FI84980C - Förfarande och anordning för avlägsnande av ämnen från gas som flödar under lågt tryck - Google Patents

Claims (22)

1. Förfarande för avlägsnande av ämnen ur frängas som flödar under lägt tryck och som härstammar t.ex. frän processer som benämns Atomic Layer Epitaxy, Chemical Vapour Deposition eller plasmaetsning, kännetecknat av att - gasen leds frän processen tili en reaktionskammare (2) där man bildar partiklar av föroreningarna och läter partiklarna växa tili i storlek, - gasflödet med partiklarna leds genom ett mekaniskt filter (3), varvid föroreningspartiklarna fastnar pä ytan av det mekaniska filtret där deras partikel-storlek ytterligare fär växa och - ytan pä det mekaniska filtret (3) rengörs för att förhindra att filtret blir tilltäppt.

2. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att partiklarna bildas och deras storlek ökas genom att leda in rengöringsreagenser i reaktionskammaren (2).

3. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att säsom rengöringsreagens används ett ämne som reagerar kemiskt med orenheter i gasflödet.

4. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att vid bildningen av partiklarna används ett elfält.

5. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att vid bildningen av partiklarna används ett magnetfält.

6. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att ytan pä det mekaniska filtret (3) rengörs genom skavning.

7. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att ytan pä det mekaniska filtret (3) rengörs genom omskak-ning av filtret. ie 84980

8. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att ytan av det mekaniska filtret rengörs genom att pressa ihop filtret (3) och därefter dra ut det tili normalstorlek.

9. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att efter den mekaniska filtreringen avlägsnas i en konden-seringsanordning (14) ur gasflödet rengöringsreagensen och övriga ämnen som kan kondenseras.

10. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att ytan ρέ filtret rengörs cykliskt genom att tryckskill-naden över filtret mäts och rengöringen inleds när tryck-skillnaden vuxit sig tillräckligt stor.

12. Anordning för avlägsnande av ämnen ur frängaser, som flödar under lägt tryck och som härstammar frän t.ex. de processer som benämns Atomic Layer Epitaxy, Chemical Vapour Deposition eller plasmaetsning, kännetecknad av - en reaktionskammare (2), som gasen kan ledas in i för bildning av partiklar bestäende av orenheter samt för ökning av deras storlek, - ett mekaniskt filter (3), som gasflödet med par-tiklarna kan ledas igenom för uppsamling av partik-larna ρέ ytan av filtret (3), och - en i förhällande tili filtret förskjutbar anordning (4) för avlägsnande av partiklar som anhopats ρέ ytan av det mekaniska filtret (3) för att för-hindra att filtret skulle bli igentäppt.

13. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av en i reaktionskammaren (2) anordnad kanal (6) för tillförsel av rengöringskemikalie tili kammaren (2).

14. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att filtrets (3) rengöringsanordning (4) omfattar en skavare li 17 84980 och ett funktionsorgan (18) för rotation av det mekaniska filtret (18).

15. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att filtrets (3) rengöringsanordning (4) utgörs av en vibra-tionsanordning för vibrering av filtret (3) eller dess yta.

16. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att att filtrets (3) rengöringsanordning (4) omfattar ät-minstone en drivanordning, t.ex. en pneumatisk cylinder, för ästadkommande av en lineär rörelse för att pressa ihop filtret (3) respektive dra ut det till full storlek igen.

17. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att filtrets (3) mekaniska rengöringsanordning (3) omfattar en i närheten av filtrets yta placerad axel (9), vars peri-feri uppvisar skavarringar (10) som trycker mot ytan av filtret, samt en drivanordning (18) för rotering av filtret mot ringarna (10) och axeln (9).

18. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av en kondensationsanordning (14) som gasflödet som skall filt-reras kan ledas in i för avlägsnandet av vätskeformiga ämnen och fukt innan gasflödet leds tili en vacuumpump.

19. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av en tryckmätningsorgan för mätning av tryckskillnaden över det mekaniska filtret (3).

20. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att det mekaniska filtret (3) utgörs av en ihälig cylinder.

21. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att den vägg som gär genom filtret (3) omfattar en styv, perforerad filterstomme (11), ett elastiskt medium (12) an-ordnat pä ytan av stommen (11) samt ett egentligt filter-materialskikt (13) anordnat pä ytan av denna.

22. Anordning enligt krav 21, kännetecknad av att flltermaterialskiktet (13) utgörs av ett tyg framställt av ett plastmaterial.