JP2000003775A - Chip type surge absorber and manufacture thereof - Google Patents

Chip type surge absorber and manufacture thereof

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JP2000003775A
JP2000003775A JP16531498A JP16531498A JP2000003775A JP 2000003775 A JP2000003775 A JP 2000003775A JP 16531498 A JP16531498 A JP 16531498A JP 16531498 A JP16531498 A JP 16531498A JP 2000003775 A JP2000003775 A JP 2000003775A
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JP
Japan
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discharge
surge absorber
chip
type surge
forming
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JP16531498A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Tanaka
芳幸 田中
Takahiro Nakamoto
隆裕 中元
Nobuya Saruwatari
暢也 猿渡
Masami Koshimura
正己 越村
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip type surge absorber, having a discharge chamber sealed with the gas and having an improved lifetime by preventing the unevenness of product dimension for facilitating the sealing, and forming a main discharge electrode for performing the main discharge separately from a microgap for triggering the discharge. SOLUTION: This chip type surge absorber 10 is formed by laminating an aluminum board 1, formed with discharge electrodes 2 with a discharge gap 2A and an aluminum board 3 formed with a groove 4, and sealing both end surfaces with terminal electrodes 6A, 6B. With this structure, although the surge absorber 10 is formed into a chip shape, a microgap (the discharge gap 2A of the insulating board 2) triggers discharge, and the two-stage discharge that the discharge is extended to the sealing electrodes in the creeping discharge condition and that the arc discharge is formed between the sealing electrodes (terminal electrodes 11) can be performed. Discharge delay is thereby restricted, and moreover deterioration of the microgap can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、サージ電圧を吸収
するサージアブソーバ及びその製造方法に係るものであ
り、詳しくは対面配置された2枚の絶縁性基板間に、1
対の放電電極と、この放電電極間の放電間隙に臨む密閉
された放電室とを有するチップ型サージアブソーバ及び
その製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surge absorber for absorbing a surge voltage and a method of manufacturing the surge absorber.
The present invention relates to a chip-type surge absorber having a pair of discharge electrodes and a sealed discharge chamber facing a discharge gap between the discharge electrodes, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び先行技術】電話機、モデムなど電子機
器が通信線と接続する部分、或いはCRT駆動回路な
ど、雷サージや静電気等の異常電圧による電撃を受けや
すい部分に接続し、異常電圧によって電子機器が破壊さ
れるのを防ぐために使用されるサージアブソーバとして
は、次のようなものがある。
2. Description of the Related Art An electronic device such as a telephone or a modem is connected to a communication line, or a CRT drive circuit or the like which is susceptible to electric shock due to abnormal voltage such as lightning surge or static electricity. The following are examples of surge absorbers used to prevent equipment from being destroyed.

【0003】 図4に示す如く、円柱形碍子41の表
面に、マイクロギャップ42Aを有する導電性皮膜42
を形成したアブソーバ素子の両端にキャップ電極43を
かぶせたものをスラグリード45を用いてガラス管46
内に封入ガスで封止したガラス管封止型マイクロギャッ
プ式サージアブソーバ。 図5に示す如く、放電間隙をあけて1対の放電電極
51A,51Bを板面に形成したアルミナ基板51と、
放電室形成用の開孔52Aが板央部に形成されたアルミ
ナ基板52と開孔のないアルミナ基板53とを(図5
(a))、この順で、ガラスペーストを用いて積層一体
化すると共に放電室内を封入ガス雰囲気としてサージア
ブソーバ素子54とし、その両端面に端子電極55A,
55Bを形成したチップ型サージアブソーバ(図5
(b))。 図6に示す如く、板面に放電電極61Aを形成した
アルミナ基板61と、板面に放電電極63Aを形成した
アルミナ基板63とを、放電室形成用の開孔62Aが板
央部に形成されたアルミナ基板62を介して(図6
(a))、ガラスペーストを用いて積層一体化すると共
に放電室内を封入ガス雰囲気としてサージアブソーバ素
体64とし、その両端面に端子電極65A,65Bを形
成したチップ型サージアブソーバ(図6(b))。 図7に示す如く、アルミナ基板71の一方の板面に
放電電極71A,71Bと端子電極72A,72Bを形
成し、大気中で放電させるチップ型サージアブソーバ。
As shown in FIG. 4, a conductive film 42 having a micro gap 42 A is formed on the surface of a cylindrical insulator 41.
A glass tube 46 with cap electrodes 43 over both ends of an absorber element formed with
Glass tube sealed type micro gap type surge absorber sealed inside with sealed gas. As shown in FIG. 5, an alumina substrate 51 having a pair of discharge electrodes 51A and 51B formed on a plate surface with a discharge gap therebetween;
An alumina substrate 52 having an opening 52A for forming a discharge chamber formed in the center of the plate and an alumina substrate 53 having no opening (FIG. 5)
(A)) In this order, the surge absorber 54 is laminated and integrated using a glass paste, and the discharge chamber is set as a sealed gas atmosphere to form a surge absorber element 54.
55B formed chip type surge absorber (Fig. 5
(B)). As shown in FIG. 6, an alumina substrate 61 having a discharge electrode 61A formed on a plate surface and an alumina substrate 63 having a discharge electrode 63A formed on a plate surface are provided with an opening 62A for forming a discharge chamber in the center of the plate. Through the alumina substrate 62 (see FIG. 6).
(A)), a chip-type surge absorber (FIG. 6 (b)), which is laminated and integrated using a glass paste, forms a surge absorber body 64 in a discharge chamber as a sealed gas atmosphere, and has terminal electrodes 65A and 65B formed on both end surfaces thereof. )). As shown in FIG. 7, a chip-type surge absorber in which discharge electrodes 71A and 71B and terminal electrodes 72A and 72B are formed on one plate surface of an alumina substrate 71 and discharged in the atmosphere.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記〜のサージア
ブソーバでは、それぞれ次のような問題がある。
The above-mentioned surge absorbers have the following problems.

【0005】のガラス管封止型マイクロギャップ式サ
ージアブソーバでは、マイクロギャップで放電をトリガ
するために放電遅れがなく、しかも主放電をキャップ電
極間に形成するためにマイクロギャップの傷みが少なく
なり寿命特性に優れるという長所を有する反面、ガラス
管内にアブソーバ素子と封入ガスを封入して作製するた
め、製品形状は円筒状で、表面実装には不向きである。
また、このようにガラス管内に素子を封入するもので
は、小型化が図れず、長さ3mm以下のものを作製する
ことは非常に困難である。
[0005] In the glass-tube sealed micro-gap surge absorber, there is no discharge delay because the micro-gap triggers a discharge, and the main gap is formed between the cap electrodes. Although it has the advantage of excellent characteristics, it is manufactured by enclosing an absorber element and an encapsulating gas in a glass tube, so that the product has a cylindrical shape and is not suitable for surface mounting.
Further, in the case where the element is sealed in the glass tube in this manner, miniaturization cannot be achieved, and it is very difficult to manufacture a device having a length of 3 mm or less.

【0006】のチップ型サージアブソーバのように、
開孔を有する基板を用いて放電室を形成する場合、基板
に開孔を形成するための金型作製にコストが非常にかか
り、また開孔の大きさを変更するにも金型を作製し直さ
ねばならず、形状変更に大きなコストが必要となる。ま
た、3枚の基板を重ねるため、封着後の基板の重なり具
合にずれが生じ、外形寸法のバラツキが大きなものとな
る傾向がある。更には、構造上、主放電もマイクロギャ
ップ上で形成されることとなるため、マイクロギャップ
の傷みが激しく、寿命特性の面で問題がある。
[0006] Like the chip type surge absorber of
When a discharge chamber is formed using a substrate having an opening, it is very costly to manufacture a mold for forming the opening in the substrate, and a mold is also required to change the size of the opening. It has to be fixed, and changing the shape requires a large cost. Further, since the three substrates are overlapped, there is a tendency that the overlapping state of the substrates after the sealing is displaced, and the external dimensions vary greatly. Furthermore, since the main discharge is also formed on the microgap due to the structure, the microgap is severely damaged and there is a problem in the life characteristics.

【0007】のチップ型サージアブソーバでは、放電
空間に臨むように対向する放電電極をただ配置しただけ
であるため、電界電子放出などによる放電をトリガする
機構がない。その結果、インパルスに対する放電遅れが
十分に小さくならず、サージ吸収性能がマイクロギャッ
プ式サージアブソーバに比べて劣る。しかも、3枚の基
板を重ねるため、のチップ型サージアブソーバと同
様、外形寸法のバラツキの問題がある。
[0007] In the chip type surge absorber, since only the facing discharge electrodes are arranged so as to face the discharge space, there is no mechanism for triggering discharge due to field electron emission or the like. As a result, the discharge delay with respect to the impulse is not sufficiently reduced, and the surge absorption performance is inferior to that of the micro gap type surge absorber. In addition, since three substrates are stacked, there is a problem of variation in external dimensions as in the case of the chip-type surge absorber.

【0008】のチップ型サージアブソーバでは、外形
寸法のバラツキは小さいが、大気中で放電するため、大
気の湿度、圧力、塵埃の影響を受けて放電開始電圧が安
定しない。
[0008] In the chip type surge absorber described above, the variation in external dimensions is small, but the discharge occurs in the atmosphere, so that the discharge starting voltage is not stabilized under the influence of humidity, pressure and dust of the atmosphere.

【0009】本発明はこのような問題点を解決し、封入
ガス雰囲気の放電室を有するチップ型サージアブソーバ
であって、製品寸法のバラツキを防止して、容易に封止
を行うことができ、しかも、放電をトリガするマイクロ
ギャップとは別に、主放電を行う主放電電極を形成する
ことができ、寿命特性を向上させることができるチップ
型サージアブソーバ及びその製造方法を提供することを
目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems, and is a chip-type surge absorber having a discharge chamber in a sealed gas atmosphere. The chip-type surge absorber can prevent variations in product dimensions and can be easily sealed. Moreover, it is an object of the present invention to provide a chip-type surge absorber capable of forming a main discharge electrode for performing a main discharge separately from a micro gap for triggering a discharge and improving a life characteristic, and a method of manufacturing the same. .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明のチップ型サージ
アブソーバは、積層配置された第1及び第2の絶縁性基
板と、該第1の絶縁性基板板面のうち、該第2の絶縁性
基板に当接する板面に、放電間隙をあけて設けられた1
対の放電電極と、該第2の絶縁性基板の板面のうち該第
1の絶縁性基板に当接する板面に、前記放電間隙に臨む
ように設けられた放電室形成用の溝と、該第1及び第2
の絶縁性基板の積層体の対向する1対の端面に設けられ
た端子電極とを備えてなるチップ型サージアブソーバで
あって、前記溝は、前記第2の絶縁性基板の該1対の端
面に達するように設けられており、前記端子電極は前記
放電電極に導通すると共に、該溝の両端面を封止するよ
うに設けられていることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a chip-type surge absorber of the present invention comprising first and second insulating substrates arranged in a stack, and the second insulating substrate of the first insulating substrate plate surface. 1 provided with a discharge gap on the plate surface in contact with the conductive substrate
A pair of discharge electrodes, a discharge chamber forming groove provided to face the discharge gap on a plate surface of the second insulating substrate that contacts the first insulating substrate, The first and second
And a terminal electrode provided on a pair of opposed end faces of the laminated body of the insulating substrate, wherein the groove is formed on the pair of end faces of the second insulating substrate. , And the terminal electrode is provided so as to be electrically connected to the discharge electrode and to seal both end surfaces of the groove.

【0011】本発明のチップ型サージアブソーバでは、
第2の絶縁性基板に形成した溝により放電室を形成する
ことができる。しかも、チップ形状でありながらマイク
ロギャップ(第1の絶縁性基板の放電間隙)で放電をト
リガし、沿面放電の形態で放電を封止電極まで伸展さ
せ、封止電極(端子電極)間でアーク放電を形成する2
段階放電を行うことができるため、放電遅れが小さく、
しかもマイクロギャップの劣化を防止して寿命特性を向
上させることができる。
In the chip type surge absorber of the present invention,
A discharge chamber can be formed by the groove formed in the second insulating substrate. In addition, the discharge is triggered by the micro gap (discharge gap of the first insulating substrate) in spite of the chip shape, the discharge is extended to the sealing electrode in the form of creeping discharge, and the arc is formed between the sealing electrodes (terminal electrodes). Forming a discharge 2
Because step discharge can be performed, discharge delay is small,
In addition, it is possible to prevent deterioration of the micro gap and improve the life characteristics.

【0012】この本発明のチップ型サージアブソーバ
は、部品点数(基板数)が少ないため、外形寸法のバラ
ツキを抑えて精度良く容易に製造することができ、しか
も、放電空間の寸法を変更する場合には、溝を形成する
ための工具の幅を調整するだけで良く、容易に変更する
ことができる。
Since the chip-type surge absorber of the present invention has a small number of components (the number of boards), it can be manufactured easily with high accuracy while suppressing variations in external dimensions. In this case, it is only necessary to adjust the width of the tool for forming the groove, and the width can be easily changed.

【0013】このような本発明のチップ型サージアブソ
ーバは、薄板状の第1の絶縁性基板の一方の板面に放電
電極形成用の導電性膜及び放電間隙用のマイクロギャッ
プを形成する工程、薄板状の第2の絶縁性基板の一方の
板面に接着剤層を形成すると共に、放電室形成用の複数
の溝を並列して形成する工程、該第1の絶縁性基板と第
2の絶縁性基板とを、該導電性膜形成面と溝形成面とを
対面させて接着して積層体とする工程、該積層体を、前
記溝と直交する方向に短冊状に切断して角柱体を得る工
程、該角柱体を、その長手方向と直交する方向に切断し
てチップを得る工程、該チップの前記溝が露出した面に
端子電極を形成する工程を備える。本発明のチップ型サ
ージアブソーバの製造方法により、高い寸法精度及び高
い生産性にて容易かつ効率的に製造することができる。
The chip type surge absorber according to the present invention comprises a step of forming a conductive film for forming a discharge electrode and a micro gap for forming a discharge gap on one surface of a thin plate-shaped first insulating substrate; Forming an adhesive layer on one plate surface of the thin second insulating substrate and forming a plurality of grooves for forming a discharge chamber in parallel; A step of bonding an insulating substrate and the conductive film forming surface and the groove forming surface to face each other to form a laminate, cutting the laminate into strips in a direction orthogonal to the grooves, and forming a prismatic body. , Cutting the prism into a direction orthogonal to the longitudinal direction to obtain a chip, and forming a terminal electrode on the surface of the chip where the groove is exposed. According to the method for manufacturing a chip-type surge absorber of the present invention, it is possible to easily and efficiently manufacture the chip-type surge absorber with high dimensional accuracy and high productivity.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1,2は本発明のチップ型サージアブソ
ーバの実施の形態を示す図であって、各々、(a)図は
斜視図、(b)図は分解斜視図、(c)図は(a)図の
C−C線に沿う断面図である。
FIGS. 1 and 2 are views showing an embodiment of a chip type surge absorber according to the present invention. FIG. 1 (a) is a perspective view, FIG. 1 (b) is an exploded perspective view, and FIG. (A) It is sectional drawing which follows CC line | wire of a figure.

【0016】図1,2において、第1の絶縁性基板とな
るアルミナ基板1であり、一方の板面に放電間隙2Aを
あけて導電性膜よりなる放電電極2が形成されている。
また、第2の絶縁性基板となるアルミナ基板3の一方の
板面には、放電室形成用の溝4がアルミナ基板3の両端
面3A,3Bに達するように形成されている。
In FIGS. 1 and 2, an alumina substrate 1 serving as a first insulating substrate has a discharge electrode 2 made of a conductive film formed on one plate surface with a discharge gap 2A.
On one surface of the alumina substrate 3 serving as a second insulating substrate, a discharge chamber forming groove 4 is formed so as to reach both end surfaces 3A and 3B of the alumina substrate 3.

【0017】図1,2のチップ型サージアブソーバ1
0,10Aは、このようなアルミナ基板1とアルミナ基
板3とを、アルミナ基板1の放電電極2の放電間隙2A
がアルミナ基板3の溝4に臨むように対面させて積層し
てなる積層体5の両端面に、端子電極を形成したもので
あるが、図1に示すチップ型サージアブソーバ10は、
この端子電極6A,6Bは、ディッピング等により導電
性ペーストを塗布することにより形成されている。ディ
ッピングにより形成された端子電極6A,6Bでは、積
層体5の溝4の両端から、導電性ペーストが溝4内に侵
入することにより導電性の突出部7A,7Bが形成さ
れ、この突出部7A,7Bが放電の主電極としての役割
を果たす。
The chip type surge absorber 1 shown in FIGS.
0, 10A is such that the alumina substrate 1 and the alumina substrate 3 are separated from each other by a discharge gap 2A
Are formed with terminal electrodes on both end surfaces of a laminated body 5 which is laminated so as to face the groove 4 of the alumina substrate 3. The chip type surge absorber 10 shown in FIG.
The terminal electrodes 6A and 6B are formed by applying a conductive paste by dipping or the like. In the terminal electrodes 6A, 6B formed by dipping, conductive protrusions 7A, 7B are formed from both ends of the groove 4 of the laminated body 5 by the conductive paste entering the groove 4, and the protrusions 7A are formed. , 7B serve as the main electrodes of the discharge.

【0018】従って、図1のチップ型サージアブソーバ
10では、放電電極2の放電間隙2Aで良好な応答性の
もとに放電をトリガし、この放電を沿面放電の形態で突
出部7A,7Bにまで伸展させ、この突出部7A,7B
間でアーク放電を行うことで、放電電極2の放電間隙2
Aの劣化を防止する。
Therefore, in the chip-type surge absorber 10 shown in FIG. 1, a discharge is triggered with good responsiveness in the discharge gap 2A of the discharge electrode 2, and this discharge is applied to the protrusions 7A and 7B in the form of surface discharge. And extend these projections 7A, 7B
By performing arc discharge between the discharge electrodes 2, the discharge gap 2
A is prevented from deteriorating.

【0019】図2に示すチップ型サージアブソーバ10
Aは、積層体5の両端にキャップ電極8A,8Bを被着
することにより端子電極を形成したものである。このキ
ャップ電極8A,8Bの溝4に対面する部分には、主放
電電極となる突起9A,9Bが形成されており、この突
起9A,9Bにより、図1に示すチップ型サージアブソ
ーバ10と同様の効果を得ることができる。
The chip type surge absorber 10 shown in FIG.
In A, terminal electrodes are formed by attaching cap electrodes 8A and 8B to both ends of the laminate 5. Protrusions 9A and 9B serving as main discharge electrodes are formed in portions of the cap electrodes 8A and 8B facing the groove 4, and the projections 9A and 9B are used to form the same as the chip type surge absorber 10 shown in FIG. The effect can be obtained.

【0020】図1に示す突出部7A,7Bの溝4内への
突出幅W及び図2に示す突起9A,9Bの溝4内への突
出幅Wは、0.1〜0.5mm程度とするのが好まし
い。ただし、この突出部はなくても、主アーク放電を形
成することができ、従って、W=0であっても良い。
The protrusion width W of the protrusions 7A, 7B shown in FIG. 1 into the groove 4 and the protrusion width W of the protrusions 9A, 9B shown in FIG. 2 into the groove 4 are about 0.1 to 0.5 mm. Is preferred. However, the main arc discharge can be formed without the protrusion, and therefore, W = 0 may be employed.

【0021】なお、図1,2において、11は、アルミ
ナ基板1の板面に形成された放電電極と端子電極との導
通を図るために形成された導電性膜であり、このチップ
型サージアブソーバ10,10Aでは、積層体5の両端
面をディッピングすることにより導電性膜11を形成し
たため、導電性膜11はアルミナ基板3側にも形成され
ている。
In FIGS. 1 and 2, reference numeral 11 denotes a conductive film formed on the plate surface of the alumina substrate 1 so as to establish conduction between a discharge electrode and a terminal electrode. In 10 and 10A, since the conductive film 11 was formed by dipping both end surfaces of the laminated body 5, the conductive film 11 is also formed on the alumina substrate 3 side.

【0022】また、図2において、12は積層体5の両
端面にキャップ電極8A,8Bを気密封止状態で接着す
るためのガラス、金属ロウ材等の接着層である。
In FIG. 2, reference numeral 12 denotes an adhesive layer such as a glass or metal brazing material for bonding the cap electrodes 8A and 8B to both end surfaces of the laminated body 5 in a hermetically sealed state.

【0023】このようなチップ型サージアブソーバは、
予め小さく切断されたアルミナ基板を用い、放電電極や
溝を形成して接着し、得られた積層体に端子電極を形成
することにより製造することもできるが、本発明のチッ
プ型サージアブソーバの製造方法に従って製造すること
により、均一寸法のチップ型サージアブソーバを生産性
良く製造することができる。
Such a chip type surge absorber is
It can also be manufactured by forming and bonding discharge electrodes and grooves using an alumina substrate that has been cut into small pieces in advance, and forming terminal electrodes on the obtained laminate. However, the manufacture of the chip-type surge absorber of the present invention is also possible. By manufacturing according to the method, a chip-type surge absorber having uniform dimensions can be manufactured with high productivity.

【0024】次に、本発明のチップ型サージアブソーバ
の製造方法の実施の形態を図3を参照して説明する。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a chip type surge absorber according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0025】まず、2枚の薄板状のアルミナ基板21,
22を準備し、一方のアルミナ基板21の板面にガラス
ペースト等の接着剤層23を形成した後、この面に放電
室形成用の溝24を複数本形成する(図3(a))。こ
の溝24は、ダイヤモンドソーなどを用いて容易に形成
することができ、工具の幅を変更することにより、溝幅
の変更も容易に行える。なお、溝の深さは基板の厚さの
1/3〜2/3程度に形成するのが好ましい。
First, two thin alumina substrates 21,
After preparing an adhesive layer 22 such as a glass paste on the plate surface of one alumina substrate 21, a plurality of discharge chamber forming grooves 24 are formed on this surface (FIG. 3A). The groove 24 can be easily formed using a diamond saw or the like, and the groove width can be easily changed by changing the width of the tool. Note that the depth of the groove is preferably formed to be about 1/3 to 2/3 of the thickness of the substrate.

【0026】また、他方のアルミナ基板22の板面に、
上記溝23に対応するように電極膜25を形成し、この
電極膜25にマイクロギャップ(図示せず)を形成する
(図3(b))。
The surface of the other alumina substrate 22 is
An electrode film 25 is formed so as to correspond to the groove 23, and a micro gap (not shown) is formed in the electrode film 25 (FIG. 3B).

【0027】そして、このアルミナ基板21とアルミナ
基板22とを、溝24形成面と電極膜25形成面とを対
面させて当接し、大気中又はN2,Ar等の不活性ガス
中で焼成することにより接着一体化する(図3
(c))。
Then, the alumina substrate 21 and the alumina substrate 22 are brought into contact with the surface on which the groove 24 is formed and the surface on which the electrode film 25 is formed facing each other, and are fired in the air or in an inert gas such as N 2 or Ar. (Fig. 3
(C)).

【0028】次いで、この積層体26を溝24と直交す
る方向に切断して角柱体27とし(図3(d))、この
角柱体27の溝23が露出している両側面に、導電性ペ
ーストの塗布又は断面コ字形の電極板の接合により、端
子電極用の電極部28を形成する(図3(e))。
Next, the laminated body 26 is cut in a direction perpendicular to the groove 24 to form a prism 27 (FIG. 3D), and conductive films are formed on both sides of the prism 27 where the groove 23 is exposed. An electrode portion 28 for a terminal electrode is formed by applying paste or joining an electrode plate having a U-shaped cross section (FIG. 3E).

【0029】この電極部28の形成に当っては、溝24
内に封入ガス(空気であっても良いが、好ましくは封入
ガス)を満たして焼成する。
In forming the electrode portion 28, the grooves 24
The inside is filled with a filling gas (air may be used, but preferably filling gas), and firing is performed.

【0030】その後、この電極部28を形成した角柱体
27を長手方向に直交する方向に切断してチップ型サー
ジアブソーバ10又は10Aを製造する(図3
(f))。
Thereafter, the prism 27 having the electrode portion 28 formed thereon is cut in a direction orthogonal to the longitudinal direction to manufacture the chip type surge absorber 10 or 10A (FIG. 3).
(F)).

【0031】なお、本発明において、絶縁性基板として
は、絶縁性で気密性の高いものであれば良く、アルミナ
基板の他、コランダム、ムライト、コランダムムライ
ト、アクリル、ベークライト等の基板を用いることがで
きる。通常の場合、この基板としては厚さ0.3〜1.
0mm程度のものが用いられる。
In the present invention, any insulating substrate may be used as long as it is insulative and airtight. In addition to an alumina substrate, a substrate such as corundum, mullite, corundum mullite, acrylic, or bakelite may be used. it can. Usually, this substrate has a thickness of 0.3-1.
Those having a thickness of about 0 mm are used.

【0032】また、図3に示す方法において、溝24は
幅0.1〜1.0mm程度のものを0.1〜3mm程度
のピッチで形成するのが好ましく、放電電極用の電極膜
25は、幅0.1〜1.0mm程度のものを、溝24と
同等のピッチで形成するのが好ましい。
In the method shown in FIG. 3, the grooves 24 preferably have a width of about 0.1 to 1.0 mm and are formed at a pitch of about 0.1 to 3 mm. It is preferable to form a groove having a width of about 0.1 to 1.0 mm at the same pitch as the groove 24.

【0033】この放電電極用の電極膜25は、Ti,T
iN,Ta,W,SiC,SnO2,BaAl,Nb,
Si,C、Au,Ag,Pt,Pd,La或いはこれら
の2種以上の混合物等で、スパッタ法、蒸着法、イオン
プレーティング法、印刷法、焼付法等により、膜厚0.
1〜20μm程度に形成するのが好ましい。
The electrode film 25 for the discharge electrode is made of Ti, T
iN, Ta, W, SiC, SnO 2 , BaAl, Nb,
Si, C, Au, Ag, Pt, Pd, La, or a mixture of two or more of them, etc., having a film thickness of 0 .0 by sputtering, vapor deposition, ion plating, printing, printing, or the like.
It is preferable that the thickness be about 1 to 20 μm.

【0034】また、マイクロギャップは、レーザーカッ
ト、スクリーンマスク、エッチング等で形成することが
でき、通常、0.1μm〜2.8mmの幅に、電極膜2
5の1本当り、1〜100本形成される。
The microgap can be formed by laser cutting, screen mask, etching, etc., and usually, the electrode film 2 has a width of 0.1 μm to 2.8 mm.
5 to 1 to 100 are formed.

【0035】端子電極を導電性ペーストの塗布により形
成する場合は、Ag,Pt,Au,Pd,Pb,Sn,
Ni,Fe,Cr,Al,C,Ru,Rh或いはこれら
の2種以上の混合物よりなる導電性ペーストを塗布して
大気中(Ag,Pt,Au,Pdの場合)、或いはN2
等の不活性ガス中(Ag,Pt,Au,Pd,Sn,N
i,Cr,Al,C,Ru,Rhの場合)で加熱すれば
良い。なお、このときの加熱は、トンネル炉、バッチ炉
のいずれでも良いが、封入時に密閉状態になり、チップ
内の圧力が温度上昇とともに上昇しても炉内の圧力も同
様に上昇する炉が好適である。
When the terminal electrodes are formed by applying a conductive paste, Ag, Pt, Au, Pd, Pb, Sn,
A conductive paste made of Ni, Fe, Cr, Al, C, Ru, Rh or a mixture of two or more of these is applied to the atmosphere (in the case of Ag, Pt, Au, Pd) or N 2
In an inert gas such as (Ag, Pt, Au, Pd, Sn, N
i, Cr, Al, C, Ru, Rh). The heating at this time may be performed in either a tunnel furnace or a batch furnace. However, it is preferable to use a furnace in which the inside of the chip is sealed and the pressure in the furnace also rises as the temperature rises as the temperature rises. It is.

【0036】一方、端子電極をキャップ電極で形成する
場合には、金属製のキャップ電極をかぶせて導電性接着
剤で加熱接着すれば良い。この場合の加熱炉としても、
上記と同様のものを用いることができる。
On the other hand, when the terminal electrode is formed by a cap electrode, the terminal electrode may be covered with a metal cap electrode and bonded by heating with a conductive adhesive. As a heating furnace in this case,
The same thing as the above can be used.

【0037】なお、封入ガスとしては、He,N2,A
r,Ne,Xe,SF6,CO2,H2等の1種を単独
で、或いは2種以上を混合して使用することができる。
また、この封入ガスの圧力は、通常の場合、100〜1
000Torr程度とされる。
The gas to be filled is He, N 2 , A
One of r, Ne, Xe, SF 6 , CO 2 , H 2 and the like can be used alone or as a mixture of two or more.
In addition, the pressure of the charged gas is usually 100 to 1
2,000 Torr.

【0038】[0038]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.

【0039】実施例1 3mm×1.5mm×0.5mm厚さのアルミナ基板
1,3を2枚用意し、一方のアルミナ基板1の板面に、
スパッタ法でSnO2膜よりなる放電電極2(膜厚1.
0μm)を形成し、中央部に幅50μmの放電間隙2A
を形成した。また、他方のアルミナ基板3の板面に幅
0.5mmの溝4を形成し、このアルミナ基板3の溝4
形成板面にガラスペーストを塗布し、もう一方のアルミ
ナ基板1を当接して800℃で焼成することにより一体
化した。
Example 1 Two alumina substrates 1 and 3 each having a thickness of 3 mm × 1.5 mm × 0.5 mm were prepared.
Consisting SnO 2 film by sputtering the discharge electrode 2 (film thickness 1.
0 μm), and a discharge gap 2A having a width of 50 μm at the center.
Was formed. A groove 4 having a width of 0.5 mm is formed on the surface of the other alumina substrate 3.
A glass paste was applied to the surface of the forming plate, and the other alumina substrate 1 was brought into contact with the glass paste and fired at 800 ° C. to be integrated.

【0040】その後、ディッピングによりAg導電性ペ
ーストを塗布して端子電極6A,6Bを形成すると共
に、溝4内にXeガス(800Torr)を封入してチ
ップ型サージアブソーバ10を得た。このチップ型サー
ジアブソーバ10の端子電極6A,6Bの溝4内への突
出部7A,7Bの突出幅Wは0.5mmである。
Thereafter, an Ag conductive paste was applied by dipping to form terminal electrodes 6A and 6B, and Xe gas (800 Torr) was sealed in the groove 4 to obtain a chip type surge absorber 10. The protrusion width W of the protrusions 7A, 7B of the terminal electrodes 6A, 6B of the chip type surge absorber 10 into the groove 4 is 0.5 mm.

【0041】得られたチップ型サージアブソーバ10の
放電特性及び外形寸法のバラツキ等を調べ、結果を表1
に示した。なお、直流放電開始電圧(Vs)はDC電圧
を印加し放電電流が1mAになった時点の電圧を求め
た。また、インパルス放電開始電圧(Vimp)は1.
2/50μs、5KVの電圧を印加して放電を開始する
電圧である。
The obtained chip type surge absorber 10 was examined for variations in discharge characteristics, external dimensions, and the like.
It was shown to. In addition, the DC discharge starting voltage (Vs) was obtained by applying the DC voltage and determining the voltage at the time when the discharge current became 1 mA. The impulse discharge starting voltage (Vimp) is 1.
2/50 μs, a voltage at which a voltage of 5 KV is applied to start discharging.

【0042】また、寿命特性は500回以上の電圧印加
でも放電開始電圧(Vs)が上昇しないものを良好とし
た。加工性は形状変更の容易さを評価した。
The life characteristics were determined to be good if the discharge starting voltage (Vs) did not increase even when the voltage was applied 500 times or more. The workability evaluated the ease of shape change.

【0043】実施例2 実施例1において、端子電極の形成に当り、導電性ペー
ストの塗布の代りに、Fe−Ni−Cr製キャップ電極
8A,8Bをガラスペーストで気密接着したこと以外
は、同様にしてチップ型サージアブソーバ10Aを製造
し、同様に評価を行って、結果を表1に示した。なお、
このチップ型サージアブソーバ10Aのキャップ電極8
A,8Bの突起9A,9Bの溝4内への突出幅Wは0.
5mmである。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the cap electrodes 8A and 8B made of Fe—Ni—Cr were hermetically bonded with a glass paste instead of applying the conductive paste in forming the terminal electrodes. The chip type surge absorber 10A was manufactured in the same manner as above, and the evaluation was performed in the same manner. The results are shown in Table 1. In addition,
Cap electrode 8 of this chip type surge absorber 10A
A, the projection width W of the projections 9A, 9B of the projections 9A, 9B into the groove 4 is 0.
5 mm.

【0044】実施例3 図3に示す方法に従って、図1に示すチップ型サージア
ブソーバ10を製造した。
Embodiment 3 The chip type surge absorber 10 shown in FIG. 1 was manufactured according to the method shown in FIG.

【0045】まず、49.5mm×57.6mm×0.
5mm厚さのアルミナ基板21,22を2枚用意し、一
方のアルミナ基板21の板面にガラスペーストを塗布し
て接着剤層23を形成した後、幅0.5mmで深さ0.
25mmの溝24を1.5mmのピッチで33本形成し
た。また、他方のアルミナ基板22の板面にSnO2
(膜厚1.0μm)をスパッタ成膜して幅0.5mmの
電極膜25を1.5mmピッチで形成し、この電極膜2
5に対し、その延在方向に、3mmピッチで幅50μm
のマイクロギャップを1本ずつ形成した。
First, 49.5 mm × 57.6 mm × 0.
Two alumina substrates 21 and 22 having a thickness of 5 mm are prepared, and a glass paste is applied to the surface of one of the alumina substrates 21 to form an adhesive layer 23, and then a width of 0.5 mm and a depth of 0.
Thirty-three 25-mm grooves 24 were formed at a pitch of 1.5 mm. Further, an SnO 2 film (1.0 μm thick) is formed by sputtering on the plate surface of the other alumina substrate 22 to form electrode films 25 having a width of 0.5 mm at a pitch of 1.5 mm.
5 in the extending direction, 3 mm pitch and 50 μm width
Were formed one by one.

【0046】両アルミナ基板21,22を重ね合わせ、
大気中900℃に焼成して接着し、得られた積層体26
を幅3.0mmに切断して角柱体27を得、この角柱体
27の両側面にAg導電性ペーストを塗布して大気中で
加熱して電極部28を形成すると共に、Xe(800T
orr)を封入した。その後、この角柱体27を長さ
1.5mmのチップ状に切断してチップ型サージアブソ
ーバ10を得た。
The two alumina substrates 21 and 22 are overlapped,
The resulting laminate 26 is baked at 900 ° C. in the air and adhered.
Is cut into a width of 3.0 mm to obtain a prism 27, an Ag conductive paste is applied to both side surfaces of the prism 27, and heated in the air to form an electrode portion 28 and Xe (800T).
orr). Thereafter, the prism 27 was cut into a chip having a length of 1.5 mm to obtain a chip-type surge absorber 10.

【0047】このチップ型サージアブソーバ10につい
て、実施例1と同様に評価を行って結果を表1に示し
た。
This chip-type surge absorber 10 was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0048】なお、このチップ型サージアブソーバ10
の端子電極6A,6Bの溝4内への突出部7A,7Bの
突出幅Wは0.5mmである。
The chip type surge absorber 10
The protrusion width W of the protrusions 7A, 7B of the terminal electrodes 6A, 6B into the groove 4 is 0.5 mm.

【0049】実施例4 実施例3において、端子電極の形成に当り、導電性ペー
ストの塗布の代りに、Fe−Ni−Cr製断面コ字形の
電極板をガラスペーストで気密接着することによりキャ
ップ電極を取り付けたこと以外は、同様にしてチップ型
サージアブソーバ10Aを製造し、同様に評価を行っ
て、結果を表1に示した。なお、このチップ型サージア
ブソーバ10Aのキャップ電極8A,8Bの突起9A,
9Bの溝4内への突出幅Wは0.5mmである。
Example 4 In Example 3, when forming the terminal electrodes, instead of applying a conductive paste, an electrode plate having a U-shaped cross section made of Fe-Ni-Cr was hermetically bonded with a glass paste to form a cap electrode. A chip type surge absorber 10A was manufactured in the same manner as above except that was attached, and the evaluation was performed in the same manner. The results are shown in Table 1. The projections 9A of the cap electrodes 8A, 8B of the chip type surge absorber 10A,
The projection width W of the 9B into the groove 4 is 0.5 mm.

【0050】比較例1 図4に示すガラス管封止型マイクロギャップ式サージア
ブソーバを製造した。
Comparative Example 1 A glass tube sealed type microgap surge absorber shown in FIG. 4 was manufactured.

【0051】まず、アルミナ製円柱形碍子41(直径1
mm×長さ3mm)の表面にSiO2膜42を着膜し、
両端にキャップ電極43を圧入した。SiO2膜の中央
部分を、円周方向にカットして幅50μmのマイクロギ
ャップ42Aを形成し、アブソーバ素子とした。スラグ
リード45で素子を挟んだ状態で、ガラス管46内に挿
入し、ガラス管内をXe(800Torr)で封止し
た。
First, an alumina cylindrical insulator 41 (having a diameter of 1)
mm × 3 mm length), a SiO 2 film 42 is deposited on the surface,
Cap electrodes 43 were pressed into both ends. The central portion of the SiO 2 film was cut in the circumferential direction to form a microgap 42A having a width of 50 μm, which was used as an absorber element. The device was inserted into the glass tube 46 with the element sandwiched by the slag lead 45, and the inside of the glass tube was sealed with Xe (800 Torr).

【0052】得られたサージアブソーバについて実施例
1と同様に評価を行い、結果を表1に示した。
The obtained surge absorber was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0053】比較例2 図5に示すチップ型サージアブソーバを製造した。Comparative Example 2 A chip type surge absorber shown in FIG. 5 was manufactured.

【0054】3mm×1.5mm×0.5mm厚さのア
ルミナ基板51,52,53を3枚用意し、アルミナ基
板51には、幅50μmの放電間隙をあけて1対のSi
2膜よりなる放電電極51A,51Bを形成した。ま
た、アルミナ基板52には直径0.5mmの開孔52A
を形成した。そして、3枚のアルミナ基板51,52,
53をガラスペーストで加熱接着すると共にXe(80
0Torr)を封入し、更に端子電極55A,55Bを
形成した。
Three alumina substrates 51, 52 and 53 each having a thickness of 3 mm × 1.5 mm × 0.5 mm are prepared, and a pair of Si substrates are provided on the alumina substrate 51 with a discharge gap of 50 μm wide.
Discharge electrodes 51A and 51B made of an O 2 film were formed. The alumina substrate 52 has an opening 52A having a diameter of 0.5 mm.
Was formed. Then, three alumina substrates 51, 52,
53 is bonded by heating with a glass paste and Xe (80
0 Torr), and terminal electrodes 55A and 55B were further formed.

【0055】得られたチップ型サージアブソーバについ
て実施例1と同様にして評価を行って結果を表1に示し
た。
The obtained chip type surge absorber was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0056】比較例3 図6に示すチップ型サージアブソーバを製造した。Comparative Example 3 A chip type surge absorber shown in FIG. 6 was manufactured.

【0057】3mm×1.5mm×0.5mm厚さのア
ルミナ基板61,62,63を3枚用意し、アルミナ基
板62には直径0.5mmの開孔62Aを形成し、アル
ミナ基板61,63には、SiO2膜よりなる放電電極
61A,63Aを形成した。そして、3枚のアルミナ基
板61,62,63を比較例2と同様にして接着すると
共にXe(800Torr)を封入し、更に端子電極6
5A,65Bを形成した。
Three alumina substrates 61, 62, 63 having a thickness of 3 mm × 1.5 mm × 0.5 mm are prepared, and an aperture 62 A having a diameter of 0.5 mm is formed in the alumina substrate 62. On the other hand, discharge electrodes 61A and 63A made of a SiO 2 film were formed. Then, the three alumina substrates 61, 62, and 63 are bonded in the same manner as in Comparative Example 2, Xe (800 Torr) is sealed, and the terminal electrodes 6 are formed.
5A and 65B were formed.

【0058】得られたチップ型サージアブソーバについ
て実施例1と同様にして評価を行って結果を表1に示し
た。
The obtained chip-type surge absorber was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0059】比較例4 図7に示すチップ型サージアブソーバを製造した。Comparative Example 4 A chip type surge absorber shown in FIG. 7 was manufactured.

【0060】比較例2と同様にして放電電極71A,7
1Bを形成したアルミナ基板71に端子電極72A,7
2Bを形成した。
In the same manner as in Comparative Example 2, the discharge electrodes 71A and 71A
The terminal electrodes 72A, 7A are provided on the alumina substrate 71 on which 1B is formed.
2B was formed.

【0061】得られたチップ型サージアブソーバについ
て実施例1と同様にして評価を行って結果を表1に示し
た。
The obtained chip-type surge absorber was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】[0063]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のチップ型サ
ージアブソーバによれば、 チップ状であるため小型化が容易で実装性に優れ
る。 部品数が少ないため、外形寸法のバラツキを抑えて
精度良く製造することができる。 溝幅を調整することにより、放電室内の寸法を変更
することができ、加工性に優れる。 マイクロギャップで応答性良く放電をトリガし、そ
の後主放電電極でアーク放電を形成できるため、放電遅
れが小さく、しかも寿命特性にも優れる。 といった優れた効果を得ることができる。
As described in detail above, according to the chip-type surge absorber of the present invention, since it is in the form of a chip, it can be easily reduced in size and has excellent mountability. Since the number of components is small, it is possible to suppress variations in external dimensions and to manufacture with high accuracy. By adjusting the groove width, the dimensions inside the discharge chamber can be changed, resulting in excellent workability. Discharge can be triggered by the micro gap with good responsiveness, and then arc discharge can be formed by the main discharge electrode, so that the discharge delay is small and the life characteristics are excellent. Such an excellent effect can be obtained.

【0064】本発明のチップ型サージアブソーバの製造
方法によれば、このような本発明のチップ型サージアブ
ソーバを高い生産性にて、精度良く製造することができ
る。
According to the method of manufacturing the chip-type surge absorber of the present invention, such a chip-type surge absorber of the present invention can be manufactured with high productivity and high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のチップ型サージアブソーバの実施の形
態を示す図であって、(a)図は斜視図、(b)図は分
解斜視図、(c)図は(a)図のC−C線に沿う断面図
である。
FIG. 1 is a view showing an embodiment of a chip-type surge absorber according to the present invention, wherein FIG. 1 (a) is a perspective view, FIG. 1 (b) is an exploded perspective view, and FIG. It is sectional drawing which follows the -C line.

【図2】本発明のチップ型サージアブソーバの実施の形
態を示す図であって、(a)図は斜視図、(b)図は分
解斜視図、(c)図は(a)図のC−C線に沿う断面図
である。
FIG. 2 is a view showing an embodiment of a chip type surge absorber according to the present invention, wherein FIG. 2 (a) is a perspective view, FIG. 2 (b) is an exploded perspective view, and FIG. It is sectional drawing which follows the -C line.

【図3】本発明のチップ型サージアブソーバの製造方法
の実施の形態を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of a method for manufacturing a chip type surge absorber of the present invention.

【図4】比較例に係るサージアブソーバを示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a surge absorber according to a comparative example.

【図5】比較例に示すチップ型サージアブソーバを示す
斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a chip type surge absorber shown in a comparative example.

【図6】比較例に示すチップ型サージアブソーバを示す
斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a chip type surge absorber shown in a comparative example.

【図7】比較例に示すチップ型サージアブソーバを示す
斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a chip-type surge absorber shown in a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,3 アルミナ基板 2 放電電極 2A 放電間隙 4 溝 5 積層体 6A,6B 端子電極 7A,7B 突出部 8A,8B キャップ電極 9A,9B 突起 10,10A チップ型サージアブソーバ 11 導電性膜 12 接着層 21,22 アルミナ基板 23 接着剤層 24 溝 25 電極膜 26 積層体 27 角柱体 28 電極部 1,3 Alumina substrate 2 Discharge electrode 2A Discharge gap 4 Groove 5 Laminated body 6A, 6B Terminal electrode 7A, 7B Projection 8A, 8B Cap electrode 9A, 9B Projection 10,10A Chip type surge absorber 11 Conductive film 12 Adhesive layer 21 , 22 Alumina substrate 23 Adhesive layer 24 Groove 25 Electrode film 26 Laminated body 27 Prismatic body 28 Electrode part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 猿渡 暢也 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三 菱マテリアル株式会社電子技術研究所内 (72)発明者 越村 正己 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三 菱マテリアル株式会社電子技術研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Nobuya Saruwatari 2270 Yokose Yokoze-cho, Chichibu-gun, Saitama Prefecture Inside the Electrotechnical Laboratory of Mitsubishi Materials Corporation (72) Inventor Masami Koshimura 2270 Yokoze Yokoze-cho, Yokoze-cho, Chichibu-gun, Saitama Mitsubishi Materials Corporation

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 積層配置された第1及び第2の絶縁性基
板と、 該第1の絶縁性基板の板面のうち、該第2の絶縁性基板
に当接する板面に、放電間隙をあけて設けられた1対の
放電電極と、 該第2の絶縁性基板の板面のうち該第1の絶縁性基板に
当接する板面に、前記放電間隙に臨むように設けられた
放電室形成用の溝と、 該第1及び第2の絶縁性基板の積層体の対向する1対の
端面に設けられた端子電極とを備えてなるチップ型サー
ジアブソーバであって、 前記溝は、前記第2の絶縁性基板の該1対の端面に達す
るように設けられており、 前記端子電極は前記放電電極に導通すると共に、該溝の
両端面を封止するように設けられていることを特徴とす
るチップ型サージアブソーバ。
1. A discharge gap is formed between a first and a second insulating substrate arranged in a stack and a plate surface of the first insulating substrate that is in contact with the second insulating substrate. A pair of discharge electrodes provided apart from each other, and a discharge chamber provided on a plate surface of the second insulating substrate that is in contact with the first insulating substrate so as to face the discharge gap. A chip-type surge absorber comprising: a forming groove; and terminal electrodes provided on a pair of opposed end faces of the stacked body of the first and second insulating substrates. The terminal electrode is provided so as to reach the pair of end surfaces of the second insulating substrate, and the terminal electrode is provided so as to conduct to the discharge electrode and seal both end surfaces of the groove. Characterized chip type surge absorber.
【請求項2】 請求項1に記載のチップ型サージアブソ
ーバを製造する方法であって、 薄板状の第1の絶縁性基板の一方の板面に放電電極形成
用の導電性膜及び放電間隙用のマイクロギャップを形成
する工程、 薄板状の第2の絶縁性基板の一方の板面に接着剤層を形
成すると共に、放電室形成用の複数の溝を並列して形成
する工程、 該第1の絶縁性基板と第2の絶縁性基板とを、該導電性
膜形成面と溝形成面とを対面させて接着して積層体とす
る工程、 該積層体を、前記溝と直交する方向に短冊状に切断して
角柱体を得る工程、 該角柱体を、その長手方向と直交する方向に切断してチ
ップを得る工程、 該チップの前記溝が露出した面に端子電極を形成する工
程を備えるチップ型サージアブソーバの製造方法。
2. A method for manufacturing a chip-type surge absorber according to claim 1, wherein a conductive film for forming a discharge electrode and a discharge gap are formed on one surface of the thin plate-shaped first insulating substrate. Forming an adhesive layer on one surface of a second insulating substrate having a thin plate shape, and forming a plurality of grooves for forming a discharge chamber in parallel with each other; Bonding the insulative substrate and the second insulative substrate with the conductive film forming surface and the groove forming surface facing each other to form a laminate, and forming the laminate in a direction orthogonal to the grooves. A step of obtaining a prism by cutting into a strip shape; a step of obtaining the chip by cutting the prism in a direction perpendicular to a longitudinal direction thereof; and a step of forming a terminal electrode on a surface of the chip where the groove is exposed. Manufacturing method of chip type surge absorber provided.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017204589A (en) * 2016-05-12 2017-11-16 イリソ電子工業株式会社 Heat dissipation chip and heat dissipation structure
WO2021106620A1 (en) * 2019-11-25 2021-06-03 ローム株式会社 Heat dissipation chip

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