FI63783B - Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning - Google Patents

Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning Download PDF

Info

Publication number
FI63783B
FI63783B FI813032A FI813032A FI63783B FI 63783 B FI63783 B FI 63783B FI 813032 A FI813032 A FI 813032A FI 813032 A FI813032 A FI 813032A FI 63783 B FI63783 B FI 63783B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
glow discharge
nitrering
laogt
glimurladdning
tryck
Prior art date
Application number
FI813032A
Other languages
English (en)
Other versions
FI63783C (fi
Inventor
Antti Samuli Korhonen
Eero Heikki Sirvio
Martti Seppo Sulonen
Heikki Antero Sundquist
Original Assignee
Kymin Oy Kymmene Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kymin Oy Kymmene Ab filed Critical Kymin Oy Kymmene Ab
Priority to FI813032A priority Critical patent/FI63783C/fi
Priority to FR8215855A priority patent/FR2513660B1/fr
Priority to US06/420,944 priority patent/US4460415A/en
Priority to DE3235670A priority patent/DE3235670C2/de
Priority to SU823494861A priority patent/SU1373326A3/ru
Priority to JP57168714A priority patent/JPS5867862A/ja
Priority to GB08227835A priority patent/GB2109419B/en
Priority to SE8205582A priority patent/SE449877B/sv
Publication of FI63783B publication Critical patent/FI63783B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI63783C publication Critical patent/FI63783C/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/36Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

1 63783
MENETELMÄ TYPETYKSEN SUORITTAMISEKSI ALHAISESSA PAINEESSA HOHTOPURKAUSTA HYVÄKSI KÄYTTÄEN
Esillä oleva menetelmä koskee materiaalien typettämistä alhaisissa paineissa (1...100 mtorr ; 0,13...13,3 Pa) typpeä ja vetyä tai niiden seosta sisältävässä atmosfäärissä hohtopurkauksen alaisena.
5 Tähän asti on yleisesti tunnettu menetelmä metalliesineiden typettämiseksi korkeaa jännitettä ja sopivaa kaasun painetta hyväksi käyttäen. Menetelmä tunnetaan nimellä plasmatypetys tai ionitypetys. Sen sijaan ei ole tunnettua, mitkä paineet ovat yleensä mahdollisia tai takaavat 10 parhaan tuloksen.
Ensimmäiset amerikkalaiset yritykset korkean jännitteen hyväksikäyttämiseksi tapahtuivat normaalipaineessa (Egan J., U.S. Patent 1837 256, 1930). Prosessin hallintaa vaikeutti kuitenkin kipinöinti ja valokaarenmuodostus. Mer-15 kittävän parannuksen menetelmään kehitti sittemin Saksassa Berghaus, jonka patentissa DE Nr. 668 339, 7.12.1938 esitetään alemmassa paineessa suoritettava käsittely, jonka etuna oli huomattavasti parantunut hallittavuus. Berghausin menetelmä perustui ns. epänormaalin hohtopur-20 kauksen hyväksikäyttöön. Jatkotutkimukset Saksassa ja Yhdysvalloissa johtivat lopulta 1960- ja 1970-luvuilla alhaisessa paineessa (n. 1...10 torr ; 0,13...1,3 kPa) tapahtuvan hohtopurkauksen teolliseen hyödyntämiseen ja teollisia laitteistoja on nykyisin toiminnassa useissa.
25 maissa (kts. esim. Edenhofer, B., The Metallurgist and Materials Technologist 8^ (1976), ss. 421-426.
Käytössä olevat plasmatypetys- tai ionitypetysmenetelmät perustuvat em. paineissa aikaansaatavan hohtopurkauksen hyväksikäyttöön. Typpi-ionit ja neutraalit atomit pom-30 mittavat kappaleen pintaa ja jopa iskevät siitä pois atomeja (sputterointi). Törmätessään käsiteltävään 2 63783 kappaleeseen, joka on korkeassa jännitteessä katodina ne luovuttavat liike-energiansa suurelta osin lämmöksi. Täten on mahdollista saavuttaa nopean typen diffuusion vaatima lämpötila (n. 400...600°C) ilman ulkopuolista kuumennusta.
5 Edellä kuvatussa prosessissa käytetty painealue ei ole erityisen matala (n. 1...10 torr ; 0,13...1,3 kPa) . Huomattavasti alhaisempia paineita ei tiettävästi ole kuitenkaan tutkittu typetystä silmällä pitäen. Paineen alentamisen yleisistä vaikutuksista on tunnettua (kts. esim. Nasser, 10 E., Fundamentals of gaseous ionization and plasma electron ics, John Wiley, 1971, ss. 400-405), että paineen laskiessa katodin puoleiset hohtopurkausvyöhykkeet pyrkivät laajenemaan, kunnes ns. negatiivinen hohtopurkaus kokonaan katoaa ja hohtopurkaus muodostuu lähinnä katodivyöhykkeistä tai ns. 15 katodihohtopurkauksesta, jossa erillisiä vyöhykkeitä ei voida erottaa. Tällainen katodihohtopurkaus on tyypillinen juuri tässä hakemuksessa tarkasteltaville prosesseille, kuten myöhemmin tullaan osoittamaan.
Toisaalta voidaan otaksua, että alhaisissa paineissa kaasu-20 atomien ja ionien vapaa matka törmäysten välillä kasvaa (vrt. esim. Chapman, B., Glow discharge processes, John Wiley, 1980, ss. 9-10), mikä saattaisi johtaa energisem-pään kappaleen pintaan kohdistuvaan pommitukseen, jolla olisi typettymisen kannalta edullinen vaikutus.
25 Nyt esillä oleva keksintö perustuu aiempia pienemmillä paineilla (1...100 mtorr) aikaansaatavaan hohtopurkaukseen typpi-vetyatmosfäärissä tai sen seoksessa. Monet nykyaikaiset pinnoitusmenetelmät, kuten esim. ns. ionipinnoitus (kts. esim. Mattox, D.M., Mechanisms of ion plating. Proc.
30 of the Int. Conf. on Ion Plating and Allied Techniques, (IPAT 79). London, July 1979, ss. 1-10) toimivat tällä pai-nealueella. Mikäli kappaleiden typettäminenkin olisi mahdollista em. paineissa (1-100 mtorr), saattaisi tällä olla huomattava teollinen merkitys esim. yhdistämällä 3 63783 plasmatypetys suoraan ionipinnoitukseen kovien ja kulutusta kestävien pintakerrosten ja paksujen diffuusiokerrosten luomiseksi.
Edellä todettiin matalapaineplasmatypetyksellä olevan otak-5 suttavasti eräitä etuja. Tehostuneen ionipommituksen ansiosta typetys saattaisi olla mahdollista suorittaa varsin lyhyessä ajassa, ehkä muutamissa tunneissa verrattuna normaalin typetyksen vaatimaan jopa 100 tuntiin. Edelleen alhaisissa paineissa valokaaren muodostuksen vaara, luonnollisesti vähe-10 nee ja tällä saattaisi olla huomattava hohtopurkauksen sta-biilisuutta parantava vaikutus, jopa niin että valokaaren ehkäisyyn normaalisti tarvittavat laitteistot kävisivät tarpeettomiksi .
Koska kirjallisuudesta ei kuitenkaan tietoja alhaisessa 15 1...100 mtorr (0,13...13,3 Pa) paineessa suoritettavan plasmatypetyksen mahdollisuudesta ole saatavissa, on vastaus löydettävissä vain kokeellisesti.
Kuviossa 1 on esitetty käytetty koelaitteisto kaaviollises-ti. Kuvassa näkyy tyhjökammio 1, jossa käsittely suorite-20 taan. Kammioon pumpataan pumppujen 2 avulla tyhjö. Käsiteltävä kappale 3 kiinnitetään esim. ruuvilla 4 katodiin 5, joka on eristetty välikappaleella 6 tyhjökammiosta. Katodi on myös eristetty ympäristöstään suojakuorella 7. Katodiin kytketään johtimen 8 kautta negatiivinen n. 4 kV suuruinen 25 jännite 9 ja itse kammio kytketään anodiksi 10. Kappaleen lämpötilaa mitataan termoelementin 11 avulla ja mittauslaitteet 12 on sijoitettu ympäristöstä eristettyyn kupuun 7. Katodia ympäröi suojus 13, joka rajoittaa hohtopurkauksen käsiteltävän kappaleen 3 ympärille. Tyhjökammioon 1 30 syötetään sopivassa suhteessa sekoitettua kaasuseosta 14 ja kammion paine säädetään sopivaksi. Hohtopurkauksen tehokkuutta voidaan haluttaessa lisätä käyttäen kuumaa fila-menttia 15, joka on läpivientien 16 kautta yhdistetty kuumennus jännitelähteeseen 17. Filamentin potentiaalin 4 63783 negatiivisuutta voidaan säätää kytkennän 18 kautta käyttäen jännitelähdettä 19 aina 200 V saakka. Tyhjökammio on kytketty jännitelähteen 19 positiiviseksi navaksi 20.
Kuvioissa 2 a) ja b) on esitetty tavanomaiselle typetyste-5 räkselle ja eräälle niukkaseosteiselle nuorrutusteräkselle tämän hakemuksen mukaisella menetelmällä saatuja kovuusja-kautumia. Kokeissa käytetyt typen paineet vaihtelivat välillä 10...60 mTorr ja lämpötilaa voitiin säätää painetta, jännitettä tai negatiivisesti varatun filamentin tehoa 10 säätämällä. Kovuusjakautumista voidaan todeta diffuusio-kerrosten syvyyden olevan täysin riittävät huolimatta käytetyistä alhaisista käsittelylämpötiloista ja lyhyestä ty-petysajasta (5 tuntia). Haluttaessa diffuusiokerroksen syvyyttä voidaan luonnollisesti lisätä aikaa pidentämällä.
15 Kuviot 3 a) ja b) esittävät kaaviollisesti havaintoja paineen vaikutuksesta hohtopurkaukseen. Paineen noustessa ilmestyy näkyviin käsiteltävän kappaleen 1 ympärille kato-dihohtopurkauksen 2 lisäksi myös negatiivinen hohtopurkaus 3 (kuvio 3b)). Vertaamalla tässä hakemuksessa esitettyä 20 menetelmää (kuvio 3 a)) tavanomaiseen plasmatypetykseen (kuvio 3 b)) voidaan todeta, että hohtopurkauksen luonne muuttuu ratkaisevasti painetta alennettaessa. Tavanomaisessa plasmatypetyksessä tavattavaa negatiivista hohtopurkaus-ta 3 ei nyt esillä olevassa keksinnössä esiinny.
25 Kuviossa 4 on esitetty esimerkki röntgendiffraktiotutkimus-ten tuloksista nyt esillä olevan keksinnön mukaisella menetelmällä typetetyistä kappaleista. Vertaamalla typetetyn kappaleen diffraktiokäyrää käsittelemättömän kappaleen käyrään voidaan todeta typetyksessä syntyvän γ' - (Fe^N) ja 30 e - (Fe.j_2N) nitridejä. Yhdistekerroksen koostumukseen ja paksuuteen on mahdollista vaikuttaa prosessimuuttujia säätämällä (kaasu, paine, aika jne.) 5 63783 5 Edellä on kuvattu suppeasti uusi menetelmä plasmatypetyk-sen suorittamiseksi huomattavasti nykyisin käytössä olevia alemmissa paineissa. Alhaisissa paineissa tehostuneen io-nipommituksen ansiosta muodostuvat käsittelyajat lyhyiksi ja riski valokaaren muodostukseen vähenee. Käytetyissä al-10 haisissa paineissa myös hohtopurkauksen luonne muuttuu ratkaisevasti oletetulla tavalla, mikä voidaan todeta negatiivisen hohtopurkausvyöhykkeen katoamisena. Menetelmään voidaan edelleen helposti yhdistää esim. ionipinnoitus halutulla kovalla ja kulutusta kestävällä pinnoitteella.
FI813032A 1981-09-30 1981-09-30 Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning FI63783C (fi)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI813032A FI63783C (fi) 1981-09-30 1981-09-30 Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning
FR8215855A FR2513660B1 (fr) 1981-09-30 1982-09-21 Procede pour la nitruration de materiaux a basse pression et en utilisant une decharge luminescente
US06/420,944 US4460415A (en) 1981-09-30 1982-09-21 Method for nitriding materials at low pressures using a glow discharge
DE3235670A DE3235670C2 (de) 1981-09-30 1982-09-27 Verfahren zum Glimmnitrieren von Werkstoffen
SU823494861A SU1373326A3 (ru) 1981-09-30 1982-09-28 Способ азотировани стальных изделий в тлеющем разр де
JP57168714A JPS5867862A (ja) 1981-09-30 1982-09-29 材料の窒化方法
GB08227835A GB2109419B (en) 1981-09-30 1982-09-29 Low-pressure gas-nitriding in glow discharge
SE8205582A SE449877B (sv) 1981-09-30 1982-09-30 Forfarande for nitrering i gasfas vid lagt tryck med anvendning av glimurladdning

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI813032 1981-09-30
FI813032A FI63783C (fi) 1981-09-30 1981-09-30 Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FI63783B true FI63783B (fi) 1983-04-29
FI63783C FI63783C (fi) 1983-08-10

Family

ID=8514735

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI813032A FI63783C (fi) 1981-09-30 1981-09-30 Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4460415A (fi)
JP (1) JPS5867862A (fi)
DE (1) DE3235670C2 (fi)
FI (1) FI63783C (fi)
FR (1) FR2513660B1 (fi)
GB (1) GB2109419B (fi)
SE (1) SE449877B (fi)
SU (1) SU1373326A3 (fi)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3615425A1 (de) * 1986-05-07 1987-11-12 Thyssen Edelstahlwerke Ag Leistungssteigerung von maschinenelementen aus technischen titanlegierungen durch oberflaechenbeschichtung im plasma von glimmentladungen
CH671407A5 (fi) * 1986-06-13 1989-08-31 Balzers Hochvakuum
DE3742317A1 (de) * 1987-12-14 1989-06-22 Repenning Detlev Verfahren zur herstellung korrosion-, verschleiss- und pressfester schichten
US4878570A (en) * 1988-01-25 1989-11-07 Dana Corporation Surface hardened sprags and rollers
FR2630133B1 (fr) * 1988-04-18 1993-09-24 Siderurgie Fse Inst Rech Procede pour l'amelioration de la resistance a la corrosion de materiaux metalliques
WO1992021787A1 (en) * 1991-05-31 1992-12-10 Kharkovsky Fiziko-Tekhnichesky Institut Method and device for thermochemical treatment of articles
GB2261227B (en) * 1991-11-08 1995-01-11 Univ Hull Surface treatment of metals
US5380547A (en) * 1991-12-06 1995-01-10 Higgins; Joel C. Method for manufacturing titanium-containing orthopedic implant devices
DE4416525B4 (de) * 1993-05-27 2008-06-05 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung erhöhter Verschleißfestigkeit auf Werkstückoberflächen, und dessen Verwendung
EP0707661B1 (fr) * 1994-04-22 2000-03-15 Innovatique S.A. Procede pour la nitruration a basse pression d'une piece metallique et four pour la mise en uvre dudit procede
FR2719057B1 (fr) * 1994-04-22 1996-08-23 Innovatique Sa Procédé pour la nitruration à bsase pression d'une pièce métallique et four pour la mise en Óoeuvre dudit procédé.
JP2989746B2 (ja) * 1994-07-19 1999-12-13 株式会社ライムズ 鋼系複合表面処理製品とその製造方法
FR2747398B1 (fr) * 1996-04-12 1998-05-15 Nitruvid Procede de traitement de surface d'une piece metallique
US6605160B2 (en) 2000-08-21 2003-08-12 Robert Frank Hoskin Repair of coatings and surfaces using reactive metals coating processes
WO2002019379A1 (en) * 2000-08-28 2002-03-07 Institute For Plasma Research Device and process for producing dc glow discharge
US7137190B2 (en) * 2002-10-03 2006-11-21 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for fabricating a magnetic transducer with a corrosion resistant layer on metallic thin films by nitrogen exposure
EP2351869A1 (en) * 2002-12-20 2011-08-03 COPPE/UFRJ - Coordenação dos Programas de Pós Graduação de Engenharia da Universidade Federal do Rio de Janeiro Hydrogen diffusion barrier on steel by means of a pulsed-plasma ion-nitriding process
EP1612290A1 (de) * 2004-07-02 2006-01-04 METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH Verfahren zum Gasnitrieren eines Werkstücks eine Gasnitriervorrichtung zur Durchfürung des Verfahrens sowie ein Werkstück
US7347136B2 (en) * 2005-12-08 2008-03-25 Diversified Dynamics Corporation Airless sprayer with hardened cylinder
US20070172689A1 (en) * 2006-01-24 2007-07-26 Standard Aero (San Antonio), Inc. Treatment apparatus and method of treating surfaces
DE102007028888B4 (de) 2007-06-20 2015-07-23 Maschinenfabrik Alfing Kessler Gmbh Verfahren zur Erhöhung der Festigkeit eines Bauteils
PL2429777T3 (pl) * 2009-05-15 2017-11-30 The Gillette Company Llc Powłoka ostrza maszynki do golenia
JP5944797B2 (ja) * 2012-09-03 2016-07-05 株式会社結城高周波 鉄基合金材及びその製造方法
WO2017122044A1 (en) 2016-01-13 2017-07-20 Ion Heat S.A.S Equipment for ion nitriding/nitrocarburizing treatment comprising two furnace chambers with shared resources, able to run glow discharge treatment continuously between the two chambers
RU2751348C2 (ru) * 2019-12-19 2021-07-13 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Восточно-Сибирский государственный университет технологий и управления" Установка для модификации поверхности полимеров в низкотемпературной плазме тлеющего разряда

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL163085B (nl) * 1950-08-03 Siemens Ag Schakelinrichting voor het overdragen van berichten over een uit verscheidene parallel geschakelde lijnen bestaande overdrachtsweg.
FR1316654A (fr) * 1961-12-21 1963-02-01 Nouveau moyen d'accrochage des lubrifiants solides aux surfaces métalliques
DE1621268B1 (de) * 1967-10-26 1971-06-09 Berghaus Elektrophysik Anst Verfahren und Vorrichtung zur Ionitrierung von Hochlegierten Staehlen
US3616383A (en) * 1968-10-25 1971-10-26 Berghaus Elektrophysik Anst Method of ionitriding objects made of high-alloyed particularly stainless iron and steel
NL7302515A (en) * 1973-02-22 1973-04-25 Cutting edge hardening - esp for safety razor blades using ion plasma
JPS52111891A (en) * 1976-03-18 1977-09-19 Honda Motor Co Ltd Method of surface treatment of metal
GB1555467A (en) * 1976-07-12 1979-11-14 Lucas Industries Ltd Method of suface treating a component formed of an iron-based olloy
JPS53141133A (en) * 1977-05-16 1978-12-08 Hitachi Ltd Ion surface treating process
DE2842407C2 (de) * 1978-09-29 1984-01-12 Norbert 7122 Besigheim Stauder Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken durch Entladung ionisierter Gase und Verfahren zum Betrieb der Vorrichtung
JPS5597466A (en) * 1979-01-16 1980-07-24 Citizen Watch Co Ltd Ion nitride-production unit
JPS5612197A (en) * 1979-07-10 1981-02-06 Toshiba Corp Diaphragm for loudspeaker
US4297387A (en) * 1980-06-04 1981-10-27 Battelle Development Corporation Cubic boron nitride preparation

Also Published As

Publication number Publication date
GB2109419A (en) 1983-06-02
SE8205582L (sv) 1983-03-31
SE8205582D0 (sv) 1982-09-30
FR2513660A1 (fr) 1983-04-01
FR2513660B1 (fr) 1987-07-03
DE3235670C2 (de) 1984-08-02
SE449877B (sv) 1987-05-25
FI63783C (fi) 1983-08-10
US4460415A (en) 1984-07-17
JPS5867862A (ja) 1983-04-22
GB2109419B (en) 1985-04-17
SU1373326A3 (ru) 1988-02-07
DE3235670A1 (de) 1983-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI63783B (fi) Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning
US2946708A (en) Nitriding with electric glow discharge
Collins et al. Plasma immersion ion implantation of steels
Priest et al. Low pressure rf nitriding of austenitic stainless steel in an industrial-style heat-treatment furnace
CA2180927C (en) Process for producing corrosion resistant and wear resistant layers on materials that are based on iron
Roliński Plasma-assisted nitriding and nitrocarburizing of steel and other ferrous alloys
RU2686975C1 (ru) Способ ионно-плазменного азотирования изделий из титана или титанового сплава
Grobner et al. Beam induced gas desorption in the CERN Intersecting Storage Rings
Fancey et al. The influence of process gas characteristics on the properties of plasma nitrided steel
Renevier et al. New trends on nitriding in low pressure arc discharges studied by optical emission spectroscopy
US7074460B2 (en) Method for treating the surface of a part and resulting part
Tian et al. Investigation of low-pressure elevated-temperature plasma immersion ion implantation of AISI 304 stainless steel
RU2611003C1 (ru) Способ ионного азотирования титановых сплавов
US5750205A (en) Surface treatment of metals by shock-compressed plasma
RU2061788C1 (ru) Способ нанесения покрытий в вакууме
Thomann et al. Enhanced deposition rates in plasma sputter deposition
FI66656B (fi) Foerfarande foer tillverkning av titannitridbelaeggning vid lag temperatur med hjaelp av glimurladdning
Shoyama et al. Nitriding of a tool steel with an electron-beam-excited plasma
RU2039845C1 (ru) Способ вакуумной обработки внутренней поверхности труб
Foti et al. Chemical effects induced by ion implantation in molecular solids
Alim et al. XC38 nitriding by plasma immersion ion implantation
RU2656191C1 (ru) Устройство для обработки изделия из стали в плазме тлеющего разряда
Oliveira et al. A novel process for plasma immersion ion implantation and deposition with ions from vaporization of solid targets
Menshakov et al. A new method of low-temperature cementation of stainless steel by decomposition of C2H2 in low-energy electron beam generated plasma
PL133598B1 (en) Electric field thermochemical treatment method

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed
MM Patent lapsed

Owner name: PLASMATEKNIIKKA OY (505.930)