FR2485571A1 - Procede de formation de monocristaux - Google Patents
Procede de formation de monocristaux Download PDFInfo
- Publication number
- FR2485571A1 FR2485571A1 FR8112521A FR8112521A FR2485571A1 FR 2485571 A1 FR2485571 A1 FR 2485571A1 FR 8112521 A FR8112521 A FR 8112521A FR 8112521 A FR8112521 A FR 8112521A FR 2485571 A1 FR2485571 A1 FR 2485571A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- crystal
- crystals
- faces
- growth
- deposited
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B7/00—Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/18—Quartz
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/22—Nonparticulate element embedded or inlaid in substrate and visible
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
L'INVENTION CONCERNE L'OBTENTION, PAR SURCROISSANCE, DE GROS MONOCRISTAUX D'UNE SUBSTANCE TELLE QUE LE QUARTZ. ON FIXE ENSEMBLE DES SURFACES DE DEUX CRISTAUX, AVEC ALIGNEMENT DES AXES DE CES CRISTAUX, ET L'ON PROVOQUE SUR LES CRISTAUX AINSI JOINTS LE DEPOT DE LA SUBSTANCE, CE QUI ENTRAINE LA CROISSANCE DES CRISTAUX EN UN MONOCRISTAL ENTOURANT (QUASI-) TOTALEMENT LES REGIONS DE RECOUVREMENT 2 DE CES SURFACES. ON PEUT DECOUPER UN CRISTAL RESULTANT POUR OBTENIR DE GROS MONOCRISTAUX 3 NE CONTENANT PAS DE REGIONS DE LIAISON.
Description
La présente invention concerne des procédés pour faire croître de gros
monocristaux de substances dont il est difficile d'obtenir.des germes cristallins de dimensions convenables. L'invention concerne particulièrement, mais non exclusivement, la production de cristaux de quartz. Il existe, pour certaines applications de filtrage, une demande pour une fourniture de grandes longueurs (par
exemple 30 cm) de quartz monocristallin. Des cristaux natu-
rels de bonne qualité et ayant la longueur requise convenant
pour servir de germes pour l'obtention de cristaux synthé-
tiques sont rares et onéreux. En outre, puisque le quartz
présente la propriété qu'une surcroissance sur un germe cris-
tallin esttoujours plus courte que le germe, les longueurs de cristaux de quartz produites par synthèse à l'aide des
techniques existantes ont été limitées.
Selon la présente invention, un procédé pour former un cristal d'une substance comprend les étapes consistant à fixer une face d'un premier germe cristallin à la face d'un second germe cristallin, les axes des deux cristaux étant alignésv et à déposer cette substance sur les cristaux joints en les obligeant ainsi à croître pour former un monocristal emprisonnant quasi-totalement ou totalement les régions ou
zones de superposition de ces faces des cristaux.
On peut faire croître par ce procédé de gros mono-
cristaux de substances. Un cristal résultant peut être sec-
tionné pour donner de gros monocristaux ne contenant pas
une région de liaison.
Le procédé peut être modifié de façon à permettre à de multiples germes cristallinsconvenablement alignés de
se lier ensemble et de croître pour former un monocristal.
La matière de liaison comprend de préférence un métal présentant la propriété que deux couches de ce métal,
dont chacune est déposée sur une surface d'un cristal res-
pectif peuvent se fondre ensemble par le chauffage des cou-
ches pendant qu'elles sont pressées ensemble.
Le métal utilisé pour-lier des germes cristallins
est de préférence l'or.
L'invention se comprendra mieux à l'examen de la
description détaillée suivante d'un exemple nullement limitatif
de mise en oeuvre de l'invention, en regard du dessin annexé sur lequel: la figure 1 montre deux germes cristallins de quartz liés ou collés ensemble et destinés à servir à faire croître un cristal selon l'invention, et la figure.2 montre les cristaux représentés sur la
figure 1 après leur croissance pour la formation d'un mono-
cristal.
En se référant à la figure 1, on voit que deux ger-
mes- cristallins,1 de quartz sont liés ou collés ensemble de la façon suivante. La partie de chaque cristal qui est à lier à l'autre est revêtue, jusqu'à une épaisseur de 200 Angstrâms, d'un alliage de nickelchrome par dépôt en phase vapeur de ce dernier sur cette partie. Le revêtement en alliage de nickel-chrome constitue un soubassement ferme pour une couche
d'or 2 qui est déposée par évaporation, jusqu'à une profon-
deur de 2000 Angstr ms, sur la couche de nickel-chrome et est soumise ensuite à un dépôt électrolytique jusqu'à une épaisseur de 10 à 15 microns. Les deux cristaux 1 sont
serrés ensemble, avec le pressage ensemble des régions pla-
quées à l'or, sous une pression de 0,689 MPa avec alignement des axes des cristaux. L'ensemble est placé dans un four et chauffé durant deux heures jusqu'à 3000C. Les couches d'or
fondent ensemble à cette température en liant les cristaux.
Une surcroissance subséquente des cristaux, ainsi joints avec chevauchement par recouvrement, dans un autoclave dans une solution 3 molaire d'hydroxyde de sodium saturée en SiO2, comme on en utilise pour faire croître des cristaux de quartz à
l'aide des techniques existantes, à une température de 300OC-
4000C (de préférence 3500C, avec un gradient de température de 500C) et à une pression comprise entre 98 et 196 MPa (de préférence environ 98 MPa) durant six semaines, produit un gros monocristal de quartz comme celui représenté sur la figure 2. Un tel cristal présente une plus grande longueur globale qu'un cristal dont la croissance a été obtenue à partir d'un seul germe. On peut découper sur un tel cristal, par exemple comme représenté en 3, des plaques de contact en quartz présentant de façon correspondante une plus grande longueur. En variante, un cristal produit par un procédé selon l'invention peut être découpé de façon à conserver
dans ce cristal la couche métallique 2 de liaison. Les cris-
taux de quartz, contenant une bande métallique quasi-totale-
ment emprisonnée ou enfouie avec laquelle on peut réaliser un contact électrique, ont des applications comme résonateurs. L'invention englobe dans son cadre les cristaux dont
la croissance a été réalisée par un procédé selon cette in-
vention.
Il va de soi que, sans sortir du cadre de l'inven-
tion, de nombreuses modifications peuvent être apportées au procédé d'obtention de gros monocristaux et aux monocristaux
obtenus, décrits et représentés.
Claims (12)
1. Procédé pour former un cristal d'une substance, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à fixer une face d'un premier germe cristallin à la face-d'un second germe cristallin, avec alignement des axes des deux cristaux, et à déposer cette substance sur les cristaux joints, de manière à provoquer la croissance de ces cristaux en un monocristal emprisonnant totalement ou quasi-totalement les
régions de superposition de ces faces de cristaux.
2.Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ces faces sont directement fixées l'une à l'autre par
une matière de liaison.
3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la matière de liaison comprend un métal ou un
alliage.
4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'on effectue la liaison des cristaux en déposant une couche de-ce métal ou de cet alliage sur une région d'une surface de chaque cristal, en pressant ensemble les deux couches ainsi déposées et en les chauffant pour les faire
fondre et former une liaison entre elles.
5. Procédé selon l'une des revendications 3 et 4,
caractérisé en ce que le métal ou l'alliage est déposé
sur ces faces par dépôt d'une vapeur.
6. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'une couche d'or est déposée sur une couche d'un
alliage de nickel-chrome initialement déposé sur ces faces.
7. Procédé selon l'une quelconque des revendica-
tions précédentes, caractérisé en ce que ces faces se chevau-
chent par recouvrement.
8. Procédé selon l'une quelconque des revendications
précédentes, caractérisé en ce que de multiples germes cris-
tallins sont fixés par leurs faces l'un à l'autre.
9. Cristal caractérisé en ce que sa croissance a été réalisée par la mise en oeuvre d'un procédé selon l'une
quelconque des revendications 1 à 8.
10. Cristal de quartz caractérisé en ce que sa croissance a été réalisée par la mise en oeuvre d'un procédé
selon l'une quelconque des revendications 1 à 8.
11. Cristal de quartz caractérisé en ce que sa croissance a été réalisée par la mise en oeuvre d'un procédé
selon l'une quelconque des revendications 1 à 8 à une tempé-
rature de 3000C à 4000C et à une pression comprise entre 98
et 196 MPa.
12. Cristal de quartz contenant une bande métal-
lique partiellement enfouie, caractérisé en ce que sa crois-
sance a été réalisée par un procédé selon l'une quelconque
des revendications 3 à 6.
S
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8021023 | 1980-06-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2485571A1 true FR2485571A1 (fr) | 1981-12-31 |
Family
ID=10514357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR8112521A Withdrawn FR2485571A1 (fr) | 1980-06-26 | 1981-06-25 | Procede de formation de monocristaux |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4381214A (fr) |
JP (1) | JPS5727994A (fr) |
DE (1) | DE3124925A1 (fr) |
FR (1) | FR2485571A1 (fr) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4578146A (en) * | 1983-04-28 | 1986-03-25 | Allied Corporation | Process for growing a large single crystal from multiple seed crystals |
JPS62204000U (fr) * | 1986-06-17 | 1987-12-26 | ||
DE102007038851A1 (de) | 2007-08-16 | 2009-02-19 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von monokristallinen Metall- oder Halbmetallkörpern |
JP6083474B2 (ja) * | 2013-08-29 | 2017-02-22 | 株式会社村田製作所 | 人工水晶の育成方法 |
WO2020068200A2 (fr) * | 2018-06-20 | 2020-04-02 | University Of Houston System | Conductivité thermique élevée inhabituelle dans des cristaux massifs d'arséniure de bore |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB640982A (en) * | 1943-06-17 | 1950-08-02 | Brush Dev Co | Improvements in or relating to methods of and means for growing crystals |
US2914389A (en) * | 1955-05-27 | 1959-11-24 | Clevite Corp | Method for growing quartz |
US2931712A (en) * | 1955-05-27 | 1960-04-05 | Clevite Corp | Method of growing synthetic quartz |
US3576608A (en) * | 1967-10-16 | 1971-04-27 | Aiken Ind Inc | Hydrothermal synthesis of quartz utilizing x-cut seed plate elongated on the crystallographic z axis |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL82014C (fr) * | 1949-11-30 | |||
NL190331A (fr) * | 1954-08-26 | 1900-01-01 | ||
US2996456A (en) * | 1958-09-08 | 1961-08-15 | Transitron Electronic Corp | Method of growing silicon carbide crystals |
GB894241A (en) * | 1959-07-01 | 1962-04-18 | Westinghouse Electric Corp | Improvements in or relating to the production of crystals |
US3615933A (en) * | 1969-05-22 | 1971-10-26 | Siemens Ag | Method of producing a germanium transistor |
US4121965A (en) * | 1976-07-16 | 1978-10-24 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics & Space Administration | Method of controlling defect orientation in silicon crystal ribbon growth |
-
1981
- 1981-06-12 US US06/273,263 patent/US4381214A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-06-19 JP JP9515281A patent/JPS5727994A/ja active Pending
- 1981-06-25 DE DE19813124925 patent/DE3124925A1/de not_active Withdrawn
- 1981-06-25 FR FR8112521A patent/FR2485571A1/fr not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB640982A (en) * | 1943-06-17 | 1950-08-02 | Brush Dev Co | Improvements in or relating to methods of and means for growing crystals |
US2914389A (en) * | 1955-05-27 | 1959-11-24 | Clevite Corp | Method for growing quartz |
US2931712A (en) * | 1955-05-27 | 1960-04-05 | Clevite Corp | Method of growing synthetic quartz |
US3576608A (en) * | 1967-10-16 | 1971-04-27 | Aiken Ind Inc | Hydrothermal synthesis of quartz utilizing x-cut seed plate elongated on the crystallographic z axis |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4381214A (en) | 1983-04-26 |
DE3124925A1 (de) | 1982-04-29 |
JPS5727994A (en) | 1982-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002511831A (ja) | エピタキシャル蒸着により自立形基板を形成する熱的不整合の補償 | |
FR2485571A1 (fr) | Procede de formation de monocristaux | |
FR2925897A1 (fr) | Procede de fabrication de pieces avec insert en materiau composite a matrice metallique | |
FR2884967A1 (fr) | TRANCHE sSOI A COUCHE DE SILICIUM TENDUE | |
FR3005967A1 (fr) | Procede de fabrication d'un lingot de silicium dote de joints de grains symetriques | |
EP0236238B1 (fr) | Procédé amélioré de purification de métaux par cristallisation fractionnée | |
TW201037766A (en) | A method of manufacturing III-V group nitride thick film and the structure thereof | |
FR2595344A1 (fr) | Procede de preparation de cristaux de berlinite a haut coefficient de surtension | |
FR2724487A1 (fr) | Structure composite avec une couche semi-conductrice disposee sur une couche de diamant et/ou une couche semblable a du diamant et procede pour sa fabrication | |
FR2500854A1 (fr) | Procede de fabrication de plaques semi-conductrices | |
FR2505227A1 (fr) | Procede de jonction de tubes par soudage a explosion avec une enclume desagregeante | |
FR2500768A1 (fr) | Creuset demontable, procede de fabrication, et cellules solaires au silicium ainsi obtenues | |
GB2079175A (en) | Growing crystals | |
EP0515288B1 (fr) | Procédé de croissance cristalline hydrothermale à partir de germes obtenus par assemblage de lames | |
EP0036360B1 (fr) | Procédé de croissance d'un mono-cristal dans une enceinte tubulaire fermée | |
EP1618226A1 (fr) | Procede de croissance de nanotubes de carbone | |
EP2319072A1 (fr) | Procede de preparation d'une couche mince auto-supportee de silicium cristallise | |
EP0234984B1 (fr) | Procédé de préparation d'un lingot cristallin de Hg1-xo Cdxo Te | |
Manghi et al. | Hydrogen uranyl arsenate hydrate single crystals: H2 (UO2) 2 (AsO4) 2· 8H2O; gel growth and characterization | |
JPS61159124A (ja) | 温度センサの製造方法 | |
FR2840730A1 (fr) | Procede de fabrication d'un substrat comportant une couche utile en materiau semi-conducteur monocristallin de proprietes ameliorees | |
KR100438819B1 (ko) | 질화갈륨 단결정 기판의 제조방법 | |
EP0209629B1 (fr) | Procédé de préparation d'une zone de solvant pour la réalisation de composés semi-conducteurs | |
FR2612205A1 (fr) | Procede pour assurer la croissance de monocristaux d'halogenures de mercure monovalent | |
FR2520936A1 (fr) | Procede de fabrication collective de transducteurs piezoelectriques, transducteurs obtenus par ce procede et utilisation d'un tel procede |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ST | Notification of lapse |