FR2566682A1 - Dispositif pour proteger une surface d'un element lenticulaire en general, et d'une tranche de silicium en particulier, pendant que l'autre surface de celui-ci est soumise a un traitement chimique - Google Patents
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Abstract
DISPOSITIF POUR PROTEGER UNE SURFACE D'UN ELEMENT LENTICULAIRE, OU UNE TRANCHE DE SILICIUM, PENDANT QUE L'AUTRE SURFACE DE CELUI-CI EST SOUMISE A UN TRAITEMENT CHIMIQUE. LE DISPOSITIF COMPREND UN ELEMENT EN FORME DE PLATEAU 2 DEFINISSANT UNE SURFACE CIRCULAIRE 3 SENSIBLEMENT CONCAVE POURVUE D'UNE OUVERTURE CENTRALE 4, ET UN CORPS 5 ENGAGEANT LADITE OUVERTURE CENTRALE POUR SORTIR DE CELUI-CI JUSQU'A FAIRE SAILLIE HORS DE LADITE SURFACE CIRCULAIRE. LEDIT CORPS PRESENTE UN CONDUIT TRAVERSANT AXIAL 6 DONT UNE PREMIERE EXTREMITE EST RELIEE AVEC UNE SOURCE DE VIDE TANDIS QUE LA SECONDE EXTREMITE DU CONDUIT, QUI FAIT SAILLIE HORS DE LADITE SURFACE CIRCULAIRE, EST MUNIE DE PLUSIEURS TROUS RADIAUX 7 RELIES AVEC UNE SOURCE D'EAU SOUS PRESSION.
Description
DISPOSITIF POUR PROTEGER UNE SURFACE D'UN ELEMENT LENTICU
LAIRE EN GENERAL, ET D'UNE TRANCHE DE SILICIUM EN PARTICU
LIER, PENDANT QUE L'AUTRE SURFACE DE CELUI-CI EST SOUMISE A
UN TRAITEMENT CHIMIQUE.
LAIRE EN GENERAL, ET D'UNE TRANCHE DE SILICIUM EN PARTICU
LIER, PENDANT QUE L'AUTRE SURFACE DE CELUI-CI EST SOUMISE A
UN TRAITEMENT CHIMIQUE.
La présente invention concerne un dispositif permettant de protéger une surface d'éléments lenticulaires en général, et de tranches de silicium en particulier, pendant que l'autre surface de ceux-ci est soumise à un traitement chimique.
Dans le secteur de l'usinage des tranches de silicium, il est connu de soumettre lesdites tranches à des traitements chimiques de types divers ayant pour but de nettoyer, d'attaquer, ou d'effectuer des dépôts sur l'une des surfaces des tranches.
D'une façon également connue, afin d'empecher l'autre des deux dites surfaces d'être attaquée par des acides utilisés, on la protège en l'enduisant de cire ou la recouvrant d'une mince pellicule plastique.
Ces procédés entraînent, en particulier, l'inconvénient d'exiger, après enlèvement de la cire et/ou de la pellicule, un lavage de la surface préalablement-protégée, ce qui peut être la cause d'une pollution ultérieure de la surface considérée.
Un autre système consiste à utiliser des solutions d'acides très diluées qui viennent s'étaler sur les deux surfaces de l'élément lenticulaire ou tranche à traiter.
Ce procédé limite considérablement le choix des acides à employer, puisqu'elle oblige à ne faire usage que du ou des acides susceptibles de ne pas endommager la surface opposée à celle qui doit être traitée.
La présente invention a pour objet un dispositif pour protéger l'une des surface d'un élément lenticulaire, en particulier d'une tranche de silicium, qui permette d'obvier aux inconvénients évoqués ci-dessus.
D'une manière particulière, le dispositif selon l'invention permet a - d'utiliser un acide ou base forte quelconque ; b - de n'exiger aucune protection de la surface non soumise
à traitement c - d'empêcher des pollutions par des adhésifs, cires et/ou
pellicules de protection ; et d - d'attaquer en séquence des matériaux divers par l'utili
sation de différents processus "attaque+lavage+atta
que", etc., sans limitations.
à traitement c - d'empêcher des pollutions par des adhésifs, cires et/ou
pellicules de protection ; et d - d'attaquer en séquence des matériaux divers par l'utili
sation de différents processus "attaque+lavage+atta
que", etc., sans limitations.
Le but ci-dessus et d'autres objets de l'invention ressortent de la lecture de la description ci-après.
Le dispositif selon l'invention est essentiellement caractérisé en ce qu'il comprend un élément en forme de plateau définissant une surface circulaire sensiblement concave, pourvue d'une ouverture centrale, et un corps engagé dans ladite ouverture centrale jusqu'à sortir de celle-ci pour faire saillie hors de ladite surface circulaire, ledit corps comportant un conduit traversant axial ayant une première extrémité reliée à une source de vide tandis que la seconde extrémité dudit conduit, qui fait saillie hors de ladite surface circulaire, est pourvue de plusieurs trous radiaux reliés à une source d'eau sous pression.
Le dispositif pour la protection d'une surface d'un élément lenticulaire en général et d'une tranche de silicium en particulier, est représenté à titre d'exemple non limitatif dans la figure unique du dessin annexé, qui montre une vue en coupe verticale du dispositif.
En se référant à la figure ci-dessus, on voit le dispositif désigné généralement par 1, qui comprend un élément en forme de plateau 2 définissant une surface circulaire 3 sensiblement concave pourvue d'une ouverture centrale 4, et un corps 5 muni d'un conduit axial 6 ayant une première extrémité 61 reliée à une source de vide (non illustrée), tandis que la seconde extrémité 6" du conduit porte plusieurs trous radiaux 7 reliés, via des conduits 7' aménagés dans le corps 5, à une pompe (non illustrée) puisant dans une source (également non illustrée) d'eau déionisée, ladite pompe opérant avantageusement à une pression de 91.193,5 Pascals.
Placée à l'extrémité supérieure du conduit axial 6, à proximité des trous 7, se trouve une cavité circulaire 8 recevant une garniture 9 de type joint annulaire. La pompe reliée à l'extrémité 6' du conduit 6 est, d'une manière avantageuse, une pompe à eau (principe Venturi) qui est susceptible de créer à l'intérieur dudit conduit axial une dépression appropriée permettant de maintenir une tranche de silicium 10, ou élément lenticulaire équivalent, en place sur la garniture 9.
L'isolement entre les solutions chimiques utilisées (arrivant sur la surface supérieure de la tranche de silicium 10 selon les flèches F) et la surface inférieure de ladite tranche, est fonction du ménisque Il qui est formé périphériquement entre le bord de la tranche 10 et le bord de l'élément en plateau 2, comme résultat du voile d'eau projeté par les trous 7 sur la surface circulaire 3.
Le réglage de la quantité et vitesse de l'eau -eau dé ionisée dans le cas considéré- permet de déterminer les types de solutions pouvant être employées sur ladite surface supérieure pour n'importe quel traitement de celle-ci.
Le dispositif selon l'invention peut être utilisé, entre autres applications, pour attaquer la -partie arrière de tranches de silicium -avant leur métallisation, attaquer chimiquement du silicium pour en enlever des jonctions ou des zones endommagées, récupérer des tranches métallisées d'une manière incorrecte, et pour laver une surface polluée sans pollution de la surface qui n'est pas destinée à recevoir le traitement.
Claims (4)
1. Dispositif pour la protection d'une surface d'un élément lenticulaire en général, et d'une tranche de silicium en particulier, pendant que l'autre surface de celui-ci est soumise à un traitement chimique, caractérisé en ce qu'il comprend un élément en forme de plateau (2) définissant une surface circulaire (3) sensiblement concave pourvue d'une ouverture centrale (4), et un corps (5) engagé dans ladite ouverture centrale pour sortir de celle-ci de façon à faire saillie hors de ladite surface circulaire, ledit corps (5) étant muni d'un conduit traversant axial (6) qui a une première extrémité reliée à une source de vide, tandis que la seconde extrémité du conduit, qui fait saillie hors de ladite surface circulaire (3), est munie de plusieurs trous radiaux (7) reliés à une source d'eau sous pression.
2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite seconde extrémité présente une cavité (8) recevant une garniture (9).
3. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite source de vide est avantageusement constituée par une pompe à eau.
4. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite source d'eau est une source d'eau déionisée.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT8421623A IT1213183B (it) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | Dispositivo per la protezione di una superficie, durante il trattamento chimico dell'opposta superficie, di elementi lenticolari in genere e di fette di silicio in particolare. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2566682A1 true FR2566682A1 (fr) | 1986-01-03 |
FR2566682B1 FR2566682B1 (fr) | 1989-12-15 |
Family
ID=11184466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR858509365A Expired FR2566682B1 (fr) | 1984-06-27 | 1985-06-20 | Dispositif pour proteger une surface d'un element lenticulaire en general, et d'une tranche de silicium en particulier, pendant que l'autre surface de celui-ci est soumise a un traitement chimique |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3522465A1 (fr) |
FR (1) | FR2566682B1 (fr) |
IT (1) | IT1213183B (fr) |
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