
磁石としては、フェライト磁石、プラスチックマグネッ
ト、或いは、ゴムマグネット等を使用することができ、
それぞれ、磁化した永久磁石、或いは、磁化していない
強磁性体として使用できる。
絶縁性の強磁性体で構成した場合には、プローブ先端電
極5或いはプローブ接続電極4の一方を構成する永久磁
石に対して着脱自在にするための強磁性体を別個に設け
る必要がなく、また、容量結合部7を永久磁石で構成す
る場合には、プローブ先端電極5或いはプローブ接続電
極4の一方を構成する永久磁石または強磁性体に対して
着脱自在にするための永久磁石を別個に設ける必要がな
く、いずれの場合にも構成が簡素化され、さらに、磁力
による結合が誘電体層等を介することなく直接的に行わ
れるので、取り付けが強固になる。なお、高抵抗性また
は絶縁性の強磁性体或いは高抵抗性または絶縁性の永久
磁石としては、フェライト磁石、プラスチックマグネッ
ト、或いは、ゴムマグネット等を使用することができ、
それぞれ、磁化した永久磁石、或いは、磁化していない
強磁性体として使用できる。
【0028】(5)また、本発明は、上記(1)ないし
(4)のいずれかにおいて、容量結合部7が、容量結合
部7の容量に並列接続される抵抗成分を有し、電気光学
素子2の両端電極間の容量をC0 、抵抗をR0 とし、容
量結合部7の容量をC1 、抵抗をR1 とした場合、 R0 ×C0 =R1 ×C1 の関係に設定したことを特徴とする。
(4)のいずれかにおいて、容量結合部7が、容量結合
部7の容量に並列接続される抵抗成分を有し、電気光学
素子2の両端電極間の容量をC0 、抵抗をR0 とし、容
量結合部7の容量をC1 、抵抗をR1 とした場合、 R0 ×C0 =R1 ×C1 の関係に設定したことを特徴とする。
【0029】この様に、容量結合部7に抵抗R1 の抵抗
成分を有するように構成することによって、この抵抗R
1 が電気光学素子2に直列接続された状態となり、電気
光学素子2の両端にかかる電圧の周波数特性r(ω)
は、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )×(1+jω・C
0 ・R0 )/(1+jω・C1 ・R1 )〕 で表されるので、R0 ×C0 =R1 ×C1 とすることに
よって、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )〕 となり、電気光学結晶の両端にかかる電圧の周波数特性
r(ω)をフラットにすることができる。
成分を有するように構成することによって、この抵抗R
1 が電気光学素子2に直列接続された状態となり、電気
光学素子2の両端にかかる電圧の周波数特性r(ω)
は、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )×(1+jω・C
0 ・R0 )/(1+jω・C1 ・R1 )〕 で表されるので、R0 ×C0 =R1 ×C1 とすることに
よって、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )〕 となり、電気光学結晶の両端にかかる電圧の周波数特性
r(ω)をフラットにすることができる。
【0030】なお、電気光学素子2と容量結合部7の間
の部分のもつ浮遊容量が無視できない場合には、浮遊容
量の影響を相殺するように抵抗R1 を設定しても良い
し、或いは、電気光学素子2の両端電極間の抵抗R0 を
電気光学素子2に不純物を混入したり或いは表面に薄膜
抵抗を付けることによって調整しても良いし、さらに
は、電気光学素子2に光を照射して生じる光導電により
抵抗を調整しても良い。
の部分のもつ浮遊容量が無視できない場合には、浮遊容
量の影響を相殺するように抵抗R1 を設定しても良い
し、或いは、電気光学素子2の両端電極間の抵抗R0 を
電気光学素子2に不純物を混入したり或いは表面に薄膜
抵抗を付けることによって調整しても良いし、さらに
は、電気光学素子2に光を照射して生じる光導電により
抵抗を調整しても良い。
【0031】
【発明の実施の形態】ここで、図2を参照して、本発明
の第1の実施の形態を説明する。 図2(a)参照 図2(a)は本発明の第1の実施の形態のプローブを概
略的断面図であり、ZnTeからなる電気光学結晶11
の一方の面には参照電圧を印加するITOからなる透明
電極12を設け、他方の面には信号印加電極となるAu
からなる反射電極13を設け、この反射電極13に対し
て、表面をAuメッキした永久磁石14を融着し、この
永久磁石14がプローブ接続電極となる。なお、金属強
磁性体自体或いは金属強磁性体を用いた永久磁石は一応
導電性を有するものの、高周波においては表皮効果が顕
著になり導電性が低下する虞があるので、接触面や導電
性を必要とする場合にはAuメッキを施すことが望まし
い。
の第1の実施の形態を説明する。 図2(a)参照 図2(a)は本発明の第1の実施の形態のプローブを概
略的断面図であり、ZnTeからなる電気光学結晶11
の一方の面には参照電圧を印加するITOからなる透明
電極12を設け、他方の面には信号印加電極となるAu
からなる反射電極13を設け、この反射電極13に対し
て、表面をAuメッキした永久磁石14を融着し、この
永久磁石14がプローブ接続電極となる。なお、金属強
磁性体自体或いは金属強磁性体を用いた永久磁石は一応
導電性を有するものの、高周波においては表皮効果が顕
著になり導電性が低下する虞があるので、接触面や導電
性を必要とする場合にはAuメッキを施すことが望まし
い。
【0032】次いで、上下表面がAuメッキされたガラ
スからなる誘電体層15と表面をAuメッキした高透磁
率の電磁軟鉄からなる強磁性体層16を融着させる。な
お、この両面にAuメッキが施された誘電体層15が容
量結合部を構成し、また、強磁性体層16がプローブ先
端電極となる。
スからなる誘電体層15と表面をAuメッキした高透磁
率の電磁軟鉄からなる強磁性体層16を融着させる。な
お、この両面にAuメッキが施された誘電体層15が容
量結合部を構成し、また、強磁性体層16がプローブ先
端電極となる。
【0033】一方、探針17については、NaOHを用
いた電解エッチング法によってW(タングステン)をエ
ッチングすることによって、先端部を尖らせ、主要部の
直径φ1 、底面の直径φ2 、テーパ状部の長さhが用途
に応じた所定の値となるようにする。
いた電解エッチング法によってW(タングステン)をエ
ッチングすることによって、先端部を尖らせ、主要部の
直径φ1 、底面の直径φ2 、テーパ状部の長さhが用途
に応じた所定の値となるようにする。
【0034】次いで、この探針17の底面側に、Au−
Sn合金(図示せず)を蒸着し、強磁性体層16と融着
することによって、着脱自在のプローブ探針部が形成さ
れ、プローブ接続電極となる永久磁石14の強磁性体層
16に作用する磁力を利用して、プローブ探針部を電気
光学結晶11に対して着脱自在に取り付けるものであ
る。
Sn合金(図示せず)を蒸着し、強磁性体層16と融着
することによって、着脱自在のプローブ探針部が形成さ
れ、プローブ接続電極となる永久磁石14の強磁性体層
16に作用する磁力を利用して、プローブ探針部を電気
光学結晶11に対して着脱自在に取り付けるものであ
る。
【0035】図2(b)参照 図2(b)は、図2(a)に示したプローブの等価回路
図であり、誘電体層15の有する抵抗を含めたプローブ
探針部のプローブ抵抗20をR1 、誘電体層15による
容量結合部のプローブ結合容量21をC1 とした場合、
抵抗R0 の電気光学結晶抵抗18と容量C0 の電気光学
結晶容量19の並列接続回路によって等価的に表される
電気光学結晶11に対して抵抗R1 と容量C1 の並列接
続回路が直列接続した状態となる。
図であり、誘電体層15の有する抵抗を含めたプローブ
探針部のプローブ抵抗20をR1 、誘電体層15による
容量結合部のプローブ結合容量21をC1 とした場合、
抵抗R0 の電気光学結晶抵抗18と容量C0 の電気光学
結晶容量19の並列接続回路によって等価的に表される
電気光学結晶11に対して抵抗R1 と容量C1 の並列接
続回路が直列接続した状態となる。
【0036】この場合、浮遊容量を無視し、誘電体層1
5の抵抗が無限大であると近似すると、R1 は無限大に
なり、したがって、容量C0 と容量C1 の直列接続回路
で近似されることになり、プローブ先端電極22とGN
D電位との間のプローブ全体の容量Cは、 C=(C0 ×C1 )/(C0 +C1 ) となり、容量C1 を小さくすることによって、容量Cを
任意に小さくすることができる。
5の抵抗が無限大であると近似すると、R1 は無限大に
なり、したがって、容量C0 と容量C1 の直列接続回路
で近似されることになり、プローブ先端電極22とGN
D電位との間のプローブ全体の容量Cは、 C=(C0 ×C1 )/(C0 +C1 ) となり、容量C1 を小さくすることによって、容量Cを
任意に小さくすることができる。
【0037】例えば、電気光学結晶11の容量C0 が、
C0 =0.5pFであるとき、容量結合部の容量C1 を
C1 =0.1pFとすると、プローブ全体の容量Cは、
C≒0.08pFとなり、電気光学結晶11の容量C0
の1/6にすることができ、かなり低入力容量のプロー
ブを構成することができ、それによって、高周波デバイ
ス、DRAM、或いは、SRAMの内部回路等の敏感な
電圧波形に影響を与えることなく電圧波形測定が可能に
なる。
C0 =0.5pFであるとき、容量結合部の容量C1 を
C1 =0.1pFとすると、プローブ全体の容量Cは、
C≒0.08pFとなり、電気光学結晶11の容量C0
の1/6にすることができ、かなり低入力容量のプロー
ブを構成することができ、それによって、高周波デバイ
ス、DRAM、或いは、SRAMの内部回路等の敏感な
電圧波形に影響を与えることなく電圧波形測定が可能に
なる。
【0038】また、上記の第1の実施の形態において
は、永久磁石14を用いてプローブ探針部を電気光学結
晶11に対して着脱自在に取り付けているので、探針1
7を配線に接触させた際、或いは、AFM動作をさせた
際に探針17の先端部が曲がった場合に、永久磁石14
の磁力による取り付け部に力を加えることによって、容
易にプローブ探針部を取り外して交換することができる
ので、常に高いAFM分解能と、安定した配線への電気
的コンタクト性能を保つことが可能になる。
は、永久磁石14を用いてプローブ探針部を電気光学結
晶11に対して着脱自在に取り付けているので、探針1
7を配線に接触させた際、或いは、AFM動作をさせた
際に探針17の先端部が曲がった場合に、永久磁石14
の磁力による取り付け部に力を加えることによって、容
易にプローブ探針部を取り外して交換することができる
ので、常に高いAFM分解能と、安定した配線への電気
的コンタクト性能を保つことが可能になる。
【0039】また、上述の様に、永久磁石14の磁力に
よってプローブ探針部を取り付ける場合、使用に耐え得
る取り付け強度を得るためには、永久磁石14及び強磁
性体層16の大きさもある程度必要になり、必要となる
大きさに伴って浮遊容量も増加するが、上記の第1の実
施の形態のように、永久磁石14と強磁性体層16との
間に誘電体層15を設けて容量結合することにより、着
脱構造の周りの浮遊容量の影響をあまり受けることなく
入力容量を低減することができる。
よってプローブ探針部を取り付ける場合、使用に耐え得
る取り付け強度を得るためには、永久磁石14及び強磁
性体層16の大きさもある程度必要になり、必要となる
大きさに伴って浮遊容量も増加するが、上記の第1の実
施の形態のように、永久磁石14と強磁性体層16との
間に誘電体層15を設けて容量結合することにより、着
脱構造の周りの浮遊容量の影響をあまり受けることなく
入力容量を低減することができる。
【0040】次に、図3を参照して、本発明の第1の実
施の形態の二つの変形例を説明する。 図3(a)参照 図3(a)は、本発明の第1の実施の形態の変形例の概
略的断面図であり、上記の第1の実施の形態との違い
は、プローブ接続電極側を強磁性体層16とし、プロー
ブ先端電極側を永久磁石14にしたものであり、その他
の構成は上記の第1の実施の形態と全く同様である。
施の形態の二つの変形例を説明する。 図3(a)参照 図3(a)は、本発明の第1の実施の形態の変形例の概
略的断面図であり、上記の第1の実施の形態との違い
は、プローブ接続電極側を強磁性体層16とし、プロー
ブ先端電極側を永久磁石14にしたものであり、その他
の構成は上記の第1の実施の形態と全く同様である。
【0041】この場合の得られる効果も、上記の第1の
実施の形態と同様であり、入力容量を任意に小さくする
ことができるととともに、プローブ探針部を着脱自在に
取り付けているのでその交換が容易になる。
実施の形態と同様であり、入力容量を任意に小さくする
ことができるととともに、プローブ探針部を着脱自在に
取り付けているのでその交換が容易になる。
【0042】図3(b)参照 図3(b)は、本発明の第1の実施の形態の他の変形例
の概略的断面図であり、上記の第1の実施の形態との違
いは、プローブ先端電極側も永久磁石23にしたもので
あり、その他の構成は上記の第1の実施の形態と全く同
様である。
の概略的断面図であり、上記の第1の実施の形態との違
いは、プローブ先端電極側も永久磁石23にしたもので
あり、その他の構成は上記の第1の実施の形態と全く同
様である。
【0043】この場合の得られる効果も、上記の第1の
実施の形態と同様に入力容量を任意に小さくすることが
できるととともに、プローブ探針部を着脱自在に取り付
けているのでその交換が容易になり、また、この場合に
は、両方を永久磁石で構成しているので、接着力がより
強固になり、或いは、同じ接着力にした場合には、永久
磁石14,23の大きさを小さくすることができ、それ
によって、浮遊容量の影響をより低減することができ
る。なお、プローブ先端電極側或いはプローブ接続電極
側の一方を強磁性体強磁性体とした場合には、形状が薄
い場合などには斜めに付いたりして吸着が不安定となる
場合があるが、この変形例の様に両方とも保磁力の大き
な永久磁石とし、互いに異なる極同士を接合面とすれ
ば、より安定に吸着することができる。
実施の形態と同様に入力容量を任意に小さくすることが
できるととともに、プローブ探針部を着脱自在に取り付
けているのでその交換が容易になり、また、この場合に
は、両方を永久磁石で構成しているので、接着力がより
強固になり、或いは、同じ接着力にした場合には、永久
磁石14,23の大きさを小さくすることができ、それ
によって、浮遊容量の影響をより低減することができ
る。なお、プローブ先端電極側或いはプローブ接続電極
側の一方を強磁性体強磁性体とした場合には、形状が薄
い場合などには斜めに付いたりして吸着が不安定となる
場合があるが、この変形例の様に両方とも保磁力の大き
な永久磁石とし、互いに異なる極同士を接合面とすれ
ば、より安定に吸着することができる。
【0044】次に、図4を参照して、本発明の第2の実
施の形態のプローブ及びその変形例を説明する。 図4(a)参照 図4(a)は、本発明の第2の実施の形態のプローブの
概略的断面図であり、上記の第1の実施の形態と同様
に、ZnTeからなる電気光学結晶11の一方の面には
参照電圧を印加するITOからなる透明電極12を設
け、他方の面には信号印加電極となるAuからなる反射
電極13を設け、この反射電極13に対して、表面をA
uメッキした永久磁石14を融着し、この永久磁石14
がプローブ接続電極となる。
施の形態のプローブ及びその変形例を説明する。 図4(a)参照 図4(a)は、本発明の第2の実施の形態のプローブの
概略的断面図であり、上記の第1の実施の形態と同様
に、ZnTeからなる電気光学結晶11の一方の面には
参照電圧を印加するITOからなる透明電極12を設
け、他方の面には信号印加電極となるAuからなる反射
電極13を設け、この反射電極13に対して、表面をA
uメッキした永久磁石14を融着し、この永久磁石14
がプローブ接続電極となる。
【0045】次いで、上下表面がAuメッキされたフェ
ライト層24と表面をAuメッキした非磁性体のプロー
ブ先端金属電極25を融着させる。
ライト層24と表面をAuメッキした非磁性体のプロー
ブ先端金属電極25を融着させる。
【0046】次いで、上記の第1の実施の形態と同様の
形状の探針17の底面側に、Au−Sn合金(図示せ
ず)を蒸着し、プローブ先端金属電極25と融着するこ
とによって、着脱自在のプローブ探針部が形成され、プ
ローブ接続電極となる永久磁石14のフェライト層24
に作用する磁力を利用して、プローブ探針部を電気光学
結晶11に対して着脱自在に取り付けるものである。
形状の探針17の底面側に、Au−Sn合金(図示せ
ず)を蒸着し、プローブ先端金属電極25と融着するこ
とによって、着脱自在のプローブ探針部が形成され、プ
ローブ接続電極となる永久磁石14のフェライト層24
に作用する磁力を利用して、プローブ探針部を電気光学
結晶11に対して着脱自在に取り付けるものである。
【0047】この本発明の第2の実施の形態において
も、フェライト層24によって形成される容量C1 が、
電気光学結晶11の容量C0 に対して直列接続された構
成となるので、フェライト層24によって形成される容
量C1 を調整することによって入力容量を任意に小さく
することができ、また、取り付けに磁力結合を用いてい
るのでプローブ探針部の交換が容易になる。
も、フェライト層24によって形成される容量C1 が、
電気光学結晶11の容量C0 に対して直列接続された構
成となるので、フェライト層24によって形成される容
量C1 を調整することによって入力容量を任意に小さく
することができ、また、取り付けに磁力結合を用いてい
るのでプローブ探針部の交換が容易になる。
【0048】また、この本発明の第2の実施の形態にお
いては、プローブ接続電極となる永久磁石14の磁力の
作用するフェライト層24自体を容量結合部としている
ので、第1の実施の形態のように誘電体層15を挟んで
結合させることなく、両者を直接結合させているので、
接着力が強くなり、したがって、永久磁石14及びフェ
ライト層24のサイズをそれほど大きくする必要がない
ので、電気光学結晶11に直列接続する浮遊容量を小さ
くすることができ、それによって、入力容量を小さくす
ることができる。
いては、プローブ接続電極となる永久磁石14の磁力の
作用するフェライト層24自体を容量結合部としている
ので、第1の実施の形態のように誘電体層15を挟んで
結合させることなく、両者を直接結合させているので、
接着力が強くなり、したがって、永久磁石14及びフェ
ライト層24のサイズをそれほど大きくする必要がない
ので、電気光学結晶11に直列接続する浮遊容量を小さ
くすることができ、それによって、入力容量を小さくす
ることができる。
【0049】また、容量結合部を構成するフェライト層
24をプローブ接続電極としてではなく、プローブ探針
部側に設けているので、フェライト層24から探針17
にかけての金属部分の浮遊容量は容量結合部の容量C1
に直列に接続された状態となり、それによって、入力容
量の増大を防止することができる。
24をプローブ接続電極としてではなく、プローブ探針
部側に設けているので、フェライト層24から探針17
にかけての金属部分の浮遊容量は容量結合部の容量C1
に直列に接続された状態となり、それによって、入力容
量の増大を防止することができる。
【0050】図4(b)参照 図4(b)は、本発明の第2の実施の形態のプローブの
変形例の概略的断面図であり、図4(a)に示した第2
の実施の形態との相違は、容量結合部兼磁力結合部をフ
ェライト層24の代わりにプラスチックマグネット26
によって構成した点であり、それ以外の構成は上記の第
2の実施の形態と全く同様である。
変形例の概略的断面図であり、図4(a)に示した第2
の実施の形態との相違は、容量結合部兼磁力結合部をフ
ェライト層24の代わりにプラスチックマグネット26
によって構成した点であり、それ以外の構成は上記の第
2の実施の形態と全く同様である。
【0051】この本発明の第2の実施の形態の変形例に
おいても、上記の第2の実施の形態と同様に、入力容量
の低減、プローブ探針部の交換の容易化、及び、浮遊容
量の低減の効果が得られるものであるが、この場合に
は、磁石同士の結合を利用しているので、結合力がより
強固になる。
おいても、上記の第2の実施の形態と同様に、入力容量
の低減、プローブ探針部の交換の容易化、及び、浮遊容
量の低減の効果が得られるものであるが、この場合に
は、磁石同士の結合を利用しているので、結合力がより
強固になる。
【0052】また、この場合も、容量結合部を構成する
プラスチックマグネットをプローブ接続電極としてでは
なく、プローブ探針部側に設けているので、プラスチッ
クマグネット26から探針17にかけての金属部分の浮
遊容量は容量結合部の容量C 1 に直列に接続された状態
となり、それによって、入力容量の増大を防止すること
ができる。
プラスチックマグネットをプローブ接続電極としてでは
なく、プローブ探針部側に設けているので、プラスチッ
クマグネット26から探針17にかけての金属部分の浮
遊容量は容量結合部の容量C 1 に直列に接続された状態
となり、それによって、入力容量の増大を防止すること
ができる。
【0053】次に、図5を参照して、本発明の第3の実
施の形態のプローブ及びその変形例を説明する。 図5(a)参照 図5(a)は、本発明の第3の実施の形態のプローブの
概略的断面図であり、上記の第1の実施の形態と同様
に、ZnTeからなる電気光学結晶11の一方の面には
参照電圧を印加するITOからなる透明電極12を設
け、他方の面には信号印加電極となるAuからなる反射
電極13を設け、この反射電極に対して、表面をAuメ
ッキした永久磁石14を融着し、この永久磁石14がプ
ローブ接続電極となる。
施の形態のプローブ及びその変形例を説明する。 図5(a)参照 図5(a)は、本発明の第3の実施の形態のプローブの
概略的断面図であり、上記の第1の実施の形態と同様
に、ZnTeからなる電気光学結晶11の一方の面には
参照電圧を印加するITOからなる透明電極12を設
け、他方の面には信号印加電極となるAuからなる反射
電極13を設け、この反射電極に対して、表面をAuメ
ッキした永久磁石14を融着し、この永久磁石14がプ
ローブ接続電極となる。
【0054】次いで、上下表面がAuメッキされたガラ
スからなる誘電体層15の側面に炭素被膜或いはNi−
Cr等からなる抵抗体層27を設け、この誘電体層15
と表面をAuメッキした非磁性体のプローブ先端金属電
極25を融着させる。
スからなる誘電体層15の側面に炭素被膜或いはNi−
Cr等からなる抵抗体層27を設け、この誘電体層15
と表面をAuメッキした非磁性体のプローブ先端金属電
極25を融着させる。
【0055】次いで、上記の第1の実施の形態と同様の
形状の探針17の底面側に、Au−Sn合金(図示せ
ず)を蒸着し、プローブ先端金属電極25と融着するこ
とによって、着脱自在のプローブ探針部が形成され、プ
ローブ接続電極となる永久磁石14のフェライト層24
に作用する磁力を利用して、プローブ探針部を電気光学
結晶11に対して着脱自在に取り付けるものであり、こ
の場合には、Auメッキ層及び抵抗体層27を介してプ
ローブ探針部と電気光学結晶11とが抵抗によって直列
接続されることになる。
形状の探針17の底面側に、Au−Sn合金(図示せ
ず)を蒸着し、プローブ先端金属電極25と融着するこ
とによって、着脱自在のプローブ探針部が形成され、プ
ローブ接続電極となる永久磁石14のフェライト層24
に作用する磁力を利用して、プローブ探針部を電気光学
結晶11に対して着脱自在に取り付けるものであり、こ
の場合には、Auメッキ層及び抵抗体層27を介してプ
ローブ探針部と電気光学結晶11とが抵抗によって直列
接続されることになる。
【0056】この場合の等価回路は図2(b)に示した
等価回路と同様であり、容量結合部の容量C1 に対し、
抵抗体層27の抵抗成分R1 が並列接続された状態とな
るので、この場合の電気光学結晶11の透明電極12と
反射電極13との間にかかる電圧の周波数特性r(ω)
は、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )×(1+jω・C
0 ・R0 )/(1+jω・C1 ・R1 )〕 で表される。
等価回路と同様であり、容量結合部の容量C1 に対し、
抵抗体層27の抵抗成分R1 が並列接続された状態とな
るので、この場合の電気光学結晶11の透明電極12と
反射電極13との間にかかる電圧の周波数特性r(ω)
は、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )×(1+jω・C
0 ・R0 )/(1+jω・C1 ・R1 )〕 で表される。
【0057】したがって、抵抗体層27の抵抗成分R1
を調整することによってR0 ×C0=R1 ×C1 とした
場合に、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )〕 となり、電気光学結晶11の両端にかかる電圧の周波数
特性r(ω)は抵抗の比R1 /R0 によって決定される
ので、周波数ωに依存することなくフラットにすること
ができる。なお、電気光学結晶11と容量結合部との間
の部分のもつ浮遊容量が無視できない場合には、浮遊容
量の影響を相殺するように、抵抗体層27の抵抗R1 を
設定すれば良い。
を調整することによってR0 ×C0=R1 ×C1 とした
場合に、 r(ω)=1/〔1+(R1 /R0 )〕 となり、電気光学結晶11の両端にかかる電圧の周波数
特性r(ω)は抵抗の比R1 /R0 によって決定される
ので、周波数ωに依存することなくフラットにすること
ができる。なお、電気光学結晶11と容量結合部との間
の部分のもつ浮遊容量が無視できない場合には、浮遊容
量の影響を相殺するように、抵抗体層27の抵抗R1 を
設定すれば良い。
【0058】また、この本発明の第3の実施の形態にお
いても、上記の第1の実施の形態と同様に、入力容量の
低減、及び、プローブ探針部の交換の容易化、及び、浮
遊容量の低減の効果が得られるものである。
いても、上記の第1の実施の形態と同様に、入力容量の
低減、及び、プローブ探針部の交換の容易化、及び、浮
遊容量の低減の効果が得られるものである。
【0059】図5(b)参照 図5(b)は、本発明の第3の実施の形態のプローブの
変形例の概略的断面図であり、図5(a)に示した第2
の実施の形態との相違は、容量結合部兼抵抗結合部を誘
電体層15及びその側面に設けた抵抗体層27の代わり
に、所定の誘電率を有する炭素粉と樹脂を混合した抵抗
体層28のみによって構成した点であり、それ以外の構
成は上記の第3の実施の形態と全く同様である。
変形例の概略的断面図であり、図5(a)に示した第2
の実施の形態との相違は、容量結合部兼抵抗結合部を誘
電体層15及びその側面に設けた抵抗体層27の代わり
に、所定の誘電率を有する炭素粉と樹脂を混合した抵抗
体層28のみによって構成した点であり、それ以外の構
成は上記の第3の実施の形態と全く同様である。
【0060】この本発明の第3の実施の形態の変形例に
おいても、上記の第3の実施の形態と同様に、入力容量
の低減、プローブ探針部の交換の容易化、及び、電気光
学結晶11の両端にかかる電圧の周波数特性r(ω)の
フラット化の効果が得られるものであるが、この場合に
は、容量結合部兼抵抗結合部を単一の抵抗体層28によ
って構成しているので、容量結合部兼抵抗結合部の構成
が簡素化される。
おいても、上記の第3の実施の形態と同様に、入力容量
の低減、プローブ探針部の交換の容易化、及び、電気光
学結晶11の両端にかかる電圧の周波数特性r(ω)の
フラット化の効果が得られるものであるが、この場合に
は、容量結合部兼抵抗結合部を単一の抵抗体層28によ
って構成しているので、容量結合部兼抵抗結合部の構成
が簡素化される。
【0061】以上、本発明の各実施の形態を説明してき
たが、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるも
のではなく、各種の変更が可能であり、例えば、電気光
学結晶としてはZnTeを用いているが、電気光学効果
を有する結晶ならばどの様なものを用いても良いもので
あり、例えば、Bi12SiO20(BSO)やGaAsを
用いても良いものである。
たが、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるも
のではなく、各種の変更が可能であり、例えば、電気光
学結晶としてはZnTeを用いているが、電気光学効果
を有する結晶ならばどの様なものを用いても良いもので
あり、例えば、Bi12SiO20(BSO)やGaAsを
用いても良いものである。
【0062】また、容量結合部を構成する誘電体層15
もガラスに限られるものではなく、セラミックス等の誘
電体として通常用いられているものを使用しても良いも
のであり、さらには、誘電体層の代わりに、容量の値が
明らかな市販されている円板形状のコンデンサやチップ
コンデンサを使用しても良いものである。
もガラスに限られるものではなく、セラミックス等の誘
電体として通常用いられているものを使用しても良いも
のであり、さらには、誘電体層の代わりに、容量の値が
明らかな市販されている円板形状のコンデンサやチップ
コンデンサを使用しても良いものである。
【0063】また、強磁性体層を構成する素材は電磁軟
鉄に限られるものではなく、ソフトフェライト等の他の
強磁性体でも良く、また、永久磁石としては、ハードフ
ェライトやアルニコ系磁石を用いれば良い。
鉄に限られるものではなく、ソフトフェライト等の他の
強磁性体でも良く、また、永久磁石としては、ハードフ
ェライトやアルニコ系磁石を用いれば良い。
【0064】また、本発明のプローブヘッドを組み込む
電圧波形測定プローブの具体的構成も、図7に示した構
成に限られるものではなく、特に、偏光解析部の構成と
しては、電気光学結晶の複屈折率により比率が変化した
二種類の偏光成分が、異なった光検出器に分離して入力
され、その差動出力が得られる構成であればどの様な構
成を採用しても良いものであり、さらには、偏光の一成
分のみを検出して、差動増幅器を使用しないタイプの電
圧波形測定プローブを用いても良いものである。
電圧波形測定プローブの具体的構成も、図7に示した構
成に限られるものではなく、特に、偏光解析部の構成と
しては、電気光学結晶の複屈折率により比率が変化した
二種類の偏光成分が、異なった光検出器に分離して入力
され、その差動出力が得られる構成であればどの様な構
成を採用しても良いものであり、さらには、偏光の一成
分のみを検出して、差動増幅器を使用しないタイプの電
圧波形測定プローブを用いても良いものである。
【0065】
【発明の効果】本発明によれば、電気光学効果を利用し
た電圧波形測定プローブのヘッドを、電気光学結晶及び
電気光学結晶に対して容量結合部を介して磁力結合を用
いて着脱自在に取り付けたプローブ探針によって構成し
ているので、プローブ探針部の交換が容易になり、ま
た、プローブ探針部を交換可能にするための着脱部分で
浮遊容量が生じても、容量結合部を設けているのプロー
ブ入力抵抗を小さく抑えることができ、それによって、
被測定配線の近傍の凹凸像を短時間で正確に取得するこ
とができるので、半導体大規模集積回路装置の内部配線
に印加される電圧波形の測定を高速に、且つ、正確に行
うことができる。
た電圧波形測定プローブのヘッドを、電気光学結晶及び
電気光学結晶に対して容量結合部を介して磁力結合を用
いて着脱自在に取り付けたプローブ探針によって構成し
ているので、プローブ探針部の交換が容易になり、ま
た、プローブ探針部を交換可能にするための着脱部分で
浮遊容量が生じても、容量結合部を設けているのプロー
ブ入力抵抗を小さく抑えることができ、それによって、
被測定配線の近傍の凹凸像を短時間で正確に取得するこ
とができるので、半導体大規模集積回路装置の内部配線
に印加される電圧波形の測定を高速に、且つ、正確に行
うことができる。
【図1】本発明の原理的構成の説明図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態のプローブの説明図
である。
である。
【図3】本発明の第1の実施の形態の変形例の概略的断
面図である。
面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態のプローブ及びその
変形例の概略的断面図である。
変形例の概略的断面図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態のプローブ及びその
変形例の概略的断面図である。
変形例の概略的断面図である。
【図6】従来のプローブの概略的断面図である。
1 電圧波形測定プローブ 2 電気光学素子 3 プローブ電極 4 プローブ接続電極 5 プローブ先端電極 6 針状電極 7 容量結合部 11 電気光学結晶 12 透明電極 13 反射電極 14 永久磁石 15 誘電体層 16 強磁性体層 17 探針 18 電気光学素子抵抗 19 電気光学素子容量 20 プローブ抵抗 21 プローブ結合容量 22 プローブ先端電極 23 永久磁石 24 フェライト層 25 プローブ先端金属電極 26 プラスチックマグネット 27 抵抗体層 28 抵抗体層 31 プローブヘッド 32 支持筐体 33 XYZピエゾステージ 34 偏光解析部 35 電気光学結晶 36 探針 37 チューブ 38 板バネ 39 板バネ 40 容量式変位センサ 41 レーザ光源 42 パルスレーザ光 43 偏光ビームスプリッタ 44 ファラデー回転子 45 偏光ビームスプリッタ 46 λ/4板 47 光検出器 48 光検出器
Claims (5)
- 【請求項1】 電気光学効果を持つ電気光学素子の一端
に容量結合部を有するプローブ電極を取り付けるととも
に、前記電気光学素子を透過した光の偏光状態の変化を
検出することにより電圧波形を測定する電圧波形測定プ
ローブにおいて、前記プローブ電極を構成するプローブ
先端電極或いは針状電極が、前記電気光学素子側に設け
たプローブ接続電極に対して着脱自在に取り付けられる
ことを特徴とする電圧波形測定プローブ。 - 【請求項2】 上記プローブ先端電極或いはプローブ接
続電極の一方が永久磁石によって構成され、且つ、前記
プローブ先端電極或いはプローブ接続電極の他方が永久
磁石或いは強磁性体によって構成され、両者の間に上記
容量結合部を設けたことを特徴とする請求項1記載の電
圧波形測定プローブ。 - 【請求項3】 上記容量結合部が、抵抗体によって構成
されることを特徴とする請求項1または2に記載の電圧
波形測定プローブ。 - 【請求項4】 上記容量結合部が、高抵抗性または絶縁
性の強磁性体或いは高抵抗性または絶縁性の永久磁石の
いずれかによって構成されることを特徴とする請求項1
記載の電圧波形測定プローブ。 - 【請求項5】 上記容量結合部が、前記容量結合部の容
量に並列接続される抵抗成分を有し、上記電気光学素子
の両端電極間の容量をC0 、抵抗をR0 とし、前記容量
結合部の容量をC1 、抵抗をR1 とした場合、 R0 ×C0 =R1 ×C1 の関係に設定したことを特徴とする請求項1乃至4のい
ずれか1項に記載の電圧波形測定プローブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10172366A JP2000009812A (ja) | 1998-06-19 | 1998-06-19 | 電圧波形測定プローブ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10172366A JP2000009812A (ja) | 1998-06-19 | 1998-06-19 | 電圧波形測定プローブ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000009812A true JP2000009812A (ja) | 2000-01-14 |
Family
ID=15940583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10172366A Withdrawn JP2000009812A (ja) | 1998-06-19 | 1998-06-19 | 電圧波形測定プローブ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000009812A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006267072A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 管内検査装置 |
KR100971732B1 (ko) | 2008-08-06 | 2010-07-21 | 윌테크놀러지(주) | 프로브 본딩 방법과 이를 포함하는 프로브 카드의 리페어방법 |
-
1998
- 1998-06-19 JP JP10172366A patent/JP2000009812A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006267072A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 管内検査装置 |
JP4559272B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2010-10-06 | 積水化学工業株式会社 | 管内検査装置 |
KR100971732B1 (ko) | 2008-08-06 | 2010-07-21 | 윌테크놀러지(주) | 프로브 본딩 방법과 이를 포함하는 프로브 카드의 리페어방법 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4585740B2 (ja) | 磁気記録再生装置 | |
CN110462417B (zh) | 包括自旋缺陷的扫描传感器 | |
CN102353913B (zh) | 一种单轴压电驱动的弱磁场测量传感器 | |
US4680544A (en) | Torsion type magnetic field measurement device | |
US4891580A (en) | Electro-optic measurements of voltage waveforms on electrical conductors | |
JPS63313075A (ja) | 電位を光学的に測定するための機械式プローブ | |
CN110068318A (zh) | 一种基于蛇形通电线圈的隧道磁阻微陀螺装置 | |
US4658148A (en) | Inspection method for magnetic head utilizing the Kerr effect | |
US4712083A (en) | Position sensor | |
JP3141555B2 (ja) | 走査表面磁気顕微鏡 | |
Freeman et al. | Stroboscopic microscopy of magnetic dynamics | |
EP0660128A1 (fr) | Détecteur de champ magnétique en couches minces | |
EP0650067B1 (en) | Electrooptic instrument | |
JP2000009812A (ja) | 電圧波形測定プローブ | |
US8069492B2 (en) | Spin-torque probe microscope | |
CN104458590A (zh) | 一种垂直磁化薄膜测试装置 | |
JP2001116773A (ja) | 電流センサー及び電流検出装置 | |
CN208568828U (zh) | 一种薄膜磁性测量装置 | |
JPH09211035A (ja) | 電界測定装置 | |
KR100602941B1 (ko) | 인-시튜 마이크로-토크 마그네토메터 시스템 | |
JP2001221835A (ja) | プローブの交換針及びこの交換針を用いたプローブ | |
JPH11183573A (ja) | 電圧測定プローブ | |
JP4418856B2 (ja) | 高周波可変リアクタンス素子 | |
JP2002189067A (ja) | 磁界センサならびに歪みセンサのバイアス印加方法及び磁界センサならびに歪みセンサ | |
JPH0735773A (ja) | 電気計測装置のプローブ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050906 |