FI84980C - Foerfarande och anordning foer avlaegsnande av aemnen fraon gas som floedar under laogt tryck. - Google Patents

Description

84980

Menetelmä ja sovitelma aineiden poistamiseksi alhaisessa paineessa virtaavasta kaasusta Tämän keksinnön kohteena on patenttivaatimuksen 1 johdannon mukainen menetelmä aineiden poistamiseksi alhaisessa paineessa virtaavasta kaasusta.

Keksinnön kohteena on myös menetelmän soveltamiseen tarkoitettu sovitelma.

Tämän keksinnön kohteena oleva menetelmä ja sen soveltamiseen tarkoitettu sovitelma soveltuvat käytettäviksi Atomic Layer Epitaxy (ALE), Chemical Vapour Deposition (CVD) tai plasmaetsaus -menetelmien sekä muiden vastaavien menetelmien yhteydessä. Erityisen hyvin tämä menetelmä sopii ALE-menetelmän yhteyteen. Siinä kasvatetaan erittäin ohuita kalvoja tyhjökammioon sijoitettujen substraattien (lasilevyjen) pinnalle. Kammioon imetään 1 mbar:n tyhjö tyhjöpumpulla ja kammio lämmitetään n. 500eC:n lämpötilaan. Sitten kammioon johdetaan halutun molekyyli- tai atomikerroksen muodostavia aineita, kuten sinkkikloridia ja vetysulfidia. Eri aineiden ..... syöttämisen välillä kammio huuhdellaan typellä, jotta eri kerrostusaineet eivät sekoittuisi keskenään.

Kammioon on syötettävä aina hieman enemmän reagoivia aineita kuin tarvitaan kalvon muodostamiseksi substraatin pintaan, jotta kalvo peittäisi varmasti koko substraatin pinnan. Ylimääräiset aineet joutuvat kammion imukanavan kautta tyhjöpumppuun ja muodostavat imuputkistossa jäähtyessään erittäin pieniä partikkeleita. Reaktiokammiosta poistuvan ylimääräisen aineen määrä on tyypillisesti n. 100 g päivässä. Pumppuun joutuvat yhdisteet kuluttavat pumppua nopeasti. Niinpä ylimääräiset aineet olisi puhdistettava tyhjöpumpulle menevästä virtauksesta, ennen kuin ne pääsevät pumppuun.

Tällaisen, tyhjössä toimivaksi tarkoitetun suodattimen suunnittelussa on otettava huomioon seuraavat seikat. Suodattimen aiheuttaman painehäviön on oltava mahdollisimman pieni, ja koska kaasun tilavuusvirtaus on alhaisessa paineessa suu- 2 84980 ri (n. tuhatkertainen ilmanpaineeseen nähden ALE-prosessis-sa), niin perinteisten paperiin, huopaan tms. perustuvien suodattimien koko tulee suureksi tai joudutaan käyttämään suodatinaineita, joiden läpäisykyky on hyvä, jolloin niiden erotuskyky on vastaavasti suuren huokoskoon johdosta huono. Tyhjön vuoksi suodattimessa on vaikeaa käyttää suuren höy-rynpaineen omaavia aineita rakennemateriaaleina tai apuaineina. Tämän vuoksi perinteiset vesipesurit ja vastaavat ovat käytännössä hyvin vaikeita toteuttaa näissä olosuhteissa.

Seuraavassa esitellään muutamia tunnettuja suodatinratkai-su j a.

Syklonierotin perustuu laitteen mekaanisten mittojen ja kaa-suvirtauksen välisillä suhteilla aikaansaatuun pyörteiseen virtaukseen, josta partikkelit erotetaan "keskipakovoiman" avulla. Tällaisella suodatimella on alhainen erotusaste läpimitaltaan alle submicron (< 1 ym), olevilla partikkeleilla näiden alhaisen massan takia. Koska laitteen toiminta perustuu määrätynlaiseen virtaukseen, prosessin virtauksia muutettaessa olisi myös laitteen mekaanisia mittoja muutettava. Lisäksi tällaiselle mitoitukselle tyhjötapauksessa ei ole saatavissa selkeitä mitoitusohjeitä. Laitteiston mitoituksessa on tärkeää tietää partikkeleiden kokojakautuma, mikä on tässä tapauksessa käytännössä erittäin hankalasti määritettävissä. Mitoitusta vaikeuttaa lisäksi se, että kun tyhjöä pumpataan kammioon, virtausmäärissä on useiden deka-dien suuruisia muutoksia, jolloin suodatin ei ole mitoitetulla toiminta-alueella. Syklonierottimen edut ovat laitteen aiheuttama pieni painehäviö ja yksinkertainen rakenne.

Kylmäloukut ja kondensorit kondensoivat ainetta kaasuvir-tauksesta kylmään pintaan. Niitä käytetään usein veden poistoon kaasuvirtauksesta. Mikäli kondensoitunut aine ei pysy nesteenä, vaan muuttuu kiinteäksi aineeksi, kuten ALE-prosessissa tapahtuisi, niin pinta täyttyy nopeasti tai pinnan koon olisi oltava kohtuuttoman suuri. Kylmäloukut eivät i, 3 84980 estä partikkeleiden ajautumista tartuntapinnalta takaisin kaasuvirtaukseen.

Perinteiset paperiin, huopaan tms. perustuvat suodattimet tukkeutuvat helposti suurella partikkelikuormituksella. Tukkeutumista voidaan vähentää riittävällä suodattimen mitoituksella, jolloin tyhjötekniikassa on käytettävä suuria suo-datinpintoja. Tällöin suodattimen koko tulee kohtuuttoman suureksi. Vaihtoehtoisesti voidaan suodattimen läpäisykykyä nostaa, mutta samalla sen suodatuskyky tietenkin heikkenee, eikä se pysty pysäyttämään ALE-prosessissa esiintyviä erittäin pieniä partikkeleita. Lisäksi suodatin kuristaa kaasuvirtausta merkittävästi.

Jälkireaktiokammioissa puhdistettavaan virtaukseen johdetaan puhdistettavan aineen kanssa reagoivia aineita. Näitä laitteita käytetään muuttamaan erittäin hengenvaarallisia yhdisteitä vähemmän aggressiivisiksi esim. puolijohdeteolli-suudessa prosessien poistolinjoissa ennen tyhjöpumppuja. Ne eivät suodata virtauksesta partikkeleita, mutta aineita kylläkin.

Tämän keksinnön tarkoituksena on saada aikaan menetelmä, jonka avulla alhaisessa paineessa virtaavasta kaasusta voidaan tehokkaasti puhdistaa erilaisia aineita.

Keksintö perustuu siihen, että suodatettavan aineen partikkelikokoa kasvatetaan jälkireaktiokammion avulla, minkä jälkeen virtaus johdetaan mekaanisen suodattimen läpi. Partikkeleiden koko kasvaa edelleen mekaanisen suodattimen pinnalla. Suodattimen tukkeutumisen estämiseksi sen pintaa puhdistetaan mekaanisesti.

Täsmällisemmin sanottuna keksinnön mukaiselle menetelmälle on tunnusomaista se, mitä on esitetty patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa.

Keksinnön mukaiselle sovitelmalle on puolestaan tunnusomaista se, mitä on esitetty patenttivaatimuksen 13 tunnusmerkki-osassa .

4 84980

Keksinnön avulla saavutetaan huomattavia etuja.

Tämän menetelmän ja sovitelman avulla voidaan muuttaa tyhjössä virtaavan kaasun koostumusta niin, että kaasuvirtauk-sen sisältämät tyhjöpumpuille vahingolliset kemialliset yhdisteet saadaan poistetuksi laitteen sisältämän suodattimen avulla. Ratkaisulla päästään pieneen kokoon, pitkään käyttöikään ja suureen suodatuskapasiteettiin.

Koska suodatettavien aineiden partikkelikokoa kasvatetaan reaktiokammiossa ennen suodattamista, suodatinmateriaali voi olla huokoisempaa. Huokoisen materiaalin virtausvastus on pieni, jolloin suodatin ei lisää liikaa tyhjöpumpun tehontarvetta. Vaikka käytetäänkin huokoista materiaalia suodattimena, suodattimen läpäisseessä virtauksessa on erittäin vähän hiukkasmaisia epäpuhtauksia ja pienetkin partikkelit saadaan sidotuksi kokoamalla ne suuremmiksi ennen mekaanista suodattamista. Suodattimen mekaanisen puhdistamisen takia voidaan käyttää pienempää suodatinta. Tavallisesti suodatin on mitoitettava siten, että sen virtausvastus ei kasva liikaa suodatettavien partikkeleiden tarttuessa materiaalin pintaan ja huokosiin. Kun suodatinmateriaali puhdistetaan käytön aikana, saavutetaan pienelläkin suodattimena pitkä käyttöikä. Tämän keksinnön mukainen suodatin on rakenteeltaan erittäin yksinkertainen ja suodatinmateriaaleina voidaan käyttää halpoja, yleisesti saatavia materiaaleja. Siten suodattimen valmistus- ja käyttökustannukset ovat pienet.

Keksintöä tarkastellaan seuraavassa lähemmin oheisten piirustusten avulla.

Kuvio 1 esittää osittain kaaviollisesti yhtä tämän keksinnön suoritusmuotoa.

Kuvio 2 esittää osittain leikkauksena kuvion 1 yksityiskohtaa.

Kuvio 3 on lohkokaavio toisesta tämän keksinnön suoritusmuodosta.

5 84980

Suodatin koostuu kahdesta lieriömäisestä kammiosta 1 ja 2. Kammion l keskellä on akselille 7 asennettu mekaaninen suodatin 3. Akseli 7 on sovitettu suodatinkammion 1 keskiakse-lille, ja sen yläpää muodostaa mekaanisen suodattimen 3 sisältä lähtevän kanavan 8, joka johtaa suodatinkammion 1 ulkopuolelle ja edelleen tyhjöpumppuun. Akselin yläpäähän on kytketty toimilaite 18. Suodatin 3 on lieriön muotoinen ja sen sivulle on sovitettu kaavin 4, joka akselin 7 suuntaisesti koskettaa suodattimen 3 pintaa. Virtausssuunnassa suo-datinkammiota 1 edeltävä kammio 2 on jälkireaktiokammio ja se on kiinnitetty suodatinkammion 1 sivuun. Jälkirektiokam-mion 2 tulopäädyssä on suodatettavan kaasun tuloyhde 5 ja sen yläsivulla on puhdistusreagenssin syöttöyhde 6.

Kuviossa 2 on esitetty mekaaninen suodatin 3 halkileikattu-na sekä suodatinta 3 painava kaavin 4. Mekaanisen suodattimen 3 runko li on lieriön muotoon taivutettu rei'itetty metallilevy. Rungon 11 päälle on kiinnitetty huokoinen polyes-teriharso 12. Joustavan ja paksun harson 12 päällä on kulutusta kestävä suodatinkangas 13. Suodattimen 3 pintaa painava kaavin 4 koostuu akselista 9 ja sitä ympäröivistä kaavin-renkaista 10.

Suodatin toimii seuraavasti. Prosessista tuleva epäpuhtauksia sisältävä kaasu tulee tuloyhteen 5 kautta reaktiokammi-oon 2. Kaasun lämpötila sen tullessa reaktiokammioon on noin 50 - 200°C. ALE-prosessista tuleva kaasuseos voi sisältää esimerkiksi sinkkikloridia tai vetysulfidia. Nämä aineet ovat ALE-prosessissa kaasumaisessa tilassa prosessissa vallitsevan alhaisen paineen ja korkean lämpötilan takia. Sink-kikloridi muuttuu kiinteäksi, kun se jäähtyy prosessikammi-osta poistuessaan. Kiinteän sinkkikloridin partikkelikoko ALE-prosessista tulevassa virtauksessa on erittäin pieni. Partikkelikoon kasvattamiseksi prosessista reaktiokammioon 2 tulevaan kaasuvirtaukseen suihkutetaan syöttöyhteen 6 kautta puhdistusreagenssia, esimerkiksi vettä. Sinkkikloridi reagoi veden, kanssa ja reaktiotuloksina muodostuu kiinteää sinkkioksidia ja kaasumaista vetykloridia. Partikkeleiden muodostumista tehostaa veden jäähdyttävä vaikutus.

6 84980

Reaktiokammiosta 2 sinkkioksidipartikkeleita sisältävä kaasu siirtyy suodatinkammioon 1. Tyhjöpumpun aiheuttama alipaine imee kaasuseoksen mekaanisen suodattimen 3 läpi, jolloin sinkkioksidipartikkelit jäävät suodattimen 3 pinnan muodostavan suodatinkankaan 13 pintaan. Koska sinkkioksidi on kerääntynyt melko suuriksi partikkeleiksi, nämä tarttuvat helposti suodattimen 3 pintaan ja suodatinkangas 13 voi olla harva. Suodatinkankaaseen 13 kiinnittyy myös vesimolekyyle-jä, jotka reagoivat niiden sinkkikloridimolekyylien kanssa, jotka eivät ole reagoineet veden kanssa reaktiokammiossa 2. Suodatinkangas 13 on valittu niin tiiviiksi, että suodatettavat partikkelit pysähtyvät mekaanisesti sen kuitujen pysäyttäminä. Kankaaseen 13 pysähtyneet partikkelit liittyvät edelleen toisiinsa ja muodostavat suodattimen 3 pintaan hauraan kalvon. Suodatinkankaan 13 materiaalin on oltava sellaista, että suodatettavat partikkelit tai niistä muodostuva kalvo eivät takerru mekaanisesti materiaalin lankoihin tai kuituihin, eivätkä kiinnity siihen kemiallisesti.

Suodatinkankaan 13 pintaa tarttuvat oksidipartikkelit ja niistä muodostuva kalvo tukkivat käytön aikana suodatinta 3 ja nostavat siten sen virtausvastusta, virtausvastuksen pitämiseksi alhaisena suodatinkangasta 13 puhdistetaan määrätyin väliajoin mekaanisesti. Suodatinkankaan 13 pintaan kasvaa sinkkioksidikerros, joka koostuu suodatettavista partikkeleista, esim. vesisyötön tapauksessa reaktiotuotteista. Kangas tukkeutuu käytön aikana ja ennen kuin tukkeutuminen on prosessille haitallista, eli mekaanisen suodattimen 3 virtausvastus on kasvanut liian suureeksi, jätteet poistetaan kankaan pinnasta.

Esitetyssä ratkaisussa mekaaninen suodatin 3 puhdistetaan siten, että suodattimen ulkopinnan muodostavan kankaan 13 pintaa rullataan kasaan niin, että pinnassa olevat jätteet putoavat pois. Rullaus tehdään pyörittämällä suodatinta 3 toimilaitteella 18 kaavinta 4 vasten. Suodatinta 3 pyöritettäessä kaapimen 4 akselille 9 sovitetut kaavinren-kaat 10 painavat suodatinkangasta 13 mekaanisen suodattimen 7 84980 3 rungon muodostavaa metallilevyä 11 vasten. Tällöin kankaan 13 alla oleva paksu polyesteriharso 12 antaa mekaaniselle suodattimelle 3 rullauksen vaatiman elastisuuden rullauksen aikana. Koska suodatinkangas 13 ja harso 12 joustavat kaa-vinrenkaiden 10 painamina, suodatinkankaaseen 13 muodostuu kaapimen 4 eteen aalto. Kankaan 13 pintaan tarttuneiden par-tikkeleiden muodostama kalvo murtuu ja kalvosta lohkeavat palaset irtoavat kankaasta 13 aallon vaatiman muodonmuutoksen ja liikkeen vaikutuksesta jo ennen kuin kangas 13 kulkeutuu kaavinrenkaiden 10 alle. Kaavinrenkaiden 10 on oltava sellaisia, että ne murtavat koko suodatinkankaan 13 pintaa, esim. siten että renkaassa 10 on pintaa murtavia kohoumia kohtisuoraan suodattimen 4 pyörimissuuntaa vasten. On tärkeää. että kaavin 4 todella rullaa mekaanisen suodattimen 3 pintaa, eikä laahaa sitä, koska laahatessaan kaavin 4 painaisi suodatettavat partikkelit suodatinmateriaalin 12, 13 sisään, jolloin suodatin 3 tukkeutuisi nopeasti. Samasta syystä suodatinmateriaalin on oltava sellaista, että kalvo ei pääse tarttumaan kiinni sen materiaaliin. Tyypillisesti sopivia materiaaleja ovat erilaiset muovimateriaalit, koska niiden adheesio muihin aineisiin on pieni. Tällöin suodatettava aine ei tartu suodatinkankaan 13 kuituihin ja irtoaa helposti suodatinta puhdistettaessa. Tässä esimerkkiratkai-sussa sopiva suodatinkangas 13 on Suomen Silkkikutomo Oy:n materiaali ACA 463.

Aika perättäisten puhdistusrullausten välillä kannattaa valita mahdollisimman pitkäksi. Tällöin kankaan (13) pintaan ehtii muodostua paksu partikkelikerros, josta jäte irtoaa isoina palasina.

Edellä kuvatun esimerkin lisäksi tällä keksinnöllä on useita muitakin suoritusmuotoja.

Veden sijasta voidaan puhdistusreagenssina tietenkin käyttää mitä tahansa muuta kemiallista ainetta, joka reagoi sopivalla tavalla suodatettavan aineen kanssa. Veden tai muun puh-distusreagenssin oikea syöttömäärä on tärkeää laitteiston 8 84980 toiminnan kannalta. Syöttömäärän määrää tyhjöpumpun poisto-kaasun paineesta ja lämpötilasta johtuva kastepiste. Rea-genssia voidaan syöttää ainoastaan sen verran, että tyhjö-pumpussa ei synny tiivistymisvaaraa. Syötettävän reagenssin määrä saattaa siten jäädä pieneksi. Syötettävän reagenssin määrä on helpointa määrittää kokeellisesti.

Partikkelit luodaan reaktiokammiossa 2 siihen tulevasta kaa-suvirrasta, tai kaasuvirran sisältämien partikkeleiden kokoa kasvatetaan niin suureksi reaktiokammiossa ja suodattimen 3 pinnassa, että ne tarttuvat harvan suodatinkankaan 13, joka ei kurista kaasuvirtausta merkittävästi, pintaan. Tämä saadaan aikaan useilla eri tavoilla. Sopiva partikkelien kasvatustapa on valittava puhdistettavan aineen ja pro-sessiolosuhteiden mukaan. Kaasuvirtaa voidaan jäähdyttää, jolloin siinä olevat yhdisteet tiivistyvät partikkeleiksi. Suuren höyrynpaineen omaavat kaasut voidaan muuttaa reagenssin avulla yhdisteiksi, joiden höyrynpaine on niin alhainen, että ne muuttuvat partikkeleiksi kammiossa vallitsevissa olosuhteissa (esim. ZnO), tai joiden höyrynpaine on niin korkea, että ne menevät pumppujen läpi kaasuna (esim. HCl). Tämä tapahtuu syöttämällä kaasuvirtaukseen kulloinkin kyseessä oleville kaasuille sopivia kemikaaleja ja luomalla kemialliselle reaktiolle otolliset olosuhteet. Partikkeleiden muodostamisessa voidaan käyttää edellä mainittujen mene-telytapojen lisäksi tai ohella lämpötilan muutoksia, tai sähkö- tai magneettikenttää.

Käytettävän puhdistusreagenssin määrää voidaan lisätä kuvion 3 mukaisen ratkaisun avulla. Siinä edellä kuvatun kaltaisen suodattimen tyhjöpumpulle johtavaan putkeen 8 on liitetty kaupallinen kondensointilaite 14. Pumpulle menevä kaasu kulkee kondensointilaitteen 14 kautta, jossa siitä tiivistämällä poistetaan reagenssia. Tiivistetty reagenssi johdetaan venttiilin 15 ja putkilinjan 16 kautta höyrystimeen 17 ja sieltä edelleen reaktiokammioon 2. Reagenssi-kierto 6, 14, 15, 16, 17 voidaan mitoittaa vaihtoehtoisesti siten, että reagenssi kiertää kierrossa jatkuvasti, jolloin venttiiliä 15 ei tarvita.

9 84980

Vesi tai muu reagenssi voidaan syöttää kaasuvirtauksen sekaan mm. seuraavilla tavoilla:

Reagenssi syötetään suoraan puhdistettavan kaasun tuloputken 5 kyljestä, jolloin ongelmaksi saattaa muodostua se, että reaktiotuotteiden ollessa veteen liukenemattomia, syöttöput-ki 6 kasvaa umpeen. Tarvittessa voidaan käyttää suuttimia, jolloin vesi saadaan sekoittumaan paremmin kaasun kanssa, tosin diffuusio on reaktiokammiossa 2 olevassa tyhjiössä nopeaa ja siten erilliset suuttimet ovat usein tarpeettomia. Syöttötavan valinnan kannalta on ratkaisevaa käytetyn reak-tiokammion 2 mekaanisten mittojen ja vesimolekyylien vapaan matkan välinen suhde, josta arvioimalla voidaan päätellä suuttimien tarve. Veden syöttökohta on myös merkitsevä, koska reaktiotuotteet kasvavat tuloputken 6 tai reaktiokammion 2 seinämille ja saattavat kasvattaa putken 5 umpeen. Käytännössä reaktiokammion 2 koko ja veden syöttökohta on määriteltävä kokeellisesti eri prosesseja varten.

Mekaanisen suodattimen 3 pinta voidaan puhdistaa edellä kuvatun esimerkin lisäksi muillakin tavoilla. Suodatinta 3 tai suodatinkangasta 13 voidaan täryttää sopivasti valitulla taajuudella, tai suodattimen runko 11 voidaan valmistaa joustavasta materiaalista, jolloin suodatinta 3 voidaan puristaa kasaan sen akselin 7 suunnassa sopivalla toimilaitteella, esimerkiksi kaksitoimisella paineilmasylinterillä, jolloin suodatin 3 vedetään nopeasti takaisin normaaliin pituuteensa sylinterin paluuiskun aikana. Tällöin suodattimen 3 pintaan takertuneet epäpuhtaudet irtoavat suodatinkankaas-ta 13. Kaavin 4 voi olla rengasmainen, jolloin sitä kuljetetaan suodattimen 3 ympärillä tämän akselin suunnassa. Puhdistaminen voi olla jatkuvaa tai jaksottaista. Jaksottaista puhdistustoimintaa voidaan ohjata aikakytkimellä tai mittaamalla paine-ero suodattimen yli, jolloin suodattimen 3 pinta puhdistetaan aina paine-eron kasvettua liian suureksi.

Mekaanisen suodattimen 4 edullisin muoto on lieriö, koska tällöin sen pinta-ala saadaan helposti riittävän suureksi.

10 84 980

Suodattimen muoto ei kuitenkaan ole kriittinen laitteen toiminnan kannalta, niinpä suodatin voi olla halutun muotoinen, esimerkiksi tasomainen.

li

Claims (22)

1. Menetelmä aineiden poistamiseksi alhaisessa paineessa virtaavista, esimerkiksi Atomic Layer Epitaxy-, Chemical Vapour Deposition tai plasmaetsausprosesseista poistettavista kaasuista, tunnettu siitä, että - kaasu johdetaan prosessista reaktiokammioon (2), jossa epäpuhtauksista muodostetaan partikkeleita ja partikkeleiden kokoa kasvatetaan, - kaasuvirta johdetaan partikkeleineen mekaanisen suodattimen (3) läpi, jolloin epäpuhtauspartikkelit tarttuvat mekaanisen suodattimen (3) pintaan,jossa niiden partikkelikoko edelleen kasvaa, ja - mekaanisen suodattimen (3) pintaa puhdistetaan mekaanisesti suodattimen (3) tukkeutumisen estämiseksi .

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että partikkelit muodostetaan ja niiden kokoa kasvatetaan johtamalla reaktiokammioon (2) puhdistusreagens-sia.

3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että puhdistusreagenssina käytetään ainetta, joka reagoi kemiallisesti kaasuvirrassa olevien epäpuhtauksien kanssa.

4. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että partikkeleiden muodostamisessa käytetään sähkökenttää.

5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että partikkeleiden muodostamisessa käytetään magneettikenttää. 12 84 980

6. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että mekaanisen suodattimen (3) pintaa puhdistetaan kaapimalla.

7. Patenttivaatimuksen l mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että mekaanisen suodattimen (3) pintaa puhdistetaan täristämällä suodatinta (3).

8. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että mekaanisen suodattimen pintaa puhdistetaan siten, että suodatinta (3) puristetaan kasaan ja vedetään sen jälkeen normaalikokoonsa.

9. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että kaasuvirrasta poistetaan mekaanisen suodatuksen jälkeen kondensointilaitteessa (14) puhdistusreagens-si ja muut nesteeksi tiivistyvät aineet.

10. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että suodattimen (3) pintaa puhdistetaan kohdistamalla sen pintaan kuormitus, jolloin pinta (13) painuu notkolle, ja siirtämällä tätä kuormaa suodattimen pintaa pitkin.

11. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä suodattimen pintaa puhdistetaan jaksottaisesti siten, että paine-ero suodattimen yli mitataan ja puhdistus aloitetaan, kun paine-ero on kasvanut riittävän suureksi.

11 84980

12. Sovitelma aineiden poistamiseksi alhaisessa paineessa virtaavista, esimerkiksi Atomic Layer Epitaxy-, Chemical Vapour Deposition tai plasmaetsausprosesseista poistettavista kaasuista, tunnettu - reaktiokammiosta (2), johon kaasu on johdettavissa epäpuhtauksista koostuvien partikkeleiden muodostamiseksi ja niiden koon kasvattamiseksi, li is 84980 - mekaaniosesta suodattimesta (3), jonka läpi kaasu-virta partikkeleineen on johdettavissa partikkelei-den keräämiseksi suodattimen (3) pintaan, ja - suodattlmeen nähden suhteellisesti liikuteltavasta sovitelmasta (4), jolla mekaanisen suodattimen (3) pinnasta voidaan poistaa siihen kerääntyneitä partikkeleita suodattimen (3) tukkeutumisen estämiseksi .

13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu reaktiokammioon (2) sovitetusta kanavasta (6), jonka kautta kammioon (2) voidaan johtaa puhdistusreagenssia.

14. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu siitä, että suodattimen (3) puhdistussovitelma (4) käsittää kaapimen ja toimilaitteen (18), jolla mekaanista suodatinta (18) voidaan pyörittää.

15. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu siitä, että suodattimen (3) puhdistussovitelma (4) on tärytin, jolla suodatinta (3) tai sen pintaa voidaan täristää.

16. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu siitä, että suodattimen (3) puhdistussovitelma (4) käsittää ainakin yhden toimilaitteen, jolla saadaan aikaan lineaariliike, esimerkiksi paineilmasylinterin, jolla suodatinta (3) voidaan puristaa kasaan ja vetää edelleen takaisin täyteen kokoonsa.

17. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu siitä, että suodattimen (3) puhdistussovitelma käsittää mekaanisen suodattimen (3) pinnan lähelle sovitetun akselin (9), jonka kehälle on sovitettu kaavinrenkaita (10), jotka painavat suodattimen pintaa, sekä toimilaitteen (18), jolla suodatinta voidaan pyörittää renkaita (10) ja akselia (9) vasten. i4 84980

18. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu kondensointilaitteesta (14), johon suodatettava kaasuvirta voidaan johtaa nestemäisten aineiden ja kosteuden poistamiseksi ennen kaasuvirran johtamista tyhjöpumppuun.

19. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu paineenmittauselimistä, joilla voidaan mitata paine-ero mekaanisen suodatimen (3) yli.

20. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu siitä, että mekaaninen suodatin (3) on ontto sylinteri .

21. Patenttivaatimuksen 12 mukainen sovitelma, tunnettu siitä että suodattimen (3) läpäisevä seinämä käsittää jäykän, rei'itetyn suodatinrungon (11), rungon (11) pinnalle sovitetun joustavan välimateriaalin (12) ja tämän pinnalle sovitun varsinaisen suodatinmateriaalikerrok-sen (13).

22. Patenttivaatimuksen 21 mukainen sovitelma, tunnettu siitä, että suodatinmateriaalikerros (13) on muovimateriaalista valmistettua kangasta. li 15 34980