FR2783450A1 - Polisseuse a force centrifuge et a reglage de l'intervalle - Google Patents

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Abstract

Une polisseuse à force centrifuge, constituée d'un réceptacle (1) stationnaire, d'une pièce de fond (2) disposée en-dessous du réceptacle (1) stationnaire, montée à rotation et entraînée par un moteur, ainsi que d'un dispositif de réglage de la largeur d'intervalle (d) entre le réceptacle (1) stationnaire et la pièce de fond (2), se caractérise par le fait que le réceptacle (1) stationnaire présente au moins un élément d'expansion (5), disposé de préférence dans un revêtement élastique (11) de réceptacle, pour effectuer le réglage de la largeur (d) de l'intervalle.La polisseuse à force centrifuge, selon l'invention, peut en particulier présenter extérieurement à la pièce de fond un volume réservoir (6) permettant de recevoir un liquide de travail (7) pouvant être introduit dans l'intervalle (3) sous une pression prédéterminée.

Description

Polisseuse à force centrifuge et à réglage de l'intervalle L'invention
concerne une polisseuse à force centrifuge, constituée d'un réceptacle stationnaire, d'une pièce de fond disposée en-dessous du réceptacle stationnaire, montée à rotation et entraînée par un moteur, ainsi que d'un dispositif de réglage de la largeur de l'intervalle entre le réceptacle
stationnaire et la pièce de fond.
De telles polisseuses à force centrifuge, par exemple pour le traitement final des produits en vrac, tels que des vis, des clous ou également des pièces de décoration, sont connues et sont utilisées dans la pratique en grande quantité. Ici, une pièce de fond, sous la forme du fond d'un récipient, tourne par rapport à un réceptacle stationnaire, si bien qu'il existe un mouvement relatif entre ces deux pièces, ce qui engendre un écoulement correspondant dans le réceptacle, répondant à une symétrie de rotation. Les deux parties sont usuellement séparées l'une de l'autre par un intervalle annulaire afin, d'une part, d'éviter toute usure sur les pièces qui se déplacent l'une par rapport à l'autre; cet intervalle est cependant également nécessaire pour diriger, en particulier dans le réceptacle, un liquide de travail lorsque l'on procède à un usinage humide. L'introduction du liquide de travail dans le récipient se réalise par la présence d'un volume réservoir qui permet de mettre le liquide de travail sous une pression prédéterminée, si bien que celui-ci peut pénétrer dans le réceptacle. De là, il peut être évacué dans la zone de fond par l'intermédiaire d'une purge centrale. Certes, on a déjà tenté de maintenir l'intervalle à une valeur aussi faible que possible, afin que les corps de meulage-rectification ou polissage ne soient autant que possible pas expulsés vers l'extérieur en passant par l'intervalle, du fait du mouvement rotatif. Cependant, un intervalle d'environ 0,2 à 0,5 mm est au moins encore nécessaire, ce qui conduit à ne pas pouvoir travailler de pièces minces, à endommager des pièces par un coincement dans l'intervalle et, pour le produit de meulage et de polissage, à ne pas devoir descendre
en-dessous d'une certaine granulométrie.
Le fait d'introduire un tel corps de meulage ou de polissage dans l'intervalle mène à une usure, tant du réceptacle que du fond, usure qui peut se développer progressivement lorsque la largeur de l'intervalle augmente du fait que lorsque l'usure augmente, des particules toujours plus grosses pénètrent dans l'intervalle et peuvent provoquer simultanément des effets d'abrasion sur les deux surfaces de l'intervalle. Pour diminuer cette usure qui se produit dans l'intervalle et pour augmenter ainsi la durée de vie de la pièce de fond, il est connu par exemple de faire varier la largeur de l'intervalle au moyen d'un réglage d'intervalle central disposé sur l'arbre d'entraînement de la pièce de fond (DE 43 11 689 Al). Un tel réglage de l'intervalle demande cependant de respecter des tolérances étroites dans la zone du jeu des paliers axiaux de l'arbre
d'entraînement et est ainsi coûteux.
Par DE 195 42 541, on connaît en outre une polisseuse à force centrifuge dont l'intervalle est fermé sous l'effet d'un moyen élastique, tel qu'un joint d'étanchéité glissant, une lèvre d'étanchéité ou un ressort, si bien que le passage du liquide de travail, en cas d'usinage humide, détermine la largeur d'intervalle, en fonction de sa pression, à l'encontre de la force du moyen élastique. Dans le cas d'une telle ponceuse à force centrifuge, il est désavantageux, tant pour l'usinage à sec que pour l'usinage de produits en vrac, dont le diamètre est grand par rapport à la largeur de l'intervalle, évitant ainsi toute usure du réceptacle suite au passage du produit en vrac dans l'intervalle, que l'intervalle annulaire soit fermé par le moyen élastique, de sorte que le moyen élastique qui évolue en glissant le long de la pièce de fond tournante est soumis à une usure permanente et que le moteur d'entraînement de la pièce de fond doit en
permanence faire face à une résistance de frottement.
L'invention a comme but de réaliser une polisseuse à force centrifuge du type mentionné au début, de manière que la largeur de l'intervalle entre le réceptacle stationnaire et la pièce de fond montée à rotation puisse être modifiée de façon exacte, simple
et ainsi économique.
Selon l'invention, ce problème est résolu avec une polisseuse à force centrifuge du type cité au début par le fait que le réceptacle stationnaire présente au moins un élément d'expansion, disposé dans un revêtement élastique de réceptacle, destiné au
réglage de la largeur de l'intervalle.
L'élément d'expansion, qui est disposé de préférence dans la zone de la face frontale inférieure d'un revêtement intérieur élastique du réceptacle stationnaire, peut, par exemple, s'étendre en forme d'anneau autour de la périphérie du réceptacle stationnaire, ou bien on peut répartir plusieurs éléments d'expansion autour de la périphérie du
réceptacle stationnaire.
Un tel élément d'expansion présente l'avantage de permettre la modification de la largeur de l'intervalle de façon progressive et continue Jusqu'à une fermeture complète de l'intervalle, par le montage tournant de la pièce de fond montée à rotation et ayant une largeur d'intervalle prédéterminée de façon fixe, grâce à son expansion et à l'expansion, lui étant liée, du revêtement élastique du réceptacle qui, par exemple, peut être constitué de matières synthétiques élastomères. Un tel réglage de l'intervalle dépend de la pression d'un liquide de travail à introduire dans le réceptacle, le cas échéant par l'intervalle, si bien que les deux paramètres, précisément la largeur de l'intervalle et la pression du liquide de travail, sont réglables séparément. L'élément d'expansion selon l'invention peut, par exemple, être constitué essentiellement d'un espace creux permettant de recevoir un fluide mis sous pression, qui est refoulé dans l'espace creux au moyen de pompes pneumatiques ou hydrauliques réglables, si bien que l'élément d'expansion se dilate en fonction de la pression du fluide introduit. Avec un tel élément d'expansion, il devient possible également, par exemple, en mettant l'espace creux sous vide, d'augmenter légèrement la largeur de l'intervalle, par exemple pour nettoyer l'intervalle pendant que la
polisseuse à force centrifuge est à l'arrêt.
L'élément d'expansion peut cependant également être un élément écarteur, de nature mécanique, et être constitué alors essentiellement de métal, du fait que, par exemple, il présente deux métaux ou alliages différents, reliés entre eux à la façon d'une bande bimétallique, qui ont des coefficients de dilatation thermique différents, si bien que, par exemple, ils peuvent être dilatés en exposant une spirale chauffante entourant l'élément
d'expansion à un flux variable.
L'élément d'expansion selon l'invention convient en particulier également à des polisseuses à force centrifuge qui, à l'extérieur de la pièce de fond, présentent un espace réservoir destiné à recevoir un liquide de travail pouvant être introduit dans l'intervalle sous une pression prédéterminée, afin
d'effectuer un usinage humide de produits en vrac. Com-
me déjà mentionné, dans le cas d'une telle polisseuse à force centrifuge, tant la largeur d'intervalle que la pression du liquide de travail peuvent être modifiées
séparément l'une de l'autre.
L'invention va être explicitée plus en détail ci-après à l'aide d'une forme de réalisation préférée en se référant au dessin. Dans le dessin: 5. la figure unique représente une coupe détaillée du réceptacle d'une polisseuse à force centrifuge, dans la zone de l'intervalle annulaire, entre le réceptacle stationnaire et la pièce de fond tournante. La polisseuse à force centrifuge représentée sur la figure 1 comporte un réceptacle 1 stationnaire et une pièce de fond 2, montée à rotation et entraînée par un moteur, les deux étant dotés d'un revêtement intérieur 11, 12. Entre le réceptacle 1 et la pièce de fond 2 se trouve un intervalle 3 de largeur "d" réalisé sous la forme d'un intervalle annulaire qui, dans le mode de réalisation représenté, permet, en cas de besoin, le passage du liquide de travail 7. Le liquide de travail 7 est stocké dans un réservoir 6 disposé à l'extérieur de la pièce de fond 2, entouré par la paroi 9 de réceptacle, et peut être amené à l'intervalle 3
sous une pression prédéterminée.
La largeur de l'intervalle "d" est modifiable au moyen de l'élément d'expansion 5 selon l'invention, disposé dans le revêtement de réceptacle 11 élastique, par le fait que l'élément d'expansion 5, qui, par exemple, est réalisé sous la forme d'un espace creux, est exposé à un fluide placé sous une pression pouvant être prédéterminée, si bien qu'il se dilate et que le revêtement de réceptacle 11 élastique diminue la largeur "d" de l'intervalle ou ferme complètement
l'intervalle 3.
L'élément d'expansion 5 peut être disposé dans des cas spéciaux également dans un revêtement
élastique 12 de la pièce de fond 2 tournante.
Cependant, dans ce cas, la commande qui doit assurer la rotation de la pièce de fond 2 est coûteuse. Le réceptacle 1 stationnaire peut, en plus, de manière connue, être monté de façon à pouvoir être réglé en hauteur dans la direction de la flèche 8, par exemple au moyen d'une bande crantée présentant des rainures d'encliquetage.

Claims (8)

REVENDICATIONS
1. Polisseuse à force centrifuge, constituée d'un réceptacle (1) stationnaire, d'une pièce de fond (2) disposée en-dessous du réceptacle (1) stationnaire, montée à rotation et entraînée par un moteur d'entraînement, ainsi que d'un dispositif de réglage de la largeur (d) de l'intervalle entre le réceptacle (1) stationnaire et la pièce de fond (2), caractérisée en ce que l'une des parties de réceptacle (1) présente au moins un élément d'expansion (5) destiné au réglage de la largeur (d) de l'intervalle.
2. Polisseuse à force centrifuge selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'au moins un élément d'expansion (5) s'étend sous forme d'anneau
autour de la périphérie du réceptacle (1) stationnaire.
3. Polisseuse à force centrifuge selon la revendication 1, caractérisée en ce que plusieurs éléments d'expansion (5) sont disposés autour de la
périphérie du réceptacle (1) stationnaire.
4. Polisseuse à force centrifuge selon l'une
quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce
que l'élément d'expansion (5) est essentiellement constitué d'un espace creux destiné à recevoir un
fluide mis sous pression.
5. Polisseuse à force centrifuge selon l'une
quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce
que l'élément d'expansion (5) est un élément écarteur
mécanique.
6. Polisseuse à force centrifuge selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'élément
d'expansion (5) est essentiellement constitué de métal.
7. Polisseuse à force centrifuge selon l'une
quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée en ce
que l'élément d'expansion (5) est disposé dans un revêtement (11) élastique d'une des parties du réceptacle.
8. Polisseuse à force centrifuge selon l'une
quelconque des revendications 1 à 5, caractérisée en ce
qu'elle présente extérieurement à la pièce de fond (2) un volume réservoir (6) destiné à recevoir un liquide de travail (7) pouvant être introduit dans
l'intervalle (3) sous une pression prédéterminée.
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