FR3115157A1 - Verre texture pour installation photovoltaique - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 66
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 13
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 2
- 206010052128 Glare Diseases 0.000 description 20
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 18
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013084 building-integrated photovoltaic technology Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000013100 final test Methods 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000135 prohibitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02366—Special surface textures of the substrate or of a layer on the substrate, e.g. textured ITO/glass substrate or superstrate, textured polymer layer on glass substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
- H01L31/0392—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02S—GENERATION OF ELECTRIC POWER BY CONVERSION OF INFRARED RADIATION, VISIBLE LIGHT OR ULTRAVIOLET LIGHT, e.g. USING PHOTOVOLTAIC [PV] MODULES
- H02S20/00—Supporting structures for PV modules
- H02S20/20—Supporting structures directly fixed to an immovable object
- H02S20/22—Supporting structures directly fixed to an immovable object specially adapted for buildings
- H02S20/26—Building materials integrated with PV modules, e.g. façade elements
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/425—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B10/00—Integration of renewable energy sources in buildings
- Y02B10/10—Photovoltaic [PV]
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Civil Engineering (AREA)
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- Structural Engineering (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
Substrat (3) translucide à fonction verrière, adapté pour servir d’élément de couverture à une cellule photovoltaïque (2), ledit substrat (3) comprenant au moins une surface texturée (3A) destinée à être orientée vers l’extérieur d’un bâtiment et caractérisée en ce que pour toute orientation (θ ; φ) de texture, la fraction de surfaces locales ayant ladite orientation (θ ; φ) de texture est inférieure ou égale à 2x10-4 d’une surface d’échantillonnage donnée Figure pour l’abrégé : Fig. 1
Description
La présente invention concerne un substrat translucide à fonction verrière, adapté pour recouvrir une cellule photovoltaïque.
L’invention concerne de plus une installation photovoltaïque intégrant un tel substrat et étant adaptée pour être intégrée au bâtiment, pour montage en façade et/ou en toiture, en vue de produire de l’électricité.
Rendre les bâtiments énergétiquement indépendants et réduire leur empreinte écologique est un des défis principaux de développement des villes et de la construction moderne. Les panneaux photovoltaïques (panneaux PV) représentent une source importante d’énergie renouvelable. Néanmoins, leur utilisation dans les bâtiments est souvent limitée en raison des difficultés rencontrées pour intégrer de tels panneaux PV dans les bâtiments, tant d’un point de vue esthétique que d’un point de vue structurel. Ainsi, l’apparence des cellules photovoltaïques classiques, donnée par la couleur bleue foncé de silicium et les contacts électriques en argent sur la surface, n’est pas considérée comme attractive pour les façades et les toitures de ville. Dans ce contexte, le photovoltaïque intégré aux bâtiments (acronyme anglais BIPV) comprend l’utilisation de solutions structurales, esthétiques et architecturales pour assurer une intégration harmonieuse de cellules photovoltaïques dans différents types de bâtiments.
Une piste explorée pour modifier drastiquement l’apparence d’un panneau photovoltaïque sans changer le milieu actif en silicium, consiste à modifier son élément de couverture, c’est-à-dire le système optique, souvent conçu en verre (coverglassen langue anglaise), qui est agencé au-dessus de la cellule photovoltaïque de sorte qu’il recouvre cette dernière, tel que vu depuis l’extérieur du bâtiment.
La mise en œuvre d’un tel élément de couverture permet de protéger mécaniquement et chimiquement la cellule photovoltaïque tout en conservant des performances satisfaisantes de transmission lumineuse. Il importe en effet qu’un tel élément de couverture présente une transmission lumineuse effective, de sorte qu’une partie significative des rayons incidents soit réfractée et transmise à travers l’élément de couverture. Les cellules photovoltaïques ayant traditionnellement un indice optique très haut, le verre permet de plus d’augmenter leurs performances par un effet de gradient d’indice optique.
Une stratégie pour augmenter le rendement de conversion énergétique d’une cellule photovoltaïque consiste à améliorer les propriétés de transmission de l’élément de couverture, en limitant notamment la réflexion du rayonnement solaire incident. A cet effet, il est connu de texturer au moins la face de l’élément de couverture dirigée à l’opposé de la cellule photovoltaïque, en la munissant d’une pluralité de motifs géométriques en relief, concaves ou convexes par rapport à un plan général de cette face. Au sens de l’invention, le plan général du substrat est le plan contenant les points de la surface texturée qui n’appartiennent pas aux motifs ou, dans le cas de motifs jointifs, les points de jonction entre les motifs. Il est ainsi connu de mettre en œuvre des motifs réguliers en forme de pyramides ou des cônes, ou encore des motifs présentant une direction longitudinale privilégiée, tels que des rainures ou des nervures.
Un inconvénient majeur des vitrages extérieurs standards est qu’ils peuvent générer des risques d’éblouissement, avec des conséquences en termes de sécurité, par exemple lorsque des phares de véhicules se reflètent sur des façades vitrées de bâtiments. Ce problème se pose tout particulièrement pour les façades vitrées en proximité des aéroports. Il est en effet essentiel de supprimer tout risque d’éblouissement des pilotes à l'approche des terminaux.
Il est établi qu’un éblouissement est perçu par l’œil humain pour un niveau de luminance supérieur à 10000 candelas par mètre carré (cd/m2). Cet éblouissement devient particulièrement gênant au-dessus d’une valeur de 20000 cd/m2.
La texturation de la face extérieure du vitrage permet de réduire le risque d’éblouissement, en engendrant une réflexion au moins en partie diffuse des rayons incidents. En dépit de cette amélioration, et tel que détaillé dans la suite de la description, les surfaces texturées connues de l’état de la technique tendent, au moins sous un certain angle de vue, à engendrer un niveau de luminance supérieur à cette valeur seuil de 20000 cd/m2.
La technique proposée permet de répondre aux inconvénients précédemment cités et se rapporte plus particulièrement, dans au moins un mode de réalisation, à un substrat translucide à fonction verrière, adapté pour servir d’élément de couverture à une cellule photovoltaïque, ledit substrat comprenant au moins une surface texturée destinée à être orientée vers l’extérieur d’un bâtiment et caractérisée en ce que pour toute orientation (θ ; φ) de texture, la fraction de surfaces locales ayant ladite orientation (θ ; φ) de texture est inférieure ou égale à 2x10-4d’une surface d’échantillonnage donnée, ou préférentiellement 1x10-4, encore préférentiellement 5x10-5.
Dans le présent texte, le substrat à fonction verrière est dit translucide en ce qu’il donne lieu à une transmission diffuse d’un rayonnement incident. Une surface texturée est une surface pour laquelle les irrégularités de surface varient à une échelle plus grande que la longueur d’onde du rayonnement incident sur la surface.
Dans l’ensemble du texte, l’orientation de texture en un point de la surface (locale) du substrat désigne l’orientation (θ ; φ) du vecteur normal local (n), c’est-à-dire le vecteur normal (n) au plan tangent à cette surface texturée locale. De manière générale, cette orientation est définie par rapport au plan général du substrat (π). La est une représentation schématique tridimensionnelle d’un tel vecteur normal local (n), en un point (P) de la surface texturée. Le vecteur normal local (n) peut en particulier être désigné par ses coordonnées sphériques, pour lesquelles θ (thêta) est l’angle formé par ce vecteur par rapport à la normale au plan général (π) du substrat, et φ (phi) est l’angle formé avec l’axe des x dans le plan général (π) du substrat. La est une coupe de la selon le plan comprenant l’axe vertical z et le vecteur normal local (n).
Dans l’ensemble du texte, deux surfaces locales sont dites « de même orientation (θ ; φ) de texture » si les deux vecteurs normaux locaux correspondants forment un angle inférieur à 0,5°. La fraction de surfaces locales ayant une même orientation (θ ; φ) de texture désigne ainsi un ensemble dans lequel chaque surface locale présente un vecteur normal formant un angle inférieur à 0,5° avec les vecteurs normaux de toutes les autres surfaces locales comprises dans ce même ensemble.
La mesure de l’orientation (θ ; φ) de texture d’une surface locale est réalisé à partir d’une mesure de la hauteur locale de la surface, selon un maillage de point de 20 micromètres, dans deux directions orthogonales de l’espace appelées par la suite x et y. Cette mesure est ensuite traitée informatiquement afin de supprimer les ondulations de grand pas (en général supérieur à 10 mm voire supérieur à 15 mm). A partir de cette matrice bidimensionnelle de hauteur, l’orientation de texture locale selon deux directions x et y est obtenue par différenciation entre deux points consécutifs du maillage dans la direction d’intérêt, et division par le pas du maillage. On obtient ainsi un vecteur bidimensionnel en chaque point de la surface maillée, dans l’espace x y. Il est ensuite plus pratique de le convertir dans l’espace (thêta, phi), en utilisant des formules connues de l’état de l’art. En notant n le vecteur, et nxet nyles composantes calculées précédemment, peut obtenir thêta et phi comme thêta=acos(1/sqrt(1+nx²+ny²)) et phi=atan2(-ny/sqrt(nx²+ny²),-nx/sqrt(nx²+ny²)). On obtient ainsi un angle thêta et un angle phi pour chaque point de la surface maillée.
L’invention repose sur un concept nouveau et inventif consistant à mettre en œuvre un substrat dont la texturation est telle qu’aucune orientation de texture ne prédomine de manière perceptible pour l’œil humain, en particulier en terme d’éblouissement. Concrètement, ceci se traduit par la mise en œuvre d’une distribution d’orientation (θ ; φ) de texture telle qu’aucune valeur d’orientation de texture n’est représentée au-delà d’un seuil prédéterminé, ce seuil correspondant au degré d’exigence fixé en terme de réduction des risques d’éblouissement.
De manière surprenante, il a en effet été constaté par les inventeurs que l’existence d’un éblouissement résultant de la réflexion des rayons solaires sur une surface texturée ne dépend ni des valeurs de pente mesurées localement, ni même de l’orientation (θ ; φ) locale de sa texture. Peu importe cette orientation de texture à l’échelle locale, il se trouve toujours une zone de concentration des rayons réfléchis pour, à l’échelle macroscopique, créer un risque d’éblouissement.
En ciblant la distribution des orientations locales de texture, sur une surface texturée étendue, l’invention permet ainsi de disperser suffisamment les zones de concentration des rayons localement réfléchis pour, à l’échelle macroscopique, limiter dans toutes les directions les risques d’éblouissement.
Dans cette optique, et tel que détaillé dans la description, un programme de recherche a été mis en œuvre par les inventeurs afin de déterminer une pluralité de valeurs seuil de fraction de surfaces locales ayant une orientation de texture donnée, au-dessus desquelles un risque d’éblouissement est identifié comme perceptible par l’œil humain et/ou plus ou moins gênant.
En résulte la sélection de 2 x 10-4comme valeur seuil de fraction de surfaces locales ayant une orientation quelconque en-dessous de laquelle il n’est pas constaté de gêne particulière liée à l’éblouissement, peu importe le positionnement de l’observateur et celui de la source de lumière.
Selon un mode de réalisation particulier, ladite surface d’échantillonnage est supérieure ou égale à 5x5 cm2. La surface d’échantillonnage étant une sous-composante de la surface texturée (3A), cette dernière est donc incidemment supérieure ou égale à 5x5 cm2.
Selon un mode de réalisation particulier, la fraction de surfaces locales ayant ladite orientation (θ ; φ) de texture est inférieure ou égale à 1 x 10-4, préférentiellement inférieure ou égale à 5 x 10-5.
La valeur de 1 x 10-4est identifiée comme valeur seuil de fraction de surfaces locales ayant une orientation quelconque en-dessous de laquelle le phénomène d’éblouissement n’est pas perceptible par l’œil humain, peu importe le positionnement de l’observateur et celui de la source de lumière. La valeur de 5 x 10-5est identifiée comme valeur seuil de fraction de surfaces locales ayant une orientation quelconque en-dessous de laquelle le phénomène d’éblouissement n’est perceptible ni par l’œil humain, ni par une autre cible ayant une sensibilité accrue à la luminance, peu importe le positionnement de l’observateur et celui de la source de lumière.
Selon un mode de réalisation particulier, la hauteur maximale (Sz) de ladite surface texturée (3A) est inférieur à 1,1 mm.
La hauteur maximale (Sz) d’une surface texturée est définie par la norme ISO 25178 et correspond à la différence entre son point le plus bas et son point le plus haut.
Comme indiqué dans le texte, la capacité d’un substrat selon l’invention à limiter les risques d’éblouissement ne dépend pas de la hauteur maximale Sz de sa texture de surface, mais davantage de la distribution des orientations de texture sur l’ensemble de la surface considérée. A condition que le critère fixé sur cette distribution d’orientation de texture soit respecté, il est ainsi possible de mettre en œuvre l’invention pour une texturation de très faible profondeur (hauteur Sz), en particulier une texturation dont la hauteur maximale Sz est inférieure à 1,1 mm.
Selon un mode de réalisation particulier, l’épaisseur dudit substrat est inférieure ou égale à 4,0 mm, préférentiellement inférieure ou égale à 3,6 mm, préférentiellement inférieure ou égale à 3,4 mm, préférentiellement inférieure ou égale à 3,2 mm.
Comme décrit dans le présent texte, une texturation selon l’invention a pour avantage de pouvoir être mise en œuvre avec une faible, voire très faible profondeur (hauteur) de motif. Il est ainsi possible de texturer un substrat dont l’épaisseur est elle aussi faible (4,0 mm), voire très faible (3,2 mm), sans impacter de manière rédhibitoire ses propriétés physiques, en particulier ses caractéristiques de résistance mécanique.
Selon un mode de réalisation particulier, en tout point de ladite surface d’échantillonnage, le rayon de courbure est supérieur à 300 micromètres pour une courbure orientée vers l’extérieur du substrat, et supérieur à 200 micromètres pour une courbure orientée vers l’intérieur du substrat.
Dans le présent texte, on entend par courbure « orientée vers l’extérieur du substrat » une courbure concave négative, et par courbure « orientée vers l’intérieur du substrat » une courbure convexe positive.
Dans la pratique, la courbure est obtenue en dérivant la surface maillée de la même manière que précédemment, mais à l’ordre 2. On obtient alors trois matrices selon que l’on dérive deux fois dans la direction x, une fois selon x et une fois selon y, et deux fois selon y. On a donc un vecteur à trois composantes Cxx, Cxyet Cyy, et l’on peut calculer la courbure moyenne locale en chaque point, et en déduire le rayon de courbure correspondant ainsi que l’orientation de la courbure, vers l’intérieur ou l’extérieur
Selon un mode de réalisation particulier, l’orientation (θ ; φ) de texture représentée au maximum présente un angle θ (thêta) égal à 0°.
Tel que décrit dans le présent texte, θ (thêta) est l’angle formé entre le vecteur normal local et la normale au plan général du substrat. Une valeur d’angle θ nulle désigne ainsi une surface qui, localement, est parallèle au plan général du substrat.
Selon un mode de réalisation particulier, l’orientation (θ ; φ) de texture représentée au maximum présente un angle θ (thêta) égal à 45°.
Selon un mode de réalisation particulier, au moins 50% de la surface d’échantillonnage présente une orientation (θ ; φ) de texture dont l’angle θ (thêta) est supérieur à 30°.
Une telle surface texturée permet de piéger la lumière incidente et ainsi d’augmenter les performances de la cellule photovoltaïque.
Selon un mode de réalisation particulier, pour tout angle φ (phi), la distribution des orientations de texture selon l’angle θ (thêta) est identique, ou sensiblement identique.
La perception des reflets à la surface du substrat est donc la même, ou sensiblement la même (en terme de perception humaine), peu importe l’orientation du substrat selon sa composante φ (phi). On parle ici de comportement isotrope du vitrage.
Selon un mode de réalisation particulier, la surface texturée (3A) est au moins en partie revêtue d’un revêtement antireflet.
Ce revêtement antireflet peut être de tout type permettant de réduire la réflexion de rayonnement à l'interface entre deux milieux optiques. Il peut se présenter sous la forme d'une couche d'indice de réfraction compris entre l'indice de réfraction de l'air et l'indice de réfraction du substrat, telle qu’une couche déposée par une technique sous vide ou une couche poreuse de type sol-gel. En variante, le revêtement antireflet peut être formé par un empilement de couches minces ayant des indices de réfraction alternativement plus faibles et plus forts jouant le rôle d'un filtre interférentiel à l'interface entre l'air et le substrat, ou par un empilement de couches minces présentant un gradient, continu ou échelonné, d’indices de réfraction entre l'indice de réfraction de l'air et celui du substrat.
La présence d’un revêtement antireflet permet donc d’atténuer le phénomène de réflexion au niveau de la surface texturée du substrat. Les risques d’éblouissement en réflexion sont donc réduits.
Selon un mode de réalisation particulier, ladite surface texturée recouvre sensiblement la totalité d’au moins une des faces principales du substrat à fonction verrière.
Selon un mode de réalisation particulier, la surface destinée à être orientée vers la cellule photovoltaïque, et opposée à ladite surface texturée (3A), est lisse ou texturée.
Selon un mode de réalisation particulier, le matériau comprenant ladite surface texturée est un verre minéral qui comprend préférentiellement de l’oxyde de fer en une teneur pondérale totale (exprimée en Fe2O3) d’au plus 0,030%, notamment d’au plus 0,020%, voire 0,015%, et qui est préférentiellement de type silico-sodocalcique avec la composition massique suivante :
SiO2 50-75%
CaO 5-15%
MgO 0-10%
Na2O 10-20%
Al2O3 0-5%
K2O 0-5%.
SiO2 50-75%
CaO 5-15%
MgO 0-10%
Na2O 10-20%
Al2O3 0-5%
K2O 0-5%.
Les présentes caractéristiques se rapportent à des verres de type extra-clair, et plus particulièrement aux matrices verrière DiamantTMet AlbarinoTM, commercialisées par Saint-Gobain. Ces substrats de verre ont pour avantage de présenter une transmission lumineuse supérieure à 91,4%. Ils se distinguent ainsi des verres dits « clairs » dont la transmission lumineuse est généralement inférieure à 90%. Dans l’ensemble du texte, la transmission lumineuse est mesurée en % selon la norme NF EN410-2011 (illuminant D65 ; 2° Observateur) avec un spectromètre Lambda950TM de chez Perkin Elmer. Un verre d’une telle composition présente donc d’excellentes performances en transmission lumineuse, ce qui en fait un candidat de choix pour servir d’élément de couverture à une cellule photovoltaïque.
L’invention se rapporte également à un procédé de fabrication d’un tel substrat par laminage par un rouleau imprimeur texturé qui supporte préférentiellement des motifs ayant une pente locale supérieure à la pente locale de ladite surface texturée, préférentiellement d’au moins 0,5°.
Les pentes réalisées sur un verre minéral par laminage à chaud, généralement dans un domaine de température allant de 800 à 1300°C, diminuent légèrement pendant le formage. Ainsi, si l’on vise au niveau de la feuille de verre une pente moyenne de valeur Pm, on utilise de préférence un rouleau imprimeur dont les motifs ont une pente moyenne d’au moins Pm + 0,5°, voire même d’au moins Pm + 1°. Plus les motifs de la texture sont gros, c’est-à-dire plus les dimensions latérales x et y sont grandes, et plus la texture effectivement imprimée se rapproche de celle du rouleau et moins il est nécessaire d’apporter une correction aux motifs du rouleau.
L’invention se rapporte également à une installation photovoltaïque adaptée pour être intégrée au bâtiment, caractérisée en ce qu’elle comprend une cellule photovoltaïque recouverte au moins en partie par un tel substrat translucide.
L’invention se rapporte également au montage en bâtiment, en façade et/ou en toiture, d’au moins une telle installation photovoltaïque.
L’invention se rapporte également à l’utilisation d’une telle installation photovoltaïque, préférentiellement montée en bâtiment, pour la production d’énergie électrique.
D’autres caractéristiques et avantages de l’invention apparaîtront à la lecture de la description suivante de modes de réalisation particuliers, donnés à titre de simples exemples illustratifs et non limitatifs, et des figures annexées, pour lesquelles :
la est une représentation schématique du vecteur normal (n) à une surface texturée locale,
la est une vue schématique en coupe de la selon le plan contenant l’axe (z) normal au plan général (π) du substrat et le vecteur normal local (n),
la est une coupe transversale schématique d’une installation photovoltaïque (1) adaptée pour être intégrée au bâtiment,
les Figures 4 et 5 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations locales de texture obtenus après mise en œuvre d’un premier essai, selon un mode de réalisation particulier de l’invention,
les Figures 6 et 7 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations locales de texture obtenus après mise en œuvre d’un deuxième essai, selon un mode de réalisation particulier de l’invention,
les Figures 8 et 9 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations locales de texture obtenus après mise en œuvre d’un troisième essai, selon un mode de réalisation particulier de l’invention,
les Figures 10 et 11 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations locales de texture obtenus après mise en œuvre d’un quatrième essai, selon un mode de réalisation non couvert par l’invention.
Les différents éléments illustrés par les figures ne sont pas nécessairement représentés à l’échelle réelle, l’accent étant davantage porté sur la représentation du fonctionnement général de l’invention. Sur les différentes figures, sauf indication contraire, les numéros de référence qui sont identiques représentent des éléments similaires ou identiques.
Plusieurs modes de réalisation particuliers de l’invention sont présentés par la suite. Il est entendu que la présente invention n’est nullement limitée par ces modes de réalisation particuliers et que d’autres modes de réalisation peuvent parfaitement être mis en œuvre.
La illustre selon une vue schématique en coupe une installation photovoltaïque (1) adaptée pour être intégrée au bâtiment. Une telle installation (1) comprend une cellule photovoltaïque (2) recouverte par un substrat transparent ou translucide (3) selon l’invention. Cette cellule photovoltaïque bénéficie des effets techniques liés à la mise en œuvre du substrat texturé. Ainsi, les rayons lumineux frappant la surface extérieure du substrat (3) ne sont que partiellement réfléchis et/ou absorbés, en raison notamment de la texturation de surface avantageuse du substrat, et de sa composition en verre de type extra-clair.
De par la réflexion diffuse, une partie des rayons solaires incidents est ainsi réfléchie de manière diffuse à la surface du substrat, ce qui permet de limiter l’éblouissement et la génération de points chauds.
De par sa transmission spéculaire, une autre partie des rayons incidents est réfractée et transmise à travers le substrat de manière spéculaire, ce qui permet de limiter les pertes énergétiques, et donc de maximiser l’exposition de la cellule photovoltaïque (2).
La mise en œuvre d’un tel substrat (3) permet donc d’obtenir des performances satisfaisantes de transmission lumineuse tout en limitant les risques d’éblouissement en réflexion.
Ajouter à cela un effet de piégeage de lumière au niveau de la face interne du substrat (3). Concrètement, après avoir traversé ce substrat (3) une première fois, une première partie des rayons incidents est absorbée par la cellule photovoltaïque (2), tandis qu’une seconde partie est réfléchie vers ce même substrat (3). Une sous-partie de cette lumière réfléchie est alors rétro-réfléchie par le substrat (3) vers la cellule photovoltaïque (2), ce qui permet d’améliorer plus encore son rendement énergétique ou en d’autres termes, d’optimiser sa production d’énergie électrique.
Sur la sont représentés les composantes angulaires θ (thêta) d’une pluralité de vecteurs normaux locaux (n1, n2, n3, nx) se rapportant à différentes surfaces locales de la surface texturée (3A).
Afin d’évaluer le rôle joué par la distribution d’orientation (θ ; φ) de texture sur la diminution de la luminance en réflexion, une série de 3 (trois) essais est simulée informatiquement pour un substrat (3) selon l’invention. Un dernier essai est simulé informatiquement pour un substrat non conforme au critère de distribution fixé pour l’invention, à titre de contre-exemple. Ces quatre essais sont simulés dans des conditions parfaitement identiques, et ne diffèrent l’un de l’autre que par leur distribution d’orientation de texture.
Pour chaque essai, une carte des hauteurs locales ainsi qu’un histogramme angulaire des pentes de surface sont extraits et discutés. La carte des hauteurs présente une échelle de gris graduée se rapportant aux hauteurs simulées informatiquement sur la surface d’échantillonnage. L’histogramme angulaire des orientations locales de texture présente une échelle de gris se rapportant à la concentration des surface locales présentation l’orientation (θ ; φ) donnée dans l’histogramme, les cercles concentriques se rapportant à la valeur de l’angle θ (thêta), croissante depuis l’intérieur vers l’extérieur de l’histogramme, tandis que les valeurs du cadran se rapportent à la valeur de l’angle φ (phi).
A noter que dans la pratique, et de manière non limitative, la mesure de l’orientation de texture (θ ; φ) d’une surface locale est réalisée à partir d’une mesure de la hauteur locale de la surface, selon un maillage de point d’au plus 20 micromètres (µm) dans deux directions orthogonales de l’espace appelées par la suite x et y. Les ondulations de grand pas (en général supérieur à 10 mm voire supérieur à 15 mm) sont par la suite supprimées par traitement informatique. A partir de cette matrice bidimensionnelle de hauteur, l’orientation de texture locale selon deux directions x et y est obtenue par différenciation entre deux points consécutifs du maillage dans la direction d’intérêt, et division par le pas du maillage. On obtient ainsi un vecteur bidimensionnel en chaque point de la surface maillée, dans l’espace x y. Il est ensuite plus pratique de le convertir dans l’espace (thêta, phi), en utilisant des formules connues de l’état de l’art. En notant n le vecteur, et nx et ny les composantes calculées précédemment, peut obtenir thêta et phi comme thêta=acos(1/sqrt(1+nx²+ny²)) et phi=atan2(-ny/sqrt(nx²+ny²),-nx/sqrt(nx²+ny²)). On obtient ainsi un angle thêta et un angle phi pour chaque point de la surface maillée.
Les Figures 4 et 5 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations (θ ; φ) locales de texture obtenus après mise en œuvre du premier essai. Selon ce premier essai, l’orientation (θ ; φ) présentant la distribution la plus élevée ou en d’autres termes, l’orientation (θ ; φ) de texture représentée au maximum, présente un angle θ (thêta) égal à 0°, bien qu’une quantité suffisante de la surface a été écartée de cette direction pour fournir la faible luminance de la réflexion du soleil dans n'importe quelle direction. L'orientation de texture la plus représentée (θ = 0° ; φ) n'occupe que 1x10-4de la surface texturée (3A), ce qui conduit expérimentalement à une valeur de luminance de 4500 cd/m², observé expérimentalement pour le soleil entrant sous des angles inférieurs à 30°. Dans la pratique, une telle valeur est mesurée au moyen d’un luminancemètre MinoltaTMun jour de plein soleil en juin.
Une orientation de la texture à θ = 0° favorise en particulier la transmission de rayons incidents orientés selon une direction sensiblement orthogonale au plan général du substrat ou en d’autres termes, dont la composante θ (thêta) est égale ou proche de 0°. Dans la pratique, on retrouve une telle configuration dans les montages d’installations photovoltaïque en toiture, qui sont donc ici privilégiés.
On observe de plus sur l’histogramme angulaire des orientations (θ ; φ) locales de texture ( ) une symétrie centrale ainsi que selon toutes les directions de φ (phi), qui témoigne du fait que pour tout angle φ (phi), la distribution des orientations de texture selon l’angle θ (thêta) est identique. Une surface texturée selon ce premier essai présente donc un comportement isotrope.
Les Figures 6 et 7 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations (θ ; φ) locales de texture obtenus après mise en œuvre du deuxième essai. Selon ce deuxième essai, une grande partie de la surface (plus de 50%) est maintenue à des orientations de texture de composante angulaire θ élevée (environ 50°). La distribution de ces orientations est cependant étalée selon les angles θ et φ, de sorte que l'orientation de texture la plus représentée n'occupe que 4x10-5de la surface texturée (3A). On obtient une luminance de 1500 cd/m². Cette configuration est mieux adaptée aux montages en façades pour lesquels les effets de piégeage de la lumière dus à la présence de pentes avec des angles θ élevés sont favorisés.
On observe de plus sur l’histogramme angulaire des orientations (θ ; φ) locales de texture ( ) une symétrie centrale ainsi que de très faibles variations de l’angle θ en fonction de l’angle φ, non perceptibles par l’œil humain. Une surface texturée selon ce deuxième essai présente donc un comportement sensiblement isotrope.
Les Figures 8 et 9 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations (θ ; φ) locales de texture obtenus après mise en œuvre du troisième essai. Selon ce troisième essai, les motifs mis en œuvre sont de forme pyramidale à base carrée et l’orientation (θ ; φ) présentant la distribution la plus élevée présente un angle θ (thêta) égal à 45°. L'étalement angulaire selon θ est moins efficace que selon le deuxième essai, avec une fraction de 8,2 x 10-5de la surface texturée (3A) ainsi orientée, ce qui conduit expérimentalement à un maximum de 3500 cd/m2 observé expérimentalement pour le soleil entrant sous des angles inférieurs à 30. On est donc loin des valeurs d’éblouissement pouvant occasionner une gêne pour l’œil humain. A noter qu’une telle texture, bien qu’elle soit moins performante en terme de réduction des risques d’éblouissement qu’une structure selon le deuxième essai, présente l’avantage d’être plus aisée à produire, en raison de la régularité de ses motifs (voir ).
Les Figures 10 et 11 sont respectivement la carte des hauteurs locales ainsi que l’histogramme angulaire des orientations (θ ; φ) locales de texture obtenus après mise en œuvre d’un quatrième essai, non couvert par la présente invention.
Selon ce quatrième essai, à valeur de contre-exemple, l'orientation de texture la plus représentée (θ = 0° ; φ) occupe 3 x 10-3de la surface texturée (3A) ce qui, bien qu’étant en apparence une fraction négligeable, conduit à une luminance de 1,5 x 105cd/m², et donc à un éblouissement à éviter.
Selon ce quatrième essai, à valeur de contre-exemple, l'orientation de texture la plus représentée (θ = 0° ; φ) occupe 3 x 10-3de la surface texturée (3A) ce qui, bien qu’étant en apparence une fraction négligeable, conduit à une luminance de 1,5 x 105cd/m², et donc à un éblouissement à éviter.
Claims (16)
1. Substrat (3) translucide à fonction verrière, adapté pour servir d’élément de couverture à une cellule photovoltaïque (2), ledit substrat (3) comprenant au moins une surface texturée (3A) destinée à être orientée vers l’extérieur d’un bâtiment et caractérisée en ce que pour toute orientation (θ ; φ) de texture, la fraction de surfaces locales ayant ladite orientation (θ ; φ) de texture est inférieure ou égale à 2x10-4d’une surface d’échantillonnage donnée.
2. Substrat (3) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la hauteur maximale (Sz) de ladite surface texturée (3A) est inférieur à 1,1 mm.
3. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que l’épaisseur dudit substrat (3) est inférieure ou égale à 4,0 mm.
4. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu’en tout point de ladite surface d’échantillonnage, le rayon de courbure est supérieur à 300 micromètres pour une courbure orientée vers l’extérieur du substrat, et supérieur à 200 micromètres pour une courbure orientée vers l’intérieur du substrat.
5. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l’orientation (θ ; φ) de texture représentée au maximum présente un angle θ (thêta) égal à 0°.
6. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l’orientation (θ ; φ) de texture représentée au maximum présente un angle θ (thêta) égal à 45°.
7. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que au moins 50% de la surface d’échantillonnage présente une orientation (θ ; φ) de texture dont l’angle θ (thêta) est supérieur à 30°.
8. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que pour tout angle φ (phi), la distribution des orientations de texture selon l’angle θ (thêta) est identique.
9. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que la surface texturée (3A) est au moins en partie revêtue d’un revêtement antireflet.
10. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que ladite surface texturée (3A) recouvre la totalité d’au moins une des faces principales du substrat (3) à fonction verrière.
11. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que la surface (3B) destinée à être orientée vers la cellule photovoltaïque (2), et opposée à ladite surface texturée (3A), est lisse ou texturée.
12. Substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que le matériau comprenant ladite surface texturée (3A) est un verre minéral.
13. Procédé de fabrication d’un substrat (3) selon l’une des revendications 1 à 12 par laminage par un rouleau imprimeur texturé qui supporte préférentiellement des motifs ayant une pente locale supérieure à la pente locale de ladite surface texturée, préférentiellement d’au moins 0,5°.
14. Installation photovoltaïque (1) adaptée pour être intégrée à un bâtiment, caractérisée en ce qu’elle comprend une cellule photovoltaïque (2) recouverte au moins en partie par un substrat translucide (3) selon l’une des revendications 1 à 12.
15. Procédé comprenant au moins une étape de montage en bâtiment, en façade et/ou en toiture, d’au moins une installation photovoltaïque (1) selon la revendication 14.
16. Utilisation d’une installation photovoltaïque (1) selon la revendication 14, préférentiellement montée en bâtiment selon la revendication 15, pour la production d’énergie électrique.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR2010295A FR3115157A1 (fr) | 2020-10-08 | 2020-10-08 | Verre texture pour installation photovoltaique |
EP21807164.5A EP4192795A1 (fr) | 2020-10-08 | 2021-10-08 | Verre texture pour installation photovoltaique |
US18/247,043 US20230317865A1 (en) | 2020-10-08 | 2021-10-08 | Textured glass for photovoltaic installation |
PCT/FR2021/051752 WO2022074346A1 (fr) | 2020-10-08 | 2021-10-08 | Verre texture pour installation photovoltaique |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR2010295 | 2020-10-08 | ||
FR2010295A FR3115157A1 (fr) | 2020-10-08 | 2020-10-08 | Verre texture pour installation photovoltaique |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR3115157A1 true FR3115157A1 (fr) | 2022-04-15 |
Family
ID=74758885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR2010295A Withdrawn FR3115157A1 (fr) | 2020-10-08 | 2020-10-08 | Verre texture pour installation photovoltaique |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230317865A1 (fr) |
EP (1) | EP4192795A1 (fr) |
FR (1) | FR3115157A1 (fr) |
WO (1) | WO2022074346A1 (fr) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2020-10-08 FR FR2010295A patent/FR3115157A1/fr not_active Withdrawn
-
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- 2021-10-08 EP EP21807164.5A patent/EP4192795A1/fr not_active Withdrawn
- 2021-10-08 US US18/247,043 patent/US20230317865A1/en active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230317865A1 (en) | 2023-10-05 |
EP4192795A1 (fr) | 2023-06-14 |
WO2022074346A1 (fr) | 2022-04-14 |
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