JP2000006293A - Electrically conductive laminate - Google Patents

Electrically conductive laminate

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JP2000006293A
JP2000006293A JP10175091A JP17509198A JP2000006293A JP 2000006293 A JP2000006293 A JP 2000006293A JP 10175091 A JP10175091 A JP 10175091A JP 17509198 A JP17509198 A JP 17509198A JP 2000006293 A JP2000006293 A JP 2000006293A
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Japan
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conductive
layer
electrically conductive
rubber
elastic body
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JP10175091A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisao Igarashi
久夫 五十嵐
Kazuo Inoue
和夫 井上
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JSR Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a simple and sure electrical connection of an electrically conductive elastic body by constituting of an electrically conductive elastic body layer, an electrically conductive body intermediate layer, and an elastic body layer. SOLUTION: The electrically conductive laminate comprises an electrically conductive elastic body layer 9, an electrically conductive body intermediate layer 8 other than this layer, and an elastic body layer 7 other than these layers. The electrically conductive elastic body layer 9 is arranged with electrically conductive particles into a macromolecule having elasticity, and constructed of electrically conductive particles and rubber-like polymer, the volume percentage of the electrically conductive particles being preferably 5-50%. The electrically conductive elastic body layer 9 is preferably an anisotropic electrically conductive rubber polymer. The surface of the electrically conductive elastic body layer 9 can have the unevenness corresponding to that of an object to be connected. The electrically conductive intermediate body 8 is preferably a metal thin layer, and the elastic body layer 7 is preferably at least one selected from a macromolecular elastic body gel composition and a hollow body containing air or liquid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路配線を有する
被検査物の電気的検査等に用いられる導電性積層体に関
する。さらに、CSPなどのチップキャリアー基板、段
差基板など半導体パッケージ用基板の狭ピッチ電極面の
導電検査等に有用な、導電性積層体およびそれを用いた
回路基板の検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive laminate used for an electrical inspection of an inspection object having circuit wiring. Further, the present invention relates to a conductive laminate and an apparatus for inspecting a circuit board using the same, which are useful for, for example, conducting inspection of a narrow pitch electrode surface of a semiconductor package substrate such as a chip carrier substrate such as a CSP and a step substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年電子機器はますます小型化、携帯機
器化し、これに用いられる回路基板も回路配線の高密度
化、微細化が進んでいる。また、電子部品の実装方式の
変化により基板の電極が狭ピッチ、高密度化している。
また、電極面積も小さくなってきている。更に、基板表
面も段差のある多様化している。例えば、フリップチッ
プ実装方式の場合狭ピッチの基板電極の周囲に30μm
程度のレジスト段差がある。また、キャビテイタイプの
基板と呼ばれるワイヤーボンデング実装方式に対応した
基板の電極部に、例えば0.3〜0.5mm程度の段差
がある基板も出現している。従来は、これら回路基板の
配線の電気的な導通検査においては、本来回路配線の両
端にある端子電極にピンプローブを接触させる事によっ
て導通検査及び絶縁検査が実施されていた。しかし、回
路基板が高密度になると、ピンプローブを用いた検査治
具は、その端子間隔を高密度化する必要があり、その製
造が容易でなく高価なものとなる。また、キャビティタ
イプの基板の場合、段差が大きく電気的導通検査自体が
困難なものがある。この問題点を解決し、安価に配線の
導通検査を実施する手段として導電ゴムによる検査が実
施されている。例えば図1に示すように、微細な電極群
が存在する回路基板の表面に導電ゴムをおき、この裏面
の電極間隔が広い電極群を個々にピンプローブあるい
は、異方導電ゴムで導通検査を行う事により、微細な電
極の一つとこれと配線でつながっている裏面の電極との
断線の有無が確認できる。また、導電ゴムの代わりに絶
縁シートをおいて電気的な絶縁検査を行う事により、微
細な電極群と裏面の電極間隔の広い電極群の間のリーク
の有無が確認出来る。このように、導電ゴムと安価なピ
ンプローブあるいは異方導電ゴムの組み合わせにより、
安価な検査治具となる。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have become smaller and more portable, and the circuit boards used for them have been increasingly dense and fine in circuit wiring. Also, due to changes in the mounting method of electronic components, the electrodes on the substrate are becoming narrower and denser.
Also, the electrode area has been reduced. Further, the substrate surface is also diversified with steps. For example, in the case of the flip-chip mounting method, 30 μm
There is a slight resist step. In addition, a substrate having a step of, for example, about 0.3 to 0.5 mm has appeared in an electrode portion of a substrate corresponding to a wire bonding mounting method called a cavity type substrate. Conventionally, in the electrical continuity inspection of the wiring of these circuit boards, the continuity inspection and the insulation inspection have been performed by originally contacting a pin probe with terminal electrodes at both ends of the circuit wiring. However, when the circuit board has a high density, the inspection jig using the pin probe needs to have a high density of the terminal intervals, and its manufacture is not easy and expensive. Further, in the case of a cavity type substrate, there is a substrate having a large step and making an electrical continuity inspection itself difficult. As a means for solving this problem and conducting a continuity test of wiring at low cost, a test using conductive rubber is performed. For example, as shown in FIG. 1, a conductive rubber is placed on the surface of a circuit board on which a fine electrode group is present, and a continuity test is performed on the electrode group having a wide electrode gap on the rear surface with a pin probe or an anisotropic conductive rubber. As a result, it is possible to confirm whether or not one of the fine electrodes is disconnected from the electrode on the back surface connected to the fine electrode by wiring. Further, by performing an electrical insulation test using an insulating sheet instead of the conductive rubber, it is possible to confirm the presence or absence of a leak between the fine electrode group and the electrode group having a wide electrode gap on the back surface. Thus, the combination of conductive rubber and inexpensive pin probe or anisotropic conductive rubber,
An inexpensive inspection jig.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、近年フリップ
チップ実装などの新しい高密度実装方式が普及する事に
より、例えば図2に示すように、回路基板の微細電極一
つ一つの周辺にフォトレジストなどの永久絶縁層が電極
よりも凸の状態で存在するようになり、回路基板の微細
な電極の位置がその絶縁層に囲まれて凹部の底の方に存
在するようになり、従来の導電ゴムでは、安定して電気
的に接触することが難しくなり、新たに簡便且つ確実な
電気的接続が出来る導電性弾性体およびそれを用いた回
路基板の検査装置の開発が求められていた。
However, with the recent spread of new high-density mounting methods such as flip-chip mounting, for example, as shown in FIG. The permanent insulating layer of the circuit board is present in a more convex state than the electrode, and the position of the fine electrode of the circuit board is located at the bottom of the concave portion surrounded by the insulating layer, and the conventional conductive rubber Therefore, it has become difficult to make stable electrical contact, and there has been a demand for the development of a new conductive elastic body capable of simple and reliable electrical connection and a circuit board inspection apparatus using the same.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)導電性
弾性体層,(B)(A)以外の導電体中間層および
(C)(A)以外の弾性体層からなることを特徴とする
導電性積層体を提供するものである。また、本発明は、
(A)導電性弾性体層が、弾性を有する高分子の中に導
電性粒子が配合されたものである上記の導電性積層体を
提供するものである。上記(A)導電性弾性体層は、導
電性粒子とゴム状重合体から構成され、導電性粒子の体
積分率が5〜50%であることが好ましい。また、
(A)導電性弾性体層は、異方導電性ゴム状重合体であ
ることが好ましい。さらに、(A)導電性弾性体層の表
面は、接続対象物の凹凸に対応した凹凸を有することが
できる。上記(B)導電体中間層は、金属薄層であるこ
とが好ましい。また、弾性体層は、高分子弾性体ゲル組
成物、気体もしくは液体を内包する中空体から選ばれる
少なくとも1種であることが好ましい。さらに本発明
は、上記の導電性積層体と回路基板と検査装置とを電気
的に接続したことを特徴とする回路基板検査装置を提供
するものである。
The present invention relates to (A) a conductive elastic layer, (B) a conductive intermediate layer other than (A), and (C) an elastic layer other than (A). It is intended to provide a conductive laminate characterized by the following. Also, the present invention
(A) An object of the present invention is to provide the above-mentioned conductive laminate, wherein the conductive elastic layer is obtained by mixing conductive particles in a polymer having elasticity. The (A) conductive elastic layer is preferably composed of conductive particles and a rubber-like polymer, and preferably has a volume fraction of 5 to 50%. Also,
(A) The conductive elastic layer is preferably an anisotropic conductive rubber-like polymer. Further, (A) the surface of the conductive elastic layer can have unevenness corresponding to the unevenness of the connection object. It is preferable that the (B) conductor intermediate layer is a thin metal layer. The elastic layer is preferably at least one selected from a polymer elastic gel composition and a hollow body containing a gas or a liquid. Further, the present invention provides a circuit board inspection apparatus, wherein the conductive laminate, the circuit board and the inspection apparatus are electrically connected.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の導電性積層体は、特定な
構成とすることにより、安定して回路基板等の電極に接
触することが出来、確実な電気的接続が出来、電極間隔
が微細な回路基板にも対応が可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The conductive laminate of the present invention can be stably contacted with an electrode of a circuit board or the like by a specific structure, can make a reliable electric connection, and can reduce the distance between the electrodes. It can be applied to fine circuit boards.

【0006】本発明の(A)導電性弾性体層は、弾性を
有する高分子中に導電性粒子が含有されたものである。
本発明の(A)導電性弾性体層において使用される高分
子としては、弾性を有する絶縁体が好ましい。かかる弾
性を有する絶縁体としては、ゴム状重合体が好ましい。
ゴム状重合体としては、ポリブタジエン、天然ゴム、ポ
リイソプレン、SBR,NBRなどの共役ジエン系ゴム
およびこれらの水素添加物、スチレンブタジエンジエン
ブロック共重合体、スチレンイソプレンブロック共重合
体などのブロック共重合体およびこれらの水素添加物、
クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エ
ピクロルヒドリンゴム、シリコンゴム、エチレンプロピ
レン共重合体、エチレンプロピレンジエン共重合体など
が挙げられる。耐候性の必要な場合は共役ジエン系ゴム
以外のゴム状重合体が好ましく、特に成形加工性および
電気特性の点からシリコンゴムが好ましい。
The (A) conductive elastic layer of the present invention is a layer in which conductive particles are contained in a polymer having elasticity.
The polymer used in the conductive elastic layer (A) of the present invention is preferably an elastic insulator. As such an insulator having elasticity, a rubber-like polymer is preferable.
Examples of the rubbery polymer include conjugated diene rubbers such as polybutadiene, natural rubber, polyisoprene, SBR and NBR, and hydrogenated products thereof, and block copolymers such as styrene butadiene diene block copolymer and styrene isoprene block copolymer. Coalescence and their hydrogenated products,
Chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene propylene copolymer, ethylene propylene diene copolymer and the like can be mentioned. When weather resistance is required, a rubber-like polymer other than the conjugated diene rubber is preferred, and silicon rubber is particularly preferred from the viewpoint of moldability and electrical properties.

【0007】ここでシリコンゴムについてさらに詳細に
説明する。シリコンゴムとしては、液状シリコンゴムを
架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコンゴム
はその粘度が歪速度10-1secで105ポアズ以下のものが好
ましく、縮合型、付加型、ビニル基やヒドロキシル基含
有型などのいずれであってもよい。具体的にはジメチル
シリコーン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メ
チルフェニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げること
ができる。これらのうちビニル基含有シリコンゴムとし
ては、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジ
アルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまた
はジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、
加水分解および縮合反応させ、例えば引き続き溶解−沈
澱の繰り返しによる分別を行うことにより得ることがで
きる。
Here, the silicone rubber will be described in more detail. As the silicone rubber, one obtained by crosslinking or condensing liquid silicone rubber is preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 105 poise or less at a strain rate of 10-1 sec, and may be any of a condensation type, an addition type, and a type containing a vinyl group or a hydroxyl group. Specific examples include dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, and methylphenyl vinyl silicone raw rubber. Among these, as the vinyl group-containing silicone rubber, usually, dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane, in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane,
It can be obtained by hydrolysis and condensation reaction, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation.

【0008】また、ビニル基を両末端に含有するもの
は、オクタメチルシクロテトラシロキサンのような環状
シロキサンを触媒の存在下においてアニオン重合し、末
端停止剤を用いて重合を停止して重合体を得る際に、末
端停止剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを使
用し、反応条件(例えば、環状シロキサンの量および末
端停止剤の量)を適宜選ぶことにより、得ることができ
る。ここで、触媒としては、水酸化テトラメチルアンモ
ニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアル
カリまたはこれらのシラノレート溶液などが挙げられ、
反応温度としては例えば80〜130℃が挙げられる。
[0008] Further, those containing a vinyl group at both ends are polymerized by anionic polymerization of a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and the polymerization is terminated by using a terminal terminator. When obtaining, it can be obtained by using, for example, dimethyldivinylsiloxane as a terminal stopper, and appropriately selecting reaction conditions (eg, the amount of the cyclic siloxane and the amount of the terminal stopper). Here, examples of the catalyst include alkalis such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or silanolate solutions thereof, and the like.
The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C.

【0009】また、ヒドロキシル基含有シリコンゴム
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシラン、メチ
ルジヒドロクロロシランまたはジメチルヒドロアルコキ
シシランなどのヒドロシラン化合物の存在下において、
加水分解および縮合反応させ、例えば引き続き溶解−沈
澱の繰り返しによる分別を行うことにより得ることがで
きる。また、環状シロキサンを触媒の存在下にアニオン
重合し、末端停止剤を用いて重合を停止して重合体を得
る際に、反応条件(例えば、環状シロキサンの量および
末端停止剤の量)を選び、末端停止剤としてジメチルヒ
ドロクロロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたは
ジメチルヒドロアルコキシシランを使用することによっ
て得ることができる。ここで、触媒としては、水酸化テ
トラメチルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホ
ニウムなどのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液
などが挙げられ、反応温度としては例えば80〜130
℃が挙げられる。
[0009] The hydroxyl-containing silicone rubber is usually prepared by converting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane into a hydrosilane compound such as dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane.
It can be obtained by hydrolysis and condensation, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. In addition, when the cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst and the polymerization is terminated using a terminal stopper to obtain a polymer, the reaction conditions (eg, the amount of the cyclic siloxane and the amount of the terminal stopper) are selected. Can be obtained by using dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane as a terminal stopper. Here, examples of the catalyst include alkalis such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof, and the reaction temperature is, for example, 80 to 130.
° C.

【0010】ゴム状重合体の分子量(標準ポリスチレン
換算重量平均分子量)は10,000〜40,000で
あるものが好ましい。なお、ゴム状重合体成分の分子量
分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分子量と標準
ポリスチレン換算数平均分子量との比(以下「Mw /M
n 」と記す)は、得られる導電性エラストマーの耐熱性
の点から2以下が好ましい。
The molecular weight (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene) of the rubbery polymer is preferably 10,000 to 40,000. The molecular weight distribution index of the rubbery polymer component (the ratio of the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene to the number average molecular weight in terms of standard polystyrene (hereinafter referred to as “Mw / M”)
n) is preferably 2 or less from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive elastomer.

【0011】導電性粒子としては、例えば鉄、銅、亜
鉛、クロム、ニッケル、金、銀、コバルト、アルミニウ
ムなどの公知の単体導電性金属粒子およびこれらの金属
元素の2種以上からなる合金または複合化された導電性
金属粒子、カーボンブラックなどを挙げることができ
る。これらのうち、カーボンブラック、ニッケル、鉄、
銅などの導電性粒子が、経済性と導電特性の面から好ま
しく、特に好ましくは表面が金や銀により被覆されたニ
ッケル粒子である。
Examples of the conductive particles include known single conductive metal particles such as iron, copper, zinc, chromium, nickel, gold, silver, cobalt, and aluminum, and alloys or composites of two or more of these metal elements. Conductive metal particles, carbon black, and the like. Of these, carbon black, nickel, iron,
Conductive particles such as copper are preferable in terms of economy and conductive characteristics, and particularly preferably nickel particles whose surface is coated with gold or silver.

【0012】また、絶縁体としてシリコンゴムを用いる
場合は、導電性粒子のシランカップリング剤の被覆率が
5%以上であることが好ましく、さらに好ましくは7〜
100%、より好ましくは10〜100%、特に好まし
くは20〜100%である。また、導電性粒子の粒子径
は1〜1000μmであることが好ましく、さらに好ま
しくは2〜500μm、より好ましくは3〜300μ
m、特に好ましくは5〜100μmである。このような
範囲の粒径を有する導電性粒子によれば、得られる導電
性エラストマーにおいて、使用時導電性粒子間に十分な
電気的接触が得られるようになる。この導電性粒子の形
状は特に限定されるものではないが、上記シリコンゴム
等に対する分散の容易性から球状あるいは星形状である
ことが好ましい。
When silicon rubber is used as the insulator, the coverage of the conductive particles with the silane coupling agent is preferably 5% or more, more preferably 7% or more.
It is 100%, more preferably 10 to 100%, particularly preferably 20 to 100%. Further, the particle size of the conductive particles is preferably from 1 to 1000 μm, more preferably from 2 to 500 μm, more preferably from 3 to 300 μm.
m, particularly preferably 5 to 100 μm. According to the conductive particles having a particle size in such a range, in the obtained conductive elastomer, sufficient electric contact can be obtained between the conductive particles at the time of use. The shape of the conductive particles is not particularly limited, but is preferably spherical or star-shaped from the viewpoint of easy dispersion in the above-mentioned silicon rubber or the like.

【0013】本発明において導電性粒子として特に好ま
しく用いられる表面が金により被覆されたニッケル粒子
は、例えば無電解メッキなどによりニッケル粒子の表面
に金メッキを施したものである。このように、表面が金
被覆を有するニッケル粒子は接触抵抗がきわめて小さい
ものとなる。メッキにより金を被覆する場合の膜厚は1
000オングストローム以上であることが好ましい。ま
た、メッキ量としては粒子の1重量%以上が好ましく、
さらに好ましくは2〜10重量%、特に好ましくは3〜
7重量%である。
The nickel particles whose surface is preferably coated with gold, which is particularly preferably used as the conductive particles in the present invention, are obtained by plating the surfaces of the nickel particles with gold by, for example, electroless plating. Thus, the nickel particles having a gold coating on the surface have extremely low contact resistance. When coating gold by plating, the film thickness is 1
It is preferably at least 2,000 angstroms. Further, the plating amount is preferably 1% by weight or more of the particles,
More preferably 2 to 10% by weight, particularly preferably 3 to 10% by weight.
7% by weight.

【0014】本発明において、導電性粒子の配合量は、
体積分率で5〜50%が好ましく、さらに好ましくは7
〜30%である。また、重量比では、金属粒子の場合、
ゴム状重合体100重量部に対して30〜1000重量
部、好ましくは50〜750重量部の割合で用いられ
る。この割合が30重量部未満の場合には、得られる導
電ゴムは、使用時にも電気抵抗値が十分に低くならず、
従って良好な接続機能を有しないものとなり、また1,
000重量部を超えると硬化された導電ゴムが脆弱にな
って導電ゴムとして使用することが困難となる。以上の
ゴム状重合体および導電性粒子を含有する本発明の導電
ゴム用組成物には、必要に応じて、通常のシリカ粉、コ
ロイダルシリカ、エアロゲルシリカ、アルミナなどの無
機充填材を含有させることができる。このような無機充
填材を含有させることにより、未硬化時におけるチクソ
性が確保され、粘度が高くなり、しかも導電性粒子の分
散安定性が向上すると共に、硬化後における導電ゴムの
強度が向上する。
In the present invention, the compounding amount of the conductive particles is
The volume fraction is preferably 5% to 50%, more preferably 7%.
3030%. In the weight ratio, in the case of metal particles,
It is used in a proportion of 30 to 1000 parts by weight, preferably 50 to 750 parts by weight, based on 100 parts by weight of the rubbery polymer. When this ratio is less than 30 parts by weight, the obtained conductive rubber does not have a sufficiently low electric resistance even during use,
Therefore, it does not have a good connection function.
If the amount exceeds 2,000 parts by weight, the cured conductive rubber becomes brittle, and it becomes difficult to use the conductive rubber as the conductive rubber. The conductive rubber composition of the present invention containing the above rubbery polymer and conductive particles may contain, as necessary, an inorganic filler such as ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, and alumina. Can be. By including such an inorganic filler, the thixotropy at the time of uncuring is secured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the strength of the conductive rubber after curing is improved. .

【0015】この無機充填材の使用量は特に限定される
ものではないが、あまり多量に使用すると、導電ゴムが
脆弱になる。なお、本発明の導電ゴム用組成物の粘度
は、温度25℃において100,000〜3,000,
000cpの範囲内であることが好ましい。本発明の導
電ゴム用組成物は、架橋もしくは縮合反応が行われて弾
性の大きい導電ゴムが形成され、しかも特定な導電性粒
子成分が含有されていることにより導電ゴムとしての機
能を有するものとなる。
The amount of the inorganic filler used is not particularly limited, but if used in an excessively large amount, the conductive rubber becomes brittle. The viscosity of the conductive rubber composition of the present invention is 100,000 to 3,000, at a temperature of 25 ° C.
It is preferably in the range of 000 cp. The conductive rubber composition of the present invention has a function as a conductive rubber due to crosslinking or condensation reaction being performed to form a conductive rubber having high elasticity, and further including a specific conductive particle component. Become.

【0016】本発明の導電ゴム用組成物は、硬化させる
ために硬化触媒を用いることができる。このような硬化
触媒としては、有機過酸化物、脂肪酸アゾ化合物、ヒド
ロキシル化触媒、放射線などが挙げられる。有機過酸化
物としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシクロベ
ンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリーブチ
ルなどが挙げられる。また、脂肪酸アゾ化合物としては
アゾビスイソブチロニトリルなどが挙げられる。ヒドロ
シリル化反応の触媒として使用し得るものとしては、具
体的には、塩化白金酸およびその塩、白金−不飽和基含
有シロキサンコンプレックス、ビニルシロキサンと白金
とのコンプレックス、白金と1,3−ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンとのコンプレックス、トリオルガノホス
フィンあるいはホスファイトと白金とのコンプレック
ス、アセチルアセトネート白金キレート、環状ジエンと
白金とのコンプレックスなどの公知のものを挙げること
ができる。
The conductive rubber composition of the present invention can use a curing catalyst for curing. Examples of such a curing catalyst include an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydroxylation catalyst, and radiation. Examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Examples of the fatty acid azo compound include azobisisobutyronitrile. Specific examples of the catalyst that can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a siloxane complex containing a platinum-unsaturated group, a complex of vinyl siloxane and platinum, and a complex of platinum and 1,3-divinyl tetra. Known ones such as a complex with methyldisiloxane, a complex of triorganophosphine or phosphite with platinum, an acetylacetonate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum can be mentioned.

【0017】硬化触媒の添加方法も特に限定されるもの
ではないが、保存安定性、成分混合時の触媒の偏在防止
などの観点から、主剤であるゴム成分に予め混合してお
くことが好ましい。硬化触媒の使用量は、実際の硬化速
度、可使時間とのバランスなどを考慮して適量使用する
のが好ましい。また、硬化速度、可使時間を制御するた
めに通常用いられる、アミノ基含有シロキサン、ヒドロ
キシ基含有シロキサンなどのヒドロシリル化反応制御剤
を併用することもできる。ゴム状重合体としてシリコン
ゴムなどを用い、導電性粒子としてニッケルなどの磁性
体を用いた場合には、硬化に先立ちもしくは硬化中に、
導電性弾性体層の厚さ方向に磁場をかけることにより、
導電粒子を導電性弾性体層の厚さ方向に配向させること
ができ、異方導電性ゴム状重合体とすることができる。
かかる異方導電性ゴム状重合体を用いた場合は、厚さ方
向の導電性を高めることができ、導通性が良好になる点
で好ましい。また、ゴム状重合体の柔軟性を損ない難い
点でも好ましい。
The method of adding the curing catalyst is not particularly limited. However, it is preferable that the curing catalyst is previously mixed with the rubber component, which is the main component, from the viewpoint of storage stability and prevention of uneven distribution of the catalyst when mixing the components. It is preferable to use an appropriate amount of the curing catalyst in consideration of the balance between the actual curing speed and the pot life. Further, a hydrosilylation reaction control agent such as an amino group-containing siloxane or a hydroxy group-containing siloxane, which is usually used for controlling the curing rate and the pot life, can be used in combination. When using rubber such as silicon rubber as the rubber-like polymer and using a magnetic substance such as nickel as the conductive particles, prior to or during curing,
By applying a magnetic field in the thickness direction of the conductive elastic layer,
The conductive particles can be oriented in the thickness direction of the conductive elastic layer, and can be an anisotropic conductive rubbery polymer.
The use of such an anisotropic conductive rubbery polymer is preferable in that the conductivity in the thickness direction can be increased and the conductivity is improved. It is also preferable in that the flexibility of the rubbery polymer is hardly impaired.

【0018】(A)導電性弾性体層の厚みは、0.05
〜10mmが好ましく、より好ましくは、0.1〜2m
mさらに好ましくは0.15〜1mmである。特に、裏
面層の(C)弾性体層がゲル組成物やウォーターベッド
構造物など柔軟なものの場合は、厚みが0.1〜0.5
mmと薄く柔軟性の有るものが好ましい。また、接続対
象物(被検査対象物)の表面形状に応じて、(A)導電
性弾性体層に段差や突起構造を設けることができる。
(A) The thickness of the conductive elastic layer is 0.05
10 to 10 mm, more preferably 0.1 to 2 m
m More preferably, it is 0.15 to 1 mm. In particular, when the (C) elastic layer of the back layer is a flexible one such as a gel composition or a water bed structure, the thickness is 0.1 to 0.5.
It is preferably a thin and flexible material having a thickness of mm. Further, depending on the surface shape of the connection object (object to be inspected), a step or a projection structure can be provided on the (A) conductive elastic layer.

【0019】(A)導電性弾性体層表面に段差や突起構
造を形成するには、簡易的には接続対象物の表面に応じ
て、表面に凹凸を有する金型を作成しこれを用いること
により形成できる。かかる金型の表面凹凸加工は、例え
ば真鍮、アルミなどの金属を切削加工する方法あるいは、
ガラエポ樹脂などを切削加工することにより可能であ
る。このような切削加工により表面凹凸を有する金型を
作成し、もう一方には平坦な金型を用い、この2枚の金
型の間に、表面に金メッキされたニッケル粉を配合した
液状のシリコンゴム組成物を導入し、必要に応じて平行
磁場の中で、金型を加熱することにより、図8に示すよ
うな構成で、導電ゴムシート部(22)を成形すること
ができる。また、(A)導電性弾性体層表面には、その
表面から突出した導電突起を設けることが好ましい。か
かる導電突起は、通常機械加工あるいはメッキ等の手段
で製造され、その形状は円柱、円錐、球形もしくはその
一部であってもよい。また、その材質は電気的導電体で
あれば特に限定されないが、金属であることが好まし
く、中でも銅等が好ましい。また、表面に導電性を損な
う酸化膜が形成されにくいものが好ましく、表面が金等
でメッキされているものがさらに好ましい。具体例とし
ては表面に金メッキ等の処理が加えられた金属ピンを導
電シート成型後、もしくは成型時に埋め込む等の方法で
も実現できるが、ピンの加工、整列等の工程の複雑から
考えると、工程の簡便さ等の点から以下のようなメッキ
金属を使用する方法が好ましい。
(A) In order to form a step or a projection structure on the surface of the conductive elastic body layer, a mold having irregularities on the surface is simply prepared and used according to the surface of the object to be connected. Can be formed. The surface unevenness of such a mold is, for example, a method of cutting a metal such as brass or aluminum, or
This is possible by cutting glass epoxy resin or the like. This cutting process creates a mold with surface irregularities, and uses a flat mold for the other, and a liquid silicon compounded with nickel-plated gold on the surface between the two molds. By introducing the rubber composition and, if necessary, heating the mold in a parallel magnetic field, the conductive rubber sheet portion (22) can be formed with the configuration shown in FIG. In addition, it is preferable to provide a conductive projection protruding from the surface of the conductive elastic body layer (A). Such conductive projections are usually manufactured by means such as machining or plating, and the shape may be a column, a cone, a sphere, or a part thereof. The material is not particularly limited as long as it is an electric conductor, but is preferably a metal, particularly preferably copper or the like. Further, it is preferable that an oxide film that impairs conductivity is not easily formed on the surface, and it is more preferable that the surface is plated with gold or the like. As a specific example, it can be realized by a method such as embedding a metal pin having a surface treated with gold plating or the like after molding a conductive sheet or at the time of molding. From the viewpoint of simplicity and the like, a method using the following plated metal is preferable.

【0020】すなわち、平坦な金型の表面にレジストを
塗布し、所定のパターンを露光、現像により形成し、図
4に示すように電解メッキにより、レジストの開口部に
金属のメッキを立ち上げ、この金型を片面とし、もう一
方に平坦な金型を用い、2枚の金型の間に液状のシリコ
ーンゴムと表面が金メッキされたニッケル粉からなる組
成物とを導入し、図5に示すような構成で必要に応じて
平行磁場の中で、金型を加熱することにより、導電ゴム
シートを成形する。成形後、室温にさました後、金型を
注意深くとりはずすことにより、図6に示すような表面
に金属突起が転写された導電ゴムシートを得ることがで
きる。
That is, a resist is applied to the surface of a flat mold, a predetermined pattern is formed by exposure and development, and as shown in FIG. 4, metal plating is started up at the opening of the resist by electrolytic plating. Using this mold on one side and a flat mold on the other side, a liquid silicone rubber and a composition consisting of nickel powder whose surface is gold-plated were introduced between two molds, as shown in FIG. In such a configuration, the conductive rubber sheet is formed by heating the mold in a parallel magnetic field as needed. After the molding, the temperature is lowered to room temperature, and then the mold is carefully removed, whereby a conductive rubber sheet having the metal projections transferred to the surface as shown in FIG. 6 can be obtained.

【0021】転写後の突起表面に酸化膜が形成されて導
電性が損なわれるのを防ぐために、レジスト開口部へま
ず金をメッキし、その後、銅等をメッキすることで、転
写後に表面に金メッキが露出した金属突起を得ることが
できる。金属突起を導電ゴムシートに転写する際に一部
のレジストの残さも導電ゴムシートに転写される場合も
あるので、転写後、導電ゴムシート表面を現像液もしく
は剥離液で十分処理することが好ましい。突起の突出量
が大きい場合、あるいは突起間距離が短い場合には、突
起が導電シートに転写されずに金型上に残ることもある
ため、金属突起を確実に導電ゴムシートに転写するため
には、レジストを塗布する前に、剥離層として、平坦な
金型の表面に銅等を薄くメッキしておき、剥離層ごと導
電ゴムに転写した後、剥離層をエッチングして取り除く
方法が更に好ましい。
In order to prevent an oxide film from being formed on the surface of the projections after the transfer and impairing the conductivity, gold is first plated on the resist opening, and then copper or the like is plated. Can be obtained. When transferring the metal protrusions to the conductive rubber sheet, a part of the resist residue may also be transferred to the conductive rubber sheet. Therefore, after the transfer, it is preferable to sufficiently treat the conductive rubber sheet surface with a developer or a stripper. . When the protrusion amount of the protrusion is large or when the distance between the protrusions is short, the protrusion may remain on the mold without being transferred to the conductive sheet, so that the metal protrusion is surely transferred to the conductive rubber sheet. Before applying the resist, as a release layer, a method in which copper or the like is thinly plated on the surface of a flat mold, and the release layer is transferred to conductive rubber, and then the release layer is removed by etching. .

【0022】導電突起のシート表面からの突出量は、導
電ゴムシートの平均厚さに対して±2μmから±100
μmであり、好ましくは±3μmから±50μmであ
り、さらに好ましくは±5μmから±40μmである。
また、導電突起部のピーク間距離は10μmから200
μmであり、好ましくは15μmから150μmであ
り、さらに好ましくは20μmから100μmである。
その導電突起のシート表面からの突出量がシートの平均
厚さに対して±2μmより小さいと、導電ゴムが安定し
て回路基板の電極に接触することが出来ない。また±1
00μmを越えると突起部自体が大きくなり、回路基板
の狭ピッチ電極の検査に対応出来なくなる また、導電ゴムシートの導電突起部のピーク間距離が1
0μmよりも小さいと製造が困難となりまた突出量が大
きい導電突起部を形成するのが難しい。また、導電ゴム
シートの導電突起部のピーク間距離が200μmを越え
ると電極間隔(ピッチ)が狭い回路基板の検査に対応で
きなくなる。
The amount of protrusion of the conductive projections from the sheet surface is from ± 2 μm to ± 100 with respect to the average thickness of the conductive rubber sheet.
μm, preferably ± 3 μm to ± 50 μm, and more preferably ± 5 μm to ± 40 μm.
Further, the distance between the peaks of the conductive protrusions is from 10 μm to 200 μm.
μm, preferably 15 μm to 150 μm, and more preferably 20 μm to 100 μm.
If the amount of protrusion of the conductive protrusion from the sheet surface is smaller than ± 2 μm with respect to the average thickness of the sheet, the conductive rubber cannot stably contact the electrode of the circuit board. Also ± 1
If it exceeds 00 μm, the projections themselves become large and cannot be used for inspection of narrow pitch electrodes on the circuit board.
If it is smaller than 0 μm, manufacturing becomes difficult, and it is difficult to form a conductive projection having a large protrusion amount. On the other hand, if the distance between the peaks of the conductive protrusions of the conductive rubber sheet exceeds 200 μm, it will not be possible to cope with the inspection of a circuit board having a narrow electrode interval (pitch).

【0023】中間の(B)導電体中間層は、(A)導電
性弾性体層の横方向の導電性を補助する作用効果を有す
る。(B)導電体中間層は、硬い層でもよいが,(A)
および(C)層が弾性体であり、また接続対象物の表面
凹凸に的確に追随するためには柔軟な層であることが好
ましい。(B)導電体中間層の厚みは、0.005〜1
0mmが好ましく、さらに好ましくは0.01〜5mm
である。(B)導電体中間層が金属である場合は、その
厚みは0.005〜0.5mmが好ましく、さらに好ま
しくは0.01〜0.2mm、特に好ましくは0.01
5〜0.1mmである。(B)導電体中間層の厚みは、
厚すぎると柔軟性に欠け、薄すぎると十分な導電性が得
難かったり、耐久性が劣る場合がある。(B)導電体中
間層の導電性は、抵抗率として5〜1×10-6Ωcmが
好ましく、さらに好ましくは2〜2×10-6Ωcm、特
に好ましくは1〜5×10-6Ωcmである。
The intermediate (B) conductive intermediate layer has the effect of assisting the lateral conductivity of the (A) conductive elastic layer. (B) The conductor intermediate layer may be a hard layer, but (A)
It is preferable that the layer (C) and the layer (C) be an elastic body and a flexible layer in order to accurately follow the surface irregularities of the connection object. (B) The thickness of the conductor intermediate layer is 0.005 to 1
0 mm is preferred, and more preferably 0.01 to 5 mm
It is. (B) When the conductive intermediate layer is a metal, its thickness is preferably 0.005 to 0.5 mm, more preferably 0.01 to 0.2 mm, and particularly preferably 0.01 to 0.2 mm.
5 to 0.1 mm. (B) The thickness of the conductor intermediate layer is:
If it is too thick, it may lack flexibility, and if it is too thin, it may be difficult to obtain sufficient conductivity or durability may be poor. (B) The conductivity of the conductor intermediate layer is preferably 5 to 1 × 10 −6 Ωcm, more preferably 2 to 2 × 10 −6 Ωcm, and particularly preferably 1 to 5 × 10 −6 Ωcm. is there.

【0024】(B)導電体中間層としては、金属や導電
性高分子などを用いることができる。これらの具体例と
しては、例えば、アルミニウム、銅、金、銀、ニッケ
ル、鉄、亜鉛などが挙げられる。これらの好ましい具体
例としては、アルミホイル、銅箔や金箔などの金属の薄
いシート。あるいは、樹脂やゴムやエラストマーなどの
シート上にこれらの金属を積層、ラミネート、メッキ、
蒸着、ペーストの塗布などの手段により配置したもので
も良いし、前記(A)導電性弾性体層あるいは(C)弾
性体層の内面側に、これらの金属を積層、ラミネート、
メッキ、蒸着、ペーストの塗布などの手段により配置し
たものでも良い。
(B) As the conductor intermediate layer, a metal, a conductive polymer or the like can be used. Specific examples of these include aluminum, copper, gold, silver, nickel, iron, zinc, and the like. Preferred examples of these are thin sheets of metal such as aluminum foil, copper foil and gold foil. Alternatively, these metals can be laminated, laminated, plated, on a sheet of resin, rubber, elastomer, etc.
The metal may be disposed by means such as vapor deposition or paste application, or these metals may be laminated on the inner surface side of the (A) conductive elastic layer or (C) elastic layer,
It may be arranged by means such as plating, vapor deposition, or application of a paste.

【0025】(C)弾性体層としては、弾性を有し、加
圧力にある程度耐え得るものであることが好ましい。こ
れらの具体例としては、高分子弾性体、ゲル組成物、お
よび気体もしくは液体を内包する中空体から選ばれる少
なくとも1種が挙げられる。(C)弾性体層は、(A)
導電性弾性体層の厚み方向の寸法吸収能を補助する作用
効果がある。 (C)弾性体層の厚みは、1〜10mm
が好ましく、さらに好ましくは1.5〜8mm、特に好
ましくは2〜7mmである。この厚みが厚すぎると作業
性が悪く、薄すぎると寸法吸収の効果が低い。
(C) It is preferable that the elastic body layer has elasticity and can withstand a pressing force to some extent. Specific examples thereof include at least one selected from an elastic polymer, a gel composition, and a hollow body containing a gas or a liquid. (C) The elastic layer comprises (A)
This has the effect of assisting the dimensional absorption capacity of the conductive elastic layer in the thickness direction. (C) The thickness of the elastic layer is 1 to 10 mm
Is preferably 1.5 to 8 mm, more preferably 2 to 7 mm. If the thickness is too large, workability is poor, and if it is too small, the effect of dimensional absorption is low.

【0026】高分子弾性体としては、ゴム状重合体、エ
ラストマーなどが好ましい。ゴム状重合体としては、ポ
リブタジエン、天然ゴム、ポリイソプレン、SBR,N
BRなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加
物、スチレンブタジエンジエンブロック共重合体、スチ
レンイソプレンブロック共重合体などのブロック共重合
体およびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタン
ゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、
シリコンゴム、エチレンプロピレン共重合体、エチレン
プロピレンジエン共重合体などが挙げられる。耐候性の
必要な場合は共役ジエン系ゴム以外のゴム状重合体が好
ましく、特に成形加工性などの点からシリコンゴムが好
ましい。高分子弾性体の硬度は、JIS−Aで60以下
のものが好ましく、さらに好ましくは40以下のもので
ある。
As the polymer elastic body, a rubber-like polymer, an elastomer or the like is preferable. Examples of rubbery polymers include polybutadiene, natural rubber, polyisoprene, SBR, N
Conjugated diene rubbers such as BR and hydrogenated products thereof, styrene butadiene diene block copolymer, block copolymers such as styrene isoprene block copolymer and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, Epichlorohydrin rubber,
Silicon rubber, ethylene propylene copolymer, ethylene propylene diene copolymer and the like can be mentioned. When weather resistance is required, a rubber-like polymer other than the conjugated diene rubber is preferable, and silicon rubber is particularly preferable in terms of moldability and the like. The hardness of the polymer elastic body is preferably 60 or less according to JIS-A, and more preferably 40 or less.

【0027】ゲル組成物としては、ヒドロゲル、オルガ
ノゲルなどが使用可能である。力学特性の安定性からは
高沸点の有機溶剤を含んだオルガノゲルが好ましい。好
ましい具体例としては、アクリル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなどの共
重合体、シリコーンゲルなどが挙げられる。これらの中
では使用環境に対する安定性の点からシリコーンゲルが
より好ましい。ゲル組成物は軟らかく小さい荷重でも容
易に変形するので、被接続対象物(検査対象基板等)の
反り、表面の段差などを好適に吸収出来る。
As the gel composition, hydrogel, organogel and the like can be used. From the viewpoint of the stability of the mechanical properties, an organogel containing a high-boiling organic solvent is preferred. Preferred specific examples include copolymers of acrylic (meth) acrylate and hydroxyalkyl (meth) acrylate, and silicone gel. Among them, silicone gel is more preferable from the viewpoint of stability to use environment. Since the gel composition is soft and easily deformed even with a small load, it is possible to favorably absorb the warpage of the object to be connected (substrate to be inspected, etc.) and the surface step.

【0028】気体もしくは液体を内包する中空体として
は、フレキシブルな中空体の中に気体や液体などの流動
性物質を密閉封入し内包させたものが使用でき、小さい
荷重で容易に変形するものが好ましい。かかる中空体の
具体例としては、例えば樹脂フイルムやゴム状重合体の
シートなどで袋状にしたものや、高分子弾性体の中空成
形体などの中に、流動体を内包させたものが挙げられ
る。流動体としては、空気や窒素ガスなどの気体、水や
油脂や炭化水素やアルコール類などの液体、各種のゾル
やゲルなどが挙げられる。これらの中では、空気や水が
好ましく、いわゆる空気枕やウォーターベッド構造物
(水枕)が好ましく用いられる。
As the hollow body containing gas or liquid, a hollow body in which a fluid substance such as gas or liquid is hermetically sealed and contained in a flexible hollow body can be used. preferable. Specific examples of such a hollow body include, for example, a bag made of a resin film or a rubber-like polymer sheet, a hollow molded body of a polymer elastic body, and a fluid-encapsulated body. Can be Examples of the fluid include gases such as air and nitrogen gas, liquids such as water, oils and fats, hydrocarbons and alcohols, and various sols and gels. Of these, air and water are preferred, and so-called air pillows and water bed structures (water pillows) are preferably used.

【0029】上記(A),(B),(C)各層間の積層
は、接着剤での接合、熱圧着、一体成形、ラミネートな
ど各種の方法で行うことができる。なお、接着剤で
(A),(B)各層間の積層を行う場合は、接着剤は導
電性接着剤を用いることが好ましい。例えば(A)導電
性弾性体層の表面の一方に、(B)導電体中間層を形成
する場合,(A)導電性弾性体の表面の一方にサンドブ
ラストを吹き付け、表面の高分子弾性体を除去し、金属
粒子を表面に露出させる。この露出した表面にパラジウ
ム触媒を塗布し、銅電解メッキを行い、20μm厚さの
メッキ層を形成することが出来る。また、(C)の弾性
体層の表面の一方に(B)導電体中間層を形成する場
合、厚さ15μmのアルミニウムシートを吸着台の上に
固定し、この上に硬化すると弾性体となる液状のシリコ
ーンゴム組成物を塗布し、減圧脱泡を行い、ホットプレ
スに入れ、150℃で30分間加熱硬化し、(B)、
(C)の一体化した積層体を製造することができる。ま
た、上記工程を組み合わせて,(A),(B),(C)
を一体化した積層体とすることができる。また、
(A),(B),(C)それぞれを別々に作成し、それ
らを重ね合わせてもよく、必要により接着剤などで接着
してもよい。接着剤としては、(A),(B)の間は導
電性の接着剤が好ましい。
The lamination between the layers (A), (B), and (C) can be performed by various methods such as bonding with an adhesive, thermocompression bonding, integral molding, and lamination. When laminating between the layers (A) and (B) with an adhesive, it is preferable to use a conductive adhesive as the adhesive. For example, when (B) a conductive intermediate layer is formed on one of the surfaces of the conductive elastic material layer (A), sandblasting is performed on one of the surfaces of the conductive elastic material (A) to form a polymer elastic material on the surface. Remove, exposing the metal particles to the surface. A palladium catalyst is applied to the exposed surface and copper electrolytic plating is performed to form a plating layer having a thickness of 20 μm. In the case of forming the conductor intermediate layer (B) on one of the surfaces of the elastic layer (C), an aluminum sheet having a thickness of 15 μm is fixed on an adsorption table, and cured on this to become an elastic body. A liquid silicone rubber composition is applied, degassed under reduced pressure, put in a hot press, and heat-cured at 150 ° C. for 30 minutes.
The integrated laminate of (C) can be manufactured. Further, by combining the above steps, (A), (B), (C)
Can be made into a laminated body. Also,
Each of (A), (B), and (C) may be separately prepared, and they may be overlapped with each other, or may be bonded with an adhesive if necessary. As the adhesive, a conductive adhesive is preferable between (A) and (B).

【0030】本発明の導電性積層体は、回路基板などの
電極との接続が確実にできる効果を有しており、特に回
路基板等の電気的検査をする場合に有用である。回路基
板等の電気的検査をする場合には、本発明の導電性積層
体と回路基板と検査装置とを電気的に的確に接続するこ
とができ、本発明の導電性積層体と上記検査装置を組み
合わせて回路基板検査装置とすることができる。かかる
回路基板検査装置の構成の一例を、概念図として図10
に示す。
The conductive laminate of the present invention has an effect of reliably connecting to an electrode of a circuit board or the like, and is particularly useful when conducting an electrical inspection of a circuit board or the like. When an electrical inspection of a circuit board or the like is performed, the conductive laminate of the present invention, the circuit board, and the inspection apparatus can be electrically and accurately connected. Can be combined to form a circuit board inspection apparatus. FIG. 10 is a conceptual diagram showing an example of the configuration of such a circuit board inspection apparatus.
Shown in

【0031】[0031]

【実施例】次に本発明を具体的な製造例で説明する。 製造例1 1)ペーストの調製 ゴムとしてシリコーンゴムを使用し、ゴム100重量部
に対し導電粒子として表面に金メッキした粒径10μm
のニッケル粒子を500重量部(体積分率33.2%)
配合し、これらを混練りして組成物(ペースト)を得
た。 2)金型の処理 平坦な金型の表面全面に50μmの厚みにレジストを塗
布し、パターン露光して50μm径の窪みを100μm
間隔でパターニングした。次に上記レジストの開口部に
まず金を0.5μm厚にメッキし、続いて銅をレジスト
の厚み(50μm)までメッキし、図4に示すような金
型(1)を製造した。 3)導電性ゴムの成型 上記組成物(ペースト)を、図5に示すように、上記処
理を行った金型(1)と平坦な金型(2)の間に導入
し、3000ガウスの平行磁場の中で100℃、2時間
架橋させた後、平坦な金型(2)をとりはずした。この
結果、厚さ0.5mmの導電性ゴムシートの成型物を得
た。
Next, the present invention will be described with reference to specific production examples. Production Example 1 1) Preparation of Paste A silicone rubber was used as a rubber, and a particle diameter of 10 μm in which gold was plated on the surface as conductive particles with respect to 100 parts by weight of the rubber.
500 parts by weight of nickel particles (volume fraction 33.2%)
These were blended and kneaded to obtain a composition (paste). 2) Mold treatment A 50 μm-thick resist is applied to the entire surface of the flat mold, and pattern exposure is performed to form a 50 μm-diameter dent to 100 μm.
Patterning was performed at intervals. Next, the opening of the resist was first plated with gold to a thickness of 0.5 μm, and then copper was plated to the thickness of the resist (50 μm) to produce a mold (1) as shown in FIG. 3) Molding of Conductive Rubber The composition (paste) was introduced between the mold (1) and the flat mold (2) subjected to the above treatment as shown in FIG. After crosslinking at 100 ° C. for 2 hours in a magnetic field, the flat mold (2) was removed. As a result, a molded product of a conductive rubber sheet having a thickness of 0.5 mm was obtained.

【0032】4)中間導電層(B)の製造 上記で得られた導電性ゴムシート(A−1)の平坦面を
サンドブラスターにより表面粗化を行い、金メッキした
ニッケル粒子を露出させた。この表面をパラジム触媒液
に浸漬し、無電解メッキ液に浸漬し、銅メッキを1μm
厚に付けた後、硫酸銅メッキ液にて、電解銅メッキを2
0μm厚に付けて中間導電層(B―1)を形成した。
4) Production of Intermediate Conductive Layer (B) The flat surface of the conductive rubber sheet (A-1) obtained above was roughened with a sandblaster to expose gold-plated nickel particles. This surface was immersed in a paradigm catalyst solution, immersed in an electroless plating solution, and plated with copper to 1 μm.
After thickening, apply electrolytic copper plating with copper sulfate plating solution.
The intermediate conductive layer (B-1) was formed with a thickness of 0 μm.

【0033】弾性体(C)の製造 上記で得られた中間導電層(B―1)の上に、上記ペー
ストの調製に用いた液状のシリコーンゴムを塗布し、減
圧・脱泡を30分間行った後、表面が平坦な金型(2)
で押さえ、ホットプレス装置の中に導入し、100℃で
30分間保ちシリコーンゴムの硬化を行った。この結
果、(B―1)上に厚さ3mmの弾性体層(C―1)が
形成され、(A−1),(B−1),(C−1)の3層
が一体化した積層体が得られた。
Production of Elastic Body (C) On the intermediate conductive layer (B-1) obtained above, the liquid silicone rubber used for the preparation of the above paste is applied, and decompression and defoaming are performed for 30 minutes. After finishing, mold with flat surface (2)
, And introduced into a hot press apparatus, and kept at 100 ° C. for 30 minutes to cure the silicone rubber. As a result, an elastic layer (C-1) having a thickness of 3 mm was formed on (B-1), and the three layers (A-1), (B-1) and (C-1) were integrated. A laminate was obtained.

【0034】6)表面残さの除去処理 金型(1)および金型(2)を外し、成型物を取り出し
た結果、表面が金コートされた銅の金属突起が導電ゴム
と一体化した厚さ0.5mmの導電性ゴムシート(A−
1)と、厚さ20μmの銅金属層からなる中間導電層
(B―1)と、厚さ3mmのシリコーンゴムからなる弾
性体層(C―1)とが一体化した積層体1を得た。上記
成型物表面に残るレジスト残さを取り除くため、成型物
を現像液に浸漬し、水洗し、乾燥して、図6に示す導電
性積層体1を得た。
6) Removal of Surface Residue The mold (1) and the mold (2) were removed, and the molded product was taken out. As a result, the thickness of the metal protrusion of copper coated with gold on the surface was integrated with the conductive rubber. 0.5 mm conductive rubber sheet (A-
1), an intermediate conductive layer (B-1) made of a copper metal layer having a thickness of 20 μm, and an elastic body layer (C-1) made of a silicone rubber having a thickness of 3 mm were obtained. . In order to remove the resist residue remaining on the surface of the molded product, the molded product was immersed in a developer, washed with water and dried to obtain a conductive laminate 1 shown in FIG.

【0035】製造例2 導電性ゴムシートの成形 製造例1で用いたペーストおよび金型を用い、製造例1
と同様の製造工程により導電性ゴムシートを成形した。
金型(1)および(2)をとりはずした。この結果、表
面が金コートされた銅の金属突起が導電ゴムと一体化し
た厚さ0.5mmの導電性ゴムシートの成型物(A−
2)を得た。 2)表面残さの除去処理 上記成型物(A−2)の表面に残るレジスト残さを取り
除くため、成型物を現像液に浸漬し、水洗し、乾燥し
て、表面が金コートされた銅の金属突起が導電ゴムと一
体化した導電性ゴムシート(A−2)を得た。
Production Example 2 Molding of Conductive Rubber Sheet Production Example 1 using the paste and the mold used in Production Example 1.
A conductive rubber sheet was formed by the same manufacturing process as in the above.
The molds (1) and (2) were removed. As a result, a molded product of a conductive rubber sheet having a thickness of 0.5 mm (A-
2) was obtained. 2) Removal treatment of surface residue In order to remove the resist residue remaining on the surface of the molded product (A-2), the molded product is immersed in a developer, washed with water, and dried to form a copper metal having a gold-coated surface. A conductive rubber sheet (A-2) in which the projections were integrated with the conductive rubber was obtained.

【0036】中間導電層(B―2) 厚さ15μmのアルミニウムシートを用いた。 弾性体層(C―2) ポリエチレン樹脂からなる袋状物の中に、水を入れたウ
オーターベッド構造体を用いた。 積層体の形成 上記で得られた導電ゴムシート(A−2)と中間導電層
(B―2)とを、接着剤として導電性接着剤DA652
0(東レダウコーニング・シリコーン(株)製)を用
い、150℃、1時間で熱硬化接着を行った。さらに、
中間導電層(B―2)と弾性体層(C―2)とは、エポ
キシ系接着剤を用いて室温にて硬化接着し、(A−
2),(B−2)および(C―2)からなる積層体2を
得た。
Intermediate conductive layer (B-2) An aluminum sheet having a thickness of 15 μm was used. Elastic layer (C-2) A water bed structure containing water in a bag made of polyethylene resin was used. Formation of Laminate The conductive rubber sheet (A-2) obtained above and the intermediate conductive layer (B-2) are used as an adhesive to form a conductive adhesive DA652.
Using 0 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), thermosetting bonding was performed at 150 ° C. for 1 hour. further,
The intermediate conductive layer (B-2) and the elastic layer (C-2) are cured and bonded at room temperature using an epoxy-based adhesive.
2), a laminate 2 composed of (B-2) and (C-2) was obtained.

【0037】比較製造例 製造例2において、中間導電層(B―2)を用いず、
(A―2)と(C―2)のみからなる積層体3を得た。
Comparative Production Example In Production Example 2, the intermediate conductive layer (B-2) was not used.
A laminate 3 consisting only of (A-2) and (C-2) was obtained.

【0038】回路基板の電気的検査 実施例1、比較例1 上記製造例で製造した導電性積層体1、2および3を用
い、図10に示すように次のような被検査物(多層配線
回路基板)および検査冶具を用いて、被検査物の電気的
導通検査を行った。
Electrical Inspection of Circuit Board Example 1, Comparative Example 1 Using the conductive laminates 1, 2 and 3 produced in the above production example, as shown in FIG. An electrical continuity test of the inspection object was performed using a circuit board) and an inspection jig.

【0039】被検査物は、表面に250μmピッチ間隔
で、電極面積100μm角の電極が200ポイント格子
状に配列されているものを用いた。この表面の各電極
は、電極周辺が開口200μm角のレジスト絶縁層で被
覆されており、レジスト絶縁層と電極の高さは、レジス
ト層が電極よりも10μm高く設定されている多層配線
基板を用いた。
The object to be inspected had a surface having electrodes of 100 μm square arranged at a pitch of 250 μm and arranged in a 200-point lattice. Each electrode on this surface is covered with a resist insulating layer having a 200 μm square opening around the electrode, and the height of the resist insulating layer and the electrode is set to 10 μm higher than the electrode using a multilayer wiring board. Was.

【0040】上記検査の結果を次の表に示す。The results of the above inspection are shown in the following table.

【0041】[0041]

【表1】 ●導通極めて良好 ○導通良好 ×導通不可[Table 1] ● Excellent conduction ○ Good conduction × Not conductive

【0042】実施例2 上記実施例1と同様にして、次のような形状の被検査基
板について各に対応した積層体を製造し、実施例1と同
様にして検査を行った結果、良好な導通性が得られた。 図7に示す被検査基板の表面の凹凸に対応するように、
導電性ゴムシート(A)に突起を形成した導電性積層体 図8に示すように被検査基板の表面に段差があり、段差
のそれぞれに検査電極がある基板について、その表面の
凹凸に対応するように、導電性ゴムシート(A)に段差
を形成した導電性積層体 図9にしめす表面が平坦な被検査基板に対応するよう
に、導電性ゴムシート(A)の表面が平坦な導電性積層
Example 2 In the same manner as in the above-described Example 1, a laminate corresponding to each of the substrates to be inspected having the following shapes was manufactured, and the inspection was performed in the same manner as in the Example 1. Conductivity was obtained. In order to correspond to the irregularities on the surface of the substrate to be inspected shown in FIG.
Conductive Laminate with Protrusions Formed on Conductive Rubber Sheet (A) As shown in FIG. 8, the surface of the substrate to be inspected has a step, and each step has an inspection electrode. As shown in FIG. 9, the conductive rubber sheet (A) has a flat conductive surface so as to correspond to the substrate to be inspected having a flat surface. Laminate

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明の導電性積層体によれば、電気的
導通検査をすべき回路基板の微小電極の周辺が、ホトレ
ジストなどの絶縁層で囲まれ、電極がそれよりも低い位
置にあっていても、導電ゴムシートの表面が微小な金属
突起を有するため、安定して電気的接続が可能であり、
しかも導電体中間層により横方向の導通性が極めて良好
となり、電気的導通検査が確実にできる。また、導電性
弾性体層を設けたことにより、導電体中間層の保護がで
き、被接続物の表面状態に応じて導電性弾性体層に凹凸
を形成できるため、耐久性とともに確実な電気的接続が
可能となる。
According to the conductive laminate of the present invention, the periphery of the microelectrode of the circuit board to be subjected to the electrical continuity test is surrounded by an insulating layer such as a photoresist, and the electrode is located at a lower position. Even if it is, since the surface of the conductive rubber sheet has minute metal protrusions, stable electrical connection is possible,
In addition, the conductivity in the lateral direction is extremely improved by the conductor intermediate layer, and the electrical continuity test can be reliably performed. In addition, by providing the conductive elastic layer, the conductive intermediate layer can be protected, and irregularities can be formed on the conductive elastic layer according to the surface condition of the object to be connected. Connection is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 回路基板の電気的導通検査の従来技術を示す
模式図
FIG. 1 is a schematic diagram showing a conventional technique for inspecting electrical continuity of a circuit board.

【図2】 従来技術における導電ゴムシートと被検査物
の関係を示す模式図
FIG. 2 is a schematic view showing a relationship between a conductive rubber sheet and an object to be inspected in a conventional technique.

【図3】 本発明の積層体を示す模式図FIG. 3 is a schematic view showing a laminate of the present invention.

【図4】 本発明の積層体の製造工程を示す模式図FIG. 4 is a schematic view showing a manufacturing process of the laminate of the present invention.

【図5】 本発明の積層体の製造工程を示す模式図FIG. 5 is a schematic view showing a manufacturing process of the laminate of the present invention.

【図6】 本発明の積層体の導電性弾性体を示す模式図FIG. 6 is a schematic view showing a conductive elastic body of the laminate of the present invention.

【図7】 本発明の積層体と被検査物の関係を示す模式
FIG. 7 is a schematic diagram showing the relationship between the laminate of the present invention and an inspection object.

【図8】 本発明の積層体と被検査物の関係を示す模式
FIG. 8 is a schematic diagram showing the relationship between the laminate of the present invention and a test object.

【図9】 本発明の積層体と被検査物の関係を示す模式
FIG. 9 is a schematic diagram showing the relationship between the laminate of the present invention and an inspection object.

【図10】 本発明の積層体を用いた被検査物の電気的
特性の検査方法を示す模式図
FIG. 10 is a schematic view showing a method for inspecting electrical characteristics of an object to be inspected using the laminate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 導電ゴムシート 2 ピンプローブ 3 テスター 4 被検査物(多層配線基板) 5 レジスト層 6 被検査物の電極 7 弾性体層 8 導電体中間層 9 導電性弾性体層 10 導電性積層体 11 導電突起 12 レジスト層 13 金型(1) 14 金型(2) 15 ゴム 16 導電粒子 17 ペースト 18 シリコーンゴムシート 19 アルミホイル 20 突起付き導電性弾性体層 21 銅箔シート 22 段差付き導電性弾性体層 23 キャビティ基板 24 ゲル状物質またはウオーターベッド 25 アルミニウムシート 26 導電性弾性体層 27 検査装置プレス部(上) 28 異方導電性検査治具 29 固定ピン 30 ラバーヘッド 31 検査装置プレス部(下) REFERENCE SIGNS LIST 1 conductive rubber sheet 2 pin probe 3 tester 4 test object (multilayer wiring board) 5 resist layer 6 electrode of test object 7 elastic layer 8 conductive intermediate layer 9 conductive elastic layer 10 conductive laminate 11 conductive protrusion Reference Signs List 12 resist layer 13 mold (1) 14 mold (2) 15 rubber 16 conductive particles 17 paste 18 silicone rubber sheet 19 aluminum foil 20 conductive elastic layer with projection 21 copper foil sheet 22 conductive elastic layer with step 23 Cavity substrate 24 Gel-like substance or water bed 25 Aluminum sheet 26 Conductive elastic layer 27 Inspection device press part (upper) 28 Anisotropic conductivity inspection jig 29 Fixing pin 30 Rubber head 31 Inspection device press part (lower)

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G01R 31/02 G01R 31/02 H01L 21/66 H01L 21/66 D Fターム(参考) 2G011 AA16 AA21 AB06 AB08 AC14 AE01 2G014 AA13 AB59 AC06 AC10 4F100 AB01B AB16 AB17 AB25 AK01C AK52 AN00A AR00A AR00B AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C CA21A DD01A DE01A DJ02C EH46 EH71 GB43 JG01 JG01A JG01B JK07A JK07C JL00 JM01C JM02B YY00A 4M106 AD03 AD08 CA16 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G01R 31/02 G01R 31/02 H01L 21/66 H01L 21/66 DF term (reference) 2G011 AA16 AA21 AB06 AB08 AC14 AE01 2G014 AA13 AB59 AC06 AC10 4F100 AB01B AB16 AB17 AB25 AK01C AK52 AN00A AR00A AR00B AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C CA21A DD01A DE01A DJ02C EH46 EH71 GB43 JG01 JG01A JG01B JK07A JK07C JL00 JM01A08M08A

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)導電性弾性体層、(B)(A)以
外の導電体中間層および(C)(A)以外の弾性体層か
らなることを特徴とする導電性積層体。
1. A conductive laminate comprising (A) a conductive elastic layer, (B) a conductive intermediate layer other than (A), and (C) an elastic layer other than (A).
【請求項2】 (A)導電性弾性体層が、弾性を有する
高分子の中に導電性粒子が配合されたものである請求項
1記載の導電性積層体。
2. The conductive laminate according to claim 1, wherein (A) the conductive elastic layer is formed by blending conductive particles in a polymer having elasticity.
【請求項3】 (A)導電性弾性体層が、導電性粒子と
ゴム状重合体から構成され、導電性粒子の体積分率が5
〜50%であることを特徴とする請求項1記載の導電性
積層体。
3. The conductive elastic layer (A) is composed of conductive particles and a rubber-like polymer, and the conductive particles have a volume fraction of 5%.
2. The conductive laminate according to claim 1, wherein the amount is from 50% to 50%. 3.
【請求項4】 (A)導電性弾性体層が、異方導電性ゴ
ム状重合体であることを特徴とする請求項1記載の導電
性積層体。
4. The conductive laminate according to claim 1, wherein (A) the conductive elastic layer is an anisotropic conductive rubbery polymer.
【請求項5】 (A)導電性弾性体層の表面が、接続対
象物の凹凸に対応した凹凸を有することを特徴とする請
求項1記載の導電性積層体。
5. The conductive laminate according to claim 1, wherein (A) the surface of the conductive elastic layer has irregularities corresponding to irregularities of the connection object.
【請求項6】 (B)導電体中間層が、金属薄層である
ことを特徴とする請求項1記載の導電性積層体。
6. The conductive laminate according to claim 1, wherein (B) the conductive intermediate layer is a thin metal layer.
【請求項7】 弾性体層が、高分子弾性体、ゲル組成
物、および気体もしくは液体を内包する中空体から選ば
れる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記
載の導電性積層体。
7. The conductive laminate according to claim 1, wherein the elastic layer is at least one selected from a polymer elastic body, a gel composition, and a hollow body containing a gas or a liquid. .
【請求項8】 請求項1記載の導電性積層体と回路基板
と検査装置とを電気的に接続したことを特徴とする回路
基板検査装置。
8. A circuit board inspection apparatus, wherein the conductive laminate according to claim 1 is electrically connected to a circuit board and an inspection apparatus.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011049337A (en) * 2009-08-27 2011-03-10 Fuji Electric Systems Co Ltd Method of manufacturing semiconductor device

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