FR3015679A1

FR3015679A1 - DEVICE AND METHOD FOR OPTICALLY REPERTING A SAMPLE TO BE ANALYZED USING A LIGHT BEAM.

Info

Publication number: FR3015679A1
Application number: FR1363268A
Authority: FR
Inventors: Dominique Leterme; Nicolas Jonqueres
Original assignee: Commissariat a lEnergie Atomique CEA; Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Current assignee: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Priority date: 2013-12-20
Filing date: 2013-12-20
Publication date: 2015-06-26
Anticipated expiration: 2033-12-20
Also published as: FR3015679B1

Abstract

L'invention porte sur un dispositif et un procédé de positionnement d'un échantillon (E) à analyser au moyen d'un faisceau lumineux (11) selon un axe (Y) d'un trièdre de référence (TR). Le dispositif comprend : • un porte-échantillon (16) comprenant un plateau (13) sur lequel peut être fixé l'échantillon (E), • un positionneur (12) apte à déplacer le porte-échantillon (16) par rapport au faisceau, et • quatre mires (A, B, A', B') fixées sur le plateau (13); un premier et un second couple de deux mires définissant respectivement un premier et un second axe (XPE ; YPE) d'un trièdre (TPE) lié au porte-échantillon (16); le positionneur (12) étant configuré pour permettre d'aligner respectivement le premier et le second couple de mires sur le faisceau, permettant de repérer le trièdre lié au porte-échantillon dans le trièdre de référence (TR), et positionner l'échantillon (E) par rapport au faisceau (11).The invention relates to a device and a method for positioning a sample (E) to be analyzed by means of a light beam (11) along an axis (Y) of a reference trihedron (TR). The device comprises: • a sample holder (16) comprising a plate (13) on which the sample (E) can be fixed, • a positioner (12) able to move the sample holder (16) relative to the beam and • four patterns (A, B, A ', B') fixed on the plate (13); first and second pairs of two patterns respectively defining a first and a second axis (XPE; YPE) of a trihedron (TPE) bound to the sample holder (16); the positioner (12) being configured to align the first and second pair of patterns respectively on the beam, for locating the trihedron bound to the sample holder in the reference trihedron (TR), and positioning the sample ( E) with respect to the beam (11).

Description

Dispositif et procédé de repérage optique d'un échantillon à analyser au moyen d'un faisceau lumineux La présente invention concerne le domaine du repérage optique permettant de positionner avec précision un échantillon par rapport à un faisceau lumineux incident. L'invention trouve une utilité particulière pour positionner un échantillon radioactif à analyser au moyen d'un faisceau incident de rayons X émis par un synchrotron.The present invention relates to the field of optical registration for accurately positioning a sample with respect to an incident light beam. The invention finds particular utility for positioning a radioactive sample to be analyzed by means of an incident X-ray beam emitted by a synchrotron.

Un synchrotron produit un rayonnement électromagnétique puissant, sur une gamme spectrale s'étendant de l'infrarouge aux rayons X, qui permet d'explorer des objets jusqu'à des tailles nanométriques tels que les atomes. Une installation typique comprend plusieurs lignes de lumière, réparties autour de l'anneau de stockage, généralement spécialisées par type d'analyse ou par gamme de longueur d'onde. On connait par exemple le synchrotron SOLEIL et la ligne de lumière MARS dédiée à l'analyse par rayonnement X (diffraction X, spectroscopie d'absorption X, etc...) d'échantillons radioactifs pour diverses applications dans le domaine du traitement des déchets, de la santé, ou de l'énergie.A synchrotron produces powerful electromagnetic radiation, over a spectral range extending from the infrared to the X-rays, which makes it possible to explore objects up to nanometric sizes such as atoms. A typical installation includes several lines of light, distributed around the storage ring, usually specialized by type of analysis or by wavelength range. We know, for example, the SOLEIL synchrotron and the MARS light line dedicated to X-ray analysis (X-ray diffraction, X-ray absorption spectroscopy, etc.) of radioactive samples for various applications in the field of waste treatment. , health, or energy.

Le rayonnement synchrotron est devenu un outil incontournable de la communauté scientifique et industrielle, de sorte que l'accès aux lignes de lumière est fortement sollicité. En pratique, des équipes se relaient pour optimiser le taux d'occupation de la ligne et de ses instruments d'analyse. Une équipe à qui l'on accorde l'accès à la ligne pour une période donnée cherche à optimiser cet accès en analysant le plus grand nombre d'échantillons. Le délai de mise en place et de retrait de l'échantillon sur l'instrument d'analyse revêt donc une importance particulière. La caractérisation d'échantillon radioactif par rayonnement X nécessite en outre des précautions adaptées pour la sûreté des opérateurs.Synchrotron radiation has become an essential tool for the scientific and industrial community, so that access to light lines is highly demanded. In practice, teams take turns to optimize the occupancy rate of the line and its analytical instruments. A team that is granted access to the line for a given period of time seeks to optimize this access by analyzing the largest number of samples. The time taken to set up and withdraw the sample from the analytical instrument is therefore of particular importance. The X-ray radioactive sample characterization also requires appropriate precautions for the safety of the operators.

Dans une installation connue, la ligne de lumière comprend une enceinte blindée dans laquelle un échantillon radioactif peut être analysé par exposition à un faisceau incident de rayons X. L'échantillon est tout d'abord placé sur un porte-échantillon, avant d'être transporté vers l'enceinte blindée au moyen d'une enceinte mobile de protection biologique. Lorsque l'enceinte mobile est connectée à l'enceinte blindée, le porte-échantillon est déposé sur une interface de positionnement de l'analyseur, au moyen d'une canne de transfert. Le faisceau incident est généralement de très faibles dimensions, typiquement de l'ordre de 10 lm par 10 lm de section. Les dimensions de l'échantillon à analyser sont également faibles, typiquement de l'ordre de quelques millimètres. Il convient donc de positionner avec une grande précision l'échantillon par rapport au faisceau incident. Selon l'état connu de la technique, la position de l'échantillon est déterminée au moyen d'une caméra capable de visualiser l'empreinte du faisceau sur un écran fluorescent sensible aux rayons X. L'image de l'empreinte du faisceau est tout d'abord mémorisée. L'échantillon est ensuite mis en place et positionné en déplaçant l'échantillon face au faisceau. Des déplacements de l'échantillon dans un plan perpendiculaire à l'axe du faisceau modifient l'ombre portée par l'échantillon. L'analyse du signal de la caméra au cours des déplacements de l'échantillon permet d'estimer la position de l'échantillon. La précision de ce positionnement reste toutefois limitée. Par exemple, dans le cas d'un échantillon en forme de disque, la mesure de l'ombre portée de l'échantillon ne permet pas d'orienter l'échantillon suivant son axe de révolution. Pour un échantillon de forme quelconque, de nombreux tâtonnements sont nécessaires. D'une manière générale, la précision du positionnement est insuffisante et ne permet pas de d'orienter le faisceau vers un point spécifique de l'échantillon. Il est donc souhaitable de disposer d'une méthode pour positionner de manière précise un échantillon de taille millimétrique par rapport à un faisceau lumineux également de très faibles dimensions. Cette méthode doit en outre être adaptée à un échantillon radioactif et un faisceau incident de rayons X. A cet effet, l'invention a pour objet un dispositif de positionnement d'un échantillon à analyser au moyen d'un faisceau lumineux émis par une source selon un premier axe d'un trièdre de référence lié à la source, caractérisé en 30 ce qu'il comprend : - un porte-échantillon comprenant un plateau sur lequel peut être fixé l'échantillon, dans une position prédéterminée repérée dans un trièdre lié au porte-échantillon, - un positionneur apte à déplacer le porte-échantillon par rapport au faisceau, en translation et en rotation selon trois axes du trièdre de référence, et - un premier et un second couple de deux mires fixées sur le plateau, définissant respectivement un premier et un second axe du trièdre lié au porte-échantillon, concourants et n'intersectant pas l'échantillon; le positionneur étant configuré pour permettre d'aligner respectivement le premier et le second couple de mires sur le faisceau, permettant de repérer le trièdre lié au porte-échantillon dans le trièdre de référence lié à la source, 10 et positionner l'échantillon par rapport au faisceau. Avantageusement, les quatre mires sont configurées de manière à définir deux axes perpendiculaires en surface du plateau, formant avec un troisième axe perpendiculaire au plateau le trièdre lié au porte-échantillon. Avantageusement, le dispositif comprend un détecteur sensible au faisceau lumineux, configuré pour mesurer une évolution d'intensité lumineuse au cours d'un déplacement d'une des mires obturant progressivement le faisceau. Avantageusement, le détecteur est sensible aux rayons X, et comprend un écran fluorescent ou un scintillateur, et un capteur photographique. 25 Avantageusement, au moins un des couples de mires comprend une première mire présentant une forme générale de U dans un plan perpendiculaire au plateau et une seconde mire présentant une forme générale de T retourné dans un plan perpendiculaire au plateau. 30 Avantageusement, les deux mires d'au moins un couple de mires comprennent un conduit traversant. Avantageusement, chacun des deux couples de mires comprend une première mire présentant une forme générale de U dans un plan 35 perpendiculaire au plateau et un conduit traversant aménagé au centre de la 15 20 base du U, et une seconde mire présentant une forme générale de T retourné dans un plan perpendiculaire au plateau et un conduit traversant aménagé au centre des branches horizontal du T retourné.In a known installation, the light line comprises a shielded enclosure in which a radioactive sample can be analyzed by exposure to an incident beam of X-rays. The sample is first placed on a sample holder, before being transported to the shielded enclosure by means of a mobile biological protection cabinet. When the mobile enclosure is connected to the shielded enclosure, the sample holder is deposited on a positioning interface of the analyzer, by means of a transfer rod. The incident beam is generally very small, typically of the order of 10 lm per 10 lm section. The dimensions of the sample to be analyzed are also small, typically of the order of a few millimeters. It is therefore necessary to position the sample very precisely with respect to the incident beam. According to the state of the art, the position of the sample is determined by means of a camera capable of displaying the beam pattern on an X-ray fluorescent screen. The image of the beam pattern is first memorized. The sample is then set up and positioned by moving the sample towards the beam. Displacements of the sample in a plane perpendicular to the beam axis modify the shadow carried by the sample. The analysis of the camera signal during the movements of the sample makes it possible to estimate the position of the sample. The accuracy of this positioning remains limited. For example, in the case of a disk-shaped sample, the measurement of the drop shadow of the sample does not make it possible to orient the sample along its axis of revolution. For a sample of any shape, many trial and error are necessary. In general, the positioning accuracy is insufficient and does not allow to direct the beam to a specific point of the sample. It is therefore desirable to have a method for accurately positioning a sample of millimeter size with respect to a light beam also very small. This method must also be adapted to a radioactive sample and an incident X-ray beam. For this purpose, the subject of the invention is a device for positioning a sample to be analyzed by means of a light beam emitted by a source. according to a first axis of a reference trihedron linked to the source, characterized in that it comprises: a sample holder comprising a plate on which the sample may be fixed, in a predetermined position located in a linked trihedron at the sample holder, - a positioner able to move the sample holder relative to the beam, in translation and in rotation along three axes of the reference trihedron, and - a first and a second pair of two patterns fixed on the plate, defining respectively a first and a second axis of the trihedron bound to the sample holder, concurrent and not intersecting the sample; the positioner being configured to align the first and second pair of patterns respectively on the beam, for locating the trihedron bound to the sample holder in the reference trihedron connected to the source, and positioning the sample relative to to the beam. Advantageously, the four patterns are configured so as to define two perpendicular axes on the surface of the plate, forming with a third axis perpendicular to the plate the trihedron bound to the sample holder. Advantageously, the device comprises a detector sensitive to the light beam, configured to measure a change in light intensity during a movement of one of the sights gradually closing the beam. Advantageously, the detector is sensitive to X-rays, and comprises a fluorescent screen or a scintillator, and a photographic sensor. Advantageously, at least one of the pairs of patterns comprises a first pattern having a general shape of U in a plane perpendicular to the plate and a second pattern having a general shape of T returned in a plane perpendicular to the plate. Advantageously, the two sights of at least one pair of sights comprise a through conduit. Advantageously, each of the two pairs of patterns comprises a first pattern having a general shape of U in a plane perpendicular to the plate and a through duct arranged in the center of the base of the U, and a second pattern having a generally T shape. returned in a plane perpendicular to the tray and a through conduit arranged in the center of the horizontal branches of the T returned.

Avantageusement, le dispositif comprend une enceinte blindée de protection biologique, permettant l'analyse d'un échantillon radioactif au moyen d'un faisceau de rayons X. L'invention porte aussi sur un procédé de positionnement d'un échantillon à analyser au moyen d'un faisceau lumineux émis par une source selon un premier axe d'un trièdre de référence lié à la source, au moyen d'un dispositif de positionnement ayant les caractéristiques précédemment décrites. Le procédé comprend des étapes consistant à : - aligner le premier couple de mires sur le faisceau en déplaçant le porte-échantillon par rapport au faisceau au moyen du positionneur, - déplacer le porte-échantillon en rotation autour d'un axe du trièdre de référence perpendiculaire au premier axe, d'un angle égal à un angle réalisé entre le premier axe et le second axe du porte-échantillon, et - aligner le second couple de mires sur le faisceau en déplaçant le porte-échantillon par rapport au faisceau au moyen du positionneur; les étapes d'alignement successives du premier et second couple de mires sur le faisceau permettant de repérer le trièdre lié au porte-échantillon dans le trièdre de référence lié à la source.Advantageously, the device comprises a shielded biological protection enclosure, allowing the analysis of a radioactive sample by means of an X-ray beam. The invention also relates to a method of positioning a sample to be analyzed by means of a light beam emitted by a source along a first axis of a reference trihedron linked to the source, by means of a positioning device having the characteristics described above. The method comprises the steps of: - aligning the first pair of patterns on the beam by moving the sample holder relative to the beam by means of the positioner, - moving the sample holder in rotation about an axis of the reference trihedron perpendicular to the first axis, an angle equal to an angle formed between the first axis and the second axis of the sample holder, and - aligning the second pair of patterns on the beam by moving the sample holder relative to the beam by means of positioner; the successive alignment steps of the first and second pair of patterns on the beam for locating the trihedron bound to the sample holder in the reference trihedron linked to the source.

Avantageusement, au moins une étape d'alignement d'un couple de mires comprend des sous-étapes consistant à : - positionner une première mire par détection d'une évolution typique d'intensité lumineuse mesurée au cours d'un balayage du porte-échantillon en translation dans un plan comprenant deux axes perpendiculaires au premier axe du trièdre de référence, amenant la première mire en intersection du faisceau lumineux, et - positionner une seconde mire par détection d'une évolution typique d'intensité lumineuse mesurée au cours d'un balayage du porte-échantillon en rotation autour des deux axes dudit plan, amenant la seconde mire en intersection du faisceau lumineux.Advantageously, at least one step of alignment of a pair of patterns comprises sub-steps consisting in: positioning a first pattern by detecting a typical change in luminous intensity measured during a scanning of the sample holder in translation in a plane comprising two axes perpendicular to the first axis of the reference trihedron, causing the first pattern to intersect the light beam, and - positioning a second pattern by detecting a typical change in light intensity measured during a sweeping the sample holder in rotation about the two axes of said plane, causing the second target to intersect the light beam.

Avantageusement, au moins une étape d'alignement d'un couple de mires sur le faisceau est réalisée deux fois : - une première fois par alignement des formes en U et en T retourné des mires sur le faisceau, et - une seconde fois par alignement des conduits des mires sur le faisceau. Avantageusement, le procédé comprend une étape préliminaire 10 consistant à déterminer la position de l'échantillon dans le trièdre lié au porte-échantillon. L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront à la lecture de la description détaillée d'un mode de réalisation 15 donné à titre d'exemple sur les figures suivantes. La figure 1 représente un exemple de dispositif selon l'invention de positionnement d'un échantillon à analyser au moyen d'un faisceau lumineux, les figures 2a, 2b, 2c, 2d, 2e, 2f et 2g illustrent le principe de 20 l'alignement sur le faisceau d'un couple de mires au moyen du dispositif, la figure 3 illustre au moyen d'un logigramme les principales étapes d'un procédé de positionnement au moyen du dispositif. Par souci de clarté, les mêmes éléments porteront les mêmes repères dans les différentes figures. 25 L'idée générale consiste à fixer des mires à la surface du porte-échantillon permettant par alignement sur le faisceau de repérer et orienter des axes de la surface du porte-échantillon par rapport à un trièdre de référence lié au faisceau. L'invention est décrite dans le cas où le faisceau et 30 la source de lumière sont fixes, et où le porte-échantillon peut être déplacé par rapport à ces éléments fixes. Cet exemple n'est pas limitatif. Le dispositif et le procédé de positionnement d'échantillon sont également adaptés au cas inverse où le faisceau lumineux peut être déplacé par rapport à un porte-échantillon fixe.Advantageously, at least one step of aligning a pair of patterns on the beam is performed twice: - a first time by alignment of the U-shaped and T-shaped returned patterns on the beam, and - a second time by alignment duct patterns on the beam. Advantageously, the method comprises a preliminary step of determining the position of the sample in the trihedron bound to the sample holder. The invention will be better understood and other advantages will appear on reading the detailed description of an embodiment given by way of example in the following figures. FIG. 1 represents an example of a device according to the invention for positioning a sample to be analyzed by means of a light beam. FIGS. 2a, 2b, 2c, 2d, 2e, 2f and 2g illustrate the principle of the invention. alignment on the beam of a pair of sights by means of the device, Figure 3 illustrates by means of a logic diagram the main steps of a method of positioning by means of the device. For the sake of clarity, the same elements will bear the same references in the different figures. The general idea is to fix targets on the surface of the sample holder allowing alignment of the beam to locate and orient the axes of the surface of the sample holder relative to a reference trihedron bound to the beam. The invention is described in the case where the beam and the light source are fixed, and the sample holder can be moved with respect to these fixed elements. This example is not limiting. The sample positioning device and method is also adapted to the inverse case where the light beam can be moved relative to a fixed sample holder.

Notons que le dispositif et le procédé sont envisagés en premier lieu pour le positionnement d'un échantillon radioactif à analyser au moyen d'un faisceau de rayons X émis par une source synchrotron. D'une manière générale, le dispositif et le procédé sont particulièrement adaptés pour 5 l'alignement de composants sur un faisceau lumineux non visible à l'oeil dans un environnement restreint, peu accessible ou complètement fermé. Ils sont aussi envisagés pour permettre un positionnement très précis du faisceau d'analyse sur la zone de l'échantillon à analyser. Il est envisagé de les mettre en oeuvre pour des échelles encore inférieures de dimensions, du faisceau et 10 de l'échantillon, comme par exemple en microscopie électronique. La figure 1 représente un exemple de dispositif selon l'invention de positionnement d'un échantillon à analyser au moyen d'un faisceau lumineux. Le dispositif a pour but de positionner un échantillon E par rapport 15 à un faisceau lumineux 11 émis par une source 10. Par convention, le faisceau émis se propage le long d'un axe Y d'un trièdre de référence TR lié à la source. L'axe Z du trièdre correspond à la direction verticale de l'installation, et l'axe X complète le trièdre de façon à former un trièdre orthogonal direct. 20 Un détecteur 17 sensible au faisceau lumineux 11 est positionné en regard de la source 10. Pour capter un faisceau incident de rayons X, le détecteur 17 comprend un écran fluorescent 15 ou scintillateur, émettant une lumière dans le domaine visible lorsqu'ils sont exposés à un rayonnement X, permettant à un capteur photographique 14 de détecter une intensité du 25 faisceau lumineux incident. Le dispositif comprend un porte-échantillon 16 comprenant un plateau 13 sur lequel peut être fixé l'échantillon E. Le porte-échantillon comprend une zone réservée à l'échantillon préférentiellement au centre du plateau de forme circulaire. Le porte-échantillon 16 peut être déplacé par 30 rapport au faisceau au moyen d'un positionneur 12. Plusieurs systèmes peuvent être mis en oeuvre pour conférer au porte-échantillon six degrés de liberté, comme par exemple un hexapode à haute précision. Comme indiqué en préambule, l'échantillon et le porte-échantillon sont déposés sur une interface de positionnement lors du transfert de l'enceinte de transport vers 35 l'enceinte blindée d'analyse. Le porte-échantillon est préférentiellement positionné sur l'interface de positionnement du positionneur au moyen d'une liaison par trois vis reposant sur trois billes. Cette liaison permet avantageusement un positionnement précis et répétable de sorte que l'on peut considérer que le repère de l'interface de positionnement coïncide avec le repère du porte-échantillon. Ainsi configuré, le positionneur 12 est apte à déplacer le porte-échantillon 16 par rapport au faisceau 11, en translation et en rotation selon trois axes X, Y et Z du trièdre de référence TR.Note that the device and the method are considered first of all for the positioning of a radioactive sample to be analyzed by means of an X-ray beam emitted by a synchrotron source. In general, the device and the method are particularly suitable for aligning components on a light beam that is not visible to the eye in a restricted, inaccessible or completely closed environment. They are also envisaged to allow a very precise positioning of the analysis beam on the area of the sample to be analyzed. It is envisaged to implement them for still smaller scales of the beam and the sample, for example by electron microscopy. FIG. 1 represents an exemplary device according to the invention for positioning a sample to be analyzed by means of a light beam. The purpose of the device is to position a sample E with respect to a light beam 11 emitted by a source 10. By convention, the transmitted beam propagates along a Y axis of a reference trihedron TR linked to the source . The Z axis of the trihedron corresponds to the vertical direction of the installation, and the X axis completes the trihedron so as to form a direct orthogonal trihedron. A light beam sensitive detector 17 is positioned facing the source 10. To capture an incident x-ray beam, the detector 17 comprises a fluorescent or scintillator screen, emitting light in the visible range when exposed. X-radiation, allowing a photographic sensor 14 to detect an intensity of the incident light beam. The device comprises a sample holder 16 comprising a plate 13 on which the sample E can be fixed. The sample holder comprises a zone reserved for the sample, preferably in the center of the circularly shaped plate. The sample holder 16 can be moved relative to the beam by means of a positioner 12. Several systems can be implemented to give the sample holder six degrees of freedom, such as a high precision hexapod. As indicated in the preamble, the sample and the sample holder are deposited on a positioning interface during the transfer of the transport chamber to the shielded analysis chamber. The sample holder is preferably positioned on the positioning interface of the positioner by means of a connection by three screws resting on three balls. This connection advantageously allows a precise and repeatable positioning so that it can be considered that the reference of the positioning interface coincides with the reference of the sample holder. Thus configured, the positioner 12 is able to move the sample holder 16 relative to the beam 11, in translation and in rotation along three axes X, Y and Z of the reference trihedron TR.

Le dispositif comprend également quatre mires fixées sur le plateau et référencées A, B, A' et B' sur la figure 1. Les mires sont associées deux à deux en formant deux couples de mires, respectivement A et B, et A' et B'. Chaque couple de deux mires définit un axe d'un trièdre TPE lié au porte-échantillon. Comme représenté sur la figure, les mires A et B définissent un premier axe YPE sur la surface du porte-échantillon, et les mires A' et B' définissent un second axe XPE sur la surface du porte-échantillon. Préférentiellement, les mires sont configurées de manière à définir deux axes XPE et YPE perpendiculaires sur la surface du plateau 13, formant avec un troisième axe ZPE perpendiculaire au plateau 13 un trièdre TPE orthogonal direct. Ce choix d'un repère orthogonal direct n'est pas limitatif de l'invention qui porte plus largement sur un dispositif muni de quatre mires définissant à la surface du plateau deux axes concourants ; les axes n'intersectant pas l'échantillon pour que les mires ne perturbent pas les mesures sur l'échantillon, ou que l'échantillon n'interfère pas lors de l'alignement des mires sur le faisceau. L'échantillon est déposé et fixé dans la zone réservée à proximité du centre du plateau, dans une position prédéterminée repérée dans le trièdre TPE lié au porte-échantillon. Cette position de l'échantillon sur le porte- échantillon peut être déterminée par exemple avant montage du porte-échantillon sur l'interface de positionnement de l'analyseur, par exemple par photographie. Le positionnement du trièdre TPE dans le trièdre de référence TR permet alors de positionner l'échantillon par rapport au faisceau. On cherche donc à repérer et orienter le trièdre TPE lié au porte-35 échantillon 16 par rapport au trièdre de référence TR lié à la source 10. Pour cela, le dispositif est configuré pour permettre d'aligner les deux couples de mires, respectivement A et B, et A' et B', sur le faisceau. Les mires sont placées à l'extérieur du champ d'analyse du faisceau, tout en restant dans la course des actionneurs du positionneur. Autrement dit, le positionneur doit permettre à la fois de positionner l'échantillon dans le faisceau et de déplacer le porte-échantillon de sorte à aligner successivement les deux axes perpendiculaires XPE et YPE. Nous allons détailler un mode de réalisation privilégié du dispositif et du procédé de positionnement par alignement des mires sur le faisceau 10 dans les figures suivantes. Les figures 2a, 2b, 2c, 2d, 2e, 2f et 2g illustrent le principe de l'alignement sur le faisceau d'un premier couple de mire du porte-échantillon au moyen du dispositif. Dans l'exemple représenté, le premier couple de 15 mires A et B est constitué, à la manière de la mire d'un fusil, d'une hausse A présentant une forme générale en U dans un plan perpendiculaire à l'axe Y du faisceau, et d'un guidon B en forme générale de T retourné dans un plan perpendiculaire à l'axe du faisceau. Le centre du U de la mire A et la base du T retourné de la mire B définissent l'axe YPE du trièdre TPE lié au porte- 20 échantillon. Lorsque le couple de mires A et B est aligné sur le faisceau, la hausse A fait face au faisceau en première position devant le guidon B. Les mires A et B comprennent également un conduit tubulaire traversant 20 aménagé à la base de la mire fixée au plateau. Les conduits tubulaires traversants définissent l'axe YPE du trièdre TPE lié au porte-échantillon. 25 Deux dispositifs différents définissent le même axe. On peut dire que le centre du U et la base du T retourné définissent un axe parallèle à Y, dans le plan YZ. Dans l'exemple représenté, les mires comprennent donc deux dispositifs de visée optique, un premier basé sur l'alignement d'une hausse 30 en forme de U et d'un guidon en forme de T retourné, et un second basé sur l'alignement de deux conduits coaxiaux. Il est envisagé par l'invention un dispositif mettant en oeuvre un seul de ces dispositifs de visée, le premier ou le second, pour le premier couple de mires A et B, et/ou pour le second couple de mires A' et B'. L'exemple représenté comprenant les deux 35 dispositifs de visée est avantageux car il permet un premier positionnement, par alignement de la hausse A avec le guidon B, et un second positionnement plus précis par alignement des deux conduits 20. Il est envisagé d'effectuer un premier réglage permettant d'aligner la hausse et le guidon, définissant un axe proche de l'axe YPE recherché, puis d'affiner ce réglage par alignement des conduits sur le faisceau rasant la surface du plateau, définissant avec précision l'axe YPE. La figure 2a représente aussi deux abscisses X0 et X1, et trois ordonnées Zo, Z1 et Z2 permettant de décrire le procédé d'alignement. L'abscisse X0 correspond au centre des mires, autrement dit au centre de la base du U de la mire A et de la tige du T retourné de la mire B. L'abscisse X1 correspond à une abscisse de la branche droite du U, et de la branche horizontale droite du T retourné. A l'abscisse X0, l'ordonnée Zo correspond à la base du U, l'ordonnée Z1 entre les deux branches du U, et l'ordonnée Z2 est au-delà de la mire.The device also comprises four patterns fixed on the plate and referenced A, B, A 'and B' in FIG. 1. The patterns are associated in pairs by forming two pairs of patterns, respectively A and B, and A 'and B'. . Each couple of two patterns defines an axis of a TPE trihedron bound to the sample holder. As shown in the figure, the patterns A and B define a first YPE axis on the surface of the sample holder, and the patterns A 'and B' define a second axis XPE on the surface of the sample holder. Preferably, the patterns are configured so as to define two perpendicular XPE and YPE axes on the surface of the plate 13, forming with a third axis ZPE perpendicular to the plate 13 a direct orthogonal TPE trihedron. This choice of a direct orthogonal reference is not limiting of the invention which relates more broadly to a device provided with four patterns defining on the surface of the plate two intersecting axes; the axes do not intersect the sample so that the patterns do not disturb the measurements on the sample, or the sample does not interfere with the alignment of the patterns on the beam. The sample is deposited and fixed in the reserved zone near the center of the plate, in a predetermined position identified in the TPE trihedron bound to the sample holder. This position of the sample on the sample holder can be determined for example before mounting the sample holder on the positioning interface of the analyzer, for example by photography. The positioning of the TPE trihedron in the reference trihedron TR then makes it possible to position the sample relative to the beam. It is therefore sought to identify and orient the TPE trihedron bound to the sample holder 16 with respect to the reference trihedron TR linked to the source 10. For this, the device is configured to allow the two pairs of patterns, respectively A to be aligned. and B, and A 'and B', on the beam. The sights are placed outside the beam analysis field, while remaining in the positioner actuator stroke. In other words, the positioner must allow both to position the sample in the beam and to move the sample holder so as to successively align the two perpendicular axes XPE and YPE. We will detail a preferred embodiment of the device and the method of alignment positioning patterns on the beam 10 in the following figures. Figures 2a, 2b, 2c, 2d, 2e, 2f and 2g illustrate the principle of alignment on the beam of a first pair of sight of the sample holder by means of the device. In the example shown, the first pair of 15 patterns A and B is constituted, in the manner of the sight of a rifle, a rise A having a generally U-shaped in a plane perpendicular to the Y axis of the beam, and a handlebar B in the general shape of T returned in a plane perpendicular to the axis of the beam. The center of the U of the target A and the base of the T returned from the target B define the YPE axis of the TPE trihedron bound to the sample holder. When the pair of sights A and B is aligned with the beam, the rise A faces the beam in the first position in front of the handlebar B. The sights A and B also comprise a through tubular duct 20 arranged at the base of the target attached to the tray. The tubular through ducts define the YPE axis of the TPE trihedron bound to the sample holder. Two different devices define the same axis. We can say that the center of the U and the base of the returned T define an axis parallel to Y, in the plane YZ. In the example shown, the sights therefore comprise two optical sighting devices, a first one based on the alignment of a U-shaped riser and an inverted T-shaped handlebar, and a second one based on the alignment of two coaxial conduits. It is envisaged by the invention a device implementing only one of these sighting devices, the first or the second, for the first pair of patterns A and B, and / or for the second pair of patterns A 'and B'. . The illustrated example comprising the two sighting devices is advantageous because it allows a first positioning, by alignment of the rise A with the handlebar B, and a second positioning more accurate by alignment of the two ducts 20. It is envisaged to carry out a first adjustment making it possible to align the rise and the handlebars, defining an axis close to the desired YPE axis, then to refine this adjustment by aligning the ducts on the beam shaping the surface of the plate, defining precisely the YPE axis . Figure 2a also shows two abscissas X0 and X1, and three ordinates Zo, Z1 and Z2 for describing the alignment method. The abscissa X0 corresponds to the center of the sights, in other words to the center of the base of the U of the target A and the stem of the T returned from the target B. The abscissa X1 corresponds to an abscissa of the right branch of the U, and the right horizontal branch of the returned T. At the abscissa X0, the ordinate Zo corresponds to the base of the U, the ordinate Z1 between the two branches of the U, and the ordinate Z2 is beyond the target.

Le dispositif est envisagé en premier lieu pour l'analyse d'échantillon au moyen d'un faisceau de rayons X. On a précisé pour cela l'utilisation d'un détecteur sensible au rayon X, comprenant un écran fluorescent ou un scintillateur, permettant à un capteur photographique de mesurer une intensité du faisceau lumineux incident. Sur les figures 2b à 2g, l'intensité mesurée par le détecteur est représentée par une valeur comprise entre 0 et 1. En pratique, cette intensité lumineuse correspond à la luminosité mesurée par le capteur sur une zone prédéterminée. L'intensité représentée correspond à la lumière totale intégrée, vue par le capteur dans cette zone prédéterminée. Ainsi, lorsqu'une mire est déplacée de sorte à venir intersecter le faisceau, ce dernier est progressivement obturé par la mire de sorte que l'intensité mesurée chute de la valeur 1, représentant l'intensité maximale mesurée par le détecteur exposé directement au faisceau, à la valeur 0, représentant l'intensité mesurée lorsque le faisceau est entièrement obturé par la mire. Le basculement de la valeur 1 à la valeur 0 par obturation du faisceau est progressif ; une portion du faisceau non obturée par la mire pouvant éclairer le détecteur au cours du déplacement de la mire. Le principe du procédé d'alignement d'un couple de mire sur le faisceau est de repérer successivement les deux mires du couple, en 35 identifiant une évolution typique d'intensité lumineuse mesurée lors du déplacement d'une mire venant intersecter le faisceau. Nous allons décrire au moyen des figures 2b à 2g des courbes typiques d'intensité lumineuse obtenues lors de balayage en translation ou rotation du porte-échantillon pour les mires A et B précédemment décrites. Il est bien entendu que l'allure des courbes typiques observables par intersection du faisceau et des mires dépend de nombreux paramètres, et en particulier de la section du faisceau lumineux, de la géométrie des mires ou encore de la résolution du détecteur. Les courbes représentées sont un exemple de courbes permettant d'illustrer le principe du procédé selon l'invention d'alignement d'un couple de mires, par détection pour la première et la seconde mire, d'une évolution typique d'intensité lumineuse mesurée au cours d'un déplacement du porte-échantillon amenant la mire en intersection du faisceau lumineux. Les figures 2b et 2c illustrent des courbes typiques d'évolution d'intensité lumineuse mesurées par un balayage en translation dans le plan (X, Z) amenant la mire A en intersection du faisceau. La figure 2b représente l'intensité lumineuse mesurée en cours d'un déplacement en translation selon l'axe Z, lorsque le faisceau est positionné à l'abscisse X0 en partie gauche et à l'abscisse X1 en partie droite. L'intensité lumineuse mesurée bascule à la valeur 1 entre deux ordonnées distinctes pour ces deux abscisses. La figure 2c représente l'intensité lumineuse mesurée en cours d'un déplacement en translation selon l'axe X, lorsque le faisceau est positionné respectivement à l'ordonnée Zo, Z1 et Z2. On observe par exemple deux basculements à l'ordonnée Z1, image de la forme en U de la mire A.The device is considered first of all for sample analysis by means of an X-ray beam. For this purpose it has been specified the use of an X-ray sensitive detector, comprising a fluorescent screen or a scintillator, allowing a photographic sensor to measure an intensity of the incident light beam. In FIGS. 2b to 2g, the intensity measured by the detector is represented by a value between 0 and 1. In practice, this luminous intensity corresponds to the brightness measured by the sensor over a predetermined zone. The intensity represented corresponds to the total integrated light, seen by the sensor in this predetermined zone. Thus, when a pattern is moved so as to intersect the beam, the latter is gradually closed by the test pattern so that the measured intensity drops by the value 1, representing the maximum intensity measured by the detector exposed directly to the beam , at the value 0, representing the intensity measured when the beam is completely closed by the test pattern. The switching from the value 1 to the value 0 by shutting off the beam is progressive; a portion of the beam not closed by the test pattern can illuminate the detector during the movement of the test pattern. The principle of the method of aligning a pair of sights on the beam is to locate successively the two sights of the pair, by identifying a typical change in light intensity measured during the movement of a pattern coming into intersect the beam. By means of FIGS. 2b to 2g, we will describe typical luminous intensity curves obtained during scanning in translation or rotation of the sample holder for the patterns A and B previously described. It is understood that the shape of typical curves observable by intersection of the beam and the sights depends on many parameters, and in particular the section of the light beam, the geometry of the sights or the resolution of the detector. The curves shown are an example of curves making it possible to illustrate the principle of the method according to the invention of aligning a pair of patterns, by detection for the first and second pattern, of a typical evolution of measured luminous intensity. during a displacement of the sample holder causing the test pattern to intersect the light beam. FIGS. 2b and 2c illustrate typical curves of luminous intensity evolution measured by a translational sweep in the plane (X, Z) causing the pattern A to intersect the beam. FIG. 2b represents the luminous intensity measured during a movement in translation along the Z axis, when the beam is positioned at the abscissa X0 in the left part and at the abscissa X1 in the right part. The measured light intensity switches to the value 1 between two separate ordinates for these two abscissas. FIG. 2c represents the luminous intensity measured during a movement in translation along the X axis, when the beam is positioned respectively at the ordinate Zo, Z1 and Z2. For example, two ordinate shifts Z1, image of the U shape of the pattern A are observed.

Ces courbes mesurées par balayage dans le plan (X, Z) permettent ainsi d'identifier la mire venant obturer le faisceau, ici une mire de type A. Après cette identification, la mire peut être positionnée par rapport au faisceau, par exemple en plaçant le faisceau au centre des deux branches du U.These curves measured by sweeping in the plane (X, Z) thus make it possible to identify the pattern coming to close the beam, here a type A pattern. After this identification, the pattern can be positioned relative to the beam, for example by placing the beam in the center of the two branches of the U.

Les figures 2d et 2e illustrent sur le même principe des courbes typiques d'évolution d'intensité lumineuse mesurées par un balayage en translation dans le plan (X, Z) amenant la mire B en intersection du faisceau. La figure 2d représente l'intensité lumineuse mesurée en cours d'un déplacement en translation selon l'axe Z, aux abscisses X0 et X1. La figure 2e représente l'intensité lumineuse mesurée en cours d'un déplacement en translation selon l'axe X aux ordonnées Zo, Z1 et Z2. On observe cette fois un unique basculement à l'ordonnée Z1, pour l'abscisse X0, image de la forme en T retournée de la mire B. Comme pour la mire A, il est possible d'identifier ici une mire de 5 type B et de la positionner par rapport au faisceau, par exemple en plaçant le faisceau au centre de la branche verticale du T retourné. A l'issue de cette première étape permettant d'identifier et positionner par rapport au faisceau une première mire du couple de mire, le 10 procédé comprend une seconde étape permettant de positionner la seconde mire du couple de mire de sorte à aligner le couple de mires sur le faisceau. Pour cela, on réalise des balayages en rotation selon les axes X et Z, en maintenant la première mire en position par des rattrapages en translation dans le plan (X, Z). Cette opération est illustrée par les figures 2f et 2g 15 représentant des courbes typiques d'évolution d'intensité lumineuse mesurées par balayage en rotation selon les axes X et Z. La figure 2f illustre le cas où la première mire identifiée est une mire de type A. Les courbes Rxo, Rx1 et Rx2 représentent l'intensité lumineuse mesurée au cours d'un déplacement du porte-échantillon en 20 rotation autour de l'axe X, associé à un déplacement en translation selon l'axe Z permettant de maintenir la mire A dans sa position. On constate ainsi que la rotation Rx1 permet d'intercaler le T retourné de la mire B entre les branches du U de la mire A. Dans un second temps, une rotation selon l'axe Z, associé à un déplacement en translation selon l'axe X permettant de 25 maintenir la mire A en position, permet de centrer l'ombre portée par le T retourné de la mire B au centre des deux ombres portées par les deux branches du U de la mire A. Ainsi, à l'issue de ce balayage en rotation selon les axes X et Z (associés à des déplacements en translation dans le plan), la mire B est 30 positionnée par rapport au faisceau ; et le couple de mires A et B est aligné sur le faisceau. La figure 2g illustre selon le même principe l'alignement des mires A et B dans le cas où la première mire identifiée est une mire de type B. Nous avons décrit au moyen des figures 2a à 2g une méthode 35 d'alignement d'un couple de mire sur le faisceau permettant de positionner un axe du porte-échantillon par rapport au faisceau. Le procédé selon l'invention consiste à effectuer successivement l'alignement des deux couples de mires par cette méthode.FIGS. 2d and 2e illustrate, on the same principle, typical curves of luminous intensity evolution measured by a translational sweep in the plane (X, Z) bringing the pattern B into intersection of the beam. FIG. 2d represents the luminous intensity measured during a movement in translation along the Z axis, at abscissae X0 and X1. FIG. 2e represents the luminous intensity measured during a displacement in translation along the X axis at the ordinates Zo, Z1 and Z2. This time we observe a single switch to the ordinate Z1, for the abscissa X0, image of the T-shape returned from the target B. As for the target A, it is possible to identify here a pattern of 5 type B and position it relative to the beam, for example by placing the beam in the center of the vertical leg of the returned T. At the end of this first step making it possible to identify and position with respect to the beam a first sight of the target pair, the method comprises a second step making it possible to position the second target of the target pair so as to align the pair of sights on the beam. For this purpose, rotational sweeps are carried out along the X and Z axes, keeping the first pattern in position by retraction in translation in the plane (X, Z). This operation is illustrated by FIGS. 2f and 2g, representing typical curves of luminous intensity evolution measured by rotation scanning along the X and Z axes. FIG. 2f illustrates the case where the first identified target is a test pattern. A. The curves Rxo, Rx1 and Rx2 represent the light intensity measured during a displacement of the sample holder in rotation about the X axis, associated with a displacement in translation along the Z axis making it possible to maintain the A sight in his position. It can thus be seen that the rotation Rx1 makes it possible to insert the inverted T of the target B between the branches of the U of the target A. In a second step, a rotation along the Z axis, associated with a translational movement according to FIG. X axis to maintain the target A in position, allows to center the shadow carried by the T returned from the target B in the center of the two shadows borne by the two branches of the U of the target A. Thus, at the end of this scan in rotation along the X and Z axes (associated with displacements in translation in the plane), the target B is positioned relative to the beam; and the pair of patterns A and B is aligned with the beam. FIG. 2g illustrates, according to the same principle, the alignment of patterns A and B in the case where the first target identified is a B-type pattern. We have described using FIGS. 2a to 2g a method of aligning a pattern pair of sights on the beam for positioning an axis of the sample holder relative to the beam. The method according to the invention consists in successively performing the alignment of the two pairs of patterns by this method.

La figure 3 illustre au moyen d'un logigramme les principales étapes de ce procédé. Le procédé peut comprendre une étape préliminaire 100 consistant à déterminer la position de l'échantillon dans le trièdre TPE lié au porte-échantillon 16. Comme nous l'avons décrit précédemment, cette étape peut consister à photographier l'échantillon fixé sur le porte- échantillon. Le procédé comprend trois étapes principales : - une étape 101 consistant à aligner le premier couple de mires A et B sur le faisceau en déplaçant le porte-échantillon par rapport au faisceau au moyen du positionneur 12, - une étape 104 consistant à déplacer le porte-échantillon 16 en rotation autour de l'axe Z du trièdre de référence TR, d'un angle égal à un angle réalisé entre le premier axe XPE et le second axe YPE du porte-échantillon 16, et - une étape 105 consistant à aligner le second couple de mires A' et B' sur le faisceau 11 en déplaçant le porte-échantillon 16 par rapport au faisceau 11 au moyen du positionneur 12. Les étapes d'alignement successives du premier et second couple de mires A, B, A' et B' sur le faisceau 11 permettent avantageusement de repérer le trièdre TPE lié au porte-échantillon 16 dans le trièdre de référence 25 TR lié à la source 10. Notons que l'étape 104 consiste dans l'exemple représenté sur les figures à tourner le porte-échantillon d'un angle de 90°. Nous avons indiqué que l'invention était également applicable au cas où les quatre mires définissent deux axes non perpendiculaires. De manière logique, l'étape 104 30 est alors adaptée de sorte que l'angle et le sens de la rotation, à l'issue de l'alignement d'un premier couple de mire, permettent d'amener le second couple de mire sur l'axe du faisceau. Comme décrit au moyen des figures 2a à 2g, une des étapes d'alignement 101 et 105, et préférentiellement les deux étapes, peut 35 avantageusement comprendre les deux sous-étapes suivantes : - une première sous-étape 102 consistant à positionner une première mire par détection d'une évolution typique d'intensité lumineuse mesurée au cours d'un balayage du porte-échantillon en translation dans le plan (X, Z), amenant la première mire en intersection du faisceau lumineux, et - une seconde sous-étape 103 consistant à positionner une seconde mire par détection d'une évolution typique d'intensité lumineuse mesurée au cours d'un balayage du porte-échantillon en rotation autour des deux axes (X, Z) dudit plan, amenant la première mire en intersection du faisceau lumineux ; le porte-échantillon pouvant simultanément être déplacé en translation dans le plan de manière à maintenir en position la première mire. Dans une mise en oeuvre privilégiée de l'invention, les deux couples de mires sont constitués de mires comprenant deux systèmes de visée, un premier constitué d'une hausse en forme de U et d'un guidon en forme de T retourné, et un second constitué d'un conduit dans chacune des mires. Dans ce cas, le procédé consiste dans un premier temps à aligner les deux couples de mires au moyen du premier système de visée - par les étapes successives 101, 104 et 105, puis dans un second temps à aligner les deux couples de mires au moyen du second système de visée - par les étapes successives 109, 110 et 111. Avantageusement, le procédé comprend une étape consistant à déplacer le porte-échantillon en translation selon l'axe Z d'une valeur prédéterminée correspond à la distance entre les deux systèmes de visée.Figure 3 illustrates by means of a logic diagram the main steps of this process. The method may comprise a preliminary step of determining the position of the sample in the TPE trihedron bound to the sample holder 16. As described above, this step may involve photographing the sample attached to the holder. sample. The method comprises three main steps: a step 101 of aligning the first pair of patterns A and B on the beam by moving the sample holder relative to the beam by means of the positioner 12, a step 104 of moving the door sample 16 rotating around the Z axis of the reference trihedron TR, an angle equal to an angle formed between the first axis XPE and the second axis YPE of the sample holder 16, and a step 105 of aligning the second pair of patterns A 'and B' on the beam 11 by moving the sample holder 16 relative to the beam 11 by means of the positioner 12. The successive alignment steps of the first and second pair of patterns A, B, A and B 'on the beam 11 advantageously make it possible to locate the TPE trihedron bound to the sample holder 16 in the reference trihedron TR linked to the source 10. Note that the step 104 consists in the example shown in the FIGS. turn the sample holder at a 90 ° angle. We have indicated that the invention is also applicable in the case where the four patterns define two non-perpendicular axes. Logically, the step 104 is then adapted so that the angle and the direction of the rotation, after the alignment of a first pair of sight, make it possible to bring the second pair of sight on the axis of the beam. As described by means of FIGS. 2a to 2g, one of the alignment steps 101 and 105, and preferably the two steps, may advantageously comprise the following two substeps: a first substep 102 of positioning a first target by detecting a typical change in luminous intensity measured during a scanning of the sample holder in translation in the plane (X, Z), bringing the first pattern into intersection with the light beam, and - a second substep 103 of positioning a second pattern by detecting a typical change in light intensity measured during a scanning of the sample holder in rotation about the two axes (X, Z) of said plane, causing the first pattern to intersect the light bleam ; the sample holder can simultaneously be moved in translation in the plane so as to maintain the first sight in position. In a preferred embodiment of the invention, the two pairs of sights consist of sights comprising two sighting systems, a first consisting of a U-shaped rise and a T-shaped handlebars returned, and a second consisting of a conduit in each of the sights. In this case, the method consists first of all in aligning the two pairs of sights by means of the first sighting system - by the successive steps 101, 104 and 105, and then in a second step in aligning the two pairs of sights with the means the second sighting system - by the successive steps 109, 110 and 111. Advantageously, the method comprises a step of moving the sample holder in translation along the Z axis by a predetermined value corresponds to the distance between the two systems of aiming.

Claims

REVENDICATIONS1. Device for positioning a sample (E) to be analyzed by means of a light beam (11) emitted by a source (10) according to a first axis (Y) of a reference trihedron (TR) linked to the source (10), characterized in that it comprises: - a sample holder (16) comprising a plate (13) on which the sample (E) can be fixed, in a predetermined position located in a linked trihedron (TpE) at the sample holder (16), 10 - a positioner (12) able to move the sample holder (16) relative to the beam (11), in translation and in rotation along three axes (X, Y, Z) of the trihedron reference numeral (TR), and a first and a second pair of two patterns (A, B; A ', B') fixed on the plate (13), defining respectively a first and a second axis (XpE; YPE) the trihedron (TpE) bound to the sample holder (16), concurrent and not intersecting the sample (E); the positioner (12) being configured to align the first and second pair of patterns (A, B; A ', B') on the beam (11), respectively, to identify the door-related trihedron (TpE) sample (16) in the reference trihedron (TR) linked to the source (10), and position the sample (E) relative to the beam (11).

2. Device according to claim 1, whose four patterns (A, B, A ', B') are configured to define two axes (XPE, YPE) perpendicular to the surface of the plate (13), forming with a third axis (ZpE) perpendicular to the plate (13) the trihedron (TRE) linked to the sample holder (16).

3. Device according to one of claims 1 or 2, comprising a detector (17) sensitive to the light beam (11), configured to measure a change in light intensity during a movement of one of the sights (A , B, A ', B') progressively closing the beam (11).

4. Device according to claim 3, comprising an X-ray detector (17), comprising a fluorescent screen (15) or a scintillator, and a photographic sensor (14).

5. Device according to one of the preceding claims, wherein at least one of the pairs of patterns (A, B) comprises a first pattern (A) having a general shape of U in a plane perpendicular to the plate (13) and a second target (B) having a general shape of T returned in a plane perpendicular to the plate (13).

6. Device according to one of the preceding claims, wherein the two patterns (A, B) of at least one pair of patterns comprise a conduit 10 through (20).

7. Device according to one of the preceding claims, each of the two couples of patterns (A, B, A ', B') comprises a first pattern (A) having a general shape of U in a plane perpendicular to the plate ( 13) and a through duct (20) arranged in the center of the base of the U, and a second pattern (B) having a general shape of T returned in a plane perpendicular to the plate (13) and a through duct (20) arranged in the center of the horizontal branches of the T returned. 20

8. Device according to one of the preceding claims, comprising an enclosure shielded biological protection, for analyzing a radioactive sample by means of an X-ray beam.

9. A method of positioning a sample to be analyzed by means of a light beam (11) emitted by a source (10) along a first axis (Y) of a reference trihedron (TR) linked to the source ( 10), by means of a device according to one of claims 1 to 8, characterized in that it comprises steps of: - aligning the first pair of patterns (A, B) on the beam (11) in Moving the sample holder (16) relative to the beam (11) by means of the positioner (12), - moving the sample holder (16) in rotation about an axis (Z) of the reference trihedron (TR) perpendicular to the first axis (Y), an angle equal to an angle formed between the first axis (XpE) and the second axis (YpE) of the sample holder (16), and - aligning the second pair of patterns (A ', B') on the beam (11) by moving the sample holder (16) relative to the beam (11) by means of the positioner (12); the successive alignment steps of the first and second pair of patterns (A, B, A ', B') on the beam (11) for locating the trihedron (TRE) linked to the sample holder (16) in the trihedron reference (TR) linked to the source (10).

10. The method of claim 9, wherein at least one step of aligning a pair of patterns (A, B, A ', B') comprises substeps 10 consisting of: - positioning a first pattern (A) by detecting a typical change in luminous intensity measured during a scanning of the sample holder (16) in translation in a plane comprising two axes (X, Z) perpendicular to the first axis (Y) of the reference trihedron (TR), causing the first pattern (A) to intersect the light beam (11), and - positioning a second pattern (B) by detecting a typical change in light intensity measured during a scanning of the holder sample (16) rotating about the two axes (X, Z) of said plane, causing the second pattern (A) to intersect the light beam (11).

11. Method according to one of claims 9 or 10, by means of a device according to claim 7, including at least one step of aligning a pair of patterns (A, B) on the beam (11). is carried out twice: - a first time by alignment of the U-shaped and T-shaped returned the sights on the beam (11), and - a second time by alignment of the lines of the sights on the beam (11). 30

12. Method according to one of claims 9 to 11, comprising a preliminary step of determining the position of the sample in the trihedron (TRE) linked to the sample holder (16). 35