ITTO20080572A1 - SCRIBING LASER PLANT FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNETIC SIDES - Google Patents
SCRIBING LASER PLANT FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNETIC SIDESInfo
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- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 40
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 32
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 15
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 6
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 5
- 239000003517 fume Substances 0.000 claims description 4
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000005480 shot peening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0838—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt
- B23K26/0846—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt for moving elongated workpieces longitudinally, e.g. wire or strip material
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Description
Descrizione Description
"IMPIANTO DI SCRIBING LASER PER IL TRATTAMENTO "LASER SCRIBING PLANT FOR TREATMENT
SUPERFICIALE DI LAMIERINI MAGNETICI" SURFACE OF MAGNETIC SHEETS "
TESTO DELLA DESCRIZIONE TEXT OF THE DESCRIPTION
La presente invenzione si riferisce ad un impianto di scribing laser per il trattamento superficiale di lamierini magnetici. The present invention refers to a laser scribing system for the surface treatment of magnetic laminations.
Più specificatamente l'invenzione si riferisce ad un impianto di scribing laser per il trattamento superficiale di lamierini magnetici a grani orientati, in accordo con le rivendicazioni principali. More specifically, the invention relates to a laser scribing plant for the surface treatment of grain-oriented magnetic laminations, in accordance with the main claims.
I lamierini di acciaio al silicio a grano orientato trovano largo impiego nella produzione di nuclei per trasformatori; in tale utilizzazione, una delle caratteristiche del materiale sottoposte a maggiore studio, Ã ̈ quella dell'energia perduta nel funzionamento del trasformatore. Le perdite dipendono da vari fattori e, in particolare, dal movimento delle pareti dei domini magnetici, dalle dimensioni dei grani del lamierino e dalla orientazione del reticolo cristallino del grano rispetto alla superficie del lamierino. The grain oriented silicon steel sheets are widely used in the production of cores for transformers; in this use, one of the characteristics of the material subjected to greater study is that of the energy lost in the operation of the transformer. The losses depend on various factors and, in particular, on the movement of the walls of the magnetic domains, on the grain size of the lamination and on the orientation of the crystal lattice of the grain with respect to the surface of the lamination.
La scelta più immediata à ̈ quella di avere lamierini in acciaio al silicio a grano altamente orientato, con determinate dimensioni del grano e con basso spessore: I risultati ottenuti sono buoni, ma non sono migliorabili in modo sensibile ed industrialmente accettabile. In particolare si à ̈ trovato che la dimensione ottimale dei grani à ̈ di alcuni mm, mentre per quanto riguarda lo spessore del lamierino, scendere al di sotto di determinati valori non à ̈ conveniente, sia per il costo delle lavorazioni, sia perché diminuisce il "fattore spaziale" tra volume del lamierino e volume dei rivestimenti isolanti. The most immediate choice is to have highly oriented grain silicon steel sheets, with certain grain sizes and low thickness: The results obtained are good, but they cannot be improved in a sensible and industrially acceptable way. In particular, it has been found that the optimal size of the grains is a few mm, while as regards the thickness of the sheet, falling below certain values is not convenient, both for the cost of processing and because it decreases. the "space factor" between the volume of the sheet and the volume of the insulating coatings.
Un importante fattore che influenza le perdite nel nucleo riguarda le dimensioni dei domini magnetici. Applicando una tensione meccanica al lamierino si induce nel materiale un'anisotropia nel piano del lamierino che, in presenza della struttura tipica di questi materiale (tessitura di Goss), aumenta la differenza energetica di magnetizzazione tra la direzione cristallografica, parallela alla direzione di laminazione e la direzione perpendicolare alla direzione di laminazione. Il bilancio tra energia magnetostatica ed energia delle pareti dei domini si sposta a favore dell'energia delle pareti, causando la formazione di un maggior numero di pareti che diventano più fini e vicine. In tal modo, si ottiene una notevole diminuzione del contributo delle correnti parassite al valore totale delle perdite. Sono stati quindi sviluppati rivestimenti tensionanti, in grado di ottenere tali miglioramenti ovvero creando dei microstress compressivi localizzati. In questa ottica à ̈ stato proposto di sottoporre il lamierino a pallinatura oppure a rigatura meccanica. Tali metodi sono difficilmente applicabili industrialmente, distruggono il rivestimento isolante, con esposizione del lamierino a rapida ossidazione, richiedendo un ulteriore rivestimento, e formano sbavature, diminuendo il fattore spaziale. An important factor affecting core losses relates to the size of the magnetic domains. Applying a mechanical tension to the lamination induces in the material an anisotropy in the plane of the lamination which, in the presence of the typical structure of this material (Goss texture), increases the energetic difference of magnetization between the crystallographic direction, parallel to the lamination direction and the direction perpendicular to the rolling direction. The balance between magnetostatic energy and the energy of the domain walls shifts in favor of the energy of the walls, causing more walls to form and become finer and closer together. In this way, a considerable decrease in the contribution of eddy currents to the total value of the losses is obtained. Therefore, tensioning coatings were developed, capable of obtaining these improvements or creating localized compressive microstress. With this in mind, it has been proposed to subject the sheet to shot peening or mechanical scoring. These methods are difficult to apply industrially, they destroy the insulating coating, with exposure of the sheet to rapid oxidation, requiring a further coating, and form burrs, reducing the spatial factor.
Il passo successivo, ormai consolidato, Ã ̈ stato quello di sottoporre la superficie del lamierino, come nastro in acciaio elettromagnetico a grani orientati in svolgimento da bobine, a scalfitura o rigatura (scribing) con impulsi energetici concentrati in forma di raggi laser, plasma e simili. The next step, now consolidated, was to subject the surface of the sheet, as an electromagnetic steel strip to grains oriented unwinding from coils, to scratching or scribing with concentrated energy pulses in the form of laser rays, plasma and similar.
In apparecchiature tipiche per trattamenti di scribing per il miglioramento di caratteristiche elettromagnetiche, il fascio di un generatore laser viene deviato sul nastro in movimento da uno scanner a specchi e poi focalizzato sul lamierino lungo un percorso di scansione trasversale alla direzione di avanzamento. In typical equipment for scribing treatments for the improvement of electromagnetic characteristics, the beam of a laser generator is deflected on the moving web by a mirror scanner and then focused on the sheet along a scanning path transversal to the direction of advancement.
Per ottenere un'apprezzabile riduzione delle perdite, il trattamento di scribing deve essere di ridotte dimensioni trasversali, ad esempio 0,10 mm ed esteso il più possibile in profondità . Ottimi risultati sono stati ottenuti impiegando fasci laser con spot a sezione fortemente ellittica, allungata nel senso trasversale a quello di avanzamento. Ciò à ̈ stato realizzato tramite opportune ottiche cilindriche. To obtain an appreciable reduction in losses, the scribing treatment must be of reduced transversal dimensions, for example 0.10 mm and extended as far as possible in depth. Excellent results have been obtained by using laser beams with highly elliptical section spots, elongated in the direction transversal to that of advancement. This was achieved through appropriate cylindrical optics.
Il problema tecnico della presente invenzione à ̈ di realizzare un impianto di scribing laser, di elevata produttività , che risulti affidabile e le cui specifiche di funzionamento possano essere facilmente modificabili entro ampi margini. The technical problem of the present invention is to realize a laser scribing plant, of high productivity, which is reliable and whose operating specifications can be easily modified within wide margins.
In accordo con una prima caratteristica, l'impianto comprende un piano di confinamento tra la superficie del nastro ed un dispositivo ottico di focalizzazione ed un relativo dispositivo di protezione. Il piano di confinamento definisce una finestra per il fascio laser diretto all'area di trattamento del nastro, mentre il dispositivo di protezione à ̈ predisposto per generare una lamina gassosa fra il piano di contenimento ed il nastro, adiacente alla finestra, con funzione di barriera gassosa nell'area della suddetta finestra. In accordance with a first characteristic, the plant comprises a confinement plane between the surface of the tape and an optical focusing device and a relative protection device. The confinement plane defines a window for the laser beam directed to the strip treatment area, while the protection device is designed to generate a gaseous foil between the containment plane and the belt, adjacent to the window, with a barrier function. gas in the area of the aforementioned window.
In accordo con un'altra caratteristica, l'impianto di scribing laser comprende due gruppi di trattamento laser, includenti ciascuno un generatore di fascio laser, uno scanner per scansionare il fascio laser ed un dispositivo ottico di focalizzazione esteso trasversalmente al nastro ed in prossimità del nastro per ricevere il fascio scansionato e focalizzare il fascio sull'area di trattamento del nastro. Lo scanner ed il dispositivo ottico dei gruppi di trattamento sono disposti sfalsati ed in modo speculare rispetto ad un piano passante per l'asse longitudinale del nastro allo scopo di trattare due metà in senso longitudinale del suddetto nastro. In accordance with another feature, the laser scribing plant comprises two laser treatment units, each including a laser beam generator, a scanner for scanning the laser beam and an optical focusing device extending transversely to the ribbon and in proximity to the tape to receive the scanned beam and focus the beam on the treatment area of the tape. The scanner and the optical device of the treatment units are arranged staggered and specularly with respect to a plane passing through the longitudinal axis of the belt in order to treat two halves in the longitudinal direction of the aforementioned belt.
Ancora secondo un'altra caratteristica, l'impianto comprende un dispositivo limitatore fra lo scanner ed il dispositivo di focalizzazione ed includente due sponde assorbenti per regolare l'angolo del settore di scansione del fascio laser, ed in cui le sponde sono regolabili per limitare l'ampiezza del fascio in dipendenza della larghezza del nastro. Still according to another feature, the system comprises a limiting device between the scanner and the focusing device and including two absorbing sides for adjusting the angle of the scanning sector of the laser beam, and in which the sides are adjustable to limit the width of the beam as a function of the width of the web.
In accordo con un'altra caratteristica, l'impianto comprende una unità di ripresa televisiva per riprendere il risultato del trattamento e fornire indicazioni su parametri associati al trattamento. In accordance with another feature, the system includes a television recording unit to record the result of the treatment and provide information on parameters associated with the treatment.
Come ulteriore caratteristica, l'impianto di scribing laser comprende un banco di supporto con una superficie di riferimento per detto nastro ed una serie di magneti per tenere aderente a detta superficie l'area di trattamento del nastro. As a further feature, the laser scribing plant comprises a support bench with a reference surface for said tape and a series of magnets to keep the treatment area of the tape adherent to said surface.
Le caratteristiche dell'invenzione risulteranno chiare dalla descrizione che segue, fatta a titolo esemplificativo ma non limitativo, con l'ausilio degli annessi disegni, in cui: The characteristics of the invention will become clear from the following description, given by way of example but not of limitation, with the aid of the attached drawings, in which:
Fig. 1 rappresenta lo schema di un sistema di trattamento di lamierini magnetici che impiega un impianto di scribing laser secondo l'invenzione; Fig. 2 mostra una vista schematica dall'alto di un impianto di scribing laser in accordo con l'invenzione; Fig. 1 represents the diagram of a magnetic lamination treatment system which uses a laser scribing system according to the invention; Fig. 2 shows a schematic top view of a laser scribing system according to the invention;
Fig. 3 rappresenta uno schema ottico dell'impianto di scribing laser di Fig.2; Figg. 4, 5, 6 e 7 mostrano schemi ottici di alcuni componenti di Fig.3 in differenti condizioni operative; Fig. 3 represents an optical diagram of the laser scribing system of Fig.2; Figs. 4, 5, 6 and 7 show optical diagrams of some components of Fig.3 in different operating conditions;
Fig. 8 Ã ̈ una vista schematica parziale, dal basso, di alcuni dettagli dell'impianto di scribing laser in accordo con l'invenzione; Fig. 8 is a partial schematic view, from below, of some details of the laser scribing system according to the invention;
Fig. 9 Ã ̈ una vista schematica parziale, dal basso, di altri dettagli dell'impianto di scribing laser in accordo con l'invenzione; Fig. 9 is a partial schematic view, from below, of other details of the laser scribing system according to the invention;
Fig. 10 mostra una vista in scala ingrandita di alcuni componenti dell'impianto rappresentato in Fig.2; Fig. 10 shows an enlarged scale view of some components of the system represented in Fig.2;
Fig. 11 Ã ̈ una vista schematica parziale, frontale, di alcuni componenti dell'impianto di Fig.2; Fig. 11 is a partial schematic front view of some components of the system of Fig.2;
Fig. 12 mostra una vista schematica in pianta di un dispositivo dell'impianto secondo l'invenzione; Fig. 12 shows a schematic plan view of a device of the plant according to the invention;
Fig. 13 Ã ̈ una vista schematica laterale, parzialmente sezionata del dispositivo mostrato in Fig.12; e Fig. 13 is a side schematic view, partially sectioned, of the device shown in Fig.12; And
Fig. 14 rappresenta una vista schematica frontale, del dispositivo di Fig.12. Fig. 14 represents a schematic front view of the device of Fig.12.
Con riferimento alla figura 1, à ̈ stato rappresentato con 21 un sistema per il trattamento di lamierini magnetici che impiega un impianto di scribing (trattamento laser del materiale) laser 22 con un rispettivo gruppo generatore 23 ed un banco di sostegno 24. Il lamierino à ̈ nella forma di un nastro 26 di acciaio elettrotecnico al silicio a grani orientati nel senso della laminazione. Il nastro à ̈ in movimento lungo un asse longitudinale 27 per lo svolgimento da una bobina di alimentazione e l'avvolgimento su una bobina di raccolta, non mostrate nei disegni. With reference to Figure 1, 21 represents a system for the treatment of magnetic laminations which uses a laser scribing system (laser treatment of the material) laser 22 with a respective generator unit 23 and a support bench 24. The lamination is ̈ in the form of a strip 26 of grain oriented silicon electrotechnical steel in the direction of rolling. The web is moving along a longitudinal axis 27 for unwinding from a supply reel and winding onto a take-up reel, not shown in the drawings.
Il sistema 21 comprende inoltre una consolle di controllo 28, un armadio 29 per componenti di alimentazione e controllo, un'unità di refrigerazione (chiller) 31 ed una unità di filtraggio e ventilazione 32 per l'impianto 22, mentre il banco di sostegno 24 ha un piano orizzontale 33 di appoggio e scorrimento per il nastro 26. Pareti 34, con funzione di protezione, sono disposte attorno all'impianto 22 con generatore 23 e banco 24 ed attorno all'armadio 29 ed alle unità 31 e 32. The system 21 also comprises a control console 28, a cabinet 29 for power supply and control components, a refrigeration unit (chiller) 31 and a filtering and ventilation unit 32 for the system 22, while the support bench 24 it has a horizontal support and sliding surface 33 for the belt 26. Walls 34, with protection function, are arranged around the plant 22 with generator 23 and bench 24 and around the cabinet 29 and the units 31 and 32.
In accordo con l'invenzione, l'impianto di scribing laser 22 (Fig. 2) comprende due unità di trattamento laser 36a e 36b che includono rispettivamente un collimatore 37a, 37b, un dispositivo ottico telescopico 38a, 38b, uno scanner 39a, 39b, un dispositivo di focalizzazione finale 41a, 41b ed un dispositivo di protezione 42a, 42b. In accordance with the invention, the laser scribing system 22 (Fig. 2) comprises two laser treatment units 36a and 36b which respectively include a collimator 37a, 37b, a telescopic optical device 38a, 38b, a scanner 39a, 39b , a final focusing device 41a, 41b and a protection device 42a, 42b.
Il gruppo generatore 23 comprende due sorgenti di fascio laser 43a, 43b, ad esempio di tipo Nd: Itterbio da 1,5÷2,5 Kw. Le sorgenti laser 43a, 43b hanno un'uscita su fibre ottiche 44a, 44b ad area sostanzialmente circolare, ed in cui le fibre ottiche sono collegate con il collimatore 37a, 36b dell'unità di trattamento 36a, 36b. The generator unit 23 comprises two laser beam sources 43a, 43b, for example of the Nd: Ytterbium type of 1.5 ÷ 2.5 Kw. The laser sources 43a, 43b have an output on optical fibers 44a, 44b with a substantially circular area, and in which the optical fibers are connected with the collimator 37a, 36b of the treatment unit 36a, 36b.
I fasci laser delle sorgenti 43a, 43b, attraverso i collimatori 37a e 37b arrivano, come fasci collimati 46a, 46b, ai dispositivi telescopici 38a e 38b, sono indirizzati verso gli scanner 39a e 39b, e poi focalizzati sul nastro 26 attraverso i dispositivi 41a e 41b. I dispositivi di protezione 42a e 42b provvedono a mantenere, nell'uso, i dispositivi di focalizzazione finale 41a, 41b in condizioni di massima efficienza ottica, evitando contaminazioni dai fumi prodotti nei trattamenti. The laser beams of the sources 43a, 43b, through the collimators 37a and 37b arrive, as collimated beams 46a, 46b, at the telescopic devices 38a and 38b, are directed towards the scanners 39a and 39b, and then focused on the tape 26 through the devices 41a and 41b. The protection devices 42a and 42b maintain, in use, the final focusing devices 41a, 41b in conditions of maximum optical efficiency, avoiding contamination from the fumes produced in the treatments.
Il dispositivo ottico telescopico 38a, 38b (Figg. 3, 4 e 6) ha lenti cilindriche 47, 48, rispettivamente divergente e convergente che trasformano il fascio collimato 46a, 46b, a sezione circolare, in un fascio 49a, 49b a sezione ellittica, con assi orizzontali X e verticali Y diretto allo scanner 39a, 39b lungo un piano orizzontale e dallo scanner, come fascio scansionato 51a, 51b, sul dispositivo di focalizzazione finale 41a, 41b. Il fascio laser à ̈ poi focalizzato sul nastro 26, secondo un piano verticale, come fascio di scribing 52a, 52b, scansionato lungo un percorso di scansione 53a, 53b sostanzialmente trasversale rispetto all'asse longitudinale 27 del nastro 26. The telescopic optical device 38a, 38b (Figs. 3, 4 and 6) has cylindrical lenses 47, 48, divergent and convergent respectively, which transform the collimated beam 46a, 46b, with a circular section, into a beam 49a, 49b with an elliptical section, with horizontal X and vertical Y axes directed to the scanner 39a, 39b along a horizontal plane and from the scanner, as a scanned beam 51a, 51b, to the final focusing device 41a, 41b. The laser beam is then focused on the tape 26, according to a vertical plane, as the scribing beam 52a, 52b, scanned along a scanning path 53a, 53b substantially transversal with respect to the longitudinal axis 27 of the tape 26.
La distanza “D†fra le lenti 47 e 48 del dispositivo ottico telescopico à ̈ predisposta ed à ̈ regolabile in modo da ottenere una lunghezza focale variabile e un fuoco CFa, CFb a valle dello scanner 38a, 38b. Di conseguenza, il fascio 49a, 49b ha ellitticità variabile in funzione della lunghezza focale del dispositivo 38a, 38b, con ampiezza costante lungo l'asse Y e dipendente dalla focale lungo l'asse X. In alternativa alle lenti cilindriche 47 e 48, il dispositivo ottico telescopico 38a, 38b può essere realizzato da una coppia di specchi cilindrici rispettivamente divergente e convergente e da specchi di rinvio, e aventi possibilità di regolazione della distanza fra gli specchi. The distance â € œDâ € between lenses 47 and 48 of the telescopic optical device is set up and is adjustable in order to obtain a variable focal length and a focus CFa, CFb downstream of the scanner 38a, 38b. Consequently, the beam 49a, 49b has variable ellipticity as a function of the focal length of the device 38a, 38b, with constant amplitude along the Y axis and dependent on the focal length along the X axis. telescopic optical device 38a, 38b can be realized by a pair of cylindrical mirrors diverging and converging respectively and by deflection mirrors, and having the possibility of adjusting the distance between the mirrors.
Lo scanner 39a, 39b à ̈ del tipo a specchi piani su facce poligonali, con spigoli fra gli specchi, rotante attorno ad un asse verticale. Lo scanner 39a, 39b riceve il fascio 49a, 49b a sezione ellittica e riflette il fascio scansionato 51a, 51b sul dispositivo di focalizzazione finale 41a, 41b, movimentandolo secondo un angolo dipendente dal numero degli specchi. The scanner 39a, 39b is of the type with flat mirrors on polygonal faces, with edges between the mirrors, rotating around a vertical axis. The scanner 39a, 39b receives the elliptical section beam 49a, 49b and reflects the scanned beam 51a, 51b on the final focusing device 41a, 41b, moving it according to an angle depending on the number of mirrors.
In dettaglio, il fascio laser 51a, 51b (Figg. 4 e 6) incidente sul nastro 26 definisce una testa “LdSp†ed una coda “TrSp†nel senso di movimento, indicato dalla freccia, lungo il percorso di trattamento 53a, 53b. Quando il fascio a sezione ellittica 49a, 49b, convergente, colpisce con il suo asse lo spigolo fra gli specchi adiacenti dello scanner, esso si divide, come fascio 51a, 51b, attraverso il dispositivo di focalizzazione finale 41a, 41b fra l'estremità terminale e l'estremità iniziale del percorso di trattamento. Il fuoco CFa, CFb del gruppo ottico telescopico cilindrico 38a, 38b, a valle dello scanner 39a, 39b, ed il senso di rotazione dello scanner sono tali che, al momento dell'incidenza del fascio convergente 49a, 49b su uno spigolo dello scanner e nella commutazione fra gli specchi adiacenti (Figg.5 e 7), il fascio presenta la coda “TrSp†dello spot all'estremità terminale del percorso di trattamento 53a, 53b e la testa “LdSp†all'estremità iniziale del percorso. In detail, the laser beam 51a, 51b (Figs. 4 and 6) incident on the belt 26 defines a â € œLdSpâ € head and a â € œTrSpâ € tail in the direction of movement, indicated by the arrow, along the treatment path 53a, 53b. When the converging beam with elliptical section 49a, 49b strikes with its axis the edge between the adjacent mirrors of the scanner, it divides, as a beam 51a, 51b, through the final focusing device 41a, 41b between the terminal extremity and the initial end of the treatment path. The focus CFa, CFb of the cylindrical telescopic optical unit 38a, 38b, downstream of the scanner 39a, 39b, and the direction of rotation of the scanner are such that, at the moment of the incidence of the converging beam 49a, 49b on an edge of the scanner and when switching between adjacent mirrors (Figs. 5 and 7), the beam has the â € œTrSpâ € tail of the spot at the terminal end of the treatment path 53a, 53b and the â € œLdSpâ € head at the initial end of the path.
Il dispositivo di focalizzazione finale 41a, 41b (Figg.2 e 3) comprende un riflettore predisposto per ricevere il fascio scansionato 51a, 51b e focalizzare il fascio di scribing 52a, 52b lungo il percorso di scansione 53a, 53b del nastro 26. Il riflettore del dispositivo 41a, 41b à ̈ formato da un settore cilindrico 54 a sezione parabolica, con generatrice estesa trasversalmente al nastro 26, poco al disopra del banco di supporto 24. La distanza “L2†fra la lente 48 e lo scanner 39a, 39b à ̈ regolabile per la messa a fuoco del fascio 51a, 51b sul nastro 26 in funzione della focale del dispositivo 38a, 38b. The final focusing device 41a, 41b (Figs. 2 and 3) comprises a reflector arranged to receive the scanned beam 51a, 51b and to focus the scribing beam 52a, 52b along the scanning path 53a, 53b of the tape 26. The reflector of the device 41a, 41b is formed by a cylindrical sector 54 with a parabolic section, with a generatrix extending transversely to the belt 26, just above the support bench 24. The distance â € œL2â € between the lens 48 and the scanner 39a, 39b It is adjustable for the focusing of the beam 51a, 51b on the tape 26 according to the focal length of the device 38a, 38b.
Come risultato, il fascio a sezione circolare del collimatore 37a, 37b, attraverso il dispositivo ottico telescopico 38a, 38b, lo scanner 39a, 39b, ed il dispositivo di focalizzazione finale 41a, 41b à ̈ trasformato in un'area (spot) (55) 55 fortemente allungata e di dimensioni trasversali “Ssp†minime ed in cui l'asse maggiore della sezione ellittica à ̈ sostanzialmente parallelo al percorso di scansione 53a, 53b. La lunghezza dello spot “Lsp†à ̈ impostabile modificando le distanze “D†ed “L2†in dipendenza della tipologia del trattamento, delle velocità di avanzamento del nastro, della velocità di rotazione dello scanner e delle caratteristiche del nastro per una ottimizzazione del trattamento. As a result, the circular section beam of the collimator 37a, 37b, through the telescopic optical device 38a, 38b, the scanner 39a, 39b, and the final focusing device 41a, 41b is transformed into an area (spot) (55 ) 55 strongly elongated and of minimal â € œSspâ € transversal dimensions and in which the major axis of the elliptical section is substantially parallel to the scan path 53a, 53b. The length of the â € œLspâ € spot can be set by modifying the â € œDâ € and â € œL2â € distances depending on the type of treatment, the speed of advancement of the belt, the rotation speed of the scanner and the characteristics of the belt for a optimization of treatment.
Inoltre, le lenti 47 e 48 del gruppo ottico telescopico 38a, 38b hanno possibilità di rotazione per modificare l'angolo dello spot rispetto al percorso di scansione 53a, 53b. Ciò per ottimizzare l'allineamento dello spot 55 con il percorso di scansione in funzione delle velocità di rotazione dello scanner 39a, 39b e della velocità di avanzamento del nastro 26. Furthermore, the lenses 47 and 48 of the telescopic optical group 38a, 38b have the possibility of rotation to modify the angle of the spot with respect to the scanning path 53a, 53b. This is to optimize the alignment of the spot 55 with the scanning path as a function of the rotation speeds of the scanner 39a, 39b and the speed of advance of the web 26.
Lo scanner 39a ed il dispositivo di focalizzazione 41a dell'unità laser 36a sono disposti sfalsati ed in modo speculare rispetto allo scanner 39b ed al dispositivo di focalizzazione 41b dell'unità 36b e speculare, con riferimento ad un piano verticale 56 passante per l'asse longitudinale 27 del nastro. Il dispositivo telescopico 38a ed il dispositivo telescopico 38b sono invece disposti da uno stesso lato del piano 56. E' anche presente una simmetria speculare e sfalsata fra tutti i componenti ottici, rispetto ad un piano geometrico verticale perpendicolare all'asse 27. Con questa struttura, le unità di trattamento laser 36a, 36b possono trattare ad alta velocità , efficacemente e con ingombri limitati due metà longitudinali “A†e “B†del nastro 26. Il primo gruppo funzionale, costituito dall'unità di trattamento 36a opera sulla metà “A†della larghezza del nastro in movimento, con percorso di scansione 53a, mentre il secondo gruppo funzionale, costituito dall'unità di trattamento 36b opera sulla metà “B†della larghezza del nastro in movimento, con percorso di scansione 53b. The scanner 39a and the focusing device 41a of the laser unit 36a are arranged offset and in a specular manner with respect to the scanner 39b and the focusing device 41b of the unit 36b and specular, with reference to a vertical plane 56 passing through the axis length 27 of the belt. The telescopic device 38a and the telescopic device 38b are instead arranged on the same side of the plane 56. There is also a specular and staggered symmetry between all the optical components, with respect to a vertical geometric plane perpendicular to the axis 27. With this structure , the laser treatment units 36a, 36b can treat at high speed, effectively and with limited overall dimensions two longitudinal halves â € œAâ € and â € œBâ € of the belt 26. The first functional group, constituted by the treatment unit 36a, operates on the half â € œAâ € of the width of the moving belt, with scan path 53a, while the second functional group, consisting of the treatment unit 36b, operates on half â € œBâ € of the width of the moving belt, with scan path 53b .
L'unità di trattamento laser 36a, 36b include un vassoio o vasca 57a, 57b (Fig. 2) avente un fondo 58a, 58b ed un coperchio 59a, 59b e collegato con l'unità di filtraggio e ventilazione 32 per mantenere in un ambiente secco e privo di polvere i componenti ottici includenti il collimatore 37a, 37b, il dispositivo telescopico 38a, 38b, lo scanner 39a, 39b, ed il dispositivo di focalizzazione 41a, 41b. Il fondo 58a, 58b à ̈ disposto fra il piano di appoggio 33 ed il dispositivo di focalizzazione 41a, 41b e definisce un piano di confinamento tra la superficie del nastro ed il dispositivo ottico 41a, 41b (Figg. 8, 9 e 11) ed in cui à ̈ ricavata una finestra 61a, 61b per il fascio laser di scribing 52a, 52b diretto al percorso di scansione 53a, 53b del nastro 26. The laser treatment unit 36a, 36b includes a tray or tank 57a, 57b (Fig. 2) having a bottom 58a, 58b and a lid 59a, 59b and connected with the filtering and ventilation unit 32 to maintain in an environment dry and dust-free the optical components including the collimator 37a, 37b, the telescopic device 38a, 38b, the scanner 39a, 39b, and the focusing device 41a, 41b. The bottom 58a, 58b is arranged between the support surface 33 and the focusing device 41a, 41b and defines a confinement plane between the surface of the tape and the optical device 41a, 41b (Figs. 8, 9 and 11) and in which a window 61a, 61b is obtained for the scribing laser beam 52a, 52b directed to the scanning path 53a, 53b of the tape 26.
In accordo con una caratteristica dell'invenzione, il dispositivo di protezione 42a, 42b à ̈ previsto per creare una barriera d'aria tangente alla finestra 61a, 61b impedendo contaminazioni da parte di residui di fumi al dispositivo ottico 41a, 41b. In dettaglio, il dispositivo 42a, 42b comprende delle insenature a “V†62 in un bordo a valle della finestra 61a, 61b, una serie di asole 63 nel fondo 58a e 58b, a monte della finestra 61a, 61b, un coperchio scatolato 64 ed un aspiratore 66. Il coperchio 64 à ̈ montato al disotto del fondo 58a e 58b come copertura per le insenature 62 e per le asole 63 e definisce una feritoia 67 in corrispondenza della finestra 61a, 61b per il passaggio del fascio laser di scribing. L'aspiratore 66 comprende una flangia con una serie di fori 68 fra le insenature 62 per generare una corrente d'aria con ingresso dalle asole 63 ed uscita dai fori 68 attraverso le insenature a “V†62. Questa corrente d'aria forma, con l'aria pulita della vasca 57a, 57b, una lamina gassosa tra il fondo 58a, 58b ed il coperchio 64, tangente alla finestra 61a, 61b, ed alla feritoia 67 e che costituisce la barriera d'aria di protezione per il dispositivo ottico 41a, 41b. In accordance with a feature of the invention, the protection device 42a, 42b is provided to create an air barrier tangent to the window 61a, 61b preventing contamination by residual fumes to the optical device 41a, 41b. In detail, the device 42a, 42b comprises `` V '' shaped inlets 62 in an edge downstream of the window 61a, 61b, a series of slots 63 in the bottom 58a and 58b, upstream of the window 61a, 61b, a boxed cover 64 and an aspirator 66. The cover 64 is mounted below the bottom 58a and 58b as a cover for the inlets 62 and for the slots 63 and defines a slot 67 in correspondence with the window 61a, 61b for the passage of the scribing laser beam . The aspirator 66 comprises a flange with a series of holes 68 between the inlets 62 to generate a current of air entering through the slots 63 and exiting the holes 68 through the V inlets 62. This current of air forms , with the clean air of the tank 57a, 57b, a gaseous sheet between the bottom 58a, 58b and the lid 64, tangent to the window 61a, 61b, and to the slot 67 and which constitutes the protective air barrier for the device optical 41a, 41b.
In associazione con il dispositivo di protezione 42a, 42b sono inoltre previsti un gruppo di ventilazione 69a, 69b, montato al disotto del fondo 58a e 58b e condotti di aspirazione, non mostrati nelle figure, per inviare un getto d'aria verso il nastro 26 nell'area di trattamento della metà “A†, “B†allo scopo di rimuovere i fumi prodotti dal trattamento del nastro e con funzione di pre-sbarramento per la feritoia 67. Un otturatore 71a, 71b, controllato da attuatori 72a, 72b à ̈ predisposto per la chiusura della finestra 61a, 61b, nelle condizioni di riposo dell'impianto 22. In association with the protection device 42a, 42b there are also provided a ventilation unit 69a, 69b, mounted below the bottom 58a and 58b and suction ducts, not shown in the figures, to send a jet of air towards the belt 26 in the treatment area of the half â € œAâ €, â € œBâ € in order to remove the fumes produced by the treatment of the belt and with a pre-barrier function for the slit 67. A shutter 71a, 71b, controlled by actuators 72a, 72b is designed for closing window 61a, 61b, in the rest conditions of system 22.
Ciascun dispositivo telescopico 38a e 38b (Figg. 2 e 10) comprende una struttura di guida costituita da due guide prismatiche 74 e 76 parallele agli assi dei fasci collimati 46a e 46b, con due carrelli 77 e 78. Le guide prismatiche 74 e 76 sono montate sul fondo 58a, 58b, adiacenti agli scanner 39a e 39b e da uno stesso lato rispetto al piano 56. I carrelli sono di supporto a sbalzo per le lenti 47 e 48, per avere gli assi ottici delle lenti sull'asse del fascio collimato 46a, 46b. I carrelli 77 e 78 sono motorizzati per spostarsi l'uno rispetto all'altro e relativamente agli scanner 39a e 39b lungo le guide prismatiche 74 e 76, in funzione della focale da realizzare. Each telescopic device 38a and 38b (Figs. 2 and 10) comprises a guide structure consisting of two prismatic guides 74 and 76 parallel to the axes of the collimated beams 46a and 46b, with two carriages 77 and 78. The prismatic guides 74 and 76 are mounted on the bottom 58a, 58b, adjacent to the scanners 39a and 39b and on the same side with respect to the plane 56. The carriages are cantilevered supports for the lenses 47 and 48, to have the optical axes of the lenses on the axis of the collimated beam 46a, 46b. The carriages 77 and 78 are motorized to move relative to each other and relative to the scanners 39a and 39b along the prismatic guides 74 and 76, depending on the focal length to be obtained.
Convenientemente, ciascuna unità di trattamento laser 36a e 36b Convenientemente, ciascuna unità di trattamento laser 36a e 36b comprende un dispositivo limitatore 81a, 81b (Figg, 2 e 11) frapposto fra lo scanner 39a, 39b ed il dispositivo di focalizzazione 41a, 41b, includente due sponde assorbenti 82 e 83 (Figg. 12, 13 e 14) con possibilità di regolazione per limitare l'ampiezza del fascio diretto alla rispettiva metà “A†, “B†del nastro 26, in dipendenza della larghezza del nastro 26. Conveniently, each laser treatment unit 36a and 36b Conveniently, each laser treatment unit 36a and 36b comprises a limiting device 81a, 81b (Figs, 2 and 11) interposed between the scanner 39a, 39b and the focusing device 41a, 41b, including two absorbent sides 82 and 83 (Figs. 12, 13 and 14) with the possibility of adjustment to limit the width of the direct beam to the respective half â € œAâ €, â € œBâ € of the tape 26, depending on the width of the tape 26.
In particolare, il dispositivo limitatore 81a, 81b comprende una barra 84 montata sul fondo 58a, 58b, di poco sotto il coperchio 59a, 59b, trasversalmente al piano 56 e provvista di asole di montaggio 86 e di un'asola di montaggio e guida 87. La barra 84 supporta superiormente una lunga vite 88 con una manopola terminale 89 ed un carrello 91 impegnato con la vite 84 e di montaggio per una slitta 92. Inferiormente, la barra 84 supporta le sponde assorbenti 83 e 84 rispettivamente attraverso le asole di montaggio 86 e l'asola di montaggio e guida 87. Le sponde assorbenti 82 e 83 sono costituite da blocchi metallici raffreddati, che definiscono una cavità a forma di cuneo in negativo, di trappola per il fascio laser da assorbire. In particular, the limiting device 81a, 81b comprises a bar 84 mounted on the bottom 58a, 58b, just below the cover 59a, 59b, transversely to the plane 56 and provided with mounting slots 86 and a mounting and guide slot 87 The bar 84 at the top supports a long screw 88 with a terminal knob 89 and a carriage 91 engaged with the mounting screw 84 and for a slide 92. Below, the bar 84 supports the absorbent sides 83 and 84 respectively through the mounting slots 86 and the mounting and guide slot 87. The absorbent sides 82 and 83 are made up of cooled metal blocks, which define a negative wedge-shaped cavity, a trap for the laser beam to be absorbed.
Il dispositivo limitatore 81a à ̈ disposto sfalsato ed in modo speculare rispetto al dispositivo limitatore 81b, con riferimento al piano verticale 56, e tale per cui la sponda assorbente 83 à ̈ adiacente al piano 56. Attraverso le asole 86, la sponda assorbente 82 à ̈ regolabile manualmente sia in posizione sia come inclinazione lungo la barra 44 in modo che il fianco della sponda 82 risulti tangente al fascio laser scansionato 51a, 51b indirizzato verso l'estremità del percorso di scansione 53a, 53b corrispondente all'asse 27 del nastro di acciaio. The limiting device 81a is disposed offset and in a specular way with respect to the limiting device 81b, with reference to the vertical plane 56, and such that the absorbing side 83 is adjacent to the level 56. Through the slots 86, the absorbing side 82 is It is manually adjustable both in position and in inclination along the bar 44 so that the side of the side 82 is tangent to the scanned laser beam 51a, 51b directed towards the end of the scanning path 53a, 53b corresponding to the axis 27 of the steel.
L'asola di montaggio e guida 87 di ciascun dispositivo 81a, 81b ha un profilo ad asse circolare con asse sull'area di ricezione del rispettivo scanner 39a, 39b, mentre la sponda assorbente 84 à ̈ montata tramite perni in modo scorrevole sull'asola 87 e attraverso l'asola sulla slitta 92. Per rotazione della manopola 89 e conseguente spostamento del carrello 91, la sponda 84 si muove lungo la barra 84 e viene automaticamente ruotata in modo da mantenere un fianco tangente al al fascio laser scansionato 51a, 51b indirizzato verso l'altra estremità del percorso di scansione 53a, 53b corrispondente ai bordi del nastro 26. The mounting and guide slot 87 of each device 81a, 81b has a circular axis profile with axis on the reception area of the respective scanner 39a, 39b, while the absorbent side 84 is mounted by means of pins in a sliding manner on the slot 87 and through the slot on the slide 92. By rotation of the knob 89 and consequent displacement of the carriage 91, the side 84 moves along the bar 84 and is automatically rotated so as to maintain a side tangent to the scanned laser beam 51a, 51b directed towards the other end of the scan path 53a, 53b corresponding to the edges of the tape 26.
Opportunamente, le vasche 57a e 57b hanno possibilità di rotazione in orizzontale, relativamente al banco di sostegno 24 attorno ad assi 93a e 96b, tramite elementi di regolazione 94a e 94b. Gli assi 93a e 96b sono in corrispondenza di una estremità di un fianco esterno delle vasche 57a e 57b, adiacenti agli scanner 39a e 39b. Gli elementi di regolazione 94a e 94b, ad esempio a vite, sono disposti sull'altra estremità del fianco esterno e consentono di modificare l'angolo del percorso di scansione 53a, 53b rispetto ad una direzione trasversale del nastro, per ottimizzare il trattamento in funzione delle caratteristiche del materiale, della potenza dei generatori laser e della velocità di avanzamento del nastro. Conveniently, the tanks 57a and 57b have the possibility of rotating horizontally, relative to the support bench 24 around axes 93a and 96b, by means of adjustment elements 94a and 94b. The axes 93a and 96b correspond to one end of an external side of the tanks 57a and 57b, adjacent to the scanners 39a and 39b. The adjustment elements 94a and 94b, for example with screws, are arranged on the other end of the external side and allow to modify the angle of the scanning path 53a, 53b with respect to a transversal direction of the belt, to optimize the treatment in operation. the characteristics of the material, the power of the laser generators and the speed of advancement of the belt.
Il banco di supporto 24, comprende una serie di magneti 96 montati al disotto del piano di scorrimento 33 in modo da tenere aderente al piano superficie l'area in trattamento del nastro 26. Ciò impedisce sollevamenti e vibrazioni del nastro con sfocature del fascio laser, assicurando che l'area in trattamento sia di dimensioni costanti. La superficie di scorrimento à ̈ piana ed à ̈ ricoperta da un foglio 97 in materiale plastico tale da evitare graffi in conseguenza dell'avanzamento del nastro in condizione di tensioni. The support bench 24 comprises a series of magnets 96 mounted below the sliding surface 33 so as to keep the area being treated of the belt 26 adherent to the surface plane. This prevents lifting and vibrations of the belt with blurring of the laser beam. ensuring that the area being treated is of constant size. The sliding surface is flat and is covered with a sheet 97 of plastic material such as to avoid scratches as a consequence of the advancement of the belt in conditions of tension.
L'impianto di scribing laser 22 comprende un'unità di ripresa televisiva 98 con due telecamere lineari 99a e 99b, illuminatori ed elaboratori di immagine, non mostrati nelle figure. Le immagini acquisite vengono bloccate ed analizzate sulla base di trasformate di Fourier in funzione delle righe trattate e della spaziatura fra le righe per verificare la presenza di danneggiamenti visibili dovuti al trattamento e per fornire ad un operatore della consolle 28, tramite uno schermo ed altri dispositivi di segnalazione, indicazioni su parametri associati al trattamento. The laser scribing plant 22 comprises a television recording unit 98 with two linear cameras 99a and 99b, illuminators and image processors, not shown in the figures. The acquired images are blocked and analyzed on the basis of Fourier transforms as a function of the lines treated and the spacing between the lines to verify the presence of visible damage due to the treatment and to provide an operator with the console 28, via a screen and other devices reporting, indications on parameters associated with the treatment.
In particolare l'impianto à ̈ in grado di realizzare uno scribing efficace per la riduzione delle perdite ed il miglioramento delle caratteristiche magnetiche del lamierino, senza che vengano visibilmente modificate gli strati protettivi di rivestimento. In questo caso, l'unità di ripresa televisiva viene usata per segnalare l'insorgere di tracce di scribing visibili. In particular, the plant is able to create an effective scribing for the reduction of losses and the improvement of the magnetic characteristics of the sheet, without visibly modifying the protective coating layers. In this case, the TV camera unit is used to signal the emergence of visible scribing traces.
In alternativa, l'impianto può realizzare uno scribing visibile e l'unità di ripresa televisiva viene usata per dare informazioni dirette a regolarizzare le tracce visibili secondo le specifiche di progetto. Alternatively, the system can create visible scribing and the television recording unit is used to provide information aimed at regularizing the visible traces according to the project specifications.
Naturalmente, fermo restando il principio del trovato, le forme di attuazione ed i particolari di realizzazione potranno essere ampiamente modificati rispetto a quanto à ̈ stato descritto ad illustrato a puro titolo non limitativo, senza per questo uscire dall'ambito della presente invenzione. Naturally, the principle of the invention remaining the same, the embodiments and construction details may be amply modified with respect to what has been described and illustrated herein purely by way of non-limiting, without thereby departing from the scope of the present invention.
A titolo di esempio, il dispositivo di aspirazione e protezione con soffiatore per generare la lamina gassosa può applicarsi anche ad un impianto in cui la focalizzazione del fascio sul nastro sia affidata ad una o più lenti cilindriche affacciate ad una o più finestre del piano di supporto. By way of example, the suction and protection device with blower to generate the gaseous sheet can also be applied to a system in which the focus of the beam on the belt is entrusted to one or more cylindrical lenses facing one or more windows of the support plane. .
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ITTO2008A000572A IT1394890B1 (en) | 2008-07-25 | 2008-07-25 | SCRIBING LASER PLANT FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNETIC SIDES |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ITTO2008A000572A IT1394890B1 (en) | 2008-07-25 | 2008-07-25 | SCRIBING LASER PLANT FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNETIC SIDES |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ITTO20080572A1 true ITTO20080572A1 (en) | 2010-01-26 |
IT1394890B1 IT1394890B1 (en) | 2012-07-20 |
Family
ID=40852365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ITTO2008A000572A IT1394890B1 (en) | 2008-07-25 | 2008-07-25 | SCRIBING LASER PLANT FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNETIC SIDES |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
IT (1) | IT1394890B1 (en) |
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IT1394890B1 (en) | 2012-07-20 |
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