FR3051251A1 - Systeme d'observation d'une plaque a puits - Google Patents

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Abstract

L'invention se rapporte à un système d'observation (15) d'une plaque (10) comportant des puits (20), comportant, pour chaque puits (20): - une source (40) comprenant une diode électroluminescente (60) propre à produire un rayonnement lumineux, un sténopé (70), et un intégrateur de lumière (65) - un capteur optique (185) propre à récolter le signal optique issu du puits (20), le système (15) étant tel que : - un rapport entre la longueur et la dimension transversale moyenne (Dt) de chaque intégrateur de lumière (65) est supérieur ou égal à 2,2, ou - au moins un axe optique est décentré par rapport à la ligne de propagation, le rapport entre la longueur et la dimension transversale moyenne de l'intégrateur étant supérieur ou égal à 1,5.

Description

Système d’observation d’une plaque à puits
La présente invention concerne un système d’observation d’une plaque à puits.
Il est fréquent dans les domaines de la biologie ou de la chimie qu’un ensemble d’échantillons soient placés dans des puits pratiqués dans un support à fond transparent (également appelé « plaque à puits ») afin d’être étudiés par des méthodes optiques.
En particulier, les méthodes de microscopie holographique dans lesquelles un faisceau lumineux ayant traversé un échantillon placé dans un puits interfère avec un faisceau lumineux n’ayant pas traversé l’échantillon sont fréquemment utilisées. De telles techniques requièrent une bonne maîtrise du rayonnement lumineux utilisé pour illuminer l’échantillon afin de maintenir une quasi-cohérence spatiale et temporelle du rayonnement. D’autres méthodes non-holographiques d’observation sont également utilisées.
Cependant, l’analyse des images acquises par les systèmes d’observation est rendue difficile si le rayonnement illuminant l’échantillon n’est pas uniforme sur la surface de l’échantillon. En effet, si des variations d’intensité lumineuse sont présentes dans l’image, il est difficile de déterminer si elles sont causées par une inhomogénéité de l’échantillon ou par une illumination non uniforme.
Les inhomogénéités de l’illumination sont parfois causées par la réflexion du rayonnement sur les parois latérales du puits. D’autres inhomogénéités de l’illumination sont causées par des inhomogénéités physiques de la source de lumière, par exemple si le rayonnement émis est émis préférentiellement selon une direction particulière.
Il existe donc un besoin pour un système d’observation d’une plaque à puits permettant d’illuminer chaque puits avec un rayonnement quasi-cohérent spatialement qui soit plus uniforme que les rayonnements générés par les systèmes d’observation de l’état de la technique. A cet effet, il est proposé un système d’observation d’une plaque comportant un ensemble de puits, un axe optique étant défini pour chaque puits, le système d’observation comportant, pour chaque puits une source de rayonnement lumineux se propageant selon une ligne de propagation, la source comprenant une diode électroluminescente propre à produire un rayonnement lumineux, un sténopé, et un intégrateur de lumière propre à guider de la lumière entre deux extrémités, la première extrémité collectant le rayonnement de la diode électroluminescente et la deuxième extrémité étant en regard du sténopé, l’intégrateur de lumière présentant une longueur définie comme la distance entre les deux extrémités et une dimension transversale moyenne, l’intégrateur étant configuré pour que le rayonnement en sortie de l’intégrateur ne présente pas de gradient d’intensité supérieur à 25 pourcents. Le système comprend un capteur optique propre à récolter le signal optique issu du puits, un axe optique étant défini pour le capteur optique, le système étant tel que les axes optiques sont parallèles entre eux et au moins une des caractéristiques suivantes est vérifiée : un rapport entre la longueur et la dimension transversale moyenne de chaque intégrateur de lumière est supérieur ou égal à 2,2, ou le système d’observation comporte, pour chaque source de lumière, une lentille propre à focaliser le rayonnement vers le puits, un axe optique étant défini pour la lentille, et au moins un axe optique est décentré par rapport à la ligne de propagation, le rapport entre la longueur et la dimension transversale moyenne de l’intégrateur étant supérieur ou égal à 1,5.
Selon des modes de réalisation particuliers, le système d’observation comporte également une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles : - les diodes électroluminescentes sont montées sur un unique substrat commun à toutes les diodes électroluminescentes. - tous les intégrateurs de lumière sont venus de matière les uns avec les autres. - tous les sténopés sont ménagés dans une unique plaque opaque. - un capot configuré pour obturer chaque puits lorsque le capot est fixé à ou placé sur la plaque à puits, le capot comportant une couche chauffante transparente au rayonnement et configurée pour chauffer le capot lorsque la couche chauffante est traversée par un courant électrique. - un capot configuré pour occulter au moins partiellement chaque puits lorsque le capot est fixé à ou placé sur la plaque à puits, le capot comportant une couche occultante configurée pour ne pas être traversée par le rayonnement, une pluralité de diaphragmes configurés chacun pour être traversés par le rayonnement étant ménagés dans la couche occultante. - chaque intégrateur comporte une tige s’étendant selon la ligne de propagation, chaque tige étant délimitée par la première extrémité et la deuxième extrémité selon la ligne de propagation, chaque intégrateur comportant, en outre, deux paires de contreforts venus de matière avec la tige, les deux contreforts d’une même paire étant symétriques l’un de l’autre selon un plan contenant la ligne de propagation, la première extrémité étant interposée entre les contreforts de chaque paire. - chaque sténopé comporte un trou traversant une plaque opaque selon la ligne de propagation, et un lamage coaxial au trou, le lamage étant prévu pour accueillir la deuxième extrémité de l’intégrateur correspondant. - pour chaque puits, un diffuseur de lumière propre à diffuser le rayonnement. - un décalage entre au moins un axe optique et la ligne de propagation correspondante est compris entre 0 et 30 millimètres pour les axes optiques OA1 et OA3 et entre 0,2 et 18 millimètres pour l’axe optique OA2. - l’axe optique d’une lentille est décentré par rapport à la ligne de propagation, les axes optiques du puits et du capteur optique associés étant confondus avec la ligne de propagation. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront à la lecture de la description qui suit de modes de réalisation de l'invention, donnée à titre d'exemple uniquement et en référence aux dessins qui sont : - figure 1, une représentation schématique en coupe d’une plaque à puits et d’un exemple de dispositif d’observation de la plaque à puits, - figure 2, une vue en coupe de la plaque à puits de la figure 1, - figure 3, une vue en coupe agrandie d’un puits de la figure 2, - figure 4, une vue schématique par en-dessous d’une partie du dispositif d’illumination de la figure 1, - figure 5, une vue en perspective d’un exemple d’intégrateur de lumière, - figure 6, une vue en perspective d’un autre exemple d’intégrateur de lumière, - figure 7, une vue en coupe de l’exemple d’intégrateur de la figure 5, - figure 8, une vue en coupe de l’exemple d’intégrateur de la figure 6, - figures 9 et 10, des vues en coupe d’autres exemples d’intégrateurs de lumière, - figure 11, une vue en perspective d’un autre exemple d’intégrateur de lumière, - figure 12, une vue en perspective d’un ensemble d’intégrateurs de lumière, - figure 13, une vue en perspective d’un exemple de plaque comportant un ensemble de sténopés, - figure 14, une vue en perspective d’un autre exemple de plaque comportant un ensemble de sténopés, - figure 15, une vue en coupe de l’exemple de plaque de la figure 14, - figure 16, une vue en coupe agrandie d’un sténopé de l’exemple de plaque de la figure 14, - figure 17, un exemple de schéma électrique d’un dispositif permettant de contrôler une matrice de diodes électroluminescentes, - figures 18 à 21, des étapes d’un exemple de procédé de fabrication de l’exemple de plaque de la figure 13, - figure 22, une simulation numérique de la propagation d’un rayonnement dans un exemple d’intégrateur de lumière, - figure 23, une représentation schématique en coupe d’un autre exemple de système d’observation, - figure 24, une représentation schématique en coupe d’un autre exemple de système d’observation, - figure 25, une simulation numérique de la propagation d’un rayonnement dans un autre exemple d’intégrateur de lumière, et - figures 26 à 30, des représentations schématiques en coupe de cinq autres exemples de système d’observation.
Une plaque à puits 10 et un premier exemple d’un système d’observation 15 de la plaque à puits 10 sont représentés sur la figure 1.
La plaque à puits 10 a été représentée sans le système d’observation 15 sur la figure 2.
La plaque à puits 10 définit une pluralité de puits 20.
En particulier, la plaque à puits 10 présente une première dimension selon une première direction X, une deuxième dimension selon une deuxième direction Y et une troisième dimension selon une troisième direction Z, chaque direction étant perpendiculaire aux deux autres directions, et la troisième dimension étant strictement inférieure à un quart de chacune des deux autres dimensions. En d’autres termes, la plaque à puits 10 est délimitée par deux plans perpendiculaires à la troisième direction Z et distants de la troisième dimension. La troisième direction Z est alors appelée normale à la plaque à puits 10.
La plaque à puits 10 présente une face avant 17 et une face arrière 18.
La plaque à puits 10 est au moins partiellement réalisée en matière plastique. Par exemple, la plaque à puits 10 est réalisée en polystyrène ou en polycarbonate. La plaque à puits 10 présente, par exemple, un fond réalisé en polystyrène, en polycarbonate, en fluorocarbure ou en verre.
La pluralité de puits 20 forme une matrice bidimensionnelle. La matrice de puits 20 est, par exemple, une matrice carrée.
La matrice de puits 20 présente un premier pas P1. Le premier pas P1 est, par exemple, égal à 9 millimètres (mm).
En variante, le premier pas P1 est égal à 4,5 mm.
La matrice de puits 20 est, par exemple, une matrice comprenant 12 colonnes de 8 puits 20 soit au total 96 puits 20. En variante, la matrice de puits 20 est une matrice comprenant 24 colonnes de 16 puits 20 soit au total 384 puits.
Chaque puits 20 est identifié par sa ligne et sa colonne dans la matrice de puits 20. Par exemple, chaque ligne de la matrice de puits 20 est désignée par une lettre comprise entre A et H. Chaque colonne de la matrice de puits 20 est alors désignée par un nombre compris entre 1 et 12. Ainsi, chaque puits 20 est identifié par la combinaison de la lettre et du nombre associés respectivement à la ligne et à la colonne du puits 20, par exemple « Puits A1 », « Puits B3 » ou « Puits D6 ».
Il est entendu par « puits 20 » une anfractuosité ménagée dans la plaque à puits 10 et propre à recevoir un échantillon à analyser. En particulier, chaque puits 20 est non traversant, c’est-à-dire que chaque puits 20 présente un fond 21 étanche. L’échantillon à analyser est, par exemple un fluide. En variante, l’échantillon est un liquide, ou une solution, ou une suspension.
En variante, l’échantillon est un milieu contenant des microparticules et des nanoparticules.
Par exemple, les particules sont et/ou contiennent des cellules biologiques et/ou des composants et/ou des produits cellulaires, notamment des lignées cellulaires et/ou des cellules primaires et/ou des cellules souches et/ou des globules et/ou des organoïdes et/ou des sphéroïdes et/ou des acini et/ou des neurosphères et/ou des liposomes et/ou des noyaux cellulaires et/ou des chromosomes et/ou des brins d’ADN ou d’ARN et/ou des nucléotides et/ou des ribosomes et/ou des enzymes et/ou des anticorps et/ou des protides et/ou des protéines et/ou des peptides et/ou des principes actifs et/ou des parasites et/ou des bactéries et/ou des virus et/ou des pollens et/ou des levures et/ou des champignons et/ou des algues et/ou des polymères et/ou des facteurs biologiques et/ou des stimulants et/ou des inhibiteurs de croissance et/ou des billes en suspension dans un liquide, et/ou des bioparticules en suspension dans une solution, et/ou des molécules.
Les particules comprennent, par exemple, des particules solides insolubles dans le liquide telles que des particules magnétiques, ou des particules diélectriques telles que des microbilles de latex, ou des particules conductrices, ou des particules fonctionnalisées, ou des pigments tels que des pigments d’encre, ou des colorants, ou des cristaux de protéines, ou des poudres, ou des structures de polymères, ou des substances pharmaceutiques insolubles, ou des fibres, ou des fils, ou des nanotubes de carbone, ou des agrégats (également appelés « clusters ») de petite taille formés par agglomération de colloïdes, ou des capsules polymériques contenant éventuellement des composants biologiques ou des réactifs. L’échantillon à analyser comporte, par exemple un fluorophore, ou un chromophore, ou un réactif, ou un principe actif, ou un marqueur, ou un milieu nourricier, ou un produit chimique, un anticorps, une séquence ADN, ou une enzyme, ou un protide, ou une protéine, ou un facteur biologique, ou un stimulant ou un inhibiteur de croissance.
Chaque puits 20 présente, en outre, une ouverture 22 ménagée dans la plaque à puits 10 et propre à permettre l’injection de l’échantillon à analyser dans le puits 20. L’ouverture 22 de chaque puits 20 s’ouvre sur la face avant 17.
Une paroi latérale 23 est définie pour chaque puits 20. La paroi latérale 23 entoure le puits 20 correspondant dans un plan perpendiculaire à la normale Z. La paroi latérale 23 délimite le puits 20 correspondant dans un plan perpendiculaire à la normale Z.
Un premier axe optique OA1 est défini pour chaque puits 20. Chaque premier axe optique OA1 est parallèle à la normale Z.
Selon l’exemple de la figure 3, chaque puits 20 est en forme d’un cône droit tronqué à base circulaire. Cela signifie que le fond 21 et l’ouverture 22 de chaque puits 20 sont chacun en forme de disque, et la paroi latérale 23 est conique à base circulaire.
Le fond 21 et l’ouverture 22 de chaque puits 20 sont chacun perpendiculaires au premier axe optique OA1 du puits 20 considéré.
Le fond 21 de chaque puits 20 présente un premier diamètre D1. Le premier diamètre D1 est, par exemple, égal à 6,35 mm. L’ouverture 22 de chaque puits 20 présente un deuxième diamètre D2. Le deuxième diamètre D2 est strictement supérieur au premier diamètre D1. Le deuxième diamètre D2 est, par exemple, égal à 6,86 mm. La paroi latérale de chaque puits forme alors un angle a égale à 1,1 degré (°) avec le premier axe optiqueOAl correspondant.
En variante, chaque puits 20 est cylindrique autour du premier axe optique OA1 correspondant, par exemple cylindrique à base circulaire. Le premier diamètre D1 est alors égal au deuxième diamètre D2.
Il est entendu par « cylindrique à base circulaire >> que le puits 20 est délimité par deux plans parallèles et par une surface définie par une droite, appelée génératrice, passant par un point variable décrivant une courbe cylindrique et perpendiculaire aux deux plans.
Il est entendu par « cylindrique à base circulaire autour du premier axe optique OA1 » que le premier axe optique OA1 traverse le centre de chacun des deux disques délimités par la projection orthogonale de la génératrice sur chacun des plans. En d’autres termes, le premier axe optique OA1 traverse le centre de l’ouverture 22 et le centre du fond 21 de chaque puits 20.
En variante, le fond 21 et l’ouverture 22 de chaque puits 20 sont de forme carrée ou rectangulaire et présentent chacun deux diagonales.
Le centre d’un carré ou d’un rectangle correspond au point d’intersection de ses deux diagonales. Dans ce cas, le premier diamètre D1 est égal à la longueur d’une diagonale du fond 21, et le deuxième diamètre D2 est égal à la longueur d’une diagonale de l’ouverture 22.
Le deuxième diamètre D2 étant égal ou supérieur au premier diamètre D1, la longueur d’une diagonale du fond 21 est strictement inférieure à la longueur d’une diagonale de l’ouverture 22. Ainsi, le puits 20 est en forme de pyramide tronquée.
La paroi 23 est alors la surface latérale d’une pyramide tronquée à base carrée ou rectangulaire.
Le premier axe OA1, parallèle à la normale Z, traverse le centre de l’ouverture 22 de forme carrée ou rectangulaire et le centre du fond 21 de forme carrée ou rectangulaire de chaque puits 20.
La matrice de puits 20 définit un ensemble de cloisons 24. Chaque cloison 24 sépare un puits 20 d’un autre puits 20.
Chaque cloison 24 est délimitée par les parois latérales 23 d’au moins deux puits 20 voisins.
Le système d’observation 15 comporte un dispositif d’illumination 25, un dispositif 30 d’imagerie et un capot 35.
Le dispositif d’illumination 25 est configuré pour illuminer chaque puits 20 avec un rayonnement lumineux R respectif.
Le dispositif d’illumination 25 est disposé en regard de la plaque à puits 10. Par exemple, le dispositif d’illumination 25 et la plaque à puits 10 sont alignés selon la troisième direction Z.
Selon l’exemple de la figure 1, le dispositif d’illumination 25 est au-dessus de la plaque à puits 10, c’est-à-dire que le fond 21 d’un puits 20, l’ouverture 22 dudit puits 20 et le dispositif d’illumination 25 correspondant sont rencontrés dans cet ordre par un observateur se déplaçant selon la troisième direction Z.
En variante, le dispositif d’illumination 25 est en-dessous de la plaque à puits 10.
Le dispositif d’illumination 25 comporte une pluralité de sources 40 de lumière, un dispositif de commande 45, un substrat 50 et un dispositif de focalisation 55. En variante, le dispositif d’illumination 25 ne comporte pas de dispositif de focalisation 55.
Chaque source 40 est configurée pour émettre le rayonnement lumineux R correspondant.
Une ligne de propagation L est définie pour chaque rayonnement lumineux R. La ligne de propagation L est définie comme étant la droite selon laquelle le rayonnement lumineux R considéré se propage. Par exemple, la ligne de propagation L est un axe de symétrie du rayonnement R.
La ligne de propagation L définie pour le rayonnement R émis par chaque source 40 est, par exemple, parallèle aux lignes de propagation L définies pour les rayonnements R émis par chaque autre source 40. Par exemple, chaque ligne de propagation L est parallèle à la troisième direction Z.
Chaque source de lumière 40 est en regard d’un puits 20 correspondant. Selon l’exemple de la figure 1, la ligne de propagation L de chaque source de lumière 40 est confondue avec le premier axe optique OA1 du puits 20 correspondant.
La pluralité de sources 40 comporte, par exemple, une source 40 pour chaque puits 20.
En variante, la pluralité de sources 40 comporte une source 40 pour 4 puits 20. Par exemple, si la plaque à puits 10 comporte 384 puits 20, le dispositif d’illumination 25 comporte 96 sources 40.
La pluralité de sources 40 forme une matrice de sources 40.
Par exemple, la pluralité de sources 40 forme une matrice périodique à maille carrée.
La matrice de sources 40 présente un deuxième pas P2. Le deuxième pas P2 est égal au premier pas P1. Le deuxième pas P2 est, par exemple, égal à 9 millimètres (mm).
En variante, le deuxième pas P2 est égal à 4,5 mm.
Par exemple, chaque source 40 est identique aux autres sources 40. Une source de lumière 40 va être décrite ci-dessous.
La source 40 comprend une diode électroluminescente 60, un intégrateur de lumière 65 et un sténopé 70. Selon l’exemple de la figure 1, la source de lumière 40 comporte, en outre, un dispositif d’extraction 72.
La diode électroluminescente 60, l’intégrateur de lumière 65 et le sténopé 70 sont alignés selon la ligne de propagation L. Par exemple, la diode électroluminescente 60, l’intégrateur de lumière 65 et le sténopé 70 sont alignés selon la troisième direction Z.
Chaque diode électroluminescente 60 est propre à produire le rayonnement lumineux R. Les diodes électroluminescentes sont également connues sous l’acronyme LED (de l’anglais « Light-Emitting Diode », qui signifie « diode électroluminescente »).
Par exemple, chaque LED 60 est propre à produire un rayonnement R monochrome tel qu’un rayonnement rouge, ambre, vert, bleu ou ultraviolet.
En variante, chaque LED 60 est propre à produire un rayonnement R présentant plusieurs longueurs d’onde. Par exemple, chaque LED 60 est propre à émettre un spectre continu sur une gamme large de longueurs d’ondes tel qu’un rayonnement blanc, ou à émettre dans le rouge, le vert et le bleu, l’illumination par les longueurs d’ondes associées étant simultanées ou non.
Selon un exemple particulier, chaque LED 60 est une diode RGB (pour « red green blue » qui signifie « rouge vert bleu >>) ou une diode RGBW (pour « red green blue white » qui signifie « rouge vert bleu blanc »).
Selon un autre exemple, le rayonnement R de chaque LED 60 est adapté à un objet contenu dans un puits 20 que le dispositif d’illumination 25 est propre à illuminer. Un tel objet est, par exemple, un fluorophore.
Chaque LED 60 est propre à produire une intensité lumineuse supérieure à 1000 millicandela (mCd). La candela est une unité de mesure usuelle de l’intensité lumineuse d’une source. La candela est l'une des sept unités de base du Système international (SI).
Les LED 60 présentent les avantages d’être de petites dimensions, de faible coût, et disponibles avec des spectres lumineux divers. De plus, les temps de réaction d’une LED 60 sont faibles. De fait, les LED 60 peuvent être allumées ou éteintes en quelques dizaines de nanosecondes, c’est-à-dire plus vite que les obturateurs (aussi désignés par le terme « shutter »).
De préférence, toutes les LEDs 60 de la pluralité de sources 40 ont des profils d’émission identiques en termes de longueurs d’onde et d’angle d’émission.
Une ouverture numérique ON est définie pour chaque LED 60. L’ouverture numérique ON est une caractéristique usuelle d’un système optique caractérisant l’angle maximal par rapport à la normale selon lequel un rayon lumineux est susceptible d’entrer ou de sortir du système optique. L’ouverture numérique ON est, par exemple, identique pour toutes les LEDs 60. L’ouverture numérique ON est, par exemple, égale à 0,99.
Chaque LED 60 est configurée pour émettre le rayonnement R correspondant lorsque la LED 60 est traversée par un courant électrique C.
Selon l’exemple de la figure 4, chaque LED 60 est un composant monté en surface (souvent désigné par l’acronyme CMS). En particulier, chaque LED 60 est montée sur le substrat 50.
Chaque LED 60 est parallélépipédique.
Chaque LED 60 présente une section carrée dans un plan perpendiculaire à la ligne de propagation L.
Chaque LED 60 présente une longueur de côté le, mesurée dans un plan perpendiculaire à la ligne de propagation L, strictement inférieure à 9 mm, de préférence strictement inférieure à 4,5 mm.
Par exemple, la longueur de côté le est égale à 4,20 mm. En variante, la longueur de côté est égale à 3,2 mm. Selon une autre variante, la longueur de côté le est égale à 2,8 mm. Selon une autre variante, la longueur de côté le est égale à 1,6 mm.
En variante, la longueur le d’au moins un côté est différente de la longueur d’au moins un autre côté. Par exemple, chaque LED 60 présente une section rectangulaire dans un plan perpendiculaire à la ligne de propagation L.
Chaque LED 60 est perpendiculaire à la ligne de propagation L. Par exemple, lorsque la LED 60 est parallélépipédique, une face de la LED 60 est perpendiculaire à la ligne de propagation L.
Par exemple, un centre est défini pour chaque LED 60 et la ligne de propagation L traverse le centre de la LED 60. Lorsque la LED 60 est parallélépipédique, le centre de la LED 60 est le point d’intersection des diagonales du parallélépipède.
Chaque LED 60 comporte une cathode et une anode.
Les LEDs 60 des sources 40 forment une matrice bidimensionnelle.
Dans l’exemple de la figure 4, une matrice de 96 LEDs 60 est représentée.
Les LEDs 60 sont réparties en 12 colonnes et 8 lignes. Selon l’exemple de la figure 4, les LEDs 60 d’une même ligne sont alignées selon la première direction X et les LEDs 60 d’une même colonne sont alignées selon la deuxième direction Y.
La matrice de LEDs 60 est, par exemple, une matrice carrée.
La matrice de LEDs 60 présente le deuxième pas P2.
Chaque LED 60 est montée sur le substrat 50.
Chaque LED 60 est identifiée par sa ligne et sa colonne dans la matrice de LEDs 60.
Par exemple, lorsque le dispositif d’illumination 25 comporte 96 sources 40, chaque ligne de la matrice de LEDs 60 est désignée par une lettre comprise entre A et H. Chaque colonne de la matrice de LEDs 60 est alors désignée par un nombre compris entre 1 et 12. Ainsi, chaque LED 60 est identifiée par la combinaison de la lettre et du nombre associés respectivement à la ligne et à la colonne de la LED 60, par exemple « LED A1 », « LED B3 » ou « LED D6 ».
Dans le cas où le dispositif d’illumination 25 comporte 384 sources 40, les LEDs 60 sont réparties en 24 colonnes identifiées chacune par un nombre compris entre 1 et 24 et en 16 lignes identifiées chacune par une lettre comprise entre A et P.
La LED A1 est placée en regard du puits A1, la LED A2 en vis-à-vis du puits A2, etc. En particulier, chaque LED 60 est alignée selon la troisième direction Z avec le puits 20 identifié par la même combinaison d’une lettre et d’un nombre. L’anode de chaque LED 60 d’une même colonne est préférentiellement connectée électriquement à une première piste électrique PE1 respective. Ainsi, lorsque la première piste électrique PE1 est portée à un potentiel électrique prédéterminé, l’anode de chaque LED 60 de la colonne correspondante est portée au potentiel électrique prédéterminé.
De même, la cathode de chaque LED 60 d’une même ligne est préférentiellement connectée électriquement à une deuxième piste électrique PE2 respective. Ainsi, lorsque la deuxième piste électrique PE2 est portée à un potentiel électrique prédéterminé, la cathode de chaque LED 60 de la ligne correspondante est portée au potentiel électrique prédéterminé.
Chaque LED 60 est ainsi adaptée pour recevoir le courant électrique C de la première piste électrique PE1 correspondante et pour transmettre le courant électrique C à la deuxième piste électrique PE2 correspondante.
Chaque intégrateur de lumière 65 est configuré pour recevoir le rayonnement R de la LED 60 correspondante et pour transmettre le rayonnement R au sténopé 70 appartenant à la même source de lumière 40.
En particulier, chaque intégrateur 65 présente une première extrémité E1 et une deuxième extrémité E2 et est propre à guider le rayonnement R entre la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2.
Chaque intégrateur de lumière 65 est, en outre, configuré pour homogénéiser spatialement le rayonnement R. En particulier, chaque intégrateur de lumière 65 est configuré pour que le rayonnement R soit plus homogène spatialement en sortie de l’intégrateur de lumière 65 qu’en entrée de l’intégrateur de lumière 65.
Ainsi, un intégrateur de lumière 65 est un guide de lumière propre à homogénéiser la lumière qui est guidée dans l’intégrateur 65.
Chaque intégrateur de lumière 65 comporte une tige 75. En complément facultatif, chaque intégrateur de lumière 65 comporte, en outre, quatre contreforts 80.
Chaque intégrateur de lumière 65 est réalisé en un matériau transparent au rayonnement R. Il est entendu par « transparent » un matériau absorbant au maximum 10% du rayonnement R qui traverse le matériau.
Chaque intégrateur de lumière 65 est réalisé en verre. Par exemple, chaque intégrateur 65 est réalisé en verre N-BK7. N-BK7 est l'appellation commerciale donnée à un verre borosilicate crown très utilisé pour des applications dans le spectre visible et l'infrarouge proche.
En variante, le verre utilisé est un quartz.
En variante, chaque intégrateur de lumière 65 est réalisé en un polymère transparent tel que le poly(méthacrylate de méthyle). Le poly(méthacrylate de méthyle) (souvent abrégé en PMMA, de l'anglais Poly(methyl méthacrylate)) est un polymère thermoplastique transparent obtenu par polyaddition dont le monomère est le méthacrylate de méthyle (MMA). Un PMMA fréquemment utilisé est l’Altuglas.
En variante, le polymère est le polycarbonate.
Chaque intégrateur 65 est monobloc. En particulier, lorsque chaque intégrateur 65 comporte quatre contreforts 80, la tige 75 de chaque intégrateur 65 est venue de matière avec les quatre contreforts 80 du même intégrateur 65.
De préférence, chaque intégrateur 65 est venu de matière avec les autres intégrateurs 65 du dispositif d’illumination 25. Par exemple, les intégrateurs 65 forment une matrice carrée d’intégrateurs 65.
Chaque tige 75 s’étend selon la ligne de propagation L. En particulier, chaque tige 75 s’étend selon la troisième direction Z.
Chaque tige 75 est délimitée selon la troisième direction Z par la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2. Ainsi, chaque tige 75 est délimitée, selon la ligne de propagation L, par la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2.
Chaque tige 75 présente, en outre, une première face latérale 85.
La première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2 sont opposées selon la ligne de propagation L. Par exemple, la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2 sont alignées selon la ligne de propagation L.
Parmi la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2, la première extrémité E1 est la plus proche de la LED 60 correspondante. Parmi la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2, la deuxième extrémité E2 est la plus proche de la plaque à puits 10.
Chaque tige 75 est configurée pour recevoir le rayonnement R émis par la LED 60 associée et pour guider le rayonnement R entre la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2.
Chaque tige 75 présente une section dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z.
Un axe est défini pour chaque tige 75. L’axe de la tige 75 est défini comme étant la ligne reliant le centre de la première extrémité E1 au centre de la deuxième extrémité E2. L’axe de la tige 75 est confondu avec la ligne de propagation L correspondante.
La section de la tige 75 est circulaire. Selon l’exemple de la figure 5, la section de la tige 75 est un disque à base circulaire et le diamètre du disque ne dépend pas de la distance, mesurée selon la troisième direction Z, entre le plan et la première extrémité E1. En d’autres termes, chaque tige 75 est cylindrique à base circulaire, l’axe de la tige 75 étant parallèle à la troisième direction Z.
En variante, chaque tige 75 est en forme de cône tronqué. En particulier, comme représenté sur la figure 6, chaque tige 75 est un tronc de cône de révolution.
Le cône circulaire droit ou cône de révolution est une surface engendrée par la révolution d'une droite sécante à un axe fixe autour de ce dernier. La révolution d'un segment autour d'un axe auquel le segment est sécant est appelée un tronc de cône.
Lorsque la tige 75 est en forme de cône tronqué, la surface d’une section de la tige 75 dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z est une fonction linéaire de la distance entre ledit plan et la première extrémité E1 mesurée selon la troisième direction Z. La fonction est une fonction décroissante depuis la première extrémité E1 jusqu’à la deuxième extrémité E2.
En variante, la section de la tige 75 n’est pas circulaire. Par exemple, la section de la tige 75 est polygonale. Dans ce cas, la tige 75 est, par exemple, un prisme. En variante, la tige 75 est en forme de pyramide tronquée à base polygonale.
Le polygone est, par exemple, un carré. En variante, le polygone est un hexagone.
Une longueur I est définie pour chaque tige 75. La longueur I est mesurée selon la troisième direction Z entre la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2. La longueur I est, par exemple, comprise entre 4,5 mm et 50 mm.
La première extrémité E1 est configurée pour collecter le rayonnement R émis par la LED 60 associée.
La première extrémité E1 est en regard de la LED 60 appartenant à la même source 40. Par exemple, la première extrémité E1 est en appui contre le dispositif d’extraction 72 appartenant à la même source 40.
En variante, la première extrémité E1 n’est pas en contact avec le dispositif d’extraction 72 correspondant.
Une première distance d1 est définie entre la première extrémité E1 et la LED 60. La première distance d1 est mesurée selon la troisième direction Z.
La première distance d1 est comprise entre 0 mm et 3 mm. Par exemple, la première distance d1 est égale à 0,5 mm.
Selon les exemples des figures 5 à 8, la première extrémité E1 est plane. En particulier, la première extrémité E1 est un disque.
Un exemple de tige 75 cylindrique dont la première extrémité E1 est plane a été représenté de profil sur la figure 7.
Un exemple de tige 75 conique dont la première extrémité E1 est plane a été représenté de profil sur la figure 8.
En variante, la première extrémité E1 est concave.
Par exemple, la première extrémité E1 est configurée pour accueillir la LED 60 correspondante. Ainsi, la première extrémité E1 est configurée pour entourer la LED 60 dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z et contenant la LED 60.
En variante, la première extrémité E1 est configurée pour accueillir le dispositif d’extraction 72 correspondant.
Par exemple, la première extrémité E1 est en forme de calotte sphérique.
Des exemples de tiges 75, respectivement cylindrique et conique, présentant une première extrémité E1 concave ont été représentés sur les figures 9 et 10.
La première extrémité E1 présente une première surface.
Un troisième diamètre D3 est défini pour la première extrémité E1. Le troisième diamètre D3 est mesuré dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z. Le troisième diamètre D3 est compris entre 0,5 mm et 7,0 mm, par exemple égal à 3,0 mm.
La deuxième extrémité E2 est en regard du sténopé 70. La deuxième extrémité E2 est un disque.
La deuxième extrémité E2 présente une deuxième surface. L’aire de la deuxième surface est inférieure ou égale à l’aire de la première surface.
Un quatrième diamètre D4 est défini pour la deuxième extrémité E2. Le quatrième diamètre D4 est mesuré dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z. Lorsque la tige 75 est cylindrique, le quatrième diamètre D4 est égal au troisième diamètre D3.
Lorsque la tige 75 est un tronc de cône, le quatrième diamètre D4 est strictement inférieur au troisième diamètre D3. Par exemple, le quatrième diamètre D4 est compris entre 0,5 mm et 5,0 mm.
Une dimension transversale moyenne Dt est définie pour la tige 75. Lorsque la tige 75 présente une section circulaire, la dimension transversale moyenne Dt est, par exemple, égale au diamètre d’un cylindre présentant la même longueur I que la tige 75 et un volume égal au volume de la tige 75.
Ainsi, lorsque la tige 75 est un cylindre à base circulaire, la dimension transversale moyenne Dt est égale au troisième diamètre D3 et au quatrième diamètre D4. Lorsque la tige 75 est un tronc de cône à base circulaire, la dimension transversale moyenne Dt est égale à la moitié de la somme du troisième diamètre D3 et du quatrième diamètre D4.
Si la tige 75 est un parallélépipède rectangle dont chaque face est perpendiculaire à l’une de la première direction X, de la deuxième direction Y ou de la troisième direction Z, la dimension transversale moyenne Dt est calculée selon l’équation :
(équation 1) où a et b sont les longueurs respectives des côtés de la tige 75 mesurées dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z.
La direction transversale moyenne Dt est inférieure ou égale à cinq onzièmes de la longueur I de la tige 75.
Par exemple, la direction transversale moyenne Dt est comprise entre un dixième de la longueur I et cinq onzièmes de la longueur I.
La première face latérale 85 délimite la tige 75 dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z.
La première face latérale 85 est propre à permettre la réflexion du rayonnement R à l’intérieur de la tige 75. Par exemple, la première face latérale 85 est polie.
La première face latérale 85 est, par exemple, transparente. En particulier, aucun revêtement n’est appliqué sur la première face latérale 85.
En variante, la première face latérale 85 est opaque. Par exemple, un revêtement propre à réfléchir le rayonnement R recouvre la première face latérale 85. Le revêtement est, par exemple, un revêtement métallique.
De préférence, la première extrémité E1 de chaque tige 75 est entourée, dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z, par quatre contreforts 80. Par exemple, chaque première extrémité E1 est délimitée selon la deuxième direction Y par une paire de deux contreforts 80 et selon la première direction X par une paire de deux autres contreforts 80.
Chaque contrefort 80 est en forme de prisme droit à base trapézoïdale. La base de chaque contrefort 80 est un trapèze rectangle.
Une droite appelée génératrice de direction constante se déplaçant le long d'un polygone décrit une surface appelée surface prismatique. Un prisme est le solide délimité par cette surface et par deux plans parallèles. Les sections définies par les deux plans parallèles sont appelées les bases du prisme. La distance séparant les deux bases est appelée hauteur du prisme. Lorsque les plans des deux bases sont perpendiculaires à la droite génératrice, le prisme est appelé prisme droit. Lorsque le prisme est droit, les faces latérales sont des rectangles.
La génératrice de chaque contrefort 80 est parallèle soit à la deuxième direction Y soit à la première direction X. De préférence, la génératrice de chaque contrefort 80 d’une paire est parallèle à la génératrice de l’autre contrefort 80 de la paire, les génératrices de deux contreforts 80 appartenant à deux paires différentes étant perpendiculaires l’une à l’autre.
De préférence, chaque contrefort 80 est venu de matière avec la tige 75 du même intégrateur de lumière et avec un contrefort 80 appartenant à un autre intégrateur de lumière 65.
Par exemple, chaque contrefort 80 est délimité, selon une direction perpendiculaire à la génératrice du contrefort 80 considéré et à la troisième direction Z, par la tige 75 du même intégrateur de lumière et par un contrefort 80 appartenant à un autre intégrateur de lumière 65.
Selon l’exemple de la figure 11, chaque contrefort 80 présente deux bases 90 et trois faces latérales appelées deuxièmes faces latérales 95A, 95B, 95C.
Les contreforts 80 d’une même paire sont symétriques deux à deux par rapport à un plan contenant la ligne de propagation L.
Les bases 90 de chaque contrefort 80 sont chacune perpendiculaires à la génératrice du contrefort 80. L’une des deuxièmes faces latérales de chaque contrefort 80, appelée face latérale d’entrée 95A, est perpendiculaire à la troisième direction Z. La face latérale d’entrée 95A est en regard du substrat 50. La face latérale d’entrée 95A est transparente au rayonnement R.
Une autre deuxième face latérale de chaque contrefort 80, appelée face miroir 95B, est configurée pour diriger une partie du rayonnement R vers la tige 75. Par exemple, la face miroir 95B est perpendiculaire à un segment reliant le centre de la face miroir 95B et l’axe de la tige 75. De préférence, le point d’intersection du segment considéré et de l’axe de la tige 75 est distant de la première extrémité E1 d’une distance, mesurée selon la troisième direction Z, strictement inférieure à une distance, mesurée selon la troisième direction Z, entre le centre de la face miroir 95B considérée et la première extrémité E1.
Chaque face miroir 95B est, par exemple, revêtue d’un revêtement propre à réfléchir le rayonnement R.
Une autre deuxième face latérale appelée face de liaison 95C est parallèle à la troisième direction Z et est opposée à la tige 75.
La face de liaison 95C présente au moins deux arêtes distinctes, dont l’une est commune avec la face latérale d’entrée 95A et l’autre est commune avec la face miroir 95B.
La face de liaison 95C est confondue avec une face de liaison d’un contrefort 80 d’un intégrateur de lumière 65 voisin. Ainsi, le contrefort 80 considéré est venu de matière avec un contrefort 80 de l’intégrateur 65 voisin.
En d’autres termes, chaque face miroir 95B présente une arête commune avec la face miroir 95B d’un autre contrefort 80.
La génératrice du contrefort 80 présente une longueur supérieure ou égale au troisième diamètre D3.
La réunion des faces latérales d’entrée 95A des contreforts 80 forment une surface plane continue.
Il est entendu par « sténopé 70 » un dispositif prévu pour empêcher la propagation d’une partie du rayonnement R sortant de la deuxième extrémité E2 de l’intégrateur 65 correspondant et comportant un trou de faible diamètre permettant la propagation d’une autre partie du rayonnement R considéré selon la ligne de propagation L.
Chaque sténopé 70 comporte un trou 100 ménagé dans une plaque opaque 105.
Les sténopés 70 sont venus de matière les uns avec les autres. En particulier, la plaque opaque 105 est unique et tous les trous 100 sont ménagés dans la même plaque opaque 105.
Chaque trou 100 est propre à être traversé par au moins une partie du rayonnement R selon la troisième direction Z. Chaque trou 100 est donc un trou débouchant.
Chaque trou 100 est aligné avec la deuxième extrémité E2 de l’intégrateur 65 correspondant selon la troisième direction Z.
Chaque trou 100 est, par exemple, cylindrique à base circulaire. L’axe de chaque trou 100 est parallèle à la ligne de propagation L. De préférence, l’axe de chaque trou 100 est confondu avec la ligne de propagation L associée à la source de lumière 40.
Chaque trou 100 présente un cinquième diamètre D5. Le cinquième diamètre D5 est inférieur ou égal à 1 mm. Par exemple, le cinquième diamètre D5 est compris entre 1 micromètre (pm) et 600 pm. Par exemple, le cinquième diamètre D5 est égal à 150 pm.
Le cinquième diamètre D5 est identique pour tous les trous 100.
Chaque trou 100 présente une première profondeur p1. La première profondeur p1 est identique pour chaque trou 100. La première profondeur p1 est mesurée selon la troisième direction Z.
La première profondeur p1 est comprise entre 50 nm et 500 pm.
La plaque opaque 105 est commune à tous les sténopés 70 du dispositif d’illumination 25. En d’autres termes, tous les trous 105 sont ménagés dans une unique plaque opaque 105.
La plaque opaque 105 est plane. La plaque opaque 105 est perpendiculaire à la troisième direction Z.
La plaque opaque 105 est interposée entre chaque sténopé 70 et le dispositif de focalisation 55.
Selon l’exemple de la figure 13, les trous 100 forment une matrice de trous 100 sur la plaque opaque 105. La matrice de trous 100 comporte, par exemple, 12 lignes de 8 trous 100. La matrice de trous 100 est, par exemple, une matrice carrée.
La matrice de trous 100 présente le deuxième pas P2.
La plaque opaque 105 est configurée pour ne pas être traversée selon la troisième direction Z par le rayonnement R excepté aux emplacements des trous 100.
La plaque opaque 105 comporte une première face 107 et une deuxième face 108.
La première face 107 et la deuxième face 108 sont opposées l’une à l’autre selon la troisième direction Z. La première face 107 et la deuxième face 108 sont parallèles l’une à l’autre. Par exemple, la première face 107 et la deuxième face 108 sont toutes deux perpendiculaires à la troisième direction Z.
La première face 107 et la deuxième face 108 sont planes.
La première face 107 est en regard du substrat 50. En particulier, parmi la première face 107 et la deuxième face 108, la première face 107 est la plus proche de chaque intégrateur de lumière 65.
Selon l’exemple de la figure 13, la plaque opaque 105 comporte une plaque de verre 110 et une couche métallique 115.
La plaque de verre 110 est transparente au rayonnement R. En particulier, la plaque de verre 110 est prévue pour être traversée par chaque rayonnement R selon la troisième direction Z.
La plaque de verre 110 est, par exemple, une plaque de quartz. En variante, la plaque de verre 110 est réalisée en un verre borosilicate. Certains verres borosilicates présentent de bonnes propriétés de transparence sur une grande gamme de longueurs d’onde.
La plaque de verre 110 présente une première épaisseur e1, mesurée selon la troisième direction Z, comprise entre 0,4 mm et 1,5 mm, par exemple égale à 0,5 mm.
La plaque de verre 110 est perpendiculaire à la troisième direction Z. Par exemple, la plaque de verre est un cylindre à base circulaire, dont l’axe est parallèle à la troisième direction Z. Le diamètre de la plaque de verre 110, mesuré dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z, est par exemple égal à 150 mm.
En variante, la plaque de verre 110 est un parallélépipède rectangle, dont la base rectangulaire est perpendiculaire à la troisième direction Z. Les longueurs des côtés de la base rectangulaire, mesurées dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z, sont par exemple égales à 117 mm et 81 mm.
La plaque de verre 110 présente une troisième face 117. La troisième face 117 est recouverte en partie par la couche métallique 115.
La troisième face 117 est plane. Par exemple, la troisième face 117 est polie.
La troisième face 117 est opposée à la deuxième face 108 selon la troisième direction Z. La troisième face 117 est perpendiculaire à la troisième direction Z.
La plaque de verre 110 est délimitée selon la troisième direction Z par la couche métallique 115 et par la deuxième face 108.
La couche métallique 115 est, par exemple, une couche d’aluminium. En variante, la couche métallique 115 est réalisée en un autre métal, par exemple le chrome.
La couche métallique 115 présente une deuxième épaisseur e2 comprise entre 5 nm et 500 nm, par exemple égale à 75 nm. La deuxième épaisseur e2 est uniforme.
La couche métallique 115 est délimitée selon la troisième direction Z par la plaque de verre 110 et par la première face 107. La couche métallique 115 sépare donc la plaque de verre 110 de chaque intégrateur 65.
Lorsque la plaque opaque 105 comporte une couche métallique 115 et une plaque de verre 110, chaque trou 100 traverse la couche métallique 115 selon la troisième direction Z. La plaque de verre 110 étant transparente au rayonnement R, il n’est pas nécessaire que les trous 100 s’étendent dans la plaque de verre 110.
La première profondeur p1 de chaque trou 100 est donc égale à la deuxième épaisseur e2 de la couche métallique 115.
Un autre exemple de plaque opaque 105 a été représenté sur la figure 14.
La plaque opaque 105 est monobloc. La plaque 105 est, par exemple, une plaque métallique.
La plaque opaque 105 présente une troisième épaisseur e3, mesurée selon la troisième direction Z, comprise entre 0,1 mm et 10,0 mm.
Chaque sténopé 70 comporte alors, en plus du trou 100, un lamage 120. Les lamages 120 sont visibles sur la figure 15.
Un lamage 120 est un trou non débouchant coaxial au trou débouchant 100 du sténopé 70.
Chaque lamage 120 s’étend à partir de la première face 107, en direction de la deuxième face 108, selon la troisième direction Z. Chaque lamage 120 étant un trou non débouchant, aucun lamage 120 ne traverse la plaque opaque 105 depuis la première face 107 jusqu’à la deuxième face 108.
Chaque lamage 120 est cylindrique à base circulaire. Chaque lamage 120 est prévu pour accueillir la deuxième extrémité E2 de l’intégrateur 65 associé.
Chaque lamage 120 est coaxial avec le trou 100 débouchant du même sténopé 70. Ainsi, l’axe de chaque lamage 120 est la ligne de propagation L associée à la source de lumière 40 contenant le sténopé 70.
Chaque lamage 120 présente une deuxième profondeur p2 et un sixième diamètre D6.
La deuxième profondeur p2 a été représentée sur la figure 16. La deuxième profondeur p2 est comprise entre 0,5 mm et 5,0 mm.
La deuxième profondeur p2 est, par exemple, identique pour chaque lamage 120.
Le sixième diamètre D6 est strictement supérieur au quatrième diamètre D4.
Chaque lamage 120 présente une face interne périphérique 125 et une face interne axiale 130.
Lorsque la deuxième extrémité E2 d’un intégrateur 65 est accueillie dans le lamage 120 correspondant, la face interne périphérique 125 entoure la deuxième extrémité E2 dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z.
La face interne axiale 130 délimite le lamage 120 selon la troisième direction Z. La face interne axiale 130 constitue ainsi le fond du lamage 120.
La face interne axiale 130 est plane.
Le trou traversant 100 de chaque sténopé 70 s’étend, à travers la plaque opaque 105, depuis la face interne axiale 130 du lamage 120 correspondant jusqu’à la deuxième face 108. L’intégrateur de lumière 65 est configuré pour que le rayonnement R en sortie de l’intégrateur 65 ne présente pas de gradient d’intensité supérieur à 25%.
Il est entendu par « pas de gradient d’intensité supérieur à 25% » que, lorsqu’un sténopé 70 de cinquième diamètre D5 égal à 150 pm et de première profondeur p1 égale à 25 pm est disposé en contact avec la deuxième extrémité E2 de l’intégrateur 65, et lorsqu’un premier imageur est placé en regard du sténopé 70, le premier imageur étant illuminé par la partie du rayonnement R sortant de la deuxième extrémité E2 et traversant le sténopé 70, une première image Im1 acquise par le premier imageur ne présente pas de zone de gradient d’intensité élevé.
Il est entendu par « imageur >> un capteur optique propre à générer une image bidimensionnelle.
Pour déterminer l’homogénéité du rayonnement R, un sténopé 70 de cinquième diamètre D5 égal à 150 pm et de première profondeur p1 égale à 25 pm est disposé en contact avec la deuxième extrémité E2 de l’intégrateur 65. L’axe du trou 100 est confondu avec la ligne de propagation L. Autrement dit, l’axe du trou 100 et l’axe de la tige 75 sont confondus. Le sténopé 70 est interposé entre la deuxième extrémité E2 et le premier imageur.
En particulier, si une distance, selon la ligne de propagation L, entre le premier imageur et le sténopé 70 est égale à 30 mm, le premier imageur comprenant une matrice d’éléments détecteurs séparés les uns des autres d’un pas égal à 2,2 pm, une première image Im1 acquise par le premier imageur ne présente pas de zone de gradient d’intensité élevé.
La première image Im1 comporte une pluralité de pixels. Le pixel (souvent abrégé px) est l'unité de base permettant de mesurer la définition d'une image numérique matricielle. Son nom provient de la locution anglaise « picture element >>, qui signifie « élément d'image ». Chaque pixel est, par exemple, acquis par un élément détecteur du premier imageur.
Une amplitude totale d’intensité du premier imageur est définie comme étant la différence entre l’intensité lumineuse du pixel le plus clair que le premier imageur est capable d’acquérir et l’intensité lumineuse du pixel le plus sombre que le premier imageur est capable d’acquérir.
Par exemple, le premier imageur comprend une table de correspondance qui attribue, à partir de la tension ou du nombre de charges mesuré par un élément détecteur du premier imageur, un niveau d’intensité à chaque pixel correspondant de l’image. Un premier imageur codé sur n bits, n étant un entier positif, présente une table de correspondance de 2n niveaux d’intensité et donc une amplitude totale d’intensité égale à 2n. Par exemple, un premier imageur codé sur 8 bits présente une table de correspondance de 256 niveaux et donc une amplitude totale d’intensité du premier imageur égale à 256. L’amplitude totale d’intensité du premier imageur est égale à l’amplitude totale d’intensité des capteurs optiques 185 du dispositif d’imagerie 30.
La première image Im1 comporte une pluralité d’ensembles de pixels. En particulier, un ensemble de pixels est défini pour chaque pixel de la première image Im1. Chaque ensemble de pixels est formé par les pixels qui sont séparés du pixel considéré par au plus trois autres pixels.
Chaque ensemble de pixels considéré est alors un ensemble de pixels formant un disque sur l’image, le disque ayant un rayon de 5 pixels.
Une intensité locale est définie pour chaque ensemble de pixels. L’intensité locale d’un ensemble de pixels est l’intensité moyenne des pixels qui constituent cet ensemble de pixels.
Une intensité locale est donc déterminée pour chaque pixel de la première image
Im1. L’intensité locale minimum est l’intensité locale la plus faible de la première image Im1. L’intensité locale maximum est l’intensité locale la plus élevée de la première image Im1.
Il est entendu par « zone de gradient d’intensité élevé » un ensemble de pixels pour lequel la différence entre l’intensité locale maximum et l’intensité locale minimum est strictement supérieure à un quart de l’amplitude totale d’intensité du premier imageur.
Le dispositif d’extraction 72 est configuré pour faciliter l’extraction du rayonnement R hors de la LED 60. Par exemple, le dispositif d’extraction 72 est configuré pour limiter la réflexion du rayonnement R à l’interface entre la LED et l’air.
Le dispositif d’extraction 72 est, par exemple, un dôme hémisphérique ou une portion de sphéroïde réalisé en un matériau transparent au rayonnement R. La face plane du dispositif d’extraction 72 est alors en contact avec une face de la LED 60.
Le dispositif d’extraction 72 est, par exemple, réalisé en silicone.
Le dispositif d’extraction 72 est interposé entre la LED 60 et l’intégrateur 65.
Le substrat 50 est configuré pour maintenir en position chaque LED 60.
Le substrat 50 est, par exemple, une carte en FR-4 (de l’anglais Flame Résistant 4), c’est-à-dire un composite de résine époxy renforcé de fibres de verre qui est employé couramment pour la fabrication de circuits imprimés.
Le substrat 50 présente une face principale 135 sur laquelle les LED 60 sont fixées.
La face principale 135 est plane. La face principale 135 est perpendiculaire à la troisième direction Z.
Le dispositif de focalisation 55 est configuré pour focaliser le rayonnement R émis par chaque deuxième extrémité E2 vers la plaque à puits 10.
Le dispositif de focalisation 55 comporte une pluralité de lentilles 140. De préférence, le dispositif de focalisation 55 comporte une lentille 140 pour chaque source de lumière 40.
Le dispositif de focalisation 55 est monobloc. Par exemple, le dispositif de focalisation 55 est en forme d’une plaque dont une face au moins est configurée pour former les lentilles 140.
Le dispositif de focalisation 55 est interposé entre la plaque opaque 105 et la plaque à puits 10. Lorsque le capot 35 est interposé entre la plaque à puits 10 et la plaque opaque 105, le dispositif de focalisation 55 est interposé entre la plaque opaque 105 et le capot 35.
Le dispositif de focalisation 55 est réalisé en un matériau transparent au rayonnement R. Par exemple, le dispositif de focalisation 55 est réalisé en un verre borosilicate. En variante, le dispositif de focalisation 55 est réalisé en une résine ou un polymère transparent au rayonnement R, par exemple un polymère constitué à partir d’acrylates, de méthacrylates, de siloxanes et/ou de dérivés du styrène.
Le dispositif de focalisation 55 est réalisé en un matériau présentant un indice de réfraction i. L’indice de réfraction i est strictement supérieur à 1.
Le dispositif de focalisation 55 présente une quatrième face 145 et une cinquième face 150.
La quatrième face 145 est, parmi la quatrième face 145 et la cinquième face 150, la face la plus proche de la plaque opaque 105.
De préférence, la quatrième face 145 est plane.
La quatrième face 145 est perpendiculaire à la troisième direction Z.
La quatrième face 145 est configurée pour être traversée par chaque rayonnement R selon la troisième direction Z.
Une deuxième distance d2 est définie comme étant la longueur du chemin optique du rayonnement R entre le sténopé 70 et la quatrième face 145, mesurée selon la troisième direction Z.
Lorsque la plaque opaque 105 est une plaque métallique telle que la plaque représentée sur les figures 14 à 16, la deuxième distance d2 est égale à la distance entre la deuxième face 108 et la quatrième face 145.
Lorsque la plaque opaque 105 comporte une plaque de verre 110 et une couche métallique 115 selon l’exemple de la figure 13, la deuxième distance d2 est égale à la somme de la distance entre la deuxième face 108 et la quatrième face 145 et d’une longueur Lco du chemin optique du rayonnement R dans la plaque de verre 110.
La longueur du chemin optique Lco est définie par la formule :
(équation 2) dans laquelle nair est l’indice optique de l’air, approximativement égal à 1, et nverre est l’indice optique de la plaque de verre, strictement supérieur à 1.
La cinquième face 150 est en regard de la plaque à puits 10.
La cinquième face 150 est opposée à la quatrième face 145.
Chaque lentille 140 est configurée pour focaliser le rayonnement R vers le puits 20 correspondant.
Chaque lentille 140 est ménagée sur la cinquième face 150.
Chaque lentille 140 comporte, par exemple, une excroissance convexe ménagée sur la cinquième face 150. Chaque lentille 140 est alors une lentille plan-convexe.
En variante, chaque lentille 140 comporte, en outre, une excroissance convexe ménagée sur la quatrième face 145. Chaque lentille 140 est alors une lentille biconvexe.
Chaque lentille 140 est, par exemple, asphérique.
Une distance focale f est définie pour chaque lentille 140. La distance focale f est comprise entre 4 mm et 50 mm. Par exemple, la distance focale f est égale à 27 mm.
La distance focale f est identique pour chaque lentille 140.
La distance focale f est, par exemple, égale à la deuxième distance d2 du chemin optique du rayonnement R entre la quatrième face 145 du dispositif de focalisation 55 et le sténopé 70.
Un deuxième axe optique OA2 est défini pour chaque lentille 140 du système de focalisation 55.
Les lentilles 140 forment une matrice de lentilles 140 bidimensionnelle. La matrice de lentilles 140 est, par exemple, une matrice carrée. La matrice de lentilles 140 présente le deuxième pas P2.
Chaque lentille 140 est alignée avec la deuxième extrémité E2 de la source de lumière 40 correspondante. Par exemple, chaque deuxième axe optique OA2 est parallèle à la ligne de propagation L de la source 40 correspondante.
Selon l’exemple de la figure 1, chaque deuxième axe optique OA2 est confondu avec la ligne de propagation L de la source 40 correspondante.
Le dispositif de commande 45 est configuré pour commander l’allumage et l’extinction de chaque LED 60.
De préférence, le dispositif de commande 45 est configuré pour commander l’allumage et l’extinction de chaque LED 60 indépendamment de chaque autre LED 60.
Le dispositif de commande 45 est, par exemple, configuré pour commander l’alimentation de chaque LED 60 avec le courant électrique C.
Chaque courant électrique C est un courant continu.
Chaque courant électrique C présente une tension Vcc et une intensité.
Le dispositif de commande 45 est configuré pour modifier une valeur de la tension Vcc et/ou de l’intensité de chaque courant électrique C. Le dispositif de commande 45 est, de préférence, configuré pour modifier une valeur de la tension Vcc et une valeur de l’intensité de chaque courant électrique C.
Le dispositif de commande 45 est, par exemple, configuré pour modifier la valeur de la tension Vcc de chaque courant électrique C entre 0 et 5 volts (V).
Le dispositif de commande 45 est, par exemple, configuré pour modifier la valeur de l’intensité de chaque courant électrique C entre 0 milliampère (mA) et 500 mA. Par exemple, le dispositif de commande 45 est configuré pour fixer la valeur de l’intensité I de chaque courant électrique C égale à 15 mA.
Le dispositif de commande 45 comporte une carte électronique de commande 160.
La carte 160 est, par exemple, fixée au substrat 50.
Selon l’exemple de la figure 17, la carte 160 comporte un premier transistor 165 pour chaque colonne, un deuxième transistor 167 pour chaque ligne, une piste électrique d’entrée 170, au moins une piste électrique de sortie 175, un générateur électrique et un contrôleur.
Sur la figure 17, chaque transistor 165, 167 a été identifié par la colonne ou par la ligne correspondante. Les premiers transistors 165 sont ainsi numérotés de 1 à 12 et les deuxièmes transistors 167 sont identifiés chacun par une lettre comprise entre A et H.
Chaque transistor 165, 167 est, par exemple, un transistor CMOS ou un transistor MOSFET.
Chaque premier transistor 165 est apte à connecter électriquement la piste électrique d’entrée 170 à la première piste électrique PE1 associée à la même colonne de la matrice de LEDs 60.
Chaque premier transistor 165 est, en outre, apte à empêcher le passage du courant C entre la piste électrique d’entrée 170 et la première piste électrique PE1 associée à la même colonne de la matrice de LEDs 60.
Chaque deuxième transistor 167 est apte à connecter électriquement une piste électrique de sortie 175 à la deuxième piste électrique PE2 associée à la même ligne de la matrice de LEDs 60.
Chaque deuxième transistor 167 est apte à empêcher le passage du courant C entre la deuxième piste électrique PE2 associée à la même ligne de la matrice de LEDs 60 et la piste électrique de sortie 175 correspondante.
La piste électrique d’entrée 170 est connectée au générateur.
Chaque piste électrique de sortie 175 est, par exemple, reliée à la terre.
Le générateur est propre à imposer la tension électrique Vcc entre la piste électrique d’entrée 170 et chaque piste électrique de sortie 175.
Le contrôleur est configuré pour commuter chaque transistor 165, 167 entre un état passant dans lequel le transistor 165, 167 considéré est propre à transmettre le courant C entre la piste électrique d’entrée 170 ou de sortie 175 correspondante et la première piste électrique PE1 ou la deuxième piste électrique PE2 correspondante et un état bloquant dans lequel le transistor 165, 167 empêche le passage du courant C.
Ainsi, le contrôleur est configuré pour commander, via la commutation des transistors 165, 167, l’alimentation de chaque LED avec le courant C indépendamment des autres LEDs 60.
Le contrôleur est, par exemple, un ordinateur.
Le dispositif d’imagerie 30 est configuré pour acquérir une deuxième image Im2 d’au moins un puits 20 lorsque le puits 20 est éclairé avec le rayonnement R. De préférence, le dispositif d’imagerie 30 est configuré pour acquérir une deuxième image Im2 de chaque puits 20 lorsque le puits 20 est éclairé avec le rayonnement R.
Le dispositif d’imagerie 30 comporte, par exemple, une pluralité de capteurs optiques 185 portés par un support 190.
En particulier, le dispositif d’imagerie 30 comporte un capteur optique 185 pour chaque puits 20 que le dispositif d’illumination 25 est propre à illuminer. Par exemple, le dispositif d’imagerie 30 comporte un capteur optique 185 pour chaque source de lumière 40.
La deuxième image Im2 est une image du puits 20 qui est en regard du capteur optique 185 considéré.
Chaque capteur optique 185 est en regard du puits 20 correspondant. Par exemple, chaque capteur optique 185 est aligné avec le puits 20 correspondant et avec la source de lumière 40 correspondante selon la troisième direction Z.
Chaque puits 20 est interposé entre le capteur optique 185 et la plaque opaque 105.
Chaque capteur optique 185 est propre à récolter un signal optique issu du puits 20 correspondant lorsque le puits 20 est illuminé avec le rayonnement R. Par exemple, chaque capteur optique 185 est configuré pour acquérir la deuxième image Im2 d’un unique puits 20 lorsque le puits 20 est éclairé avec le rayonnement R correspondant.
Chaque capteur optique 185 est un deuxième imageur. Par exemple, chaque capteur optique 185 comporte une pluralité d’éléments de détection, chaque élément de détection étant propre à générer un pixel de la deuxième image Im2.
Chaque capteur optique 185 est, par exemple, un imageur CCD. Les capteurs optiques CCD (de l’anglais « Charge Coupled Device »), également appelés en français « dispositif à transfert de charge », sont des capteurs d’image de fabrication simple.
En variante, le capteur optique 185 est un capteur de type CMOS. Les capteurs CMOS (de l’anglais « Complementary Métal Oxide Semiconductor ») sont des capteurs utilisant des technologies classiques de la microélectronique.
Chaque capteur optique 185 est, par exemple, parallélépipédique. Les éléments de détection du capteur optique 185 sont, par exemple, portés par une face principale du capteur optique 185. La face principale est perpendiculaire à la troisième direction Z. La face principale est en regard du puits 20.
Un troisième axe optique OA3 est défini pour chaque capteur optique 185. Le troisième axe optique OA3 est perpendiculaire à la face principale du capteur optique 185.
Le troisième axe optique OA3 traverse le centre de la face principale du capteur optique 185. Ainsi, l’image d’un point d’un objet situé sur le troisième axe optique OA3 apparaît au centre de la deuxième image Im2.
Chaque troisième axe optique OA3 est parallèle au premier axe optique OA1 du puits 20 correspondant et au deuxième axe optique OA2 de la lentille 140 correspondante. Chaque troisième axe optique OA3 est, en outre, parallèle à la ligne de propagation L de la source de lumière 40 correspondante.
Selon l’exemple de la figure 1, chaque troisième axe optique OA3 est confondu avec le premier axe optique OA1 du puits 20 correspondant et avec le deuxième axe optique OA2 de la lentille 140 correspondante. Chaque troisième axe optique OA3 est alors confondu avec la ligne de lumière L correspondante.
Une troisième distance d3 est définie pour chaque capteur optique 185. La troisième distance d3 est la distance, mesurée selon la troisième direction Z, entre le capteur optique 185 et le sténopé 70 correspondant.
La troisième distance d3 est comprise entre 15 mm et 100 mm.
Le capot 35 de la plaque à puits 10 est configuré pour obturer l’ouverture d’au moins un puits 20 et empêcher ainsi les échanges de matière et les échanges gazeux, à travers l’ouverture 22, entre le puits 20 et l’extérieur de la plaque à puits 10.
De préférence, le capot 35 est configuré pour obturer simultanément l’ouverture de chaque puits 20. Par exemple, le capot 35 est configuré pour recouvrir l’intégralité de la face avant 17 de la plaque à puits 10.
Le capot 35 est, en outre, configuré pour occulter au moins partiellement le rayonnement R éclairant au moins un puits 20. Par exemple, le capot 35 présente au moins une portion configurée pour ne pas être traversée par le rayonnement R, ladite portion étant interposée entre un sténopé 70 et le puits 20 correspondant.
Le capot 35 est interposé entre chaque puits 20 et le dispositif de focalisation 55.
Le capot 35 comporte un couvercle 195, une couche chauffante 200 et/ou une couche occultante 205.
Le couvercle 195 est configuré pour obturer simultanément l’ouverture de chaque puits 20. Par exemple, le couvercle 195 est configuré pour recouvrir l’intégralité de la face avant 17 de la plaque à puits 10.
Le couvercle 195 comporte une plaque d’obturation 210 et une couronne 215.
Le couvercle 195 est réalisé en un matériau transparent au rayonnement R. Par exemple, le couvercle 195 est réalisé en un verre borosilicate, en polystyrène, en polycarbonate ou en fluorocarbure.
Le couvercle 195 est monobloc. En particulier, la plaque d’obturation 210 et la couronne 215 sont venues de matière l’une avec l’autre.
La plaque d’obturation 210 est plane. La plaque d’obturation 210 est configurée pour venir en appui contre la face avant 17 de la plaque à puits 10 lorsque le capot 35 est fixé à la plaque à puits 10.
En variante, la plaque d’obturation 210 est configurée pour venir en appui contre la face avant 17 de la plaque à puits 10 lorsque le capot 35 est posé sur la plaque à puits 10 dans une position d’obturation mais n’est pas fixé à la plaque à puits 10.
En variante, la plaque d’obturation 210 est configurée pour que, lorsque le capot 35 est fixé à la plaque à puits 10, une distance, mesurée selon la troisième direction Z, entre la face avant 17 de la plaque à puits 10 et la plaque d’obturation 210 est strictement supérieure à zéro et inférieure à 2,0 mm.
Lorsque le capot 35 est fixé à la plaque à puits 10 ou posé sur la plaque à puits 10 dans la position d’obturation, la plaque d’obturation 210 est prévue pour empêcher ou limiter l’échange de matière entre les différents puits 20. Par exemple, lorsque le capot 35 est fixé à la plaque à puits 10 ou posé sur la plaque à puits 10 dans la position d’obturation, la plaque d’obturation 210 est en appui contre chaque cloison 24 ou surélevée d’une distance, mesurée selon la troisième direction Z, inférieure à 2,0 mm par rapport à chaque cloison 24.
La plaque d’obturation 210 est, en outre, prévue pour empêcher un gaz contenu dans un puits 20 d’atteindre le dispositif d’illumination 25 ou pour limiter les échanges gazeux entre le puits 20 et l’extérieur de la plaque à puits 10, par exemple pour limiter l’évaporation du liquide présent dans le puits 20.
La plaque d’obturation 210 présente une épaisseur comprise entre 100 pm et 3 mm. Par exemple, la plaque d’obturation 210 présente une épaisseur égale à 125 pm. En variante, l’épaisseur de la plaque d’obturation 210 est égale à 200 pm. Selon une autre variante, l’épaisseur de la plaque d’obturation 210 est égale à 500 pm.
La couronne 215 est prévue pour fixer le capot 35 à la plaque à puits 10 et pour limiter les échanges gazeux entre les puits 20 de la plaque à puits 10 et le gaz environnant. Par exemple, la couronne 215 est configurée pour enserrer la plaque à puits 10 dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z lorsque le capot 35 est fixé à la plaque à puits 10 ou posé sur la plaque à puits 10 dans la position d’obturation. En particulier, la couronne 215 est configurée pour entourer la plaque à puits 10 dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z lorsque le capot 35 est fixé à la plaque à puits 10 ou posé sur la plaque à puits 10 dans la position d’obturation.
La couche chauffante 200 est transparente au rayonnement R.
La couche chauffante 200 est électriquement conductrice.
La couche chauffante 200 est configurée pour chauffer le couvercle 195 lorsque la couche chauffante 200 est traversée par un courant électrique.
La couche chauffante 200 est réalisée en un matériau dit « matériau chauffant ». Le matériau chauffant est, par exemple, l’oxyde d’indium étain (également appelé ITO, de l’anglais « Indium Tin Oxide », qui signifie « oxyde d’indium étain »). L’ITO est un matériau électriquement conducteur et transparent à la lumière visible utilisé fréquemment comme contact électrique dans les applications liées à l’affichage telles que les écrans tactiles.
En variante, le matériau chauffant est, par exemple, un oxyde comportant une teneur faible ou nulle en indium, un polymère conducteur, une couche fine de nanotubes de carbone, du graphène, des nanofils ou un film nanostructuré.
La couche chauffante 200 comporte, en outre, un matériau, appelé « matériau support » sur lequel le matériau chauffant est déposé. Le matériau support est, par exemple, une plaque de verre ou un film en polymère transparent tel que le polytéréphtalate d’éthylène.
Le matériau chauffant de la couche chauffante 200 est préférentiellement en contact avec la plaque d’obturation 210. La couche chauffante 200 est, par exemple, interposée entre la plaque d’obturation 210 et la couche occultante 205. Le matériau support de la couche chauffante 200 est alors disposé préférentiellement entre le matériau chauffant de la couche chauffante 200 et la couche occultante 205.
En variante, la plaque d’obturation 210 est délimitée, selon la troisième direction Z, par la couche chauffante 200 et la couche occultante 205. Le matériau support de la couche chauffante 200 est alors disposé préférentiellement entre la plaque à puits 10 et le matériau chauffant de la couche chauffante 200.
La couche chauffante 200 présente une résistivité de surface comprise entre 1 Ohm par carré (ü/sq) et 500 Ω/sq. La résistivité de surface est une mesure de la résistance de films minces d’épaisseur sensiblement uniforme, fréquemment utilisée dans les domaines des semi-conducteurs et des revêtements des verres. Dans le cas d’une couche parallélépipédique présentant une longueur, une épaisseur et une largeur, la résistivité de surface est égale au produit de la résistance électrique opposée au passage du courant et de la largeur, divisée par la longueur. La résistivité de surface d’un film mince est mesurée par la méthode des 4 pointes ou la méthode de Van der Pauw.
La résistivité de surface est, par exemple, égale à 4 Ω/sq.
La couche chauffante 200 composée du matériau chauffant et éventuellement du matériau support présente une épaisseur comprise entre 10 nm et 1,5 mm, par exemple égale à 130 pm.
La couche chauffante 200 est prévue pour être traversée par un courant électrique dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z. Par exemple, la couche chauffante 200 comporte au moins deux électrodes opposées l’une à l’autre selon la première direction X ou selon la deuxième direction Y.
De préférence, le contrôleur est, en outre, configuré pour appliquer une différence de potentiel entre les deux électrodes de la couche chauffante 200. La différence de potentiel est comprise entre 1 V et 50 V, par exemple comprise entre 3 V et 5 V.
La couche occultante 205 est propre à empêcher le rayonnement R de traverser le capot 35 selon la troisième direction Z.
La couche occultante 205 est, par exemple, une plaque en polymère opaque tel que le polyoxyméthylène (POM) noir. En variante, la couche occultante 205 est réalisée en métal, par exemple une plaque en acier inoxydable ou une couche d’aluminium ou de chrome déposée sur une plaque de verre.
La couche occultante 205 présente une épaisseur comprise entre 5 nm et 5 mm, par exemple égale à 500 pm. L’épaisseur de la couche occultante 205 est uniforme.
La couche occultante 205 est interposée entre la plaque d’obturation 210 et le dispositif d’illumination 25.
Une pluralité de diaphragmes 220 sont ménagés dans la couche occultante 205. De préférence, un diaphragme 220 est ménagé dans la couche occultante 205 pour chaque puits 20.
Chaque diaphragme 220 est un trou traversant la couche occultante 205 selon la troisième direction Z. Chaque diaphragme 220 est configuré pour être traversé par le rayonnement R selon la troisième direction Z.
Ainsi, la couche occultante 205 empêche le rayonnement R de traverser le capot 35 selon la troisième direction Z, excepté à travers un diaphragme 220.
Chaque diaphragme 220 est en regard d’un puits 20 respectif. De préférence, chaque diaphragme 220 est aligné avec le puits 20 correspondant selon la troisième direction Z.
Chaque diaphragme 220 est, par exemple, cylindrique à base circulaire. Chaque diaphragme 220 est coaxial avec le puits 20 auquel le diaphragme est associé. En d’autres termes, le diaphragme 220 présente une section circulaire dans tout plan perpendiculaire à la troisième direction Z et traversant le diaphragme 220, le premier axe optique OA1 traversant le centre de chaque section du diaphragme 220.
Chaque diaphragme 220 présente un septième diamètre D7.
Chaque septième diamètre D7 est inférieur ou égal au deuxième diamètre D2 du puits 20 correspondant. Par exemple, chaque septième diamètre D7 est inférieur ou égal au premier diamètre D1 du puits 20 correspondant.
Par exemple, chaque septième diamètre D7 est égal à 6,30 mm.
La fabrication des sténopés 70 va maintenant être décrite.
Dans le cas où, selon l’exemple de la figure 13, chaque sténopé 70 comporte un trou 100 ménagé dans une couche métallique 115 portée par une plaque de verre 110, les sténopés sont, par exemple, fabriqués par photolithographie et dépôt de métal.
Au cours d’une première étape représentée sur la figure 18, un film 225 de résine photosensible est déposé sur la troisième face 117 de la plaque de verre 110.
Le film 225 est, par exemple, déposé par enduction centrifuge (également connue sous le nom anglais de « spin-coating >>). L’enduction centrifuge est une technique de dépôt de films dans laquelle la plaque de verre 110 est mise en rotation autour de la troisième direction Z après que de la résine en phase liquide a été déposée au centre de la plaque de verre 110. La force centrifuge causée par la rotation de la plaque de verre 110 entraîne la formation du film 225 sur la surface de la plaque de verre 110, l’épaisseur du film 225 étant contrôlée par la vitesse de rotation et par la viscosité de la résine. Le film 225 est généralement aussitôt durci par le biais d’un recuit thermique.
Le film 225 présente une épaisseur, mesurée selon la troisième direction Z, comprise entre 100 nm et 5 pm. Par exemple, le film 225 présente une épaisseur égale à 800 nm.
La résine est, par exemple, une résine positive qui devient soluble dans un premier solvant lorsque la résine a été insolée avec un rayonnement adapté, par exemple un rayonnement ultraviolet. En variante, la résine est une résine négative, c’est-à-dire une résine qui devient insoluble dans le premier solvant lorsque la résine a été insolée.
Un masque est apposé en regard du film 225 et le film 225 est ensuite insolé avec le rayonnement ultraviolet à travers le masque.
Ensuite, le film 225 est partiellement dissous avec le premier solvant. Si la résine est une résine positive, seules les portions protégées par le masque lors de l’insolation ne sont pas dissoutes par le premier solvant. Si la résine est une résine négative, seules les portions protégées par le masque lors de l’insolation sont dissoutes par le premier solvant.
Ainsi, des plots de résine 230 sont ménagés sur la troisième face 117 de la plaque de verre 110. Trois plots 230 ont été représentés sur la figure 19.
Chaque plot 230 est cylindrique à base circulaire. De préférence, chaque plot 230 présente le cinquième diamètre D5. L’axe de chaque plot 230 est parallèle à la troisième direction Z.
La matrice de plots 230 présente le deuxième pas P2.
Ensuite, la couche métallique 115 est déposée sur la plaque de verre 110. Par exemple, la couche métallique 115 est déposée par évaporation sous vide ou par pulvérisation cathodique.
Selon l’exemple de la figure 20, la couche métallique 115 recouvre alors chaque plot 230 ainsi que chaque portion de la troisième face 117 qui n’est pas recouverte par un plot 230.
Ensuite, la plaque de verre 110, ainsi que la couche métallique 115 et les plots 230 sont plongés dans un deuxième solvant. Le deuxième solvant est, par exemple, l’acétone.
Le deuxième solvant est propre à dissoudre la résine qui n’a pas été dissoute par le premier solvant. Par exemple, le deuxième solvant est propre à dissoudre une résine réticulée par le rayonnement UV.
Ainsi, les plots 230 sont dissous dans le deuxième solvant.
La plaque de verre 110 et la couche métallique 115 sont ensuite retirées du deuxième solvant, rincées avec un troisième solvant tel que l’alcool isopropylique, et séchées par exemple par un flux d’azote sec. Comme représenté sur la figure 21, après l’étape de séchage, la couche métallique 115 ne subsiste que sur les portions de la troisième face 117 qui n’étaient pas recouvertes par un plot 230.
Les trous 100 traversant la couche métallique 115 sont donc formés au droit des portions de la troisième face 117 qui étaient recouvertes par un plot 230 au cours du dépôt de la couche métallique 115.
Le fonctionnement du système d’observation 15 de la plaque à puits 10 va maintenant être décrit.
Au cours d’une étape d’initialisation, le contrôleur est allumé par un utilisateur U du système d’observation 15. Le contrôleur impose la tension Vcc entre la piste électrique d’entrée 170 et chaque piste électrique de sortie 175.
Lors de l’étape d’initialisation, chaque LED 60 est éteinte. En particulier, chaque transistor 165, 167 est dans l’état non passant. Ainsi, aucune LED 60 n’est alimentée avec le courant C correspondant.
Lors de l’étape d’initialisation, le contrôleur génère, en outre, un courant électrique traversant la couche chauffante 200. Le contrôleur commande alors le chauffage de la couche chauffante 200.
Par exemple, le contrôleur fixe la température de la couche chauffante 200 à une valeur de température prédéterminée, par exemple une température de 37 °C.
Ensuite, au cours d’une étape de commande, l’utilisateur U transmet au contrôleur une liste d’au moins une LED 60 à allumer. Par exemple, la liste contient l’identifiant d’une unique LED 60. Chaque identifiant est formé par la combinaison d’une lettre désignant la ligne de la LED 60 à allumer et d’un nombre désignant la colonne de la LED 60 à allumer.
En variante, la liste contient les identifiants d’au moins deux LEDs 60 distinctes. Par exemple, la liste contient les identifiants uniquement de LEDs 60 qui ne sont pas voisines. Il est entendu par « voisines » deux LEDs 60 appartenant à une même ligne (respectivement à une même colonne) et appartenant à deux colonnes (respectivement lignes) voisines.
Au cours d’une étape d’illumination, le contrôleur commande le basculement du premier transistor 165 et du deuxième transistor 167 correspondant à chaque LED 60 de la liste dans l’état « passant ». Par exemple, si la liste contient l’identifiant de la LED 60 « A3 », le contrôleur commande le basculement du premier transistor 165 correspondant à la colonne « 3 » et du deuxième transistor 167 correspondant à la ligne « A » dans l’état « passant ».
Chaque LED 60 de la liste est donc alimentée par un courant C respectif. Chaque LED 60 de la liste émet donc le rayonnement R correspondant.
Le rayonnement R comprend une pluralité de rayons lumineux Ra. Par exemple, un premier ensemble 235, un deuxième ensemble 240 et un troisième ensemble 255 de rayons lumineux Ra sont définis pour le rayonnement R.
Chaque rayonnement R émis par une LED 60 pénètre dans l’intégrateur de lumière 65 correspondant à travers la première extrémité E1 ou à travers celle des deuxièmes faces latérales 95A qui est en regard de la LED 60. Le rayonnement R traverse la tige 75 selon la troisième direction Z jusqu’à la deuxième extrémité E2.
Le rayonnement R traverse ensuite la deuxième extrémité E2.
Le premier ensemble 235 est formé par les rayons Ra qui traversent la tige 75 depuis la première extrémité E1 selon la troisième direction Z jusqu’à la deuxième extrémité E2 sans subir de réflexion sur une surface autre que la première extrémité E1 et la deuxième extrémité E2. En d’autres termes, le premier ensemble 235 est formé des rayons Ra qui traversent la première extrémité E1 puis la deuxième extrémité E2 sans traverser ni être réfléchis par aucune autre surface. Parmi les rayons Ra qui composent le rayonnement R, les rayons Ra du premier ensemble 235 sont donc ceux dont l’orientation est la plus proche de la troisième direction Z.
Le deuxième ensemble 240 est formé par les rayons Ra qui traversent la tige 75 depuis la première extrémité E1 selon la troisième direction Z jusqu’à la deuxième extrémité E2 en subissant au moins une réflexion sur la première face latérale 85 mais ne subissant pas d’autre réflexion, excepté éventuellement sur la première extrémité E1 ou sur la deuxième extrémité E2.
Le troisième ensemble 245 est formé par les rayons Ra qui subissent au moins une réflexion sur une base 90 ou sur une deuxième face latérale 95A, 95B, 95C d’un des contreforts 80 avant de pénétrer dans la tige 75. Chaque rayon Ra du troisième ensemble 245 n’aurait donc pas été transmis entre la LED 60 et la deuxième extrémité E2 en l’absence du contrefort 80.
Les résultats d’une simulation numérique du tracé des rayons Ra d’un rayonnement R injecté dans une tige 75 ont été représentés sur la figure 22. Le rayonnement R est un rayonnement monochromatique présentant une longueur d’onde de 519 nanomètres (nm). La LED utilisée dans la simulation présente une ouverture numérique de 0,99 et est distante de 0,5 mm de la première extrémité E1. La tige 75 est une tige cylindrique à base circulaire en polycarbonate présentant un diamètre de 2,5 mm et une longueur de 20 mm.
Comme visible sur la figure 22, la distribution spatiale des rayons Ra qui composent le rayonnement R en sortie de la deuxième extrémité E2 est très homogène.
Après avoir traversé la deuxième extrémité E2, le rayonnement R atteint le sténopé 70 correspondant.
Une partie du rayonnement R traverse le trou 100 ménagé dans la plaque opaque 105. Une autre partie du rayonnement R ne traverse pas la plaque opaque 105. Par exemple, l’autre partie du rayonnement R est absorbée ou réfléchie par la plaque opaque 105.
Le rayonnement R traverse ensuite le dispositif de focalisation 55. La distance focale f étant égale à la deuxième distance d2 entre le dispositif de focalisation 55 et la plaque opaque 105, le rayonnement R est collimaté entre le dispositif de focalisation 55 et le puits 20.
Il est entendu par « collimaté >> que les rayons Ra composant le rayonnement R sont parallèles les uns aux autres.
Le rayonnement R illumine ensuite le capot 35.
Une partie du rayonnement R qui illumine le capot 35 traverse le diaphragme 220 interposé entre le puits 20 et la source de lumière 40. Une autre partie du rayonnement R illuminant le capot 35 ne traverse pas la couche occultante 205. Par exemple, l’autre partie du rayonnement R est absorbée ou réfléchie par la couche occultante 205.
La partie du rayonnement R qui traverse le diaphragme 220 illumine ensuite le fond 21 du puits 20 considéré. Si un matériau ou un objet à analyser est présent dans le puits 20, le matériau ou l’objet à analyser est ainsi illuminé avec le rayonnement R.
Enfin, le rayonnement R se propage depuis le puits 20 jusqu’au capteur optique 185 avec lequel le puits 20 et la source de lumière 40 sont alignés. Le capteur optique 185 acquiert alors la deuxième image Im2 du puits 20.
Grâce à l’invention, l’illumination du fond 21 du puits 20 ou du matériau ou de l’objet à analyser est très uniforme. L’analyse de la deuxième image Im2 est alors rendue plus aisée.
En particulier, si le puits 20 ne contient aucun matériau ou objet à analyser, la deuxième image Im2 ne comprend pas de zone de gradient d’intensité élevé sur une partie de la deuxième image Im2 correspondant au moins à un disque de 3 mm de diamètre du fond 21 du puits 20.
En particulier, aucun rayon lumineux Ra émis par la source de lumière 40 n’est réfléchi par une paroi latérale 23 du puits 20 avant d’illuminer le fond 21 du puits 20 ou l’objet ou le matériau à analyser. Cela est renforcé par le fait que le rayonnement R est collimaté entre le dispositif de focalisation 55 et le puits 20. L’illumination du fond 21 du puits 20 ou du matériau ou de l’objet à analyser est, là encore, plus uniforme.
En outre, parce que la couche chauffante 200 du capot 35 est chauffée, le système d’observation 15 évite la condensation de vapeur d’eau sur le capot 35 au cours de l’illumination du puits 20 avec le rayonnement R. L’illumination du fond 21 du puits 20 ou du matériau ou de l’objet à analyser est, là encore, plus uniforme, et l’analyse facilitée.
Le capot 35 protège, en outre, la carte 160 et les capteurs optiques 185 contre l’humidité qui pourrait être contenue dans les objets ou matériaux à analyser.
Enfin, l’utilisation des sténopés 70 et/ou des diaphragmes 220 permet d’éviter qu’un puits 20 soit partiellement éclairé par le rayonnement R illuminant un autre puits 20, par exemple par diffusion du rayonnement R. Là encore, l’illumination de chaque puits 20 est très homogène.
Un deuxième exemple de système d’observation 15 a été représenté sur la figure 23. Les éléments identiques au premier exemple de système d’observation 15 de la figure 1 ne sont pas décrits à nouveau. Seules les différences sont mises en évidence.
La deuxième distance d2 entre le dispositif de focalisation 55 et la plaque opaque 105 est strictement inférieure à la distance focale f.
Grâce au choix d’une deuxième distance d2 strictement inférieure à la distance focale f, le rayonnement R est un rayonnement divergent lorsque le rayonnement R se propage entre le dispositif de focalisation 55 et le capteur optique 185. La deuxième image Im2 de chaque puits 20 est donc agrandie.
Selon un troisième exemple représenté sur la figure 24, la deuxième distance d2 est strictement supérieure à la distance focale f.
Selon le troisième exemple, le rayonnement R est un rayonnement convergent entre le dispositif de focalisation 55 et le capteur optique 185.
La deuxième image Im2 acquise par le capteur optique 185 est alors une image d’un plus grand champ de vue. En particulier, la zone apparaissant sur la deuxième image Im2 est plus large, dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z, que le capteur optique 185.
Le troisième exemple est donc particulièrement adapté au cas où les capteurs optiques 185 sont de petite dimension, ou au cas où le premier diamètre D1 est grand.
La tige 75 d’un intégrateur de lumière 65 intégré dans un quatrième exemple de système d’observation 15 a été représentée sur la figure 25. Les éléments identiques au premier exemple de système d’observation 15 de la figure 1 ne sont pas décrits à nouveau. Seules les différences sont mises en évidence.
Dans le quatrième exemple, la dimension transversale moyenne Dt est inférieure ou égale aux deux tiers de la longueur I. En particulier, la dimension transversale moyenne Dt est comprise entre un sixième de la longueur I et deux tiers de la longueur I.
Par exemple, la longueur I est égale à 12 mm et la dimension transversale moyenne Dt est égale à 3 mm.
Selon l’exemple de la figure 26, le premier axe optique OA1, le deuxième axe optique OA2 et le troisième axe optique OA3 sont confondus.
En variante, au moins un axe optique OA1, OA2, OA3 est décentré par rapport à la ligne de propagation L de la source de lumière 40 correspondante.
Il est entendu par « décentré » que l’axe optique OA1, OA2, OA3 considéré est parallèle à la ligne de propagation L mais n’est pas confondu avec la ligne de propagation L.
Selon l’exemple de la figure 27, le deuxième axe OA2 est confondu avec la ligne de propagation L, mais le premier axe optique OA1 et le troisième axe optique OA3 sont décentrés par rapport à la ligne de propagation L.
Selon l’exemple de la figure 28, le premier axe optique OA1 et le troisième axe optique OA3 sont confondus avec la ligne de propagation L, mais le deuxième axe optique OA2 est décentré par rapport à la ligne de propagation L.
Selon les exemples des figures 29 et 30, le premier axe optique OA1, le deuxième axe optique OA2 et le troisième axe optique OA3 sont décentrés par rapport à la ligne de propagation L.
Par exemple, comme représenté sur les figures 27 à 29, le premier axe optique OA1 et le troisième axe optique OA3 sont confondus l’un avec l’autre, mais le deuxième axe optique OA2 n’est pas confondu avec le premier axe optique OA1 et le troisième axe optique OA3.
En particulier, comme représenté sur les figures 29 et 30, le premier axe optique OA1, le troisième axe optique OA3, le deuxième axe optique OA2 et la ligne de propagation L sont alignés dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z, la ligne de propagation L étant située entre le premier axe optique OA1 et le deuxième axe optique OA2. En d’autres termes, le premier axe optique OA1 et le deuxième axe optique OA2 sont décentrés dans des sens opposés par rapport à la ligne de propagation L.
Un premier décalage Del, un deuxième décalage Dc2 et un troisième décalage Dc3 sont définis respectivement pour le premier axe optique OA1, le deuxième axe optique OA2 et le troisième axe optique OA3. Chaque décalage Del, Dc2, Dc3 est mesuré dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z, entre l’axe optique OA1, OA2, OA3 considéré et la ligne de propagation L.
Le premier décalage Del est compris entre 0 et 30 mm, par exemple égal à 20 mm.
Le deuxième décalage Dc2 est compris entre 0 et 18 mm, par exemple égal à 2,0 mm.
Le troisième décalage Dc3 est compris entre 0 et 30 mm, par exemple égal à 20 mm.
Comme visible sur la figure 25, le rayonnement R en sortie de la tige 75 est partiellement homogène. En particulier, la densité de rayons lumineux est plus élevée dans une zone centrale notée A située en regard de la deuxième extrémité E2 que dans les zones latérales notées B qui entourent la zone centrale dans un plan perpendiculaire à la troisième direction Z. La dimension transversale moyenne Dt étant inférieure ou égale aux deux tiers de la longueur I de l’intégrateur de lumière 65, ce mode de réalisation permet de réaliser des sources de lumière 40 compactes selon la troisième direction Z. De préférence, un premier décalage Del non-nul et/ou un deuxième décalage Dc2 non-nul et/ou un troisième décalage Dc3 non-nul sont choisis de manière à ce que la deuxième image Im2 soit acquise par le capteur optique 185 dans une zone latérale B du rayonnement R.
Selon un cinquième exemple, au moins une source de lumière 40 comporte un diffuseur de lumière. Par exemple, le système d’observation 15 comporte un diffuseur de lumière pour chaque puits 20.
Il est entendu par « diffuseur de lumière >> un dispositif propre à être traversé par le rayonnement R et propre à diffuser le rayonnement R qui traverse le diffuseur de lumière.
Le diffuseur de lumière est, par exemple, un film transparent au rayonnement R dont au moins une surface diffuse le rayonnement R.
Par exemple, le diffuseur de lumière est un film plastique tel qu’un ruban adhésif transparent en acétate de cellulose, en polychlorure de vinyle ou en polypropylène.
En variante, le diffuseur de lumière est une plaque de verre dépoli.
En variante, le diffuseur de lumière est une plaque de verre opale.
En variante, le diffuseur de lumière est une plaque d’un matériau transparent dont une surface au moins est structurée par photolithographie ou par le chatoiement d’un laser.
Le diffuseur de lumière est, par exemple, interposé entre la LED 60 et l’intégrateur 65. Il est entendu par « interposé » que le rayonnement R émis par la LED 60 traverse le diffuseur de lumière avant de pénétrer dans l’intégrateur 65.
En variante, le diffuseur de lumière est interposé entre l’intégrateur 65 et le sténopé 70.
En variante, le diffuseur de lumière est interposé entre le sténopé 70 et le dispositif de focalisation 55.
En variante, le diffuseur de lumière est interposé entre le dispositif de focalisation 55 et le capot 35.
Les diffuseurs de lumière de chaque source de lumière 40 sont, de préférence, venus de matière les uns avec les autres. Par exemple, une unique plaque diffusant le rayonnement R est interposée entre les sources de lumière 40 et les intégrateurs 65.
Grâce au diffuseur de lumière, le rayonnement R est, là encore, plus homogène lorsqu’il illumine le puits 20.
Selon un sixième exemple, au moins une source de lumière 40 comporte un filtre optique. Le filtre optique présente une bande passante.
Le filtre optique est propre à être traversé par les ondes électromagnétiques présentant une longueur d’onde comprise dans la bande passante.
Le filtre optique est propre à empêcher la propagation des ondes électromagnétiques présentant une longueur d’onde n’étant pas comprise dans la bande passante.
Le filtre optique est, par exemple, un filtre interférentiel composé d’un ensemble de couches superposées présentant des indices optiques différents. La bande passante est alors définie par le choix des indices optiques et des épaisseurs des différentes couches.
Le filtre optique est, par exemple, interposé entre la LED 60 et l’intégrateur 65.
En variante, le filtre optique est interposé entre l’intégrateur 65 et le sténopé 70.
En variante, le filtre optique est interposé entre le sténopé 70 et le dispositif de focalisation 55.
En variante, le filtre optique est interposé entre le dispositif de focalisation 55 et le capot 35.
Les filtres optiques de chaque source de lumière 40 sont, de préférence, venus de matière les uns avec les autres. Par exemple, une unique plaque filtrant les longueurs d’onde du rayonnement R est interposée entre les LEDs 60 et les sources de lumière 40.
Le système d’illumination 25 est alors propre à illuminer le puits 20 et son contenu avec une gamme particulière de longueurs d’ondes, en évitant l’illumination avec des longueurs d’ondes indésirables.
Les exemples de réalisation décrits ci-dessus peuvent être combinés pour générer de nouveaux modes de réalisation.

Claims (11)

  1. REVENDICATIONS
    1. - Système d’observation (15) d’une plaque (10) comportant un ensemble de puits (20), un axe optique (OA1) étant défini pour chaque puits (20), le système d’observation (15) comportant, pour chaque puits (20): - une source (40) de rayonnement lumineux se propageant selon une ligne de propagation (L), la source (40) comprenant : - une diode électroluminescente (60) propre à produire un rayonnement lumineux (R), - un sténopé (70), et - un intégrateur de lumière (65) propre à guider de la lumière entre deux extrémités (E1, E2), la première extrémité (E1) collectant le rayonnement (R) de la diode électroluminescente (60) et la deuxième extrémité (E2) étant en regard du sténopé (70), l’intégrateur de lumière (65) présentant une longueur (I) définie comme la distance entre les deux extrémités (E1, E2) et une dimension transversale moyenne (Dt), l’intégrateur (65) étant configuré pour que le rayonnement (R) en sortie de l’intégrateur (65) ne présente pas de gradient d’intensité supérieur à 25 pourcents, - un capteur optique (185) propre à récolter le signal optique issu du puits (20), un axe optique (OA3) étant défini pour le capteur optique (185), le système (15) étant tel que les axes optiques (OA1, OA2, OA3) sont parallèles entre eux et au moins une des caractéristiques suivantes est vérifiée : - un rapport entre la longueur (I) et la dimension transversale moyenne (Dt) de chaque intégrateur de lumière (65) est supérieur ou égal à 2,2, ou - le système d’observation (15) comporte, pour chaque source de lumière (40), une lentille (140) propre à focaliser le rayonnement (R) vers le puits (20), un axe optique (OA2) étant défini pour la lentille (140), et au moins un axe optique (OA1, OA2, OA3) est décentré par rapport à la ligne de propagation (L), le rapport entre la longueur (I) et la dimension transversale moyenne (Dt) de l’intégrateur (65) étant supérieur ou égal à 1,5.
  2. 2, - Système d’observation (15) selon la revendication 1, dans lequel les diodes électroluminescentes (60) sont montées sur un unique substrat (50) commun à toutes les diodes électroluminescentes (60).
  3. 3. - Système d’observation (15) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel tous les intégrateurs de lumière (65) sont venus de matière les uns avec les autres.
  4. 4. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel tous les sténopés (70) sont ménagés dans une unique plaque opaque (105).
  5. 5. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, comprenant, en outre, un capot (35) configuré pour obturer chaque puits (20) lorsque le capot (35) est fixé à ou placé sur la plaque à puits (10), le capot (35) comportant une couche chauffante (200) transparente au rayonnement (R) et configurée pour chauffer le capot (35) lorsque la couche chauffante est traversée par un courant électrique.
  6. 6. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, comprenant, en outre, un capot (35) configuré pour occulter au moins partiellement chaque puits (20) lorsque le capot (35) est fixé à ou placé sur la plaque à puits (10), le capot (35) comportant une couche occultante (205) configurée pour ne pas être traversée par le rayonnement (R), une pluralité de diaphragmes (220) configurés chacun pour être traversés par le rayonnement (R) étant ménagés dans la couche occultante (205).
  7. 7. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel chaque intégrateur (65) comporte une tige (75) s’étendant selon la ligne de propagation (L), chaque tige (75) étant délimitée par la première extrémité (E1) et la deuxième extrémité (E2) selon la ligne de propagation (L), chaque intégrateur (65) comportant, en outre, deux paires de contreforts (80) venus de matière avec la tige (75), les deux contreforts (80) d’une même paire étant symétriques l’un de l’autre selon un plan contenant la ligne de propagation (L), la première extrémité (E1) étant interposée entre les contreforts (80) de chaque paire.
  8. 8. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel chaque sténopé (70) comporte un trou (100) traversant une plaque opaque (105) selon la ligne de propagation, et un lamage (120) coaxial au trou (100), le lamage (120) étant prévu pour accueillir la deuxième extrémité (E2) de l’intégrateur (65) correspondant.
  9. 9. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, comprenant, en outre, pour chaque puits (20), un diffuseur de lumière propre à diffuser le rayonnement (R).
  10. 10. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel un décalage entre au moins un axe optique (OA1, OA2, OA3) et la ligne de propagation (L) correspondante est compris entre 0 et 30 millimètres pour les axes optiques OA1 et OA3 et entre 0,2 et 18 millimètres pour l’axe optique OA2.
  11. 11. - Système d’observation (15) selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel l’axe optique (OA2) d’une lentille (140) est décentré par rapport à la ligne de propagation (L), les axes optiques (OA1, OA3) du puits (20) et du capteur optique (185) associés étant confondus avec la ligne de propagation (L).
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