FI63783B - Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning - Google Patents
Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning Download PDFInfo
- Publication number
- FI63783B FI63783B FI813032A FI813032A FI63783B FI 63783 B FI63783 B FI 63783B FI 813032 A FI813032 A FI 813032A FI 813032 A FI813032 A FI 813032A FI 63783 B FI63783 B FI 63783B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- glow discharge
- nitrering
- laogt
- glimurladdning
- tryck
- Prior art date
Links
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000006902 nitrogenation reaction Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Nitrogen ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical group 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000003716 rejuvenation Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
1 63783
MENETELMÄ TYPETYKSEN SUORITTAMISEKSI ALHAISESSA PAINEESSA HOHTOPURKAUSTA HYVÄKSI KÄYTTÄEN
Esillä oleva menetelmä koskee materiaalien typettämistä alhaisissa paineissa (1...100 mtorr ; 0,13...13,3 Pa) typpeä ja vetyä tai niiden seosta sisältävässä atmosfäärissä hohtopurkauksen alaisena.
5 Tähän asti on yleisesti tunnettu menetelmä metalliesineiden typettämiseksi korkeaa jännitettä ja sopivaa kaasun painetta hyväksi käyttäen. Menetelmä tunnetaan nimellä plasmatypetys tai ionitypetys. Sen sijaan ei ole tunnettua, mitkä paineet ovat yleensä mahdollisia tai takaavat 10 parhaan tuloksen.
Ensimmäiset amerikkalaiset yritykset korkean jännitteen hyväksikäyttämiseksi tapahtuivat normaalipaineessa (Egan J., U.S. Patent 1837 256, 1930). Prosessin hallintaa vaikeutti kuitenkin kipinöinti ja valokaarenmuodostus. Mer-15 kittävän parannuksen menetelmään kehitti sittemin Saksassa Berghaus, jonka patentissa DE Nr. 668 339, 7.12.1938 esitetään alemmassa paineessa suoritettava käsittely, jonka etuna oli huomattavasti parantunut hallittavuus. Berghausin menetelmä perustui ns. epänormaalin hohtopur-20 kauksen hyväksikäyttöön. Jatkotutkimukset Saksassa ja Yhdysvalloissa johtivat lopulta 1960- ja 1970-luvuilla alhaisessa paineessa (n. 1...10 torr ; 0,13...1,3 kPa) tapahtuvan hohtopurkauksen teolliseen hyödyntämiseen ja teollisia laitteistoja on nykyisin toiminnassa useissa.
25 maissa (kts. esim. Edenhofer, B., The Metallurgist and Materials Technologist 8^ (1976), ss. 421-426.
Käytössä olevat plasmatypetys- tai ionitypetysmenetelmät perustuvat em. paineissa aikaansaatavan hohtopurkauksen hyväksikäyttöön. Typpi-ionit ja neutraalit atomit pom-30 mittavat kappaleen pintaa ja jopa iskevät siitä pois atomeja (sputterointi). Törmätessään käsiteltävään 2 63783 kappaleeseen, joka on korkeassa jännitteessä katodina ne luovuttavat liike-energiansa suurelta osin lämmöksi. Täten on mahdollista saavuttaa nopean typen diffuusion vaatima lämpötila (n. 400...600°C) ilman ulkopuolista kuumennusta.
5 Edellä kuvatussa prosessissa käytetty painealue ei ole erityisen matala (n. 1...10 torr ; 0,13...1,3 kPa) . Huomattavasti alhaisempia paineita ei tiettävästi ole kuitenkaan tutkittu typetystä silmällä pitäen. Paineen alentamisen yleisistä vaikutuksista on tunnettua (kts. esim. Nasser, 10 E., Fundamentals of gaseous ionization and plasma electron ics, John Wiley, 1971, ss. 400-405), että paineen laskiessa katodin puoleiset hohtopurkausvyöhykkeet pyrkivät laajenemaan, kunnes ns. negatiivinen hohtopurkaus kokonaan katoaa ja hohtopurkaus muodostuu lähinnä katodivyöhykkeistä tai ns. 15 katodihohtopurkauksesta, jossa erillisiä vyöhykkeitä ei voida erottaa. Tällainen katodihohtopurkaus on tyypillinen juuri tässä hakemuksessa tarkasteltaville prosesseille, kuten myöhemmin tullaan osoittamaan.
Toisaalta voidaan otaksua, että alhaisissa paineissa kaasu-20 atomien ja ionien vapaa matka törmäysten välillä kasvaa (vrt. esim. Chapman, B., Glow discharge processes, John Wiley, 1980, ss. 9-10), mikä saattaisi johtaa energisem-pään kappaleen pintaan kohdistuvaan pommitukseen, jolla olisi typettymisen kannalta edullinen vaikutus.
25 Nyt esillä oleva keksintö perustuu aiempia pienemmillä paineilla (1...100 mtorr) aikaansaatavaan hohtopurkaukseen typpi-vetyatmosfäärissä tai sen seoksessa. Monet nykyaikaiset pinnoitusmenetelmät, kuten esim. ns. ionipinnoitus (kts. esim. Mattox, D.M., Mechanisms of ion plating. Proc.
30 of the Int. Conf. on Ion Plating and Allied Techniques, (IPAT 79). London, July 1979, ss. 1-10) toimivat tällä pai-nealueella. Mikäli kappaleiden typettäminenkin olisi mahdollista em. paineissa (1-100 mtorr), saattaisi tällä olla huomattava teollinen merkitys esim. yhdistämällä 3 63783 plasmatypetys suoraan ionipinnoitukseen kovien ja kulutusta kestävien pintakerrosten ja paksujen diffuusiokerrosten luomiseksi.
Edellä todettiin matalapaineplasmatypetyksellä olevan otak-5 suttavasti eräitä etuja. Tehostuneen ionipommituksen ansiosta typetys saattaisi olla mahdollista suorittaa varsin lyhyessä ajassa, ehkä muutamissa tunneissa verrattuna normaalin typetyksen vaatimaan jopa 100 tuntiin. Edelleen alhaisissa paineissa valokaaren muodostuksen vaara, luonnollisesti vähe-10 nee ja tällä saattaisi olla huomattava hohtopurkauksen sta-biilisuutta parantava vaikutus, jopa niin että valokaaren ehkäisyyn normaalisti tarvittavat laitteistot kävisivät tarpeettomiksi .
Koska kirjallisuudesta ei kuitenkaan tietoja alhaisessa 15 1...100 mtorr (0,13...13,3 Pa) paineessa suoritettavan plasmatypetyksen mahdollisuudesta ole saatavissa, on vastaus löydettävissä vain kokeellisesti.
Kuviossa 1 on esitetty käytetty koelaitteisto kaaviollises-ti. Kuvassa näkyy tyhjökammio 1, jossa käsittely suorite-20 taan. Kammioon pumpataan pumppujen 2 avulla tyhjö. Käsiteltävä kappale 3 kiinnitetään esim. ruuvilla 4 katodiin 5, joka on eristetty välikappaleella 6 tyhjökammiosta. Katodi on myös eristetty ympäristöstään suojakuorella 7. Katodiin kytketään johtimen 8 kautta negatiivinen n. 4 kV suuruinen 25 jännite 9 ja itse kammio kytketään anodiksi 10. Kappaleen lämpötilaa mitataan termoelementin 11 avulla ja mittauslaitteet 12 on sijoitettu ympäristöstä eristettyyn kupuun 7. Katodia ympäröi suojus 13, joka rajoittaa hohtopurkauksen käsiteltävän kappaleen 3 ympärille. Tyhjökammioon 1 30 syötetään sopivassa suhteessa sekoitettua kaasuseosta 14 ja kammion paine säädetään sopivaksi. Hohtopurkauksen tehokkuutta voidaan haluttaessa lisätä käyttäen kuumaa fila-menttia 15, joka on läpivientien 16 kautta yhdistetty kuumennus jännitelähteeseen 17. Filamentin potentiaalin 4 63783 negatiivisuutta voidaan säätää kytkennän 18 kautta käyttäen jännitelähdettä 19 aina 200 V saakka. Tyhjökammio on kytketty jännitelähteen 19 positiiviseksi navaksi 20.
Kuvioissa 2 a) ja b) on esitetty tavanomaiselle typetyste-5 räkselle ja eräälle niukkaseosteiselle nuorrutusteräkselle tämän hakemuksen mukaisella menetelmällä saatuja kovuusja-kautumia. Kokeissa käytetyt typen paineet vaihtelivat välillä 10...60 mTorr ja lämpötilaa voitiin säätää painetta, jännitettä tai negatiivisesti varatun filamentin tehoa 10 säätämällä. Kovuusjakautumista voidaan todeta diffuusio-kerrosten syvyyden olevan täysin riittävät huolimatta käytetyistä alhaisista käsittelylämpötiloista ja lyhyestä ty-petysajasta (5 tuntia). Haluttaessa diffuusiokerroksen syvyyttä voidaan luonnollisesti lisätä aikaa pidentämällä.
15 Kuviot 3 a) ja b) esittävät kaaviollisesti havaintoja paineen vaikutuksesta hohtopurkaukseen. Paineen noustessa ilmestyy näkyviin käsiteltävän kappaleen 1 ympärille kato-dihohtopurkauksen 2 lisäksi myös negatiivinen hohtopurkaus 3 (kuvio 3b)). Vertaamalla tässä hakemuksessa esitettyä 20 menetelmää (kuvio 3 a)) tavanomaiseen plasmatypetykseen (kuvio 3 b)) voidaan todeta, että hohtopurkauksen luonne muuttuu ratkaisevasti painetta alennettaessa. Tavanomaisessa plasmatypetyksessä tavattavaa negatiivista hohtopurkaus-ta 3 ei nyt esillä olevassa keksinnössä esiinny.
25 Kuviossa 4 on esitetty esimerkki röntgendiffraktiotutkimus-ten tuloksista nyt esillä olevan keksinnön mukaisella menetelmällä typetetyistä kappaleista. Vertaamalla typetetyn kappaleen diffraktiokäyrää käsittelemättömän kappaleen käyrään voidaan todeta typetyksessä syntyvän γ' - (Fe^N) ja 30 e - (Fe.j_2N) nitridejä. Yhdistekerroksen koostumukseen ja paksuuteen on mahdollista vaikuttaa prosessimuuttujia säätämällä (kaasu, paine, aika jne.) 5 63783 5 Edellä on kuvattu suppeasti uusi menetelmä plasmatypetyk-sen suorittamiseksi huomattavasti nykyisin käytössä olevia alemmissa paineissa. Alhaisissa paineissa tehostuneen io-nipommituksen ansiosta muodostuvat käsittelyajat lyhyiksi ja riski valokaaren muodostukseen vähenee. Käytetyissä al-10 haisissa paineissa myös hohtopurkauksen luonne muuttuu ratkaisevasti oletetulla tavalla, mikä voidaan todeta negatiivisen hohtopurkausvyöhykkeen katoamisena. Menetelmään voidaan edelleen helposti yhdistää esim. ionipinnoitus halutulla kovalla ja kulutusta kestävällä pinnoitteella.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI813032A FI63783C (fi) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning |
FR8215855A FR2513660B1 (fr) | 1981-09-30 | 1982-09-21 | Procede pour la nitruration de materiaux a basse pression et en utilisant une decharge luminescente |
US06/420,944 US4460415A (en) | 1981-09-30 | 1982-09-21 | Method for nitriding materials at low pressures using a glow discharge |
DE3235670A DE3235670C2 (de) | 1981-09-30 | 1982-09-27 | Verfahren zum Glimmnitrieren von Werkstoffen |
SU823494861A SU1373326A3 (ru) | 1981-09-30 | 1982-09-28 | Способ азотировани стальных изделий в тлеющем разр де |
JP57168714A JPS5867862A (ja) | 1981-09-30 | 1982-09-29 | 材料の窒化方法 |
GB08227835A GB2109419B (en) | 1981-09-30 | 1982-09-29 | Low-pressure gas-nitriding in glow discharge |
SE8205582A SE449877B (sv) | 1981-09-30 | 1982-09-30 | Forfarande for nitrering i gasfas vid lagt tryck med anvendning av glimurladdning |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI813032 | 1981-09-30 | ||
FI813032A FI63783C (fi) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI63783B true FI63783B (fi) | 1983-04-29 |
FI63783C FI63783C (fi) | 1983-08-10 |
Family
ID=8514735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI813032A FI63783C (fi) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4460415A (fi) |
JP (1) | JPS5867862A (fi) |
DE (1) | DE3235670C2 (fi) |
FI (1) | FI63783C (fi) |
FR (1) | FR2513660B1 (fi) |
GB (1) | GB2109419B (fi) |
SE (1) | SE449877B (fi) |
SU (1) | SU1373326A3 (fi) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3615425A1 (de) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Thyssen Edelstahlwerke Ag | Leistungssteigerung von maschinenelementen aus technischen titanlegierungen durch oberflaechenbeschichtung im plasma von glimmentladungen |
CH671407A5 (fi) * | 1986-06-13 | 1989-08-31 | Balzers Hochvakuum | |
DE3742317A1 (de) * | 1987-12-14 | 1989-06-22 | Repenning Detlev | Verfahren zur herstellung korrosion-, verschleiss- und pressfester schichten |
US4878570A (en) * | 1988-01-25 | 1989-11-07 | Dana Corporation | Surface hardened sprags and rollers |
FR2630133B1 (fr) * | 1988-04-18 | 1993-09-24 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede pour l'amelioration de la resistance a la corrosion de materiaux metalliques |
WO1992021787A1 (en) * | 1991-05-31 | 1992-12-10 | Kharkovsky Fiziko-Tekhnichesky Institut | Method and device for thermochemical treatment of articles |
GB2261227B (en) * | 1991-11-08 | 1995-01-11 | Univ Hull | Surface treatment of metals |
US5380547A (en) * | 1991-12-06 | 1995-01-10 | Higgins; Joel C. | Method for manufacturing titanium-containing orthopedic implant devices |
DE4416525B4 (de) * | 1993-05-27 | 2008-06-05 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung erhöhter Verschleißfestigkeit auf Werkstückoberflächen, und dessen Verwendung |
EP0707661B1 (fr) * | 1994-04-22 | 2000-03-15 | Innovatique S.A. | Procede pour la nitruration a basse pression d'une piece metallique et four pour la mise en uvre dudit procede |
FR2719057B1 (fr) * | 1994-04-22 | 1996-08-23 | Innovatique Sa | Procédé pour la nitruration à bsase pression d'une pièce métallique et four pour la mise en Óoeuvre dudit procédé. |
JP2989746B2 (ja) * | 1994-07-19 | 1999-12-13 | 株式会社ライムズ | 鋼系複合表面処理製品とその製造方法 |
FR2747398B1 (fr) * | 1996-04-12 | 1998-05-15 | Nitruvid | Procede de traitement de surface d'une piece metallique |
US6605160B2 (en) | 2000-08-21 | 2003-08-12 | Robert Frank Hoskin | Repair of coatings and surfaces using reactive metals coating processes |
WO2002019379A1 (en) * | 2000-08-28 | 2002-03-07 | Institute For Plasma Research | Device and process for producing dc glow discharge |
US7137190B2 (en) * | 2002-10-03 | 2006-11-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for fabricating a magnetic transducer with a corrosion resistant layer on metallic thin films by nitrogen exposure |
EP2351869A1 (en) * | 2002-12-20 | 2011-08-03 | COPPE/UFRJ - Coordenação dos Programas de Pós Graduação de Engenharia da Universidade Federal do Rio de Janeiro | Hydrogen diffusion barrier on steel by means of a pulsed-plasma ion-nitriding process |
EP1612290A1 (de) * | 2004-07-02 | 2006-01-04 | METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH | Verfahren zum Gasnitrieren eines Werkstücks eine Gasnitriervorrichtung zur Durchfürung des Verfahrens sowie ein Werkstück |
US7347136B2 (en) * | 2005-12-08 | 2008-03-25 | Diversified Dynamics Corporation | Airless sprayer with hardened cylinder |
US20070172689A1 (en) * | 2006-01-24 | 2007-07-26 | Standard Aero (San Antonio), Inc. | Treatment apparatus and method of treating surfaces |
DE102007028888B4 (de) | 2007-06-20 | 2015-07-23 | Maschinenfabrik Alfing Kessler Gmbh | Verfahren zur Erhöhung der Festigkeit eines Bauteils |
PL2429777T3 (pl) * | 2009-05-15 | 2017-11-30 | The Gillette Company Llc | Powłoka ostrza maszynki do golenia |
JP5944797B2 (ja) * | 2012-09-03 | 2016-07-05 | 株式会社結城高周波 | 鉄基合金材及びその製造方法 |
WO2017122044A1 (en) | 2016-01-13 | 2017-07-20 | Ion Heat S.A.S | Equipment for ion nitriding/nitrocarburizing treatment comprising two furnace chambers with shared resources, able to run glow discharge treatment continuously between the two chambers |
RU2751348C2 (ru) * | 2019-12-19 | 2021-07-13 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Восточно-Сибирский государственный университет технологий и управления" | Установка для модификации поверхности полимеров в низкотемпературной плазме тлеющего разряда |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL163085B (nl) * | 1950-08-03 | Siemens Ag | Schakelinrichting voor het overdragen van berichten over een uit verscheidene parallel geschakelde lijnen bestaande overdrachtsweg. | |
FR1316654A (fr) * | 1961-12-21 | 1963-02-01 | Nouveau moyen d'accrochage des lubrifiants solides aux surfaces métalliques | |
DE1621268B1 (de) * | 1967-10-26 | 1971-06-09 | Berghaus Elektrophysik Anst | Verfahren und Vorrichtung zur Ionitrierung von Hochlegierten Staehlen |
US3616383A (en) * | 1968-10-25 | 1971-10-26 | Berghaus Elektrophysik Anst | Method of ionitriding objects made of high-alloyed particularly stainless iron and steel |
NL7302515A (en) * | 1973-02-22 | 1973-04-25 | Cutting edge hardening - esp for safety razor blades using ion plasma | |
JPS52111891A (en) * | 1976-03-18 | 1977-09-19 | Honda Motor Co Ltd | Method of surface treatment of metal |
GB1555467A (en) * | 1976-07-12 | 1979-11-14 | Lucas Industries Ltd | Method of suface treating a component formed of an iron-based olloy |
JPS53141133A (en) * | 1977-05-16 | 1978-12-08 | Hitachi Ltd | Ion surface treating process |
DE2842407C2 (de) * | 1978-09-29 | 1984-01-12 | Norbert 7122 Besigheim Stauder | Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken durch Entladung ionisierter Gase und Verfahren zum Betrieb der Vorrichtung |
JPS5597466A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-24 | Citizen Watch Co Ltd | Ion nitride-production unit |
JPS5612197A (en) * | 1979-07-10 | 1981-02-06 | Toshiba Corp | Diaphragm for loudspeaker |
US4297387A (en) * | 1980-06-04 | 1981-10-27 | Battelle Development Corporation | Cubic boron nitride preparation |
-
1981
- 1981-09-30 FI FI813032A patent/FI63783C/fi not_active IP Right Cessation
-
1982
- 1982-09-21 FR FR8215855A patent/FR2513660B1/fr not_active Expired
- 1982-09-21 US US06/420,944 patent/US4460415A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-27 DE DE3235670A patent/DE3235670C2/de not_active Expired
- 1982-09-28 SU SU823494861A patent/SU1373326A3/ru active
- 1982-09-29 JP JP57168714A patent/JPS5867862A/ja active Pending
- 1982-09-29 GB GB08227835A patent/GB2109419B/en not_active Expired
- 1982-09-30 SE SE8205582A patent/SE449877B/sv not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2109419A (en) | 1983-06-02 |
SE8205582L (sv) | 1983-03-31 |
SE8205582D0 (sv) | 1982-09-30 |
FR2513660A1 (fr) | 1983-04-01 |
FR2513660B1 (fr) | 1987-07-03 |
DE3235670C2 (de) | 1984-08-02 |
SE449877B (sv) | 1987-05-25 |
FI63783C (fi) | 1983-08-10 |
US4460415A (en) | 1984-07-17 |
JPS5867862A (ja) | 1983-04-22 |
GB2109419B (en) | 1985-04-17 |
SU1373326A3 (ru) | 1988-02-07 |
DE3235670A1 (de) | 1983-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI63783B (fi) | Foerfarande foer nitrering vid laogt tryck med hjaelp av glimurladdning | |
US2946708A (en) | Nitriding with electric glow discharge | |
Collins et al. | Plasma immersion ion implantation of steels | |
Priest et al. | Low pressure rf nitriding of austenitic stainless steel in an industrial-style heat-treatment furnace | |
CA2180927C (en) | Process for producing corrosion resistant and wear resistant layers on materials that are based on iron | |
Roliński | Plasma-assisted nitriding and nitrocarburizing of steel and other ferrous alloys | |
RU2686975C1 (ru) | Способ ионно-плазменного азотирования изделий из титана или титанового сплава | |
Grobner et al. | Beam induced gas desorption in the CERN Intersecting Storage Rings | |
Fancey et al. | The influence of process gas characteristics on the properties of plasma nitrided steel | |
Renevier et al. | New trends on nitriding in low pressure arc discharges studied by optical emission spectroscopy | |
US7074460B2 (en) | Method for treating the surface of a part and resulting part | |
Tian et al. | Investigation of low-pressure elevated-temperature plasma immersion ion implantation of AISI 304 stainless steel | |
RU2611003C1 (ru) | Способ ионного азотирования титановых сплавов | |
US5750205A (en) | Surface treatment of metals by shock-compressed plasma | |
RU2061788C1 (ru) | Способ нанесения покрытий в вакууме | |
Thomann et al. | Enhanced deposition rates in plasma sputter deposition | |
FI66656B (fi) | Foerfarande foer tillverkning av titannitridbelaeggning vid lag temperatur med hjaelp av glimurladdning | |
Shoyama et al. | Nitriding of a tool steel with an electron-beam-excited plasma | |
RU2039845C1 (ru) | Способ вакуумной обработки внутренней поверхности труб | |
Foti et al. | Chemical effects induced by ion implantation in molecular solids | |
Alim et al. | XC38 nitriding by plasma immersion ion implantation | |
RU2656191C1 (ru) | Устройство для обработки изделия из стали в плазме тлеющего разряда | |
Oliveira et al. | A novel process for plasma immersion ion implantation and deposition with ions from vaporization of solid targets | |
Menshakov et al. | A new method of low-temperature cementation of stainless steel by decomposition of C2H2 in low-energy electron beam generated plasma | |
PL133598B1 (en) | Electric field thermochemical treatment method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: PLASMATEKNIIKKA OY (505.930) |