KR101699475B1 - X-ray analysis apparatus having positioning means - Google Patents

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박진근
이승우
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테크밸리 주식회사
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials

Abstract

본 발명은 시각적으로 엑스선의 경로를 확인할 수 있도록 함으로써 각 부재의 위치관계를 정확하게 설정할 수 있는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비에 관한 것으로, 피검사물이 안착되는 테이블, 엑스선이 피검사물을 향하여 조사되는 X선발생부, 피검사물로부터 산란되는 엑스선이 입사되는 검출부, 상기 X선발생부 측에 배치되며 피검사물측으로 광을 방출하는 광발생부 및 상기 검출부 측에 배치되며 피검사물로부터 반사되는 광을 입력받는 감지부를 포함하며, 상기 X선발생부와 검출부는 테이블을 중심으로하는 원주방향으로 이송되어 조사 및 입사되는 엑스선의 경로를 가변하며, 상기 광발생부 및 감지부는 엑스선의 조사가 이루어지기 전에 시각적으로 엑스선의 경로를 미리 확인할 수 있도록 함으로써 X선발생부와 검출부의 정확한 위치를 결정하도록 하는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 제공한다. The present invention relates to an X-ray inspection apparatus equipped with position confirmation means capable of visually confirming a path of an X-ray to thereby precisely set the positional relationship of each member. The X-ray inspection apparatus includes a table on which an object to be inspected is placed, A light generating unit arranged on the X-ray generating unit side for emitting light to the inspected object, and a light generating unit arranged on the detecting unit side for receiving the light reflected from the inspected object Wherein the X-ray generating unit and the detecting unit are moved in the circumferential direction around the table to change the path of the X-ray to be irradiated and incident, and the light generating unit and the detecting unit are configured to visually detect X- The path of the X-ray source part and the detection part can be confirmed in advance And position determining means for determining a position of the X-ray image.

Description

위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비{X-RAY ANALYSIS APPARATUS HAVING POSITIONING MEANS}X-RAY ANALYSIS APPARATUS HAVING POSITIONING MEANS WITH POSITION DETERMINATION MEANS [0002]

본 발명은 광학 검사장비에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 시각적으로 엑스선의 경로를 확인할 수 있도록 함으로써 각 부재의 위치관계를 정확하게 설정할 수 있는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비에 관한 것이다.
The present invention relates to an optical inspection apparatus, and more particularly, to an X-ray inspection apparatus provided with position confirmation means capable of visually confirming a path of an X-ray to thereby accurately set the positional relationship of each member.

X선을 이용한 물질 분석 방법은 X선 반사 분석법(XRR), 소각 X선 산란법(SAXS) 및 X선 회절 분석법(XRD) 등으로 구분된다.X-ray diffraction analysis (XRR), incineration X-ray scattering (SAXS) and X-ray diffraction (XRD)

X선 반사 분석법(XRR)과 소각 X선 산란법(SAXS)은 주로 기판에 증착된 박막 층의 두께, 밀도 및 표면 특성을 분석하기 위한 기술로 사용된다.X-ray reflectometry (XRR) and incineration X-ray scattering (SAXS) are mainly used to analyze the thickness, density and surface properties of thin film layers deposited on a substrate.

X선 회절 분석법(XRD)은 시료의 결정 구조를 연구하기 위한 기술로서, 시료는 단색의 X선으로 조사되고, 회절 피크의 위차와 광도가 검출기에 의해 측정된다. 특징적인 산란각과 산란광의 광도는 연구 대상 시료의 격자면과 이러한 격자면을 차지하는 원자수에 좌우되는데, 소정이 파장(λ) 및 격자면의 간격(d)에 대하여, X선이 브래그 조건(nλ=2dsinθ, n:산란차수)을 만족하는 각(θ)으로 격자면에 입사한다. 응력, 고용체 또는 기타 조건에 의한 격자면의 변형에 의해 관창 가능한 XRD스펙트럼의 변화가 일어나므로 시료의 구조를 파악할 수 있는 것이다.X-ray diffraction (XRD) is a technique for studying the crystal structure of a sample. The sample is irradiated with a monochromatic X-ray, and the deviation and luminous intensity of the diffraction peak are measured by a detector. The characteristic scattering angle and the luminous intensity of the scattered light depend on the lattice plane of the sample to be studied and the number of atoms occupying the lattice plane. For a given wavelength λ and the interval d of the lattice planes, the X- = 2dsin [theta], n: scattering degree). The XRD spectra that can be tuned by stress, solid solution, or other conditions are deformed by the deformation of the lattice plane, so that the structure of the sample can be grasped.

참고적으로, 본 발명의 내용 중에 '산란'이라는 용어는 X선을 시료에 조사하여 시료로부터 방출되는 임의의 모든 과정을 나타내는 데 사용되며, X선 반사 분석법(XRR), 소각 X선 산란법(SAXS) 및 X선 회절 분석법(XRD)은 물론 종래의 X선 형광분석에서의 반사 또는 산란을 포함하는 것으로 이해될 수 있다.For reference, the term " scattering " in the context of the present invention is used to describe any and all processes emanating from a sample by irradiating the sample with X-rays. X-ray reflectometry (XRR) SAXS) and X-ray diffraction (XRD) as well as reflection or scattering in conventional X-ray fluorescence assays.

도 1은 종래기술의 X선 분석장치의 구성을 간략하게 도시한 개념도이다.1 is a conceptual diagram briefly showing a configuration of an X-ray analysis apparatus of the prior art.

시료(S)는 소정의 시료 테이블상에 배치되고, X선 발생장치(11)는 상기 시료(S)의 표면을 향하여 X선의 컨버징 빔(14)을 지향시킨다. The sample S is placed on a predetermined sample table and the X-ray generator 11 directs the X-ray converging beam 14 toward the surface of the sample S.

검출기(16)는 상기 시료로부터 산란된 X선(15)을 감지하도록 배치되고, 이와 같은 구성은 X선 회절 분석 장비나 X선 반사 분석 장비의 개념에 공통된다.The detector 16 is arranged to sense the scattered X-rays 15 from the sample, and such a configuration is common to the concepts of X-ray diffraction analysis equipment and X-ray reflection analysis equipment.

이러한 X선을 이용한 물질 분석기구는 X선관과 같은 X선 발생장치와 검출기를 시료 테이블의 중심축에 대해 소정 각도로 배치하는데 최근에는 이러한 X선의 입사 및 반사의 각도를 가변할 수 있는 기능을 구비하여 다각적인 검사가 가능하도록 한다.Such a substance analyzing apparatus using X-ray has a function of changing the angle of incidence and reflection of X-ray, So that various inspection can be performed.

그런데, X선 발생장치로부터 조사되고 테이블 측에서 산란되어 검출기로 입사되는 X선의 경로를 시각적으로 확인할 수 없기 때문에 정확한 배치관계의 설정이 어려운 문제가 있고, 이러한 현상은 X선 발생장치와 검출기의 위치가 가변되는 분석장치에 있어서 더욱 심화된다.However, since the path of the X-ray irradiated from the X-ray generator and scattered on the table side and incident on the detector can not be visually confirmed, there is a problem in that it is difficult to set the precise positional relationship. This phenomenon is caused by the position of the X- Is further enhanced in an analyzing apparatus in which the number of samples is varied.

또한, X선 발생장치, 테이블 및 검출기의 위치관계가 미리 설정되어있다고 하더라도 테이블에 안착되는 피검사물의 위치나 형상에 따라서도 검출기측으로 입사되는 X선의 방향이 다양하게 가변될 수 있어 정확한 위치관계의 설정이 더욱 어려운 문제가 있다.
Even if the positional relationship between the X-ray generator, the table, and the detector is set in advance, the direction of the X-ray incident on the detector side can be varied in various ways depending on the position and shape of the inspected object placed on the table. There is a problem that is more difficult to set up.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 피검사물에 대한 엑스선의 조사시 또는 그 전단계에서 시각적으로 엑스선의 경로를 확인할 수 있도록 함으로써 검사의 정확성과 검사과정의 편리함을 향상할 수 있는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 제공하는 데 목적이 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to provide a method and apparatus for detecting an X-ray of an object to be inspected or visually confirming a path of the X- And to provide an X-ray inspection apparatus having a confirmation means.

본 발명은, 피검사물이 안착되는 테이블, 엑스선이 피검사물을 향하여 조사되는 X선발생부, 피검사물로부터 산란되는 엑스선이 입사되는 검출부, 상기 X선발생부 측에 배치되며 피검사물측으로 광을 방출하는 광발생부 및 상기 검출부 측에 배치되며 피검사물로부터 반사되는 광을 입력받는 감지부를 포함하며, 상기 X선발생부와 검출부는 테이블을 중심으로하는 원주방향으로 이송되어 조사 및 입사되는 엑스선의 경로를 가변하며, 상기 광발생부 및 감지부는 엑스선의 조사가 이루어지기 전에 시각적으로 엑스선의 경로를 미리 확인할 수 있도록 함으로써 X선발생부와 검출부의 정확한 위치를 결정하도록 하는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 제공한다. 따라서, XRD장비에서 정밀한 검사가 가능하다.The present invention relates to an X-ray imaging apparatus including a table on which an object to be inspected is placed, an X-ray generation unit irradiated with X-rays toward the inspected object, a detection unit into which X-rays scattered from the inspected object are incident, The X-ray generating unit and the detecting unit are moved in the circumferential direction around the table to change the path of the X-rays irradiated and incident on the X-ray generating unit and the detecting unit, , And the light generating unit and the sensing unit are provided with position checking means for determining an accurate position of the X-ray generating unit and the detecting unit by visually confirming the path of the X-ray before the irradiation of the X-ray is performed . Therefore, precise inspection is possible in XRD equipment.

또한, 본 발명에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비는, 상기 검출부로부터 방출된 광을 피검사물로 반사 또는 굴절하는 제1반사부 및 상기 피검사물로부터 반사된 광을 감지부로 반사 또는 굴절하는 제2반사부를 더 포함할 수 있다. 따라서, 광과 엑스선의 경로를 일치시킴으로써 위치설정의 정확도가 향상된다.The X-ray inspection apparatus equipped with the positioning means according to the present invention may further comprise a first reflecting portion for reflecting or refracting the light emitted from the detecting portion to the inspected object and a second reflecting portion for reflecting or refracting the light reflected from the inspected object to the sensing portion And may further include a second reflecting portion. Therefore, the positioning accuracy is improved by matching the paths of the light and the X-rays.

또한, 상기 제1반사부 및 제2반사부는, 엑스선의 투과율이 높은 재질로 이루어질 수 있다.The first reflector and the second reflector may be made of a material having a high X-ray transmittance.

또한, 상기 제1반사부가 제1반사부재와 상기 제2반사부재를 엑스선의 경로상으로 배치하거나 이탈시키는 제1구동부를 구비하며, 상기 제2반사부가 제2반사부재와 상기 제2반사부재를 엑스선의 경로상으로 배치하거나 이탈시키는 제2구동부를 구비하는 것이 바람직하다.The first reflecting portion may include a first reflecting portion and a second reflecting portion. The first reflecting portion may include a first reflecting portion and a second reflecting portion. And a second driving unit for disposing or detaching the X-ray beam on the path of the X-ray beam.

또한, 상기 제1반사부가 제1반사부재의 일단측에 배치되어 제1반사부재를 회동시키는 제1힌지부를 더 구비하고, 상기 제2반사부가 제2반사부재의 일단측에 배치되어 제2반사부재를 회동시키는 제2힌지부를 더 구비할 수 있다.The first reflection portion may further include a first hinge portion disposed on one end side of the first reflection member to rotate the first reflection member, wherein the second reflection portion is disposed on one end side of the second reflection member, And a second hinge unit for rotating the member.

또한, 상기 제1구동부 및 제2구동부는, 제1반사부재와 제2반사부재를 슬라이딩시키는 방식으로 수평 이동시킬 수 있다.The first driving unit and the second driving unit may be horizontally moved by sliding the first reflecting member and the second reflecting member.

한편, 본 발명은, 피검사물을 테이블에 안착하고 테이블의 위치를 중심으로 X선발생부와 검출부를 이동시키는 이동단계, X선발생부에서 조사되는 엑스선의 경로에 대응되도록 광발생부에서 피검사물로 광을 방출하고, 검출부로 입사되는 엑스선의 경로에 대응되도록 검출부에서 광을 입력받아 피검사물에 대해 X선발생부와 검출부의 정확한 위치를 결정하는 위치확인단계 및 엑스선을 피검사물에 조사하여 검사를 수행하는 검사단계를 포함하는 엑스선 검사방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an X-ray imaging apparatus comprising: a moving step of placing an object to be examined on a table and moving an X-ray generating unit and a detecting unit around a position of a table; A position confirming step of receiving light from the detecting unit so as to correspond to the path of the X-ray incident on the detecting unit and determining an accurate position of the X-ray generating unit and the detecting unit with respect to the inspected object, and examining the X- And an inspection step.

상기 위치확인단계는, 광발생부에서 방출된 광을 엑스선의 경로상에 배치되는 제1반사부에서 반사하고 피검사물에서 반사된 광을 엑스선의 경로상에 배치되는 제2반사부에서 반사하여 감지부로 입력하며, 상기 위치확인단계 이후에, 상기 제1반사부 및 제2반사부가 엑스선의 경로에서 이탈되는 이탈단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.Wherein the position determining step reflects the light emitted from the light generating unit by the first reflecting unit disposed on the path of the X-ray, reflects the light reflected by the inspected object by the second reflecting unit disposed on the path of the X- Wherein the first and second reflectors are separated from the path of the X-ray after the positioning step.

본 발명은, 피검사물이 안착되는 테이블, 엑스선이 피검사물을 향하여 조사되는 X선발생부, 피검사물로부터 산란되는 엑스선이 입사되는 검출부, 상기 X선발생부 측에 배치되며 피검사물측으로 광을 방출하는 광발생부, 상기 검출부 측에 배치되며 피검사물로부터 반사되는 광을 입력받는 감지부, 상기 광발생부로 방출된 광을 피검사물 또는 테이블로 반사하는 제1반사부재와 제1반사부재를 엑스선 경로 상으로 배치 또는 이탈하도록 회동시키는 제1구동부를 구비하는 제1반사부 및 상기 피검사물 또는 테이블로부터 반사된 광을 감지부로 반사 또는 굴절하는 제2반사부재와 제2반사부재를 엑스선 경로 상으로 배치 또는 이탈하도록 회동시키는 제2구동부를 구비하는 제2반사부를 포함하며, 상기 X선발생부와 검출부는 테이블 측을 중심으로 하는 원주방향으로 이송되어 조사 및 입사되는 엑스선의 경로를 가변하고, 상기 광발생부 및 감지부는 엑스선의 조사가 이루어지기 전에 시각적으로 엑스선의 경로를 미리 확인할 수 있도록 함으로써 X선발생부와 검출부의 정확한 위치를 결정하도록 하고, 상기 제1구동부와 제2구동부는 X선발생부와 검출부의 원주방향으로의 이송 각도에 따라 제1반사부재와 제2반사부재의 회동 각도를 조정하는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 제공한다.The present invention relates to an X-ray imaging apparatus including a table on which an object to be inspected is placed, an X-ray generation unit irradiated with X-rays toward the inspected object, a detection unit into which X-rays scattered from the inspected object are incident, A first reflecting member disposed on the side of the detecting unit and receiving light reflected from the inspected object, a first reflecting member reflecting the light emitted to the light generating unit to the inspected object or the table, and a first reflecting member on the X- And a second reflecting member for reflecting or refracting the light reflected from the inspection object or the table to the sensing unit and the second reflecting member on the X-ray path, And a second reflecting part including a second driving part for rotating the X-ray generating part and the detecting part, The light generating unit and the sensing unit can visually confirm the path of the X-ray before the irradiation of the X-ray is performed, thereby determining the precise position of the X-ray generating unit and the detecting unit Wherein the first driving unit and the second driving unit are provided with position checking means for adjusting the rotation angle of the first reflecting member and the second reflecting member in accordance with the feeding angle of the X-ray generating unit and the detecting unit in the circumferential direction, Lt; / RTI >

상기 제1구동부 및 광발생부는 X선발생부와 함께 원주방향을 따라 이송되며, 상기 제2구동부 및 감지부는 검출부와 함께 원주방향을 따라 이송될 수 있다.
The first driving part and the light generating part may be transported along the circumferential direction together with the X-ray generating part, and the second driving part and the sensing part may be transported along the circumferential direction together with the detecting part.

본 발명의 개념에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비 및 검사방법에 따라 엑스선의 경로를 정확하게 확인할 수 있으므로 X선발생부와 검출부의 정확한 위치를 결정할 수 있고, 피검사물의 검사가 정확하게 이루어질 수 있는 효과가 있다.Since the path of the X-ray can be accurately confirmed by the X-ray inspection equipment and the inspection method provided with the positioning means according to the concept of the present invention, the precise position of the X-ray source and the detection unit can be determined and the inspection of the inspected object can be accurately performed It is effective.

또한, 위치확인수단에 의한 바람직하지 영향을 배제할 수 있으므로 엑스선을 이용한 검사시 정밀한 검사의 이점은 더욱 향상될 수 있는 효과가 있다.
In addition, the advantageous effect of the position checking means can be excluded, so that the advantages of the fine inspection in the inspection using the X-ray can be further improved.

도 1은 종래기술의 X선 분석장치의 구성을 도시한 개념도.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비의 개념도.
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비의 개념도.
도 4는 본 발명의 제3실시예의 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비의 검출부측을 도시한 도면.
도 5는 도 4의 개념이 적용된 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 제4실시예의 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 설명하기 위한 도면.
1 is a conceptual diagram showing a configuration of a conventional X-ray analysis apparatus;
2 is a conceptual diagram of an X-ray inspection apparatus having a positioning means according to a first embodiment of the present invention;
3 is a conceptual diagram of an X-ray inspection apparatus having a positioning means according to a second embodiment of the present invention.
4 is a view showing a detection unit side of an X-ray inspection equipment provided with a positioning means of a third embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view for explaining an X-ray inspection apparatus having a positioning means to which the concept of FIG. 4 is applied; FIG.
FIG. 6 is a view for explaining an X-ray inspection apparatus having a position checking means according to a fourth embodiment of the present invention; FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비 및 검사방법을 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Exemplary embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비의 개념도이다.FIG. 2 is a conceptual diagram of an X-ray inspection apparatus having a positioning means according to a first embodiment of the present invention.

종래기술과 마찬가지로, 본 발명에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비는 피검사물(S) 안착하는 테이블(300), X선을 조사하는 X선 발생부(100), 상기 샘플로부터 산란되는 X선을 검출하는 검출부(200) 및 위치확인수단을 포함한다.As in the prior art, the X-ray inspection apparatus equipped with the positioning means according to the present invention includes a table 300 on which an object S is placed, an X-ray generator 100 for irradiating X-rays, A detection unit 200 for detecting a line, and positioning means.

상기 X선발생부(100)는 X선을 방출하는 다양한 형태의 장비가 사용되고, 내부에 전자총과 타겟을 구비한 X선관이 사용되며, 바람직하게는 내부가 대략 진공상태이며 고출력인 클로즈드 타입(closed type)의 X선 발생기가 사용될 수 있다. 다만, X선발생부(100)의 형식은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 오픈 타입 엑스선 발생장치 등의 다양한 종류의 장치가 적용될 수 있다. 상기 전자총으로부터 발생된 전자가 타겟에 충돌하면, X선이 출력되어 테이블(300)에 안착된 피검사물(S)에 조사될 수 있다.An X-ray tube having an electron gun and a target therein is used as the X-ray generator 100. Various types of equipment for emitting X-rays are used. The X-ray generator 100 is preferably a closed type ) May be used. However, the form of the X-ray generating unit 100 is not limited thereto, and various types of apparatuses such as an open type X-ray generating apparatus may be applied. When electrons generated from the electron gun collide with the target, X-rays are output and can be irradiated on the inspected object S placed on the table 300.

상기 검출부(200)는 산란된 X선을 검출할 수 있는 디텍터(detector)를 포함하고, 상기 디텍터는 검출된 X선을 전기신호화하여 제어부(미도시)로 전송함으로써 물질의 구조를 분석할 수 있는 데이터를 제공한다.The detector 200 includes a detector capable of detecting scattered X-rays. The detector converts the detected X-rays into electrical signals and transmits them to a controller (not shown) Provide the data.

피검사물(S)은 X선발생부(100)와 검출부(200)의 사이, 더욱 정확하게는 테이블(300)의 상면에 배치되며 X선발생부(100)로부터 조사되는 엑스선(X)은 피검사물(S)에서 산란되어 검출부(200)로 입사된다.The inspected object S is disposed between the X-ray generating section 100 and the detecting section 200 or more precisely on the upper surface of the table 300 and the X-ray X irradiated from the X- And is incident on the detection unit 200.

상기 X선발생부(100)와 검출부(200)는 피검사물(S)이 안착되는 테이블(300)을 중심으로 이동될 수 있는데, 이러한 X선발생부(100)와 검출부(200)의 정확한 작동을 위하여 테이블(300) 측을 중심축으로 동축으로 회동되는 복수의 암이 각각 X선발생부(100)와 검출부(200)를 지지하여 이송을 지지하는 구조가 채택될 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 can be moved around the table 300 on which the inspected object S is placed. In order to accurately operate the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, A structure may be adopted in which a plurality of arms coaxially rotated on the center axis of the table 300 support the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 to support the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, respectively.

이러한 X선발생부(100)와 검출부(200)는 테이블(300)의 위치를 중심으로 미리 설정된 값에 따라 엑스선(X)이 입사 또는 조사되는 각도가 가변될 수있다.The angles at which the X-ray X is incident or irradiated can be varied according to a preset value about the position of the table 300 in the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200.

그런데, 이렇게 테이블(300)의 위치를 중심으로 하여 각도의 설정이 이루어지는 경우 피검사물(S)의 형상과 크기 및/또는 성질에 따라 엑스선(X)이 산란되는 다양한 경우에 대응할 수 없는 문제점이 있다. 즉, 테이블(300)의 위치를 중심으로 X선발생부(100)와 검출부(200)의 위치를 결정하는 경우 개략적인 위치의 설정의 의미 밖에는 가지지 못하는 것이다. 이를 해결하기 위하여 검출부(200)의 오차를 커버할 수 있는 범위를 넓게 하거나 알고리즘을 통하여 해결하기도 하는데, 근본적으로 피검사물(S)의 유형에 따라 이러한 엑스선(X)의 경로는 수정되어야 할 필요성이 존재하는 것이다.However, when the angle is set around the position of the table 300, there is a problem in that it can not cope with various cases where the X-ray X is scattered depending on the shape, size, and / or properties of the inspected object S . That is, when determining the positions of the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 with respect to the position of the table 300, there is only a meaning of setting the approximate position. In order to solve this problem, the range to cover the error of the detection unit 200 may be widened or solved through an algorithm. Fundamentally, it is necessary to modify the path of the X-ray X depending on the type of the inspected object S It exists.

따라서, 본 발명에서는 X선발생부(100)와 검출부(200)측에 각각 위치확인수단을 구비하게 된다.Therefore, in the present invention, position confirmation means are provided on the side of the X-ray generator 100 and the detector 200, respectively.

이러한 위치확인수단은 X선발생부(100) 측에 배치되어 피검사물(S)에 광(L)을 방출하는 광발생부(410)와, 피검사물에서 반사되는 광이 입력되는 감지부(420)를 포함하여 이루어진다.The position determining means includes a light generating unit 410 disposed on the X-ray generating unit 100 side for emitting light L to the inspected object S, a sensing unit 420 for receiving light reflected from the inspected object, .

여기서 광(L)은 시각적으로 인식되거나 시각적인 신호로 변환될 수 있는 다양한 파장의 빛이 선택적으로 사용될 수 있다.The light L may be selectively used as light of various wavelengths that can be visually recognized or converted into a visual signal.

본 발명의 제1실시예에서는 광발생부(410)가 X선발생부(100)에 인접되어 배치되되 광발생부(410)로부터 방출되는 광(L)이 X선발생부(100)로부터 조사되는 엑스선(X)의 방향과 평행하도록 이루어진다.In the first embodiment of the present invention, the light generating unit 410 is disposed adjacent to the X-ray generating unit 100 and the light L emitted from the light generating unit 410 is incident on the X- (X).

이때, 광발생부(410)로부터 광이 방출되는 지점을 광원이라 하고 X선발생부(100)로부터 엑스선이 조사되는 지점을 엑스선원이라 정의하면, 상기 광원과 엑스선원은 최대한 근접되는 것이 정확한 위치의 결정을 위하여 바람직하다.In this case, when a point at which light is emitted from the light generating unit 410 is referred to as a light source and a point at which the X-ray is irradiated from the X-ray generating unit 100 is defined as an X-ray source, the light source and the X- It is preferable for the determination.

상기 광원과 엑스선원은 최소한 피검사물(S)에 입사될 때의 경로가 일치되는 것이 바람직하나, 물리적인 배치상태로 인하여 제1실시예에서는 일치시키는 것이 어려운 문제가 있다. 이를 해소하기 위한 다른 실시예는 후술하도록 한다.It is preferable that the light source and the X-ray source coincide with each other at least when they are incident on the inspected object S, but it is difficult to match them in the first embodiment because of the physical arrangement. Other embodiments for solving this will be described later.

마찬가지로, 감지부(420)는 검출부(200)에 인접되어 배치되되, 감지부(420)로 입사되는 광(L)이 검출부(200)로 입사되는 엑스선(X)의 방향과 평행하도록 이루어진다.Similarly, the sensing unit 420 is disposed adjacent to the sensing unit 200 so that the light L incident on the sensing unit 420 is parallel to the direction of the X-ray X incident on the sensing unit 200.

상기 감지부(420)는 다양한 종류의 광 감지수단이 적용될 수 있는데, 예를 들면, 상기 감지부(420)는 CCD카메라(charge-coupled device camera)로 이루어질 수 있다. CCD카메라란 디지털 카메라의 일종으로 전하 결합소자(CCD)를 사용하여 영상을 전기신호로 변환함으로써 디지털데이터로 처리하는 장치를 말하는 것으로 화질이 우수한 이점이 있다. 이러한 경우 피검사물(S)에서 반사되는 광을 시각적으로 확인할 수 있는 디스플레이장치(미도시)를 더 구비할 수 있다. 다만, 상기 감지부(420)는 레이져, 가시광선 또는 적외선 등의 다양한 광을 선택적으로 감지할 수 있는 장비들이 채택될 수 있다.For example, the sensing unit 420 may be a charge-coupled device (CCD) camera. A CCD camera is a type of digital camera, which uses a charge coupled device (CCD) to convert an image into an electrical signal to process it as digital data. In this case, it is possible to further include a display device (not shown) for visually confirming the light reflected by the inspected object S. However, the sensing unit 420 may be a device capable of selectively sensing various lights such as a laser, a visible light, and an infrared light.

이와 같이 엑스선(X)의 경로와 대응되도록 광(L)을 방출하고 피검사물(S)로부터 반사 또는 산란되는 광을 감지할 수 있는 광발생부(410)와 감지부(420)를 구비함으로써 엑스선 검사장비, 특히 X선발생부(100)와 검출부(200)가 테이블(300) 측을 중심으로 조사 또는 입사되는 엑스선의 각도가 가변될 수 있는 구조를 가진 엑스선 검사장비에 있어서 다양한 피검사물에 대응하여 정확한 위치관계를 설정할 수 있게 되는 이점을 가지게 된다. 이는 검사의 정확도가 더욱 향상될 수 있음을 의미한다.Since the light generating unit 410 and the sensing unit 420 emit the light L so as to correspond to the path of the X-ray X and can sense the light reflected or scattered from the inspected object S and the sensing unit 420, In the X-ray inspection equipment having the structure that the angle of the X-ray irradiated or incident on the inspection equipment, particularly the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, can be varied around the table 300, It is possible to establish an accurate positional relationship. This means that the accuracy of the test can be further improved.

도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비의 개념도이다.3 is a conceptual diagram of an X-ray inspection apparatus having a positioning means according to a second embodiment of the present invention.

상기한 바와 같이 광발생부(410)와 감지부(420)가 각각 X선발생부(100)와 검출부(200)에 실질적으로 대응되는 위치에 배치되는 경우 엑스선(X)과 광(L)의 경로에 편차가 발생하여 정확성이 떨어지는 문제가 있음은 상기한 바와 같다.When the light generating unit 410 and the sensing unit 420 are disposed at positions substantially corresponding to the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, the path of the X- There is a problem that deviation occurs and accuracy is degraded as described above.

이를 해결하기 위하여 본 발명의 제2실시예의 개념에서는 위치확인수단이 X선발생부(100)와 테이블(300)의 엑스선(X) 경로상에 배치되고 광발생부(410)로부터 방출되는 광을 피검사물(S)로 반사하는 제1반사부(510)와, 테이블(300)과 검출부(200)의 엑스선(X) 경로상에 배치되고 감지부(420)로 광을 반사시키는 제2반사부(520)를 구비하여 이루어진다.In order to solve this problem, in the concept of the second embodiment of the present invention, the position determining means is disposed on the X-ray path of the X-ray generator 100 and the table 300 and the light emitted from the light- A second reflector 510 disposed on the X-ray path between the table 300 and the detector 200 and reflecting light to the detector 420; 520).

상기 제1반사부(510)와 제2반사부(520)는 광을 반사할 수 있는 재질과 형상으로 이루어질 수 있으며, 대략 판 형상의 부재로서 도면의 도시사항을 기준으로 X선발생부(100)와 피검사물(S)을 연결하는 가상의 라인 또는 엑스선(X)의 경로에 대해 경사지도록 배치될 수 있고, 마찬가지로 피검사물(S)과 검출부(200)의 사이에 경사지도록 배치될 수 있다.The first reflector 510 and the second reflector 520 may be made of a material and a shape capable of reflecting light. The first reflector 510 and the second reflector 520 may be substantially plate- Or the X-ray path connecting the inspected object S and the X-ray X, and may be disposed so as to be inclined between the inspected object S and the detecting unit 200. [

상기 광발생부(410)와 감지부(420)는 각각 X선발생부(100)와 검출부(200) 측에 배치될 수 있는데 이러한 배치관계가 반드시 광발생부(410)와 감지부(420)가 X선발생부(100)와 검출부(200)에 인접해야 함을 의미하는 것은 아니다.The light generating unit 410 and the sensing unit 420 may be disposed on the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, respectively. But does not mean that it should be adjacent to the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200.

본 발명의 제2실시예의 구조에 따라 실질적으로 엑스선(X)의 경로와 광(L) 경로를 일치시킬 수 있고, 피검사물(S)에 정확하게 대응하여 검출부(200)와 X선발생부(100)의 위치를 결정할 수 있는 이점이 있다.It is possible to substantially match the path of the X-ray X and the path of the light L according to the structure of the second embodiment of the present invention, and the detection unit 200 and the X- There is an advantage in that the position of the light source can be determined.

상기 광발생부(410)와 감지부(420)는 도면에 도시된 사항과 같이 엑스선(X)의 경로에 대해 대략 직교되는 방향으로 광을 방출하거나 입력받을 수 있도록 배치될 수 있는데, 반드시 이러한 각도에 한정되는 것은 아님에 유의하여야 한다. 즉, 본 발명의 제2실시예에서는 제1반사부(510)로부터 피검사물(S)에서 반사되어 제2반사부(520)에 이르는 광의 경로가 엑스선(X)의 경로에 실질적으로 일치되면 족하므로 광발생부(410)로부터 방출되는 광과 감지부(420)로 입력되는 광은 제1반사부(510)와 제2반사부(520)의 각도에 따라 설정될 수 있는 것이다.The light generating unit 410 and the sensing unit 420 may be arranged to emit or receive light in a direction substantially orthogonal to the path of the X-ray X, It should be noted that the present invention is not limited thereto. That is, in the second embodiment of the present invention, when the path of the light reflected by the inspected object S from the first reflector 510 to the second reflector 520 substantially coincides with the path of the X-ray X, The light emitted from the light generating unit 410 and the light input to the sensing unit 420 may be set according to the angles of the first and second reflectors 510 and 520.

한편, 상기 광을 레이져를 사용하는 경우 감지부(420) 측으로 입력되는 광의 면적은 엑스선(X) 빔의 영역보다는 비교적 작은 도트(dot) 형태로 감지되는 것이 바람직할 수 있다. 이 경우, 광(L)과 엑스선(X)의 경로가 실질적으로 일치된다는 것의 의미는 엑스선(X) 빔의 중심축과 광(L)의 중심축이 실질적으로 일치되는 것으로 이해될 수 있다.When the light is used as the laser, the area of the light input to the sensing unit 420 may be detected in a relatively small dot form rather than in the area of the X-ray beam. In this case, the meaning that the paths of the light L and the X-ray X substantially coincide can be understood to mean that the central axis of the X-ray beam and the central axis of the light L substantially coincide with each other.

도 3에 도시된 바와 같이 제1반사부(510)와 제2반사부(520)가 엑스선의 경로상에 배치되는 경우 검사의 정확성을 보장하기 위하여 상기 제1반사부(510)와 제2반사부(520)는 광(L)은 반사하되 엑스선(X)의 투과율은 높은 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.3, when the first reflector 510 and the second reflector 520 are disposed on the path of the X-ray, in order to ensure the accuracy of the inspection, It is preferable that the portion 520 reflects the light L and the transmittance of the X-ray X is high.

또한, 상기의 예에서는 제1반사부(510)와 제2반사부(520)가 광을 반사하는 재질로 이루어지는 예를 설명하였으나 광을 굴절하여 경로를 조절할 수 있는 부재가 적용될 수도 있음은 물론이다.In the above example, the first reflector 510 and the second reflector 520 are made of a material that reflects light, but it is also possible to apply a member capable of adjusting the path by refracting light .

다만, 상기와 같은 재질로 이루어짐에도 불구하고 검사 과정에서 제1반사부(510)와 제2반사부(520)에서 산란, 흡수 또는 반사되는 엑스선이 존재할 수 있고 이러한 경우 정밀한 검사에 장애가 될 우려가 존재한다.However, even though it is made of the above-described material, there may exist x-rays scattered, absorbed or reflected by the first reflector 510 and the second reflector 520 during the inspection process. In this case, exist.

이를 해결하기 위한 본 발명의 제3실시예를 아래에서 설명하도록 한다.A third embodiment of the present invention for solving the problem will be described below.

도 4 및 도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 도시한 도면이다.FIGS. 4 and 5 are views showing an X-ray inspection apparatus having a positioning means according to a third embodiment of the present invention.

도 4에서는 검출부(200) 측에 배치되는 제2반사부(520)를 구체적으로 도시한 개념도로서, 제1반사부(510) 측의 구조는 이러한 구조에 대응되므로 중복되는 설명은 생략하도록 한다.4 is a conceptual diagram specifically showing a second reflecting portion 520 disposed on the side of the detecting portion 200. Since the structure of the first reflecting portion 510 corresponds to this structure, a duplicate description will be omitted.

제2반사부(520)가 엑스선(X)의 경로상에 고정 배치되는 경우 정밀한 검사에 장애가 되는 문제가 있음은 상기한 바와 같고, 이를 해결하기 위하여 상기 제2반사부(520)는 엑스선(X)의 경로상에 배치되거나 이탈될 수 있는 가동구조를 구비할 수 있다.In order to solve this problem, the second reflector 520 is disposed on the X-ray line X to fix the X-ray X, The movable structure may be disposed or disengaged from the path of the movable member.

도면에 도시된 바와 같이 제2반사부(520)는 감지부(420)로 입력되는 광을 일면에서 반사하는 제2반사부재(521)와, 상기 제2반사부재(521)를 이송하는 제2구동부(523)를 포함하여 이루어질 수 있다.As shown in the figure, the second reflector 520 includes a second reflector 521 that reflects light received by the sensing unit 420 from one side, a second reflector 521 that reflects light from the second reflector 521, And a driving unit 523.

바람직하게는, 상기 제2반사부재(521)는 일단부측에 제2힌지부(522)를 구비하며 제2구동부(523)는 상기 제2힌지부(522)를 회동동작하여 제2반사부재(521)가 검출부(200)와 피검사물(S) 사이에 배치되도록 하거나 상기 위치에서 이탈될 수 있도록 작동할 수 있다.The second reflection member 521 may include a second hinge unit 522 at one end and the second drive unit 523 may rotate the second hinge unit 522 to rotate the second reflection member 521 may be disposed between the detection unit 200 and the inspected object S or may be separated from the position.

상기 제2구동부(523)가 배치되는 위치는 선택적으로 이루어질 수 있는데, 최소한 감지부(420)로 입력되는 광이나 검출부(200)로 입사되는 엑스선의 경로에 장애가 되지 않을 수 있는 위치면 족하다.The second driving unit 523 may be disposed at an optional position so that the path of the light input to the sensing unit 420 or the path of the X-rays incident on the detecting unit 200 may not be obstructed.

위치확인수단이 작동되는 상태에서 상기 제2구동부(523)는 제2반사부재(521)를 엑스선 경로상에 배치하도록 하고, 위치확인수단이 작동되지 않는 상태에서는 제2반사부재(521)를 회동하여 경로상에서 이탈될 수 있돌고 작동할 수 있다.The second driving unit 523 may position the second reflecting member 521 on the X-ray path in a state where the position checking means is operated and rotate the second reflecting member 521 in a state where the position checking means is not operated It can be turned on and off.

제1반사부(510)도 마찬가지로, 제2반사부재(521)와, 제1힌지부(512)와, 제1구동부(513)를 구비하여 이루어질 수 있으며, 위치확인수단이 작동되는 상태에서 상기 제1구동부(513)는 제1반사부재(511)를 엑스선 경로상에 배치하도록 하고, 위치확인수단이 작동되지 않는 상태에서는 제1반사부재(511)를 회동하여 경로상에서 이탈될 수 있도록 작동할 수 있다.The first reflecting portion 510 may include a second reflecting member 521, a first hinge portion 512 and a first driving portion 513. The first reflecting portion 510 may include a second reflecting portion 521, The first driving unit 513 may be arranged to place the first reflecting member 511 on the X-ray path and to rotate the first reflecting member 511 in a state where the positioning means is not operated, .

도 5는 위치확인수단의 작동이 종료되어 엑스선이 피검사물(S)에 조사되어 검사가 이루어지는 상태를 나타낸다.5 shows a state in which the operation of the positioning means is terminated and the X-ray is irradiated on the inspected object S and inspection is performed.

도면을 참고하여 본 발명의 제3실시예에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비의 작동을 설명하도록 한다.The operation of the X-ray inspection apparatus having the positioning means according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

테이블(300)에 피검사물(S)이 안착되면 X선발생부(100)와 검출부(200)가 각각 테이블(300)을 지향한 상태에서 소정의 입사 및 산란의 각도가 결정되도록 위치가 설정된다.When the inspected object S is placed on the table 300, the position is set such that a predetermined angle of incidence and scattering are determined in a state in which the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 are directed to the table 300, respectively.

이후 엑스선을 통한 검사가 개시되기 전에 제1구동부(513) 및 제2구동부(523)가 작동되어 제1반사부재(511)와 제2반사부재(521)를 엑스선의 경로상에 배치하도록 하고, 광발생부(410)에서 방출된 광은 제1반사부재(511)에서 반사 또는 굴절되어 피검사물(S)에서 반사되고 다시 제2반사부재(521)에서 반사 또는 굴절되어 감지부(420)로 입력된다.The first driving unit 513 and the second driving unit 523 are operated so that the first reflecting member 511 and the second reflecting member 521 are disposed on the path of the X- The light emitted from the light generating unit 410 is reflected or refracted by the first reflecting member 511 to be reflected by the inspected object S and then reflected or refracted by the second reflecting member 521 to be reflected by the sensing unit 420 .

상기 감지부(420)를 통하여 사용자는 피검사물(S)에 대해 정확한 X선발생부(100) 및/또는 검출부(200)의 위치를 다시 설정할 수 있다.The user can reset the position of the X-ray generating unit 100 and / or the detecting unit 200 with respect to the inspected object S through the sensing unit 420.

상기와 같이 정확한 위치가 위치결정수단에 의하여 설정되면, 제1구동부(513) 및 제2구동부(523)가 제1반사부재(511)와 제2반사부재(521)를 엑스선의 경로상에서 이탈시키게 된다.When the precise position is set by the positioning means as described above, the first driving unit 513 and the second driving unit 523 separate the first reflecting member 511 and the second reflecting member 521 on the path of the X- do.

이후, X선발생부(100)에서 엑스선을 피검사물에 조사하여 피검사물에서 산란된 엑스선을 검출부(200)에서 검출하여 정확한 검사가 이루어지게 된다.Thereafter, the X-ray generating unit 100 irradiates the X-ray to the inspected object, and the X-ray scattered from the inspected object is detected by the detecting unit 200 to be inspected accurately.

상기한 바와 같이 감지부(420)는 광발생부(410)에서 방출된 광을 입력받을 수 있는 다양한 장비가 적용될 수 있는데, 육안을 통하여 직접 확인할 수 있는 장치를 배제하는 것은 아님에 유의하여야 한다.As described above, the sensing unit 420 may include various devices capable of receiving light emitted from the light generating unit 410, and it should be noted that the sensing unit 420 does not exclude a device that can directly recognize the light through the eyes.

또한, 상기 제1반사부(510)와 제2반사부(520)의 구동을 위한 제1구동부(513) 및 제2구동부(523)의 위치는 반드시 엑스선의 경로의 상측에 배치되어야 하는 것은 아니며, 회동 방식이 아닌 제1반사부재(511)와 제2반사부재(521)가 슬라이딩 이동되는 방식으로 엑스선 경로상으로 인입출되도록 작동할 수도 있음은 물론이다.The positions of the first driving part 513 and the second driving part 523 for driving the first reflecting part 510 and the second reflecting part 520 are not necessarily located on the upper side of the path of the X- The first reflection member 511 and the second reflection member 521 may be moved in the X-ray path in such a manner that the first reflection member 511 and the second reflection member 521 are slidably moved.

제1구동부(513)와 제2구동부(523)는 각각 X선발생부(100)와 검출부(200)에 직결되는 등의 방식으로 결합될 수 있는데, 본 발명에서는 X선발생부(100)와 검출부(200)가 시료(S)에 대해 동축으로 회동되어 다양한 각도에서의 회절을 검출할 수 있도록 하는바, 제1구동부(513) 및 광발생부(410)는 X선발생부(100)와 함께 회동되며, 제2구동부(523) 및 감지부(420)는 검출부(200)와 함께 회동되는 것이 바람직하다.The first driving unit 513 and the second driving unit 523 may be coupled to the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 in a direct manner. In the present invention, the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 can be rotated coaxially with respect to the sample S to detect diffraction at various angles such that the first driving unit 513 and the light generating unit 410 are rotated together with the X- The second driving unit 523, and the sensing unit 420 may be rotated together with the detection unit 200.

이때, 상기 제1구동부(513)와 제2구동부(523)에 의한 제1반사부재(511) 및 제2반사부재(521)는 X선발생부(100)와 검출부(200)의 시료에 대한 각도에 대하여 연동되어 회동되는 것이 바람직하다. 즉, X선발생부(100)와 검출부(200)의 각도에 따라 제1반사부재(511)와 제2반사부재(521)의 각도는 조정될 필요성이 존재하고, 예를 들어 도시상태에서 X선발생부(100)가 시료를 중심으로 시계방향으로 소정 각도로 더 회동되는 경우 광발생부(410)로부터의 광이 시료 측을 지향할 수 있도록 제1반사부재(511)도 시계방향으로 더 회동될 필요성이 있다. 이 경우 제2반사부재(521)의 회동각도도 검출부(200)의 위치에 따라 조정될 필요성이 있는 것이다.The first reflecting member 511 and the second reflecting member 521 formed by the first driving unit 513 and the second driving unit 523 may be disposed at angles relative to the sample of the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, It is preferable to rotate the linkage with respect to each other. That is, the angle between the first reflecting member 511 and the second reflecting member 521 needs to be adjusted according to the angle between the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200. For example, The first reflecting member 511 also needs to be further rotated in the clockwise direction so that light from the light generating unit 410 can be directed to the sample side when the first reflecting member 511 further rotates clockwise around the sample at a predetermined angle . In this case, the rotation angle of the second reflection member 521 also needs to be adjusted according to the position of the detection unit 200.

이러한 개념에 따라 공간적인 효율성을 극대화하면서도 XRD장비에 있어서 광을 통한 위치의 결정의 정확성이 비약적으로 향상될 수 있는 이점이 있음에 유의하여야 한다.It should be noted that this concept has the advantage that the accuracy of determining the position through light in the XRD equipment can be dramatically improved while maximizing the spatial efficiency.

도 6은 본 발명의 제4실시예의 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 6 is a view for explaining an X-ray inspection apparatus having a position checking means according to a fourth embodiment of the present invention.

상기한 바와 같이, 본 발명의 제4실시예에서는 제1반사부재(511)와 제2반사부재(521)의 구동을 위한 제1구동부(513) 및 제2구동부(523)로부터 인입출되어 경로를 개폐하는 구조를 제시한다.As described above, in the fourth embodiment of the present invention, the first driving unit 513 and the second driving unit 523 for driving the first reflecting member 511 and the second reflecting member 521, Is opened and closed.

여기서, 제1반사부(510)와 제2반사부(520)의 작동에 관하여 상기 실시예들과 중복되는 설명은 생략하도록 한다.Herein, the description of the operation of the first reflector 510 and the second reflector 520 will not be repeated.

제1구동부(513)는 X선발생부(100) 측에 설치되되, 공간적인 배치의 효율성을 고려하여 바람직하게는 X선발생부(100)의 하우징에 결합될 수 있다. The first driving unit 513 may be installed on the X-ray generating unit 100 side and may preferably be coupled to the housing of the X-ray generating unit 100 in consideration of spatial arrangement efficiency.

마찬가지로 제2구동부(523)는 검출부(200) 측에 설치될 수 있고, 검출부(200)를 구성하는 하우징에 결합되는 것이 바람직하다.Similarly, the second driving unit 523 may be installed on the side of the detecting unit 200 and may be coupled to the housing of the detecting unit 200.

상기 제1구동부(513)는 제1반사부재(511)가 슬라이딩 이동될 수 있도록 구동력을 제공하여 엑스선의 경로를 개폐할 수 있도록, 더욱 정확하게는 X선발생부(100)와 시료(S)사이의 직선경로를 개폐할 수 있도록 하며, 제2구동부(523)는 제2반사부재(521)가 시료(S)와 검출부(200) 사이의 직선경로를 개폐할 수 있도록 구동력을 제공하게 된다.More precisely, the first driving unit 513 is provided between the X-ray generating unit 100 and the sample S to provide a driving force to slide the first reflecting member 511 so as to open and close the path of the X- And the second driving unit 523 can provide a driving force to open and close the linear path between the sample S and the detection unit 200. [

이때, 도 5의 실시예에서와 같이 X선발생부(100) 및 검출부(200)의 시료에 대한 회동각도와 연동되어 제1반사부재(511) 및 제2반사부재(521)의 인출될 때의 각도가 조정되는 것이 바람직하며, 이를 위하여 제1구동부(513) 및 제2구동부(523)의 X선발생부(100) 및 검출부(200)에 대한 회동 가능한 결합구조가 고려될 수 있다. 5, when the first reflecting member 511 and the second reflecting member 521 are drawn out in conjunction with the rotation angle of the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200 with respect to the sample, It is preferable that the angles of the first and second driving units 513 and 523 are adjusted by rotating the first and second driving units 513 and 523 with respect to the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200.

또한, 도 6의 실시예와 같이 제1구동부(513)와 제2구동부(523)가 각각 X선발생부(100)와 검출부(200) 측에 고정되어 각각 제1반사부재(511)와 제2반사부재(521)의 회동각도를 조절하게 될 수도 있음은 물론이다.6, the first driving unit 513 and the second driving unit 523 are fixed to the X-ray generating unit 100 and the detecting unit 200, respectively, to form a first reflecting member 511 and a second reflecting mirror 511, The rotation angle of the reflection member 521 may be adjusted.

상기와 같은 본 발명의 개념에 따른 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비에 따라 엑스선의 경로를 정확하게 확인할 수 있으므로 X선발생부와 검출부의 정확한 위치를 결정할 수 있고, 피검사물의 검사가 정확하게 이루어질 수 있다.Since the path of the X-ray can be accurately confirmed by the X-ray inspection apparatus having the positioning means according to the concept of the present invention as described above, the precise position of the X-ray generator and the detection unit can be determined and the inspection of the inspected object can be accurately performed .

또한, 위치확인수단에 의한 엑스선 검사에서의 영향을 배제할 수 있으므로 정밀한 검사의 이점은 더욱 향상될 수 있다.Further, since the influence of the X-ray inspection by the position checking means can be excluded, the advantage of the precise inspection can be further improved.

이상에서, 본 발명은 실시예 및 첨부도면에 기초하여 상세히 설명되었다. 그러나, 이상의 실시예들 및 도면에 의해 본 발명의 범위가 제한되지는 않으며, 본 발명의 범위는 후술한 특허청구범위에 기재된 내용에 의해서만 제한될 것이다.In the foregoing, the present invention has been described in detail based on the embodiments and the accompanying drawings. However, the scope of the present invention is not limited by the above embodiments and drawings, and the scope of the present invention will be limited only by the content of the following claims.

100...X선발생부 200...검출부
300...테이블 410...광발생부
420...감지부 510...제1반사부
511...제1반사부재 512...제1힌지부
513...제1구동부 520...제2반사부
521...제2반사부재 522...제2힌지부
523...제2구동부
100 ... X-ray generating part 200 ... detecting part
300 ... Table 410 ... Light generating part
420 ... sensing unit 510 ... first reflector
511: first reflecting member 512: first hinge portion
513 ... first driving portion 520 ... second reflecting portion
521 ... second reflecting member 522 ... second hinge portion
523 ... second driving portion

Claims (2)

피검사물이 안착되는 테이블;
엑스선이 피검사물을 향하여 조사되는 X선발생부;
피검사물로부터 산란되는 엑스선이 입사되는 검출부;
상기 X선발생부 측에 배치되며 피검사물측으로 광을 방출하는 광발생부;
상기 검출부 측에 배치되며 피검사물로부터 반사되는 광을 입력받는 감지부;
X선발생부와 피검사물 사이의 엑스선의 경로에 경사지도록 배치되는 제1반사부재와, 상기 제1반사부재의 일단측에 배치되어 제1반사부재를 회동시키는 제1힌지부와, 상기 제1반사부재를 엑스선의 경로상으로 배치하거나 이탈시키는 제1구동부를 구비하며 상기 광발생부로부터 방출된 광을 피검사물로 반사 또는 굴절하는 제1반사부; 및
피검사물과 검출부 사이의 엑스선의 경로에 경사지도록 배치되는 제2반사부재와, 상기 제2반사부재의 일단측에 배치되어 제2반사부재를 회동시키는 제2힌지부와, 상기 제2반사부재를 엑스선의 경로상으로 배치하거나 이탈시키는 제2구동부를 구비하며 상기 피검사물로부터 반사된 광을 감지부로 반사 또는 굴절하는 제2반사부;를 포함하며,
상기 X선발생부와 검출부는 테이블을 중심으로하는 원주방향으로 이송되어 조사 및 입사되는 엑스선의 경로를 가변하며,
상기 광발생부 및 감지부를 통하여 엑스선의 조사가 이루어지기 전에 시각적으로 엑스선의 경로가 미리 확인되면 위치결정수단에 의하여 피검사물, X선발생부 또는 검출부의 정확한 위치가 다시 설정되고 제1구동부 및 제2구동부가 제1반사부재와 제2반사부재를 엑스선의 경로상에서 이탈시키는 것을 특징으로 하는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비.
A table on which the inspected object is seated;
An X-ray source portion irradiated with an X-ray toward an inspected object;
A detector for receiving an X-ray scattered from the inspected object;
A light generating unit disposed on the X-ray generation unit side and emitting light to the inspected object side;
A sensing unit disposed on the side of the sensing unit and receiving light reflected from the inspected object;
A first reflection member arranged on an X-ray path between the X-ray generating unit and the inspected object so as to be inclined with respect to the path of the X-ray beam, a first hinge unit arranged on one end side of the first reflection member to rotate the first reflection member, A first reflecting part having a first driving part for arranging or removing the member on the path of the X-rays and reflecting or refracting the light emitted from the light generating part to the inspected object; And
A second reflection member arranged on an X-ray path between the inspected object and the detection unit so as to be inclined; a second hinge unit disposed on one end side of the second reflection member to rotate the second reflection member; And a second reflecting part for reflecting or refracting the light reflected from the inspected object to the sensing part,
The X-ray generating unit and the detecting unit are moved in the circumferential direction around the table to change the path of the X-rays irradiated and incident,
When the path of the X-ray is visually confirmed before the X-ray is irradiated through the light generating unit and the sensing unit, the precise position of the inspected object, the X-ray generating unit or the detecting unit is reset by the positioning unit, And the driving unit separates the first reflecting member and the second reflecting member on the path of the X-ray.
제1항에 있어서,
상기 제1구동부 및 광발생부는 X선발생부와 함께 원주방향을 따라 이송되며,
상기 제2구동부 및 감지부는 검출부와 함께 원주방향을 따라 이송되는 위치 확인수단을 구비하는 엑스선 검사장비.


The method according to claim 1,
The first driving unit and the light generating unit are moved along the circumferential direction together with the X-
And the second driving unit and the sensing unit are provided along with the detection unit along the circumferential direction.


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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004170143A (en) 2002-11-18 2004-06-17 Shimadzu Corp X-ray analysis method and x-ray analysis apparatus
JP2011189114A (en) * 2010-02-17 2011-09-29 Canon Inc Radiation imaging apparatus, radiation generating apparatus, radiation imaging system, and processing method thereof
KR101136931B1 (en) 2011-05-30 2012-04-20 테크밸리 주식회사 Table module of x-ray analysis apparatus
KR101351810B1 (en) * 2013-07-01 2014-01-22 테크밸리 주식회사 X-ray analysis apparatus having shield

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004170143A (en) 2002-11-18 2004-06-17 Shimadzu Corp X-ray analysis method and x-ray analysis apparatus
JP2011189114A (en) * 2010-02-17 2011-09-29 Canon Inc Radiation imaging apparatus, radiation generating apparatus, radiation imaging system, and processing method thereof
KR101136931B1 (en) 2011-05-30 2012-04-20 테크밸리 주식회사 Table module of x-ray analysis apparatus
KR101351810B1 (en) * 2013-07-01 2014-01-22 테크밸리 주식회사 X-ray analysis apparatus having shield

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