FI80218B - Foerfarande och anlaeggning foer rening av en tvaokomponentvaetskeblandning medelst destillering. - Google Patents

Description

! 80218

MENETELMÄ JA LAITTEISTO KAKSIKOMPONENTTISEN NESTESEOKSEN PUHDISTAMISEKSI TISLAAMALLA

Esillä olevan keksinnön kohteena on menetelmä 5 kaksikomponenttisen nesteseoksen puhdistamiseksi epäpuhtauksista tislaamalla, jossa menetelmässä puhdistettava nesteseos syötetään monipohjäiseen puhdistuskolonniin, pohjatilan ja huipun välille, kolonniin syötetään nesteseoksen toista komponenttia laimennusnesteenä, kolon-10 nin huipusta poistetaan haihtuvia epäpuhtauksia sisältävä tisle ja kolonnin pohjasta poistetaan puhdistunut kaksikomponenttinen nesteseos.

Edelleen keksinnön kohteena on tislauslaitteis-to kaksikomponenttisen nesteseoksen puhdistamiseksi 15 epäpuhtauksista tislaamalla, johon laitteistoon kuuluu monipohjainen puhdistuskolonni; syöttölaitteet puhdistettavan seoksen syöttämiseksi ylimmän pohjan alapuolelle; syöttölaitteet nesteseoksen toisen komponentin johtamiseksi puhdistuskolonniin laimennusnesteenä; 20 huipun poisto, varustettu mahdollisella palautuksella tislehöyryjen poistamiseksi kolonnin huipusta; ja pohjan poisto, varustettu mahdollisesti palautuksella, poh-jatuotteen poistamiseksi kolonnin pohjasta.

Erityisesti keksintö kohdistuu menetelmään ja 25 laitteistoon kaksilomponenttisen nesteseoksen puhdis tamiseksi tislaamalla, joka kaksikomponenttinen nesteseos sisältää ylemmässä lämpötilassa kiehuvan yhdisteen ja alemmassa lämpötilassa kiehuvan toisen yhdisteen. Nesteparin yhdisteet voivat olla mitä tahansa 30 nestemäisiä, tislaamalla puhdistettavia nestepareja.

Erityisesti keksintö kohdistuu menetelmään ja vastaavaan laitteistoon vesi-etanoliseoksen puhdistamiseksi juotavaksi tarkoitettavan alkoholin valmistuksen yhteydessä.

Valmistettaessa juotavaa alkoholia käyneestä 35 mäskistä alkoholi erotetaan tavallisesti tislaamalla käyttäen mäskikolonnia, jonka huipusta poistetaan raaka-alkoholi ja pohjatilasta alkoholiköyhä rankki. Riippuen 2 80218 käytetystä tislausjär jestelmästä voidaan mäskikolonnista poistettava raaka-alkoholi, jonka väkevyys on tyypillisesti 30 - 50 p-%, johtaa suoraan höyrynä tai nesteenä lauhdutuksen jälkeen puhdistus- eli hydroselektiokolon-5 niin tai väkevöidä raakaspriiksi, jonka väkevyys on tyypillisesti 88 - 94 p-%, ennen hydroselektiokolonniin johtamista.

Puhdistuskolonnissa raaka-alkoholi tai -sprii laimennetaan vedellä ja suoritetaan ekstraktiivinen 10 tislausvaihe. Tämä ekstraktiivinen tislaus poistaa raaka-alkoholista tehokkaasti epäpuhtauksia, jotka ovat ei-toivottuja kirkkaassa, neutraalin hajuisessa ja makuisessa alkoholissa, kuten vodkassa.

Ei-toivottuja epäpuhtauksia ovat tyypillisesti 15 sikuna-alkoholit, aldehydit, esterit ja muut pieninä pitoisuuksina raa'assa alkoholissa esiintyvät orgaaniset yhdisteet. Epäpuhtauksien haihtuvuus etanoliin nähden nousee vesi-etanoliseoksen etanolipitoisuuden laskiessa. Jotta tarpeellinen etanolipitoisuuden lasku saavutet-20 täisiin puhdistuskolonnissa, siihen syötetään vettä laimentamaan raaka-alkoholia tai -spriitä tislausvai-heessa. Vesilaimennuksen ansiosta ei-toivottujen yhdisteiden suhteellinen haihtuvuus nousee voimakkaasti aiheuttaen niiden rikastumisen kolonnin huippuun, josta 25 ne voidaan poistaa nk. esitisleenä. Puhdistuskolonnin pohjatilasta poistettava puhdistunut, laimentunut alko-holiliuos johdetaan tislausjärjestelmään kuuluvaan väkevöintikolonniin uudelleen väkevöitäväksi. Väkevöin-tikolonnin yläosasta saadaan väkevöity alkoholi ja 30 pohjatilasta alkoholiköyhä vesi, nk. lankkivesi, jota voidaan käyttää uudelleen puhdistuskolonnin laimennus-vetenä. Puhdistuskolonnin pohjan kautta etanoli-vesi-seoksen mukana kulkeutuneet loput epäpuhtaudet rikastuvat osaksi väkevöintikolonnin huippuun ja osaksi 35 väkevöintikolonnin nk. sikunavyöhykkeelle, joista ne voidaan poistaa. Väkevöintikolonnin sikunavyöhyke sijaitsee alueella, jossa kolonnin pohjilla kiehuvan 3 80218 etanoli-vesiseoksen etanolipitoisuus on n. 10-70 p-%.

Väkevöintikolonnista saatavan väkevän alkoholi tisleen laadun nostamiseen käytetään tarvittaessa vielä ns. metanolikolonnia, jonka pohjatilasta saadaan 5 puhdas alkoholi ja huipusta epäpuhtauksia, kuten meta-nolia, sisältävä fraktio.

Teollisesti raa'an alkoholin ekstratiivinen tislaus voidaan suorittaa periaatteessa kahdella tavalla, kun tarkastellaan laimennusveden syöttötapaa puhdis-10 tuskolonniin. Ensimmäisen tavan mukaan raaka-alkoholi ja tarvittava laimennusvesi syötetään yhdessä useita pohjia kolonnin huipun alapuolelle samalle tislauspoh-jalle. Kolonnin pohjatilasta poistetaan puhdistunut etanoli-vesiseos, jonka väkevyys on tyypillisesti 8-15 20 p-%. Puhdistuskolonnin huipusta poistetaan ei-toivo- tut yhdisteet tislehöyrynä. Koska kolonnin syöttöpohja tai -pohjat ovat ylimmän pohjan alapuolella, osa kolonnin huipusta poistettavasta etanolipitoisesta höyrystä palautetaan lauhdutuksen jälkeen takaisin kolonnin 20 ylimmälle pohjalle, jotta kolonnin ylin osa toimisi. Palautuksen johdosta puhdistuskolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn etanolipitoisuus nousee tyypillisesti yli arvon 80 p-%.

Toisessa puhdistuskolonnin toimintatavassa 25 raaka-alkoholi syötetään kolonnin ylimmän pohjan alapuolelle ja laimennusvesi kolonnin ylimmälle pohjalle. Kolonnin pohjatilasta poistetaan puhdistunut etanoli-vesiseos, jonka väkevyys on tyypillisesti 8-20 p-%. Puhdistuskolonnin huipusta ei-toivotut yhdisteet pois-30 tetaan tislehöyrynä, jonka väkevyys etanolin suhteen on tyypillisesti alle 30 p-%. Tässä toimintatavassa puhdistuskolonnin huipusta poistettavaa etanolipitoista höyryä ei tarvitse johtaa lauhdutuksen jälkeen takaisin kolonnin ylimmälle pohjalle, koska kolonnin ylimmälle poh-35 jalle syötettävä laimennusvesi toimii kolonnin yläosan palautusvirtana ja aiheuttaa samalla sen, että kolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn etanolipitoisuus on 4 80218 alhainen.

Molemmissa puhdistuskolonnin toimintatavoissa kolonnia kiehutetaan höyryllä johtamalla se joko suoraan kolonnin pohjatilaan tai epäsuorasti höyryllä lämmön-5 siirtimen välityksellä. Molemmissa toimintatavoissa puhdistuskolonnin ulkoisen energian tarve on tyypillisesti 1-3 MJ/1 kg puhdistettua etanolia (100%).

Keksinnön tarkoituksena on on tuoda esiin menetelmä ja laitteisto puhdistustislauksen suorittami-10 seksi siten, että tislauksessa tarvittavan energian tarve on olennaisesti alhaisempi kuin aiemmin tunnetuissa menetelmissä ja laitteistoissa.

Keksinnön mukaan puhdistuskolonnin energiantarve on ratkaistu uudella ja yllättävällä tavalla. 15 Keksinnön mukaisella järjestelyllä voidaan puhdistus- kolonnin huipusta saatavan höyryn lämpösisältöä käyttää suoraan saman kolonnin pohjatilan kiehutukseen. Puhdistuskolonnin huipusta saatavaa höyryä ei keksinnön mukaan tarvitse mekaanisesti tai muilla keinoin puristaa kokoon 20 sen lämpötilan nostamiseksi.

Kaksikomponenttisen nesteseoksen kyseessä ollessa puhdistettavaa seosta tai toista komponenttia, esim. matalammassa lämpötilassa kiehuvaa komponenttia johdetaan puhdistuskolonniin useita pohjia kolonnin 25 ylimmän pohjan alapuolelle. To λ.; ta komponenttia, es .on.

korkeammassa lämpötilassa kiehuvaa laimennusnestettä johdetaan puhdistuskolonniin matalammassa lämpötilassa kiehuvan komponentin syöttökohdan yläpuolelle ja/tai kolonnin ylimmälle pohjalle. Laimennusnesteen syöttö ja 30 kolonnin toimintaolosuhteet säädetään jäljempänä kuva tulla tavalla niin, että kolonnin huipun lämpötila on kolonnin pohjan lämpötilaa korkeampi. Tällöin kolonnin huipusta saatavaa höyryä voidaan käyttää kolonnin pohjatilan kiehutukseen.

35 Keksinnön mukaiseen laitteistoon kuuluu lait teet laimennusnesteen syöttämiseksi ylimmälle pohjalle sen alapuolelle tai sekä ylimmälle pohjalle että sen 5 80218 alapuolelle. Edelleen laitteistoon kuuluu laitteet puhdistettavan nesteseoksen syöttämiseksi laimennusnesteen syöttökohdan alapuolelle. Uutta keksinnön mukaisessa laitteistossa on laitteet kolonnin huipusta saa-5 tavan tislehöyryn lämpösisällön johtamiseksi osin kolonnin pohjatilaan, esim. lämmönvaihtimen avulla, joka on kytketty kiehuttamaan kolonnin pohjatilaa.

Käytännössä huomattiin, että juotavan alkoholin puhdistustislausjärjestelmään kuuluvan puhdistus-10 kolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn lämpötila on korkeampi kuin pohjan kiehumispiste. Kun asiaa tutkittiin lähemmin, havaittiin, että puhdistuskolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn ja pohjalla kiehuvan nesteen lämpötilat vaihtelivat suuresti riippuen kolon-15 nin toimintaolosuhteista. Ensimmäisessä puhdistuskolon nin toimintatavassa pohjan kiehumislämpötila oli aina selvästi korkeampi kuin kolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn lämpötila, koska pohjan etanolipitoisuus on alhaisempi ja paine korkeampi kuin huipusta poistettavan 20 tislehöyryn. Toisessa puhdistuskolonnin toimintatavassa laimennusveden määrällä, raaka-alkoholin syöttöpisteen sijainnilla kolonnissa ja kolonnin kiehutuksen voimakkuudella voidaan vaikuttaa voimakkaasti kolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn lämpötilaan ja pienemmässä 25 määrin kolonnin pohjan kiehumispisteeseen. Kun laimen-nusvesi syötetään kolonnin ylimmälle pohjalle, se aiheuttaa kolonnin yläosan pohjilla kiehuvan nesteen etanolipitoisuuden laskun, mistä on seurauksena huipusta poistettavan tislehöyryn lämpötilan nousu. Jos laimen-30 nusveden määrä on riittävän suuri, kolonnin huipusta poistettavan tislehöyryn lämpötila nousee korkeammaksi kuin kolonnin pohjatilassa kiehuvan nesteen kiehumis-lämpötila. Tämä lämpötilaero on sitä suurempi, mitä pienempi puhdistuskolonnin painehäviö eli pohjan ja 35 huipun paine-ero on.

Tyypillisesti puhdistuskolonnissa käytetään 25 - 50 kappaletta kello-, seula- tai venttiilipohjia, 6 80218 joilla kolonnin painehäviö on tislaustilanteessa tyypillisesti 75 - 250 mbar. Käytettäessä pienipainehäviöisiä pakattuja kolonnitäytteitä kolonnin paine-ero voidaan pitää alle 50 mbar.

5 Säätämällä puhdistuskolonnin tislausolosuh- teet sellaisiksi, että puhdistuskolonnista poistettavan tislehöyryn lämpötila on korkeampi kuin pohjan kiehumispiste, tislehöyryn sisältämä energia on mahdollista siirtää lämmönsiirtimen välityksellä kiehuttamaan saman 10 kolonnin pöhjatilaa ilman tislehöyryn mekaanista tai muilla keinoin tapahtuvaa puristusta korkeampaa paineeseen ja lämpötilaan.

Keksinnön mukaisessa menetelmässä puhdistus-kolonnin huipusta poistuva tislehöyry johdetaan olen-15 naisesti sellaisenaan ja suoraan huipusta saman kolonnin pohjatilaan kytketyn lämmönsiirtimen toisiopuolelle siten, että tislehöyry lauhtuu osittain tai kokonaan ko. siirtimessä luovuttaen lauhtumisenergiansa kolonnin kiehutukseen.

20 Keksinnön mukaisella järjestelyllä puhdistus- kolonnin ulkoisen energian tarvetta voidaan vähentää oleellisesti.

Keksinnön mukaista laitteistoratkaisua voidaan käyttää myös muilla tavoin kuin käymisteitse valmistetun 25 raaka-alkoholin tai epäpuhtaan spriin, kuten synteettistä tietä valmistetun spriin, puhdistustislaukseen.

Käytettäessä keksinnön mukaista menetelmää alkoholin puhdistukseen, puhdistettavan alkoholin väkevyys on esim. 20 - 90 p-%. Tyypillisesti puhdistettava 30 alkoholi on mäskikolonnista poistuvaa raaka-alkoholia, väkevyys 30-50 p-%. Toisessa tyypillisessä tapauksessa puhdistettava alkoholi on raaka-alkoholia, jonka väkevyys on esim. 88 - 94 p-%.

Keksinnön mukainen menetelmä ja tislauslait-35 teisto soveltuu myös muiden nesteparien kuin vesi-eta-noliseoksen puhdistukseen. Kyseeseen tulevat tällöin esim. veden ja muiden alkoholien muodostamat nesteparit,

II

7 80218 veden ja muiden orgaanisten nesteiden muodostamat nes-teparit ja/tai yleensä orgaanisten nesteiden muodostamat nesteparit.

Keksintöä selostetaan seuraavassa yksityiskoh-5 taisesti suoritusmerkkien avulla viitaten oheiseen piirustukseen, jossa kuva 1 esittää erästä teollisuusmittakaavaista, tekniikan tason mukaista laitteistoa juoksukaaviona, ja kuva 2 esittää erästä keksinnön mukaista mene-10 telmää ja laitteistoa juoksukaaviona.

Esimerkki 1:

Eräässä alkoholitehtaassa käytettiin kuvan 1 mukaista puhdistuskolonnia. Kolonni oli 42-pohjainen 15 kellopohjakolonni.

Raaka-alkoholia, kuten mäskikolonnista saatua tislettä, syötettiin syöttölinjaa 2 pitkin puhdistusko-lonnin 1 keskivaiheille. Raaka-alkoholisyöttö voi olla esilämmitetty jossakin tislausjärjestelmään kuuluvassa 20 muussa lämmonvaihtimessa.

Riittävästi, mieluiten lähellä kolonnin huipun lämpötilaa olevaa laimennusvettä, esim. tislausjärjes-telrnään kuuluvan väkevöintikolonnin pohjatilasta saatavaa pohjatuotetta syötetään puhdistuskolonnin ylimmälle 25 poijalle syöttölinjaa 1- pitkin.

Laimea, tyypillisesti 8-20 p-% etanolia sisältävä puhdistunut alkoholiliuos johdettiin puhdistuskolonnin pohjatilasta 6 poistolinjaa 7 pitkin edelleen käsiteltäväksi muualle tislausjärjestelmässä.

30 Puhdistuskolonnin huipusta 5 poistuva etanoli- pitoinen höyry johdetaan linjaa 4 lauhdutettavaksi lämmönvaihtimeen 12. Lauhtunut höyry, ns. tisle poistettiin lämmönvaihtimesta linjaa 10 pitkin ja johdettiin edelleen käsiteltäväksi muualle tislausjärjestelmässä.

35 Lisäksi laitteistoon kuului kolonnin pohjati- laan kytketty lämmönvaihdin 8. Lämmönvaihtimen ensiö-puolelle johdettiin primäärihöyryä linjaa 10 pitkin.

8 80218

Lauhtunut höyry, ns. primäärilauhde poistettiin lämmön-vaihtimesta poistolinjaa 11 pitkin ja johdettiin edelleen käsiteltäväksi muualle tislausjärjestelmässä. Primäärihöyryn lauhtumisessa vapautunut lämpöenergia 5 siirtyi lämmönvaihtimen toisiopuolelle ja siitä edelleen linjaa 9 pitkin puhdistuskolonnin pohjatilaan saaden aikaiseksi sen, että puhdistuskolonnin pohjatilassa oleva neste kiehui.

Alkoholitehtaassa mitattiin kuvan 1 mukaiselle 10 puhdistuskolonnille taulukossa 1 esitetty aine- ja energiatase.

Ainetaseesta havaittiin, että puhdistuskolonnin huipusta poistuvan etanolipitoisen höyryn (virtaus 4) lämpötila oli käytännön tislaustilanteessa korkeapi 15 kuin saman kolonnin pohjatilan (virtaus 7) kiehumispiste, ja etanolipistoista höyryä voidaan käyttää kiehuttamaan saman kolonnin pohjatilaa lämmönvaihtimen välityksellä.

20 9 80218

Taulukko 1: Aine- ja energiatase virtaus sisään ulos ent.

EtOH tot. EtOH tot. +/- 5 kg/h kg/h kg/h kg/h MJ/h 2. Raaka-alkoholi- 1556 2961 + 589 syöttö

1288 mbar, 60°C

10 3. Laimennusvesi- 0 11000 + 4795 syöttö

1204 mbar, 104°C

4. Tislehöyry, 29 1098 -2909

15 1204 mbar, 105°C

7. Pohjatuote, 1527 12863 -5102

1364 mbar, 99,1°C

20 10. höyry 0 1193 +3228

2 bar, 120°C

11. primäärilauhde 0 1193 -601

2 bar, 120°C

25 _ sarakesumma 1556 15154 1556 15154 0 lyhenteet:

EtOH = etanolin massavirtaus 30 tot. = kokonaisina ssavir taus ent. = virtauksen entalpia; neste lämpötilassa 0°C entalpialaskennan vertailutaso + = entalpiavirtapksen suunta ulkoa taserajan sisä puolelle 35 - = entalpiavirtauksen suunta taserajan sisäpuolelta ulos 10 80218

Esimerkki 2.

Taulukossa 1 esitetystä aine- ja energiataseesta voidaan laskea esimerkissä 1 lämmönvaihtimeen 8 syötetty lämpöteho seuraavasti: 5 + 32238 MJ/h - 601 MJ/h 2627 MJ/h (virtaus 10) (virtaus 11) 10 Laskennallisesti voidaan osoittaa, että esimer kin 1 tislehöyryvirtaus 4 lauhtuu paineessa 1204 mbar seuraavasti: 1098 kg/h -----> 1098 kg/h + 2427 MJ/h 15 tislehöyry lauhde lauhtumislämpö

1204 mbar, 105°C 1204 mbar, 101,9°C

Koska tislehöyryvirtaus 4 sisältää 2,64 p-% etanolia, lämpötila laskee kokonaislauhdutuksessa läm-20 potilasta 105 °C lämpötilaan 101.9 °C. Koska kokonais-lauhtumisen lauhtumislämpötila on korkeampi kuin puhdis-tuskolonnin pohjatilan lämpötila esimerkissä 1, voidaan tislehöyry ohjata puhdistuskolonnin pöhjatilaa kiehuttavaan lämmönvaihtimeen kuvassa 2 esitetyllä tavalla ja 23 siirtää lauhtumislämpö kokonaisuudessaan kiehuttamaan puhdistuskolonnin pohjatilaa.

Kolonnin lämpötasapainon ylläpitämiseksi pitää kolonniin lisäksi syöttää primäärikiehutusenergiaa kuvassa 2 esitetyllä tavalla, lämmönvaihdin 8b, seuraavs 30 määrä: 2627 MJ/h -2427 MJ/h =200 MJ/h kiehutusteho höyryvirtauk- sen (4) lauhtu- 35 mislämpö

Esimerkki 2 osoittaa, että keksinnön mukaisella 11 8021 8 ulkoisen kiehutusenergian tarvetta pienentää arvosta 2627 MJ/h arvoon 200 MJ/h.

Suoritusesimerkit on tarkoitettu ainoastaan havainnollistamaan keksintöä, ja keksinnön sovellutukset 5 voivat vaihdella oheisten patenttivaatimusten puitteissa.

Claims (10)

12 8021 8

1. Menetelmä kaksikomponenttisen nesteseoksen puhdistamiseksi epäpuhtauksista tislaamalla, jossa 5 menetelmässä puhdistettava nesteseos syötetään puhdis- tuskolonniin pohjatilan ja huipun välille, kolonniin syötetään nesteseoksen toista komponenttia laimennusnes-• teenä, kolonnin huipusta poistetaan haihtuvia epäpuhtauksia sisältävä tisle ja kolonnin pohjasta poistetaan 10 puhdistunut kaksikomponenttinen nesteseos, tunnet- t u siitä, että kolonnin huipusta poistettavan tisleen lämpösisältö johdetaan ainakin osittain kolonnin poh-jatilaan, esim. johtamalla tisle lämmönvaihtimeen, joka on järjestetty lämmittämään pohjatilaa.

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kolonnin huipusta poistettavan tisleen lämpötila on korkeampi kuin kolonnin pohjan lämpötila.

3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen mene- 20 telmä, tunnettu siitä, että kaksikomponent tisen nesteseoksen toista komponenttia johdetaan kolonniin laimennusnesteenä puhdistettavan nesteseoksen syöttökohdan yläpuolelle.

4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen 25 menetelmä, tunnettu siitä, että kaksikomponent tisen nesteseoksen toista komponenttia johdetaan kolonniin laimennusnesteenä kolonnin ylimmälle pohjalle.

5. Jonkin patenttivaatimuksen 1 - 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että puhdistettava 30 nesteseos on etanoli-vesiseos.

6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että etanoli-vesiseos sisältää 20 - 95 p-% etanolia.

7. Patenttivaatimuksien 3 ja 4 mukainen mene- 35 telmä, tunnettu siitä, että kolonnin huipusta poistuvan höyryn pitoisuus on alle 30 p-% etanolia.

8. Tislauslaitteisto kaksikomponenttisen nes- li 13 8021 8 teseoksen puhdistamiseksi epäpuhtauksista tislaamalla, johon laitteistoon kuuluu monipohjäinen puhdistuskolonni (1); syöttölaitteet (2), puhdistettavan seoksen syöttämiseksi ylimmän pohjan alapuolelle; syöttölaitteet (3) 5 nesteseoksen toisen komponentin johtamiseksi puhdistus- kolonniin laimennusnesteenä; huipun poisto (4), tisle-höyryjen poistamiseksi kolonnin huipusta (5) ; pohjan (6) • poisto (7), pöhjatuotteen poistamiseksi kolonnin pohjasta; tunnettu siitä, että laitteistoon kuuluu 10 lämmönvaihdin (8), että huipun poisto, so. tislehöyryt johdetaan kolonnin huipusta (5) lämmönvaihtimeen (8), joka on järjestetty johtamaan tislehöyryjen lämpösisältö ainakin osin kolonnin (1) pohjatilaan.

9. Patenttivaatimuksen 8 mukainen menetelmä, 15 tunnettu siitä, että laimennusnesteen syöttö laite (3) on järjestetty syöttämään laimennusnestettä kolonnin ylimmälle pohjalle ja nesteseoksen syöttölaitteet (2) on järjestetty syöttämään nesteseos kolonnin ylimmän pohjan alapuolelle.

10. Patenttivaatimuksen 8 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että laitteistoon kuuluu lämmönvaihdin (8b), jonka avulla puhdistuskolonnin (1) pohjalle syötetään kolonnin käynnistykseen tarvittava lämpöteho ja se lämpöteho, joka tarvitaan kolonnin käyn-25 nin aikana pitämään kolonnin energiatasapainoa yllä. !4 80218