FR2750769A1 - Capteur de champ magnetique en couche mince - Google Patents
Capteur de champ magnetique en couche mince Download PDFInfo
- Publication number
- FR2750769A1 FR2750769A1 FR9608395A FR9608395A FR2750769A1 FR 2750769 A1 FR2750769 A1 FR 2750769A1 FR 9608395 A FR9608395 A FR 9608395A FR 9608395 A FR9608395 A FR 9608395A FR 2750769 A1 FR2750769 A1 FR 2750769A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- magnetization
- parallel
- sensor
- axis
- easy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
Ce capteur de champ magnétique comprend un élément plan en couche mince (1) en matériau magnétorésistif cristallin à anisotropie de résistivité dans le plan, possédant un premier et un deuxième axes faciles d'aimantations (XX', YY'). Cet élément possède des moyens de connexions électriques (2, 2') permettant la circulation d'un premier courant électrique de mesure dans l'élément selon une première direction, ainsi que deux connexions électriques (3, 3') permettant une mesure de tension selon une deuxième direction transverse par rapport à la première direction. Les deux axes faciles d'aimantations sont sensiblement équivalents. Le dispositif comporte un conducteur électrique (6) disposé parallèlement au premier axe facile d'aimantation isolé du matériau magnétorésistif et permettant la circulation d'un courant électrique de commande induisant dans l'élément un champ magnétique qui impose, lorsque le capteur est au repos, une orientation de la direction d'aimantation de l'élément parallèle au deuxième axe facile d'aimantation.
Description
CAPTEUR DE CHAMP MAGNETIQUE EN COUCHE MINCE
L'invention concerne un capteur de champ magnétique en couche mince.
L'invention concerne un capteur de champ magnétique en couche mince.
La réalisation d'un capteur magnétique fiable dans la gamme de champs magnétiques i 0-6-1 0-1 Oersted reste un objectif stratégique, tant pour la détection d'anomalies magnétiques, que pour la réalisation de têtes de lecture de supports magnétiques à haute densité d'informations.
Parmi les effets physiques sensibles au champ magnétique, les phénomènes de magnétotransport présentent l'avantage de pouvoir être aisément integrés avec l'électronique de lecture. Actuellement, deux types d'effets sont utilisés : d'une part la magnétorésistance des matériaux magnétiques, et d'autre part l'effet Hall.
La demande de brevet français n" 93 15551 décrit un senseur de champ magnétique faible à base d'un élément photosensible à effet Hall planaire.
Un tel senseur repose sur la mesure transverse de l'effet de magnétorésistance anisotrope dans un film mince ferromagnétique. La figure i représente la couche magnétosensible. Un courant I circule selon une direction XX' de la couche et on mesure la résistivité selon la direction YY'.
Cette résistivité varie en fonction de l'aimantation M appliquée au senseur.
De plus, elle est fonction de l'angle 0 entre l'aimantation et la direction Xx' du courant: p= A2Psin20
La tension mesurée selon l'axe W' varie en fonction de l'angle 0 entre l'aimantation du film et le courant de mesure, en suivant la relation cidessous: v=l Six5(20)
2
où AR est l'anisotropie de résistivité qui dépend essentiellement du matériau et de l'épaisseur de la partie active du capteur.
La tension mesurée selon l'axe W' varie en fonction de l'angle 0 entre l'aimantation du film et le courant de mesure, en suivant la relation cidessous: v=l Six5(20)
2
où AR est l'anisotropie de résistivité qui dépend essentiellement du matériau et de l'épaisseur de la partie active du capteur.
Les deux principaux avantages des capteurs à effet Hall planaire par rapport aux capteurs magnétorésistifs à mesure longitudinale sont d'une part une grande simplification de la technologie associée, d'autre part une réduction d'environ quatre ordres de grandeur de la dérive thermique, principale composante de bruit à faible fréquence (autour de 1 Hz). Par construction, ce capteur peut être rendu sensible uniquement à la composante du champ magnétique perpendiculaire à sa direction d'alimentation. Sa taille peut être réduite jusqu'à des dimensions inférieures à celles des domaines magnétiques, ce qui permet d'éliminer la source de bruit associée aux mouvements de parois. Des mesures sur des prototypes de tels capteurs ont mis en évidence une réponse linéaire de ces capteurs sur quatre ordres de grandeur (voir document A. Schuhl, F. Nguyen-Van
Dau and J.R. Childress, Applied Physics Letters, 66,15 Mai 1995).
Dau and J.R. Childress, Applied Physics Letters, 66,15 Mai 1995).
Cependant, dans les cas où les deux axes faciles d'aimantation de la couche magnétorésistive du capteur sont équivalents il se pose un problème pour déterminer la situation au repos du capteur.
L'invention permet de lever ce doute.
L'invention concerne donc un capteur de champ magnétique comprenant un premier élément plan en couche mince en matériau magnétorésistif cristallin à anisotropie de résistivité dans le plan, possédant un premier et un deuxième axes faciles d'aimantations, cet élément possédant des moyens de connexions électriques permettant la circulation d'un premier courant électrique de mesure dans l'élément selon une première direction, ainsi que deux connexions électriques permettant une mesure de tension selon une deuxième direction transverse par rapport à la première direction, caractérisé en ce que les deux axes faciles d'aimantations sont sensiblement équivalents, et en ce qu'il comporte un premier conducteur électrique disposé parallèlement à un axe facile d'aimantation, isolé du matériau magnétorésistif et permettant la circulation d'un courant électrique de commande induisant dans l'élément un champ magnétique qui impose, lorsque le capteur est au repos, une orientation de la direction d'aimantation de l'élément parallèle au deuxième axe facile d'aimantation.
De plus, de tels capteurs à effet Hall planaire présentent expérimentalement une résistance non nulle à champ nul.
Cet offset peut avoir deux origines:
- des défauts dans la définition de la géométrie du capteur
rendant celui-ci dissymétrique;
- un mauvais alignement du motif par rapport aux axes cristallins
de la couche active.
- des défauts dans la définition de la géométrie du capteur
rendant celui-ci dissymétrique;
- un mauvais alignement du motif par rapport aux axes cristallins
de la couche active.
La présence de cet offset introduit une composante isotrope dans la résistivité transverse qui dérive en température, ce qui réduit un des avantages essentiels de la géométrie transverse. Par ailleurs, le signal de sortie est alors élevé, ce qui limite les performances du capteur en particulier pour une lecture en mode détection synchrone. L'invention proposée résout ce problème.
Un autre problème est la réalisation de boussoles biaxes. Pour cela on prévoit d'assembler dans le même plan deux capteurs à effet Hall planaire. Mais cet assemblage doit répondre à des conditions particulières.
C'est pourquoi, I'invention concerne également un capteur caractérisé en ce qu'il comprend:
- un deuxième élément en matériau magnétorésistif similaire au
premier élément dont les deux axes faciles d'aimantation sont
parallèles à ceux du premier élément;
- des moyens de connexions électriques permettant la circulation
d'un deuxième courant électrique de mesure dans cet élément
selon une direction parallèle à la première ou à la deuxième
direction;
- deux connexions électriques permettant une mesure de tension
selon une direction transverse à la direction de circulation du
deuxième courant et parallèle à la deuxième ou la première
direction;
- un deuxième conducteur électrique disposé parallèlement au
deuxième axe facile d'aimantation et permettant la circulation
d'un courant électrique de commande induisant dans ce
deuxième élément un champ magnétique qui impose, lorsque
le capteur est au repos, une orientation de la direction
d'aimantation de l'élément parallèle au premier axe facile
d'aimantation.
- un deuxième élément en matériau magnétorésistif similaire au
premier élément dont les deux axes faciles d'aimantation sont
parallèles à ceux du premier élément;
- des moyens de connexions électriques permettant la circulation
d'un deuxième courant électrique de mesure dans cet élément
selon une direction parallèle à la première ou à la deuxième
direction;
- deux connexions électriques permettant une mesure de tension
selon une direction transverse à la direction de circulation du
deuxième courant et parallèle à la deuxième ou la première
direction;
- un deuxième conducteur électrique disposé parallèlement au
deuxième axe facile d'aimantation et permettant la circulation
d'un courant électrique de commande induisant dans ce
deuxième élément un champ magnétique qui impose, lorsque
le capteur est au repos, une orientation de la direction
d'aimantation de l'élément parallèle au premier axe facile
d'aimantation.
Chacun des deux détecteurs est alors sensible à une composante du champ magnétique. On voit que la précision d'un tel capteur biaxe sera certainement limitée par la précision de l'assemblage des deux détecteurs.
Par ailleurs, les deux composantes du champ magnétique sont mesurées par deux détecteurs qui ont été assemblés. La précision de mesure est alors limitée par la différence de sensibilité entre les deux capteurs. En cas de fabrication massive, des substrats de large diamètre seront utilisés. On peut alors s'attendre à des différences importantes entre les sensibilités des différents capteurs. Pour résoudre ce problème, il faut soit repérer les capteurs pour assembler deux capteurs voisins, soit mesurer la sensibilité de chaque capteur. Dans tous les cas, cela demande des opérations importantes et donc le coût du capteur s'en ressentira.
Selon l'invention on prévoit donc que les deux capteurs sont réalisés dans une même couche magnétorésistive et sont à une distance faible l'un de l'autre.
Les différents objets et caractéristiques de l'invention apparaîtront plus clairement dans la description qui va suivre et dans les figures annexées qui représentent:
- la figure 1, un capteur magnétorésistif à effet Hall planaire déjà
décrit précédemment;
- la figure 2, un schéma de réalisation simplifié d'un capteur
selon l'invention;
- la figure 3, une boussole biaxe selon l'invention.
- la figure 1, un capteur magnétorésistif à effet Hall planaire déjà
décrit précédemment;
- la figure 2, un schéma de réalisation simplifié d'un capteur
selon l'invention;
- la figure 3, une boussole biaxe selon l'invention.
- la figure 4, une variante de réalisation d'un capteur selon
l'invention;
- la figure 5, un capteur tri-axes combinant deux capteurs bi-axes
selon l'invention;
- les figures 6a et 6b, un capteur tri-axes combinant un capteur
biaxe'et un capteur à effet Hall classique.
l'invention;
- la figure 5, un capteur tri-axes combinant deux capteurs bi-axes
selon l'invention;
- les figures 6a et 6b, un capteur tri-axes combinant un capteur
biaxe'et un capteur à effet Hall classique.
En se reportant à la figure 2, on va décrire un exemple de réalisation simplifié d'un capteur selon l'invention.
Un substrat 5 porte un élément 1, de préférence carré mais pouvant être rectangulaire, en couche mince d'un matériau magnétorésistif permettant d'obtenir un effet tlall planaire. Ce matériau présente une anisotropie orientée dans le plan de la couche telle qu'il existe deux axes faciles d'aimantation. Ces deux axes d'aimantation sont identiques et sont orientées selon les axes perpendiculaires XX' et YY'. A titre d'exemple,
I'épaisseur de la couche est comprise entre 0,01 et 1 pm (0,02 pm par exemple) et la largeur et la longueur de l'élément 1 sont comprises entre 10 et 50 pm (20 pm par exemple). Selon l'axe XX', I'élément 1 possède à ses deux extrémités des plages de connexion 2, 2' permettant de connecter un appareil d'alimentation en courant et permettant la circulation d'un courant de mesure i dans l'élément 1. Ce courant i est de préférence continu .et constant.
I'épaisseur de la couche est comprise entre 0,01 et 1 pm (0,02 pm par exemple) et la largeur et la longueur de l'élément 1 sont comprises entre 10 et 50 pm (20 pm par exemple). Selon l'axe XX', I'élément 1 possède à ses deux extrémités des plages de connexion 2, 2' permettant de connecter un appareil d'alimentation en courant et permettant la circulation d'un courant de mesure i dans l'élément 1. Ce courant i est de préférence continu .et constant.
Deux éléments de connexion 3 et 3' sont connectés de part et d'autre de l'élément 1 selon l'axe YY'.
Ces éléments de connexion permettent de connecter un appareil de mesure de tension ou de résistivité. Les plages de connexions 2, 2' et 3, 3' font au moins la largeur d'un côté de l'élément 1. De plus, on prévoit une augmentation rapide de la largeur de ces plages de connexion pour diminuer les limitations liées au bruit de Johnson ainsi que la dissipation électrique. Ces connexions peuvent être réalisées dans un autre matériau que celui de l'élément 1.
Au-dessus de l'élément 1 est prévu un conducteur 6. Par exemple, ce conducteur est parallèle à l'axe Xx'. II est séparé de l'élément 1 par une couche d'isolant 4.
La circulation d'un courant électrique dans le conducteur 6 (continu ou alternatif) génère un champ magnétique transverse au niveau de l'élément 1.
II est aussi possible de contrôler la direction et le sens de l'aimantation perpendiculairement au fil. Le champ nécessaire pour obtenir ce contrôle est bien inférieur au champ d'anisotropie et bien supérieur à la plage de champ que l'on souhaite détecter.
L'élément 1 est réalisé sous forme d'une couche mince d'un matériau ferromagnétique présentant une structure cristalline cubique et entraînant une anisotropie magnéto-cristalline quadratique dans le plan des couches. Un film mince réalisé dans un tel matériau possède ainsi dans son plan deux axes faciles d'aimantations équivalentes et perpendiculaires l'une à l'autre. Les techniques actuelles permettent de réaliser un tel film.
Dans un capteur à effet Hall planaire selon l'invention, la zone active est telle qu'elle a la forme d'un carré dont la taille caractéristique (de l'ordre de la dizaine de microns) est suffisamment faible pour que l'élément soit pratiquement un monodomaine magnétique. Ainsi, en l'absence de champ magnétique appliqué, I'aimantation est orientée dans le carré le long d'une des directions équivalentes de facile aimantation. Lorsque le capteur est soumis à un champ magnétique sensiblement inférieur à son anisotropie, il est uniquement sensible à la composante de ce champ dans son plan perpendiculaire à la direction de l'aimantation. Pour contrôler la direction du champ appliqué à laquelle le capteur sera sensible, il convient donc de contrôler la direction de l'aimantation dans l'élément sensible. C'est pourquoi, selon l'invention on prévoit le conducteur 6 et on prévoit la circulation d'un courant électrique (continu ou alternatif) dans ce conducteur.
Ce courant génère un champ magnétique transversal dans l'élément 1.
Il est avantageux de se placer dans les conditions où le conducteur est large vis-à-vis de la distance le séparant du capteur, le champ magnétique induit ne dépendant plus alors de cette distance.
Selon l'exemple de réalisation de la figure 2, le conducteur est disposé au-dessus du capteur par exemple parallèlement à la direction Xx'.
Les dimensions du fil et sa distance au capteur doivent être telles qu'elles permettent d'induire un champ magnétique sur le capteur suffisant pour saturer l'aimantation dans la direction parallèle aux amenées de courant. Le sens de l'aimantation est contrôlé par le sens du courant circulant dans le fil.
Après avoir fait circuler un courant électrique de commande +l dans le conducteur 6, la direction et le sens de l'aimantation sont contrôlés et le capteur délivré une tension V+:
V+=Vo+S*i*H (1)
où Vg est la tension d'offset, S est la sensibilité du capteur (en VIT.A), i est le courant électrique de mesure du capteur, H est la composante du champ extérieur parallèle aux prises de tension.
V+=Vo+S*i*H (1)
où Vg est la tension d'offset, S est la sensibilité du capteur (en VIT.A), i est le courant électrique de mesure du capteur, H est la composante du champ extérieur parallèle aux prises de tension.
II n'est alors pas nécessaire de disposer d'un matériau actif possédant une anisotropie uni-axiale planaire. A partir de couches actives ne possédant que leur anisotropie quadratique intrinsèque, et donc deux directions de facile aimantation équivalentes et perpendiculaires l'une à l'autre, il est alors possible de fabriquer sur le même substrat des capteurs à effet Hall planaire mesurant des composantes différentes du champ magnétique. Le contrôle de la direction sensible de chaque élément magnétorésistif est assurée par l'intermédiaire du conducteur de commande (6) et la circulation d'un courant adéquat dans celui-ci.
La mesure du champ peut se faire soit après l'impulsion I qui place l'aimantation des capteurs dans la bonne direction, soit si cela est nécessaire pendant l'impulsion. Dans ce dernier cas, la sensibilité du capteur dépendra de l'intensité du courant circulant dans le conducteur 6.
Sur un tel type de capteur, il convient alors d'éliminer toute source possible d'anisotropie uni-axiale. En particulier, le motif du capteur doit respecter la symétrie du cristal.
Si maintenant on applique un courant -I, on sature l'aimantation dans le sens opposé au précédent. Le capteur délivre ensuite le signal:
V-=V0-S*i*H (2)
Une simple opération de soustraction -V+ - V- = 2*S*i*H - permet alors d'éliminer l'offset et d'extraire la partie utile du signal.
V-=V0-S*i*H (2)
Une simple opération de soustraction -V+ - V- = 2*S*i*H - permet alors d'éliminer l'offset et d'extraire la partie utile du signal.
La figure 3 représente une application du capteur de la figure 2 à la réalisation d'une boussole biaxe.
Selon l'invention on réalise sur un même substrat au moins deux capteurs permettant de mesurer des composantes différentes du champ magnétique.
De préférence, il s'agit de deux composantes orthogonales. Le contrôle de la direction de l'aimantation et donc de la direction sensible au champ dans chaque capteur est assurée par un conducteur de commande tel que le conducteur 6 de la figure 2.
La figure 3 représente sur un même substrat deux éléments magnétorésistifs 1 et 10.
Les électrodes 2 et 2' de l'élément 1 sont alignées selon une direction Xx' d'un axe d'aimantation facile XX' de l'élément 1. Les électrodes 3 et 3' sont alignées selon l'autre axe YY' d'aimantation facile.
Pour l'élément 10, les électrodes 12, 12' sont alignées selon l'axe
YY' et les électrodes 13,13' sont alignées selon l'axe XX'.
YY' et les électrodes 13,13' sont alignées selon l'axe XX'.
Aux électrodes 3, 3' d'une part et 13, 13' d'autre part sont connectés des dispositifs de mesure de tension.
Un conducteur 6, parallèle à l'axe W' est situé au-dessus de l'élément 1 et un conducteur 16, parallèle à l'axe XX' est situé au-dessus de l'élément 10. Ces conducteurs sont isolés des éléments 1 et 10. Ils sont alimentés par un courant de commande I. Selon l'exemple de la figure 1, les conducteurs 6 et 16 sont un même conducteur alimenté par un courant I.
Pour fonctionner en détecteur de direction de champ magnétique (boussole par exemple), il permet de mesurer deux composantes d'un champ magnétique. Les deux capteurs 1 et 10 doivent être commandés par des courants parcourant des conducteurs 6 et 16 orthogonaux de façon que sous l'effet du courant de commande I les aimantations des deux capteurs soient orthogonales. Les deux capteurs sont donc sensibles à deux composantes orthogonales du champ magnétique.
La réalisation des éléments 1 et 10 sur un substrat S se fera par photolithographie eVou gravure ionique. Une couche d'isolant 4 est ensuite déposée sur les deux capteurs.
L'implémentation des fils métalliques bons conducteurs (or, argent, cuivre, aluminium, etc...) qui permettent le contrôle de la direction et du sens de l'aimantation dans chaque capteur peut se faire soit sur la couche d'isolant soit en face arrière du substrat. Comme on le voit sur la figure 3, les conducteurs 6 et 16 correspondant à chacun des deux capteurs sont orthogonaux l'un par rapport à l'autre. Ainsi, les aimantations de chacun des deux capteurs sont orthogonales
Dans l'exemple présenté sur la figure 3, les capteurs sont parcourus par le même courant i. La liaison peut se faire par un fil de connexion F1 en matériau bon conducteur électrique de préférence non magnétique (or, argent, cuivre, aluminium, etc...) réalisé lors d'une étape de lithographie.
Dans l'exemple présenté sur la figure 3, les capteurs sont parcourus par le même courant i. La liaison peut se faire par un fil de connexion F1 en matériau bon conducteur électrique de préférence non magnétique (or, argent, cuivre, aluminium, etc...) réalisé lors d'une étape de lithographie.
La figure 4, représente une autre forme de réalisation du capteur de l'invention. Les deux éléments magnétorésistifs 1,10 sont alimentés en courant selon une même direction YY'. Selon la figure 4, ils sont connectés en série par la connexion Fl et sont parcourus par un même courant i de même direction. Les mesures de tension aux connexions 3, 3' et 13, 13' se font selon des directions parallèles à XX'. Par contre, ce qui importe dans le cadre de l'invention et qui est commun aux deux formes de réalisation des figures 3 et 4, c'est que les conducteurs 6 et 16, au-dessus des éléments 1 et 10, sont parallèles l'un à XX' et l'autre à YY' (c'est-à-dire perpendiculaire entre eux).
Rappelons qu'on a mentionné en début de description que ces directions Xx' et W' sont parallèles aux axes faciles d'aimantation des éléments 1à10.
Dans ces conditions les conducteurs 6 et 16 induiront dans les éléments 1 à 10 des champs perpendiculaires entre eux et parallèles chacun à un axe facile d'aimantation.
On a ainsi réalisé l'intégration monolithique d'une boussole biaxe.
Si le substrat est semiconducteur (par exemple Si), il est possible d'intégrer de manière monolithique tout ou une partie de l'électronique de lecture de la boussole sur le même substrat.
Dans le dispositif de la figure 3, le positionnement des conducteurs 6 et 16 par rapport aux capteurs permet d'utiliser la méthode de suppression d'offset décrite en relation avec la figure 2. De plus, le procédé de réalisation décrit ci-dessus où les deux capteurs sont réalisés lors de la même étape de masquage permet d'améliorer substantiellement la précision quant à leurs positionnements relatifs. On améliore ainsi la résolution angulaire de la boussole biaxe par rapport à une intégration hybride.
Enfin, un désalignement éventuel des motifs par rapport aux axes cristallographiques du matériau magnétorésistif peut être compensé par la procédure de suppression d'offset en réduisant l'importance de ce désalignement par au moins un ordre de grandeur.
L'invention permet donc de réaliser un ensemble de capteurs à effet Hall planaire pour obtenir une boussole biaxe permettant de déterminer la direction du champ magnétique sans connaître à priori la sensibilité des éléments 1 et 10 individuels. Les deux éléments permettent de mesurer deux composantes orthogonales du champ magnétique. Ils sont réalisés en même temps sur le même substrat. Comme ils sont proches l'un de l'autre les paramètres de fabrications sont identiques. Les deux éléments ont la même sensibilité. Pour déterminer la direction du champ magnétique, il suffit de faire le rapport entre les deux mesures. Le résultat est alors indépendant de la sensibilité individuelle des éléments. L'invention est parfaitement adaptée aux processus de fabrication de boussole à bas coût et grande série, sur des substrats de grande surface pour lesquels une très grande homogénéité de dépôt est difficile à obtenir. Par ailleurs, I'invention impose l'introduction d'une ligne de courant supplémentaire pour placer l'aimantation du matériau sensible des deux capteurs dans deux directions perpendiculaires l'une de l'autre. Cette même ligne de courant est utilisée dans l'invention pour réaliser une suppression de l'offset et donc obtenir une meilleure résolution angulaire.
L'invention est également applicable à un capteur tri-axes.de direction de champ magnétique.
La figure 5 représente schématiquement un tel capteur.
II comporte dans un plan XY un premier capteur bi-axes tel que décrit précédemment et possédant deux détecteurs (1, 10) mesurant chacun une composante du champ magnétique selon une direction (X, Y) dans le plan YX. Chaque détecteur est représenté sur cette figure par son élément sensible magnétorésistif 1, 10. Ce premier capteur mesure donc la direction de la composante du champ magnétique dans le plan XY.
Un deuxième capteur bi-axes possédant également deux détecteurs (1', 10') est disposé dans un plan XZ perpendiculaire au plan XY.
Ce capteur mesure la direction du champ magnétique dans le plan XZ. II s'ensuit que l'ensemble des deux capteurs permet d'obtenir la direction du champ magnétique dans l'espace.
Un tel capteur est plus facile à réaliser car il ne nécessite que l'assemblage de deux capteurs seulement (de préférence dans des plans perpendiculaires) au lieu de trois capteurs dans les techniques traditionnelles.
Les figures 6a et 6b représentent une variante de réalisation d'un capteur tri-axes comportant un capteur bi-axes tel que celui de la figure 3 et un capteur à effet Hall classique intégrés tous deux sur un même substrat.
Le capteur à effet Hall comporte une couche 20 en matériau à forte mobilité électronique située sur le substrat 7. Cette couche 20 est par exemple une couche de matériau semiconducteur dopé. Elle est recouverte d'une couche d'isolant 21 sur laquelle sont réalisés les éléments magnétorésistifs 1 et 10 et leurs moyens de connexion qui ne sont pas représentés sur les figure 6a, 6b. Une couche d'isolant 4 recouvre au moins les éléments 1 et 10. On retrouve également le conducteur (6, 16) situé audessus des éléments 1 et 10. Enfin des connexions 22, 22', 23, 23' permettent de prendre les contacts sur l'élément à effet Hall 20. Pour simplifier les figures, les prises de contact vers les connexions aux éléments 1 et 10 n'ont pas été représentées.
Le capteur constitué par les éléments 1 et 10 fonctionnent comme décrit précédemment et permettent de mesurer la composante du champ magnétique dans le plan XY. Le capteur à effet Hall classique comportant la couche 20 permet de mesurer la composante du champ magnétique selon l'axe Z. II résulte de cela que l'ensemble des deux capteurs permet de déterminer la direction d'un champ magnétique dans l'espace.
II est à noter que dans les exemples de réalisation qui précèdent, des moyens de commutation peuvent être associés à chaque conducteur 6, 16 pour permettre d'inverser le sens de circulation des courants de commande dans ces conducteurs. Des moyens de mesure de tension sont associés à chaque élément magnétorésistif et un circuit de différence permet de réaliser la différence des mesures de tension faites pour les deux sens de circulation des courants de commande.
De plus, les éléments magnétorésistifs des capteurs peuvent avoir la forme de rubans alimentés en courant par un courant de mesure selon ia plus grande longueur du ruban. Les mesures de connexion de tensions se font en des points situés sur les bords latéraux de chaque ruban. La largeur de chaque ruban étant de l'ordre de quelques dizaines à quelques centaines de micromètres.
Claims (15)
1. Capteur de champ magnétique comprenant un premier élément plan en couche mince (1) en matériau magnétorésistif cristallin à anisotropie de résistivité dans le plan, possédant un premier et un deuxième axes faciles d'aimantations (XX', W), cet élément possédant des moyens de connexions électriques (2, 2') permettant la circulation d'un premier courant électrique de mesure dans l'élément selon une première direction, ainsi que deux connexions électriques (3, 3') permettant une mesure de tension selon une deuxième direction transverse par rapport à la première direction, caractérisé en ce que les deux axes faciles d'aimantations sont sensiblement équivalents, et en ce qu'il comporte un premier conducteur électrique (6) disposé parallèlement au premier axe facile d'aimantation isolé du matériau magnétorésistif et permettant la circulation d'un courant électrique de commande induisant dans l'élément un champ magnétique qui impose, lorsque le capteur est au repos, une orientation de la direction d'aimantation de l'élément parallèle au deuxième axe facile d'aimantation.
2. Capteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que la première direction est parallèle avec un axe facile d'aimantation et la deuxième direction est parallèle avec l'autre axe facile d'aimantation.
3. Capteur selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'il comprend:
- un deuxième élément (10) en matériau magnétorésistif similaire
au premier élément (1) dont les axes faciles d'aimantation sont
parallèles à ceux du premier élément;
- des moyens de connexions électriques (12, 12') permettant la
circulation d'un deuxième courant électrique de mesure dans
cet élément selon une direction parallèle à la première ou à la
deuxième direction;
- deux connexions électriques (13, 13') permettant une mesure
de tension selon une direction transverse à la direction de
circulation du deuxième courant et parallèle à la deuxième ou à
la première direction;
- un deuxième conducteur électrique (16) disposé parallèlement
au deuxième axe facile d'aimantation et permettant la
circulation d'un courant électrique de commande induisant
dans ce deuxième élément un champ magnétique qui impose,
lorsque le capteur est au repos, une orientation de la direction
d'aimantation de l'élément parallèle au premier axe facile
d'aimantation.
4. Capteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que le premier axe facile d'aimantation est perpendiculaire au deuxième axe facile d'aimantation.
5. Capteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que le premier élément (1) et le deuxième élément (2) sont réalisés dans une même couche d'un matériau magnétorésistif cristallin.
6. Capteur selon la revendication 5, caractérisé en ce que le premier élément (1) et le deuxième élément (2) sont à une distance l'un de l'autre aussi faible que leur dimension caractéristique.
7. Capteur selon l'une des revendications 1 ou 3, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens de commutation associés à chaque conducteur (6, 16) et permettant d'inverser le sens de circulation des courants de commande dans ces conducteurs.
8. Capteur selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens de mesure de tension associés à chaque élément ainsi qu'un circuit de différence réalisant la différence des mesures de tension faite pour les deux sens de circulation des courants de commande.
9. Capteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que dans le deuxième élément, ie deuxième courant électrique de mesure circule parallèlement au premier axe facile d'aimantation et en ce que la mesure de tension se fait selon une direction parallèle au deuxième axe facile d'aimantation.
10. Capteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que, dans le deuxième élément, le deuxième courant électrique de mesure circule parallèlement au deuxième axe facile d'aimantation et en ce que la mesure de tension se fait selon une direction parallèle au premier axe facile d'aimantation.
11. Capteur selon l'une des revendications 1 ou 3, caractérisé en ce que les éléments magnétorésistifs (1, 10) ont la forme de rubans et sont alimentés en courant par un courant de mesure selon la plus grande longueur du ruban et que les mesures de connexions de tensions se font en des points situés sur les bords latéraux de chaque ruban, la largeur de chaque ruban étant de l'ordre de quelques dizaines à quelques centaines de micromètres.
12. Capteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que le premier et le deuxième conducteurs sont connectés en série et sont alimentés par un même courant de commande (I).
13. Capteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que les moyens de connexion électriques (2, 2', 12, 12') du premier et du deuxième éléments permettent une alimentation en série des deux éléments par un même courant de mesure (i).
14. Capteur tri-axes selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'il comporte:
- un premier capteur bi-axes, comportant deux éléments (1,10) en
matériau magnétorésistif, disposés selon un premier plan (XY) et
possédant chacun leurs moyens de connexions électriques pour
la circulation d'un courant de mesure et pour des mesures de
tensions transverses, ainsi que leur conducteur parallèle à un axe
facile d'aimantation de l'élément;
- un deuxième capteur bi-axes, comportant également deux
éléments (1', 10') en matériau magnétorésistif, disposés selon un
deuxième plan (XZ) sensiblement perpendiculaire au premier plan
(XY) et possédant chacun leurs moyens de connexions
électriques pour la circulation d'un courant de mesure et pour des
mesures de tensions transverses ainsi que leur conducteur
parallèle à un axe facile d'aimantation de l'élément.
15. Capteur tri-axe selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'il comporte sur une face d'un substrat (7):
- un capteur à effet Hall (20) en matériau à semiconducteur
permettant de mesurer un champ magnétique perpendiculaire à la
face du substrat; - un capteur comprenant deux éléments (1, 10) réalisés dans une même couche de matériau magnétorésistif et leurs circuits associés, ainsi qu'un conducteur (6) situé au-dessus de ces éléments et permettant la circulation d'un courant de commande, pour mesurer une composante du champ magnétique selon un plan parallèle à la face du substrat.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9608395A FR2750769B1 (fr) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | Capteur de champ magnetique en couche mince |
EP97931872A EP0909391A1 (fr) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | Capteur de champ magnetique en couche mince |
PCT/FR1997/001205 WO1998001764A1 (fr) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | Capteur de champ magnetique en couche mince |
US09/147,473 US6191581B1 (en) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | Planar thin-film magnetic field sensor for determining directional magnetic fields |
JP10504863A JP2000514920A (ja) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | 薄層磁界センサー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9608395A FR2750769B1 (fr) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | Capteur de champ magnetique en couche mince |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2750769A1 true FR2750769A1 (fr) | 1998-01-09 |
FR2750769B1 FR2750769B1 (fr) | 1998-11-13 |
Family
ID=9493755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR9608395A Expired - Fee Related FR2750769B1 (fr) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | Capteur de champ magnetique en couche mince |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6191581B1 (fr) |
EP (1) | EP0909391A1 (fr) |
JP (1) | JP2000514920A (fr) |
FR (1) | FR2750769B1 (fr) |
WO (1) | WO1998001764A1 (fr) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200411222A1 (en) * | 2018-03-22 | 2020-12-31 | Robert Bosch Gmbh | Inductive component and high-frequency filter device |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1031844A3 (fr) * | 1999-02-25 | 2009-03-11 | Liaisons Electroniques-Mecaniques Lem S.A. | Procédé de fabrication d'un capteur de courant électrique |
FR2809185B1 (fr) | 2000-05-19 | 2002-08-30 | Thomson Csf | Capteur de champ magnetique utilisant la magneto resistance, et procede de fabrication |
FR2817077B1 (fr) | 2000-11-17 | 2003-03-07 | Thomson Csf | Capacite variable commandable en tension par utilisation du phenomene de "blocage de coulomb" |
FR2828001B1 (fr) * | 2001-07-27 | 2003-10-10 | Thales Sa | Dispositif de commande de renversement de sens d'aimantation sans champ magnetique externe |
EP1310962A1 (fr) * | 2001-11-08 | 2003-05-14 | Hitachi Ltd. | Cellule de mémoire magnétique |
WO2004001805A2 (fr) * | 2002-06-21 | 2003-12-31 | California Institute Of Technology | Capteurs a effet hall planaire geant dans des semi-conducteurs a diluat |
EP1595404B1 (fr) | 2003-02-18 | 2014-10-22 | Nokia Corporation | Procede de decodage d'images |
WO2004075555A1 (fr) * | 2003-02-18 | 2004-09-02 | Nokia Corporation | Procede de codage d'image |
FR2860879B1 (fr) * | 2003-10-08 | 2006-02-03 | Centre Nat Etd Spatiales | Sonde de mesure d'un champ magnetique. |
WO2005060657A2 (fr) * | 2003-12-15 | 2005-07-07 | Yale University | Dispositifs magnetoelectroniques a base de films minces magnetoresistants colossaux |
US9124907B2 (en) * | 2004-10-04 | 2015-09-01 | Nokia Technologies Oy | Picture buffering method |
FR2876800B1 (fr) * | 2004-10-18 | 2007-03-02 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de mesure de champ magnetique a l'aide d'un capteur magnetoresitif |
FR2879349B1 (fr) * | 2004-12-15 | 2007-05-11 | Thales Sa | Dispositif a electronique de spin a commande par deplacement de parois induit par un courant de porteurs polarises en spin |
FR2880131B1 (fr) * | 2004-12-23 | 2007-03-16 | Thales Sa | Procede de mesure d'un champ magnetique faible et capteur de champ magnetique a sensibilite amelioree |
JP4613661B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2011-01-19 | ヤマハ株式会社 | 3軸磁気センサの製法 |
US7768083B2 (en) | 2006-01-20 | 2010-08-03 | Allegro Microsystems, Inc. | Arrangements for an integrated sensor |
FR2911690B1 (fr) | 2007-01-19 | 2009-03-06 | Thales Sa | Dispositif d'amplification magnetique comportant un capteur magnetique a sensibilite longitudinale |
US7564237B2 (en) * | 2007-10-23 | 2009-07-21 | Honeywell International Inc. | Integrated 3-axis field sensor and fabrication methods |
MD4002C2 (ro) * | 2008-03-19 | 2010-07-31 | Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы | Dispozitiv de măsurare a intensităţii câmpului magnetic |
FR2966636B1 (fr) * | 2010-10-26 | 2012-12-14 | Centre Nat Rech Scient | Element magnetique inscriptible |
US9606195B2 (en) * | 2013-03-03 | 2017-03-28 | Bar Ilan University | High resolution planar hall effect sensors having plural orientations and method of operating the same to measure plural magnetic field components |
US10921389B2 (en) * | 2018-06-27 | 2021-02-16 | Bar-Ilan University | Planar hall effect sensors |
US10935612B2 (en) | 2018-08-20 | 2021-03-02 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor having multiple sensitivity ranges |
US11567108B2 (en) | 2021-03-31 | 2023-01-31 | Allegro Microsystems, Llc | Multi-gain channels for multi-range sensor |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5721883A (en) * | 1980-07-14 | 1982-02-04 | Sharp Corp | Magnetic reluctance effect element |
EP0348027A2 (fr) * | 1988-06-21 | 1989-12-27 | Hewlett-Packard Company | Capteur magnétorésistif à courants opposés pour lecture de milieu à enregistrement perpendiculaire |
US4987509A (en) * | 1989-10-05 | 1991-01-22 | Hewlett-Packard Company | Magnetoresistive head structures for longitudinal and perpendicular transition detection |
EP0660128A1 (fr) * | 1993-12-23 | 1995-06-28 | Thomson-Csf | Détecteur de champ magnétique en couches minces |
-
1996
- 1996-07-05 FR FR9608395A patent/FR2750769B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-04 US US09/147,473 patent/US6191581B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-04 WO PCT/FR1997/001205 patent/WO1998001764A1/fr not_active Application Discontinuation
- 1997-07-04 JP JP10504863A patent/JP2000514920A/ja active Pending
- 1997-07-04 EP EP97931872A patent/EP0909391A1/fr not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5721883A (en) * | 1980-07-14 | 1982-02-04 | Sharp Corp | Magnetic reluctance effect element |
EP0348027A2 (fr) * | 1988-06-21 | 1989-12-27 | Hewlett-Packard Company | Capteur magnétorésistif à courants opposés pour lecture de milieu à enregistrement perpendiculaire |
US4987509A (en) * | 1989-10-05 | 1991-01-22 | Hewlett-Packard Company | Magnetoresistive head structures for longitudinal and perpendicular transition detection |
EP0660128A1 (fr) * | 1993-12-23 | 1995-06-28 | Thomson-Csf | Détecteur de champ magnétique en couches minces |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DAU VAN F N ET AL: "MAGNETIC SENSORS FOR NANOTESLA DETECTION USING PLANAR HALL EFFECT", SENSORS AND ACTUATORS A, vol. A53, no. 1/03, May 1996 (1996-05-01), pages 256 - 260, XP000620306 * |
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 006, no. 087 (E - 108) 25 May 1982 (1982-05-25) * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200411222A1 (en) * | 2018-03-22 | 2020-12-31 | Robert Bosch Gmbh | Inductive component and high-frequency filter device |
US11817243B2 (en) * | 2018-03-22 | 2023-11-14 | Robert Bosch Gmbh | Inductive component and high-frequency filter device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000514920A (ja) | 2000-11-07 |
WO1998001764A1 (fr) | 1998-01-15 |
FR2750769B1 (fr) | 1998-11-13 |
EP0909391A1 (fr) | 1999-04-21 |
US6191581B1 (en) | 2001-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FR2750769A1 (fr) | Capteur de champ magnetique en couche mince | |
EP1435101B1 (fr) | Dispositif magnetoresistif a vanne de spin a performances ameliorees | |
KR100696960B1 (ko) | 좁은 밴드갭을 갖는 이종 반도체에 있어서의 실온에서의이상 자기저항 | |
WO2011092406A1 (fr) | Magnetometre integre et son procede de fabrication | |
EP0284495B1 (fr) | Tête magnétique de lecture pour piste de très faible largeur et procédé de fabrication | |
EP1031844A2 (fr) | Procédé de fabrication d'un capteur de courant électrique | |
FR2752302A1 (fr) | Capteur de champ magnetique a pont de magnetoresistances | |
FR2729790A1 (fr) | Magnetoresistance geante, procede de fabrication et application a un capteur magnetique | |
EP0616484A1 (fr) | Transducteur magnétorésistif et procédé de réalisation | |
EP0467736B1 (fr) | Tête magnétique de lecture à effet magnéto-résistif | |
WO2004083881A1 (fr) | Capteur magnetoresistif comprenant un element sensible ferromagnetique/antiferromagnetique | |
EP0660128B1 (fr) | Détecteur de champ magnétique en couches minces | |
EP1435006A1 (fr) | Structure pour capteur et capteur de champ magnetique | |
FR2710753A1 (fr) | Capteur de courant comprenant un ruban magnétorésistif et son procédé de réalisation. | |
FR2771511A1 (fr) | Capteur de champ magnetique et procede de fabrication de ce capteur | |
WO2000036429A1 (fr) | Capteur de champ magnetique a magnetoresistance geante | |
FR2817622A1 (fr) | Micromagnetometre a porte de flux | |
EP0781448B1 (fr) | Tete magnetique planaire a magnetoresistance multicouche longitudinale | |
WO2001088562A1 (fr) | Capteur de champ magnetique utilisant la magnetoresistance, et procede de fabrication | |
FR2709600A1 (fr) | Composant et capteur magnétorésistifs à motif géométrique répété. | |
EP0497069B1 (fr) | Procédé de fabrication de capteurs magnéto-résistifs, et dispositif magnétique réalisé suivant un tel procédé | |
EP1419506B1 (fr) | Dispositif de commande de renversement de sens d'aimentation sanschamp magnetique externe | |
EP0779610A2 (fr) | Dispositif d'enregistrement à micropointe recouverte d'une multicouche magnétorésistive | |
EP3143694B1 (fr) | Circuit logique à base de vannes de spin du type à supercourant polarisé en spin et circuit intégrant de telles portes logiques | |
FR2772965A1 (fr) | Senseur de champ magnetique et tete magnetique de lecture utilisant un tel senseur |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
CD | Change of name or company name | ||
ST | Notification of lapse |