FR1201787A - Procédé de fabrication de matériaux très purs utilisables dans les dispositifs semiconducteurs - Google Patents

Procédé de fabrication de matériaux très purs utilisables dans les dispositifs semiconducteurs

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    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/04—Hydrides of silicon
    • C01B33/046—Purification

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