FI62594B - Monitor foer kontrollering av skumnivao - Google Patents

Monitor foer kontrollering av skumnivao Download PDF

Info

Publication number
FI62594B
FI62594B FI771439A FI771439A FI62594B FI 62594 B FI62594 B FI 62594B FI 771439 A FI771439 A FI 771439A FI 771439 A FI771439 A FI 771439A FI 62594 B FI62594 B FI 62594B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
foam
constant current
contact
sum
electrode
Prior art date
Application number
FI771439A
Other languages
English (en)
Other versions
FI771439A7 (fi
FI62594C (fi
Inventor
Frank Kitzinger
Frank Rosenblum
Original Assignee
Noranda Mines Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Noranda Mines Ltd filed Critical Noranda Mines Ltd
Publication of FI771439A7 publication Critical patent/FI771439A7/fi
Publication of FI62594B publication Critical patent/FI62594B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI62594C publication Critical patent/FI62594C/fi

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F23/00Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
    • G01F23/22Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water
    • G01F23/24Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water by measuring variations of resistance of resistors due to contact with conductor fluid
    • G01F23/241Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water by measuring variations of resistance of resistors due to contact with conductor fluid for discrete levels
    • G01F23/243Schematic arrangements of probes combined with measuring circuits
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B03SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03DFLOTATION; DIFFERENTIAL SEDIMENTATION
    • B03D1/00Flotation
    • B03D1/02Froth-flotation processes
    • B03D1/028Control and monitoring of flotation processes; computer models therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Measurement Of Levels Of Liquids Or Fluent Solid Materials (AREA)
  • Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)

Description

fT'.'ZVl'L _.l Γβ, .... KUULUTUSJULKAISU ^ o C Q /! 3SK w (,1>UTLAGeNINOSSKKIFT 62594 C Patentti myönnetty 10 01 1933 Patent teddelat ^ τ ^ (51) K».Hc?/inca.1 G 01 F 23/24 SUOM I —FI N LAN D pi) Nwttllakimiii-PlWBeniahilni 771^39 (22) Htkwnliptivt —AMeknlni^·! 05.05.77 (23) Atluipllvl—Glltlgh«tad*g 05.05.77 (41) Tullut |utklMlut — BIWIt offentllg 07.11.77
Patentti- ja rekisteri hallitus /44) NlhUvikilpvton |» kuuL]ulk»l*un pvm. — ,n no Op
Patent- oeh registerstyrelsan v Ai»eksn utlagd och Utkikrifun publlcarad ju.uy. od.
(329(33)(31) Pnrfeer GtuoUcau*—Begird prlerkee 06.05.76 Kanada(CA) 251933 (71) Noranda Mines Limited, P.0. Box t5, Commerce Court West, Toronto, Ontario, Kanada(CA) (72) Frank Kitzinger, Montreal, Quebec, Frank Rosenblum, Ville St. Laurent, Quebec, Kanada(CA) (7l) Leitzinger Oy (5*0 Vaahdon pinnan tarkkailumonitori - Monitor för kontrollering av skumnivä
Keksinnön kohteena on vaahdon pinnan tason tarkkailumonitori vaahdon pinnan havaitsemiseksi ja automaattiseksi valvomiseksi vaahdotuskennossa. Monitoriin kuuluu useita sähköä johtavia elektrodeja, jotka ovat välimatkan päässä toisistaan pystysuunnassa ja sovitetut koskettamaan vaahdon pintaa peräkkäis-järjestyksessä vaahdon pinnan kohotessa.
Kuten tällä teollisuuden alalla yleisesti tiedetään, käytetään vaahdotuskennoja normaalisti mineraalimalmien erotukseen. Tällaisissa kennoissa erotettavia kiinteitä aineita sisältävät nesteet ilmastetaan ja niitä hämmennetään vaahdotusreagenssin läsnäollessa. Tämä saa aikaan vaahtokerroksen muodostumisen nesteen pinnalle, johon nesteeseen haluttu mineraali on tiivistynyt. Vaahtokerros kuoritaan tavallisesti kennojen reunalta erilliseen säiliöön, jossa vaahdon annetaan sortua ja kiinteät aineet erotetaan.
Vaahdotusprosessin hyötysuhde voidaan pitää lähes optimina, jos vaahdon pinta pysyy vakiokorkeudella. Tästä syystä vaahdon pin- 2 62594 nan keskimääräinen korkeus pitää saada selville sopivalla kojeella ja järjestää valvontasignaali vaahdotusreagenssin jake-lulaitteeseen, jotta vaahdotusreagenssin lisäyksiä vaahdotus-kennoihin saataisiin kunnolla säädellyiksi.
Aikaisemmin on tehty yrityksiä suunnitella mekaanisia ja sähköisiä laitteita vaahdon pinnan korkeuden mittaamiseksi ja valvomiseksi vaahdotuskennoissa. Esimerkkejä tällaisista laitteista ovat ilmakuplaputket ja kapasitanssin likiarvosondit, kuten US-patenttijulkaisussa 3,471,010 on esitetty. Yllä mainitut laitteet eivät kuitenkaan ole osoittautuneet täysin tyydyttäviksi vaahdon keskimääräisen pintakorkeuden mittaamisessa johtuen vaah-tomaisista ominaisuuksista, joiden vuoksi vaahto antaa hyvin vähän fyysistä vastusta ja koska vaahdon pyörteinen pinta saa aikaan lyhytaikaisia muutoksia, jotka pitää jättää ottamatta huomioon vaahdotusreagenssin lisäysten todellisen vaikutuksen mittaamiseksi .
Tästä syystä esillä olevan keksinnön tarkoituksena on saada aikaan vaahdon monitori, joka kykenee havaitsemaan vaahdon keskimääräisen korkeuden ja antamaan sellaisen valvontasignaalin, että vaahdotusreagenssin lisäyksiä kyetään säätelemään riittävän hyvin.
Tämän tarkoituksen saavuttamiseksi keksinnön mukainen vaahdon pinnan monitori on tunnettu siitä, että kuhunkin elektrodiin on kytketty erillinen vakiovirtalähde, joka kykenee kehittämään vakiovirran siihen liittyvän elektrodin koskettaessa vaahtoa, että summavirta/jännitemuunnin on kytketty kaikkien mainittujen vakiovirtalähteiden ulostuloihin virtojen laskemiseksi yhteen osoitukseksi niiden elektrodien kokonaislukumäärä, jotka koskettavat vaahtoa, ja että on järjestetty elimet virran vaihteluiden keskiarvon laskemiseksi ajan suhteen vaahdon pinnan keskitason osoittamiseksi.
Keksinnön edullinen suoritusmuoto on tunnettu siitä, että mainittuun summavirta/jännitemuuntimeen kuuluu operaatiovahvistin, jonka sisääntulo on yhdistetty kaikkien vakiovirtalähteiden ulostuloon kaikkien virtojen laskemiseksi yhteen niiden elektrodien 62594 kokonaislukumäärän osoittamiseksi jotka koskettavat vaahtoa, ja että mainittuihin elimiin virran vaihteluiden keskiarvon laskemiseksi ajan suhteen kuuluu määrätyn arvoinen kondensaattori, joka on kytketty operaatiovahvistimen takaisinkytkentäsilmukkaan.
Elektroninen kytkinlaite on edullisesti kytketty kunkin virtalähteen ja siihen liittyvän elektrodin väliin vakiovirran lähteen saattamiseksi sellaiseksi, että se ei reagoi vaahdon johtavuuteen. Sopiva elektronikytkin voi olla operaatiovahvistin, joka kykenee kehittämään ennalta määrätyn negatiivisen jännitteen siihen liittyvän elektrodin ollessa kosketuksessa vaahtoon ja ennalta määrätyn positiivisen jännitteen siihen liittyvän elektrodin ollessa irti kosketuksesta vaahdon kanssa.
Vaahdon pinnan tarkkailumonitorin ulostulot voidaan kytkeä johonkin sopivaan valvontalaitteeseen, joka puolestaan voidaan kytkeä sopivaan vaahdotusreagenssin jakelulaitteeseen vaahdo-tuskennoihin lisättävän vaahdotusreagenssin määrän säätämiseksi.
Seuraavassa keksintöä selvitetään esimerkin muodossa viittaamalla sen erääseen edulliseen suoritusmuotoon, joka on esitetty oheisissa piirustuksissa, joissa:
Kuvio 1 esittää vaahdon pinnan tarkkailujärjestelmän lohkokaavion.
Kuvio 2 esittää keksinnön mukaisen vaahdon pinnan tarkkailu-monitorin yksityiskohtaisen piirin.
Kuviossa 1 on esitetty kaavio laitteesta vaahdon pinnan valvomiseksi kennossa 10. Laitteessa on useita elektrodeja 12, jotka on sovitettu koskettamaan vaahdon 14 pintaa peräkkäisjärjestyksessä vaahdon pinnan kohotessa, elektrodeihin kytketty vaahdon pinnan monitori 16 sekä vaahdon valvontalaite 18, joka on yhdistetty vaahdon pinnan tarkkailumonitorin ulostuloon vaahdotusreagenssin jakelulaitteen 20 valvomiseksi, joka laite säätää sen ja-kelulaitteen määrän, joka lisätään vaahdotuskennoon 10, kuten viiva 21 osoittaa.
4 62594
Keksinnön mukainen vaahdon pinnan tarkkailumonitori on esitetty kuviossa 2. Vakiovirtalähde 20 on yhdistetty kuhunkin elektrodiin elektronikytkimen 22 kautta. Kaikkien vakiovirtalähteiden ulostulot on yhdistetty summavirta/jännitemuuntimeen 24, jonka ulostulo on yhdistetty sopivaan osoitirunittariin 26, joka voi olla esimerkiksi tanko-osoitin, sekä kuvion 1 mukaiseen vaahdon tarkkailu- tai valvontalaitteeseen 18.
Elektronikytkin 22 muodostuu käyttövahvistimesta OPI, jota käytetään +15 voltin lähteestä ja -15 voltin lähteestä tavanomaisesti. Käyttövahvistimen positiivinen tai ei-kääntävä sisääntulonapa on maadoitettu, kun taas sen negatiivinen tai kääntävä sisääntulonapa on yhdistetty elektrodiin 12. Vastuksista Rl ja R2 muodostuva jän-nitejakaja on kytketty +15 ja -15 volttien lähteiden kautta syöttämään noin 10 voltin jännite elektrodien 12 laskurielektrodiin (tavallisesti pisin elektrodi). Vastakkain kytketyt diodit Dl ja D2 on kytketty käyttövahvistimen OPI positiivisten ja negatiivisten sisääntulojen kautta vahvistimen suojaamiseksi tunnetulla tavalla. Käyttövahvistimen hilaesijännittää negatiivisesti hilaesijännite-verkko 28, joka muodostuu diodista D3, joka on kytketty sarjaan vastuksen R3 kanssa -15 voltin lähteen ja maan kautta. Hilaesijän-niteverkko on rakennettu antamaan hiukan negatiivisen hilaesijän-nitteen (noin -0,7 volttia) käyttövahvistimen negatiiviseen sisään-tulonapaan vastuksen R4 kautta silloin, kun elektrodi ei kosketa vaahtoa. Tämän jännitteen vahvistaa käyttövahvistin vastuksen R5 suhteessa, joka vastus on kytketty vahvistimen takaisinkytkentäsil-mukassa vastukseen R4 siten, että saadaan aikaan noin +5,4 voltin ulostulo silloin, kun elektrodi ei ole kosketuksessa vaahtoon. Kuitenkin kun vaahto koskettaa elektrodia, tulee käyttövahvistimen negatiiviseen napaan hiukan positiivinen jännite (noin 0,7 volttia), ja tämä jännite vahvistetaan vastuksen R5 vastusarvon suhteessa elektrodin ja itse vaahdon vastusarvojen summaan. Tämä suhde on suhteellisen suuri, koska elektrodin ja vaahdon vastus on alhainen. Tästä syystä käyttövahvistin OPI saturoituu täysin, jolloin se muodostaa hiukan vähäisemmän kuin -15 voltin ulostulon. Vastuksen R5 kautta kytketty kondensaattori Cl toimii tunnetulla tavalla suur-taajuussuotimena. Vakiovirran lähteen ja elektrodin välisen kytkennän aikaansaavan kytkinlaitteen 22 käyttö saattaa monitorin olennaisesti ei-reagoivaksi vaahdon johtavuudelle, koska käyttövahvistin antaa sellaisen ulostulon, joka muuttuu nollasta täyteen saturaa- 5 62594 tioon hyvin lyhyessä ajassa riippumatta siihen tulevan sisääntulo-signaalin amplitudista.
Vakiovirtalähde 20 muodostuu periaatteellisesti kenttätehotran-sistorista FET, diodista D4, kiintovastuksesta R6 ja säätövastuksesta R7. Kenttätehotransistorin portin jännittää jännitteen putoaminen kiintovastuksen R6 ja säätövastuksen R7 kautta, jolloin saadaan aikaan vakiovirtaulostulo heti, kun virtaus alkaa diodin D4 kautta käyttövahvistimen OPI ulostulon muuttuessa negatiiviseksi.
Summavirta/jännitemuunnin muodostuu käyttövahvistimesta OP2, joka on yhdistetty +15 ja -15 volttien lähteisiin. Käyttövahvistimen positiivinen sisääntulonapa on maadoitettu, kun taas sen negatiivinen sisääntulonapa on kytketty kaikkiin vakiovirran lähteisiin laskemaan yhteen kaikki virrat siten, että niiden elektrodien kokonaislukumäärä saadaan osoitetuksi, jotka ovat kosketuksessa vaahtoon. Käyttövahvistimen vahvistusta valvoo vastus R8, ja se on valittu sellaiseksi, että se saa aikaan mittarin 26 teiden poikkeaman silloin, kun kaikki elektrodit koskettavat vaahtoa. Käyttövahvistimen OP2 ulostulo on myös kytketty vaahdon valvontalaitteeseen 18 ulostulovastuksen R9 kautta, kuten edellä on mainittu.
Kondensaattori C2 on kytketty vastuksen R8 kautta siten, että se toimii ajan keskiarvon laskemislaitteena. Kuten helposti voidaan ymmärtää, aiheuttaa vaahdon pyörteinen pinta lyhytaikaisia muutoksia käyttövahvistimen OP2 sisääntulossa. Tällaiset muutokset muodostavat ikäänkuin sarjan vaiheita. Tällaiset lyhytaikaiset muutokset pitää eliminoida vaahdotusreagenssilisäysten todellisen vaikutuksen mittaamiseksi. Tästä syystä vastuksen R8 kautta kytketty kondensaattori C2 latautuu ja purkautuu jatkuvasti aiheuttaen siten sen, että käyttövahvistin antaa sellaisen ulostulon, joka laskee näiden lyhytaikaisten muutosten keskiarvon mitä aikaan tulee. Tämän tyyppinen virran keskiarvon laskujärjestelmä sopii erinomaisesti niihin olosuhteisiin, joihin törmätään tyypillisessä vaahdotuskennossa. On havaittu, että vaahdon kierteinen pinta mahdollistaa keskitason täsmällisemmän päättelemisen johtuen ajan ja pinnan keskiarvon laskusta vakiovirran ja virran keskiarvopiirien välityksellä. Tyypillisesti voidaan saavuttaa ίβ,35 mm:n valvontatarkkuus, kun elektrodipa tuuden pieneneminen on 19,05 mm.
6 62594
On selvää, että sumraavirta/jännitemuuntimen ulostulo voidaan saattaa vaahdon keskiarvopinnan lineaariseksi tai ei-lineaariseksi funktioksi riippuen elektrodipituuksien valituista pienenemismää-ristä. Lisäksi elektrodit voidaan kytkeä piiriin missä tahansa järjestyksessä silloin, kun on valittu lineaarinen suhde vaahdon pinnan ja ulostulojännitteen välille.
On myös selvää, että elektronikytkin, vakiovirran lähde sekä summa-virta/ jännitemuunnin, jotka on esitetty kuviossa 2, ovat ainoastaan esimerkkejä ja että muunkin tyyppisiä elektronikytkimiä, vakiovirran lähteitä sekä summavirta/jännitemuuntimia voidaan käyttää.
Vaahdon pinnan valvontajärjestelmän valvontalaiteosa voi olla mitä tahansa tyyppiä. Se on edullisesti säädettävissä eri vaahdotuspii-rien aikavakioon. Valvontalaitteen asetuspiste voidaan säätää käsin tai prosessivalvontatietokoneen avulla.

Claims (3)

7 625 94
1. Vaahdon pinnan tarkkailumonitori, johon kuuluu useita sähköä johtavia elektrodeja (12), jotka ovat välimatkan päässä toisistaan pystysuunnassa ja sovitettu koskettamaan vaahdon pintaa peräkkäis-järjestyksessä vaahdon pinnan kohotessa, tunnettu siitä, että kuhunkin elektrodiin on kytketty erillinen vakiovirtalähde (20), joka kykenee kehittämään vakiovirran siihen liittyvän elektrodin koskettaessa vaahtoa, että summavirta/jännitemuunnin , (24) on kytketty kaikkien mainittujen vakiovirtalähteiden ulos tuloihin virtojen laskemiseksi yhteen osoittamaan niiden elektrodien kokonaislukumäärä, jotka koskettavat vaahtoa, ja että on ^ järjestetty elimet (OP2, C2) virran vaihteluiden keskiarvon las kemiseksi ajan suhteen vaahdon pinnan keskitason osoittamiseksi.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen vaahdon pinnan tarkkailumonitori, tunnettu siitä, että mainittuun summavirta/jännitemuunti-meen kuuluu operaatiovahvistin (OP2), jonka sisääntulo on yhdistetty kaikkien vakiovirtalähteiden ulostuloon kaikkien virtojen laskemiseksi yhteen niiden elektrodien kokonaislukumäärän osoittamiseksi, jotka koskettavat vaahtoa, ja että mainittuihin elimiin virran vaihteluiden keskiarvon laskemiseksi ajan suhteen kuuluu määrätyn arvoinen kondensaattori (C2), joka on kytketty operaatio-vahvistimen takaisinkytkentäsilmukkaan.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen vaahdon pinnan tarkkailumonitori, tunnettu siitä, että siihen kuuluu elektroninen kytkinelin (22), joka yhdistää kunkin vakiovirtalähteen siihen liittyvään ^ elektrodiin, johon elektroniseen kytkinelimeen (22) kuuluu operaa tiovahvistin (OP^), joka kykenee kehittämään ennalta määrätyn negatiivisen jännitteen kun siihen liittyvä elektrodi on kosketuksessa vaahdon kanssa ja ennalta määrätyn positiivisen jännitteen kun siihen liittyvä elektrodi on pois kosketuksesta vaahdon kanssa, jolloin vakiovirtalähde synnyttää ulostulosuureen, joka on olennaisesti riippumaton vaahdon johtavuudesta.
FI771439A 1976-05-06 1977-05-05 Monitor foer kontrollering av skumnivao FI62594C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CA251,933A CA1053778A (en) 1976-05-06 1976-05-06 Froth level monitor
CA251933 1976-05-06

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI771439A7 FI771439A7 (fi) 1977-11-07
FI62594B true FI62594B (fi) 1982-09-30
FI62594C FI62594C (fi) 1983-01-10

Family

ID=4105886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI771439A FI62594C (fi) 1976-05-06 1977-05-05 Monitor foer kontrollering av skumnivao

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4059016A (fi)
JP (1) JPS52135767A (fi)
CA (1) CA1053778A (fi)
DE (1) DE2720006C3 (fi)
FI (1) FI62594C (fi)
GB (1) GB1540341A (fi)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4176553A (en) * 1978-12-21 1979-12-04 Ford Motor Company Liquid level measuring system
JPS645237Y2 (fi) * 1981-01-07 1989-02-09
JPS58156755A (ja) * 1982-03-10 1983-09-17 Nissan Motor Co Ltd 自動変速機の油圧制御装置
US4602344A (en) * 1984-10-25 1986-07-22 Air Products And Chemicals, Inc. Method and system for measurement of liquid level in a tank
US4736329A (en) * 1984-10-25 1988-04-05 Air Products And Chemicals, Inc. Method and system for measurement of liquid level in a tank
IT1211347B (it) * 1987-07-31 1989-10-18 Fiat Auto Spa Dispositivo di misura del quantitativo di liquido contenuto all interno di un serbatoio
DE3737607A1 (de) * 1987-11-05 1989-05-24 Hoefelmayr Bio Melktech Verfahren und vorrichtung zur durchfuehrung von messungen an einer schaeumenden fluessigkeit
EP0367868B1 (en) * 1988-11-05 1993-05-26 Able Corporation Detection of the surface of a liquid or foam
SI9200073A (sl) * 1992-05-06 1993-12-31 Andrej Zatler Nivojsko stikalo
US5583544A (en) * 1994-10-06 1996-12-10 Videojet Systems International, Inc. Liquid level sensor for ink jet printers
US6121602A (en) * 1998-06-18 2000-09-19 Nalco/Exxon Energy Chemicals, L.P. Method for monitoring foam and gas carry under and for controlling the addition of foam inhibiting chemicals
NL1010213C2 (nl) * 1998-09-29 2000-03-30 Haffmans Bv Werkwijze en inrichting voor het vaststellen van de stabiliteit van een schuimlaag op een vloeistofkolom.
KR200272969Y1 (ko) * 2002-01-30 2002-04-20 김홍배 가정용 두유,순두부,두부 제조장치의 거품 감지차단장치
KR100499377B1 (ko) 2003-05-27 2005-07-05 김홍배 가정용 두유두부제조기의 스팀 공급장치
KR200329861Y1 (ko) * 2003-07-24 2003-10-10 김홍배 가정용 두유 두부 제조기의 과열 방지장치
KR200331665Y1 (ko) * 2003-08-06 2003-10-30 김홍배 가정용 두유 두부 제조기의 가열 제어장치
KR200336989Y1 (ko) 2003-09-17 2004-01-03 김홍배 가정용 두유두부 제조기의 모터 체결력 보강장치
US20090000494A1 (en) * 2003-10-08 2009-01-01 Hong-Bae Kim Household soybean milk and tofu maker
KR200338470Y1 (ko) * 2003-10-08 2004-01-16 김홍배 증기토출기능을 구비한 가정용 두유두부 제조기
US20080053316A1 (en) * 2003-10-08 2008-03-06 Hong-Bae Kim Household bean milk and bean curd maker closed by gravity
KR200338466Y1 (ko) * 2003-10-08 2004-01-16 김홍배 가정용 두유 두부 제조기의 대용량 스위치를 이용한일차측 전원 차단장치
KR200338468Y1 (ko) * 2003-10-08 2004-01-16 김홍배 가정용 두유 두부 제조기의 에어 벤트장치
KR200338469Y1 (ko) * 2003-10-08 2004-01-16 김홍배 자중결합 기능을 갖는 가정용 두유 두부 제조기
KR200338467Y1 (ko) * 2003-10-08 2004-01-16 김홍배 가정용 두유 두부 제조기의 손잡이 겸용 록킹장치
KR200338530Y1 (ko) * 2003-10-14 2004-01-16 김홍배 가정용 두유 두부 제조기의 실리콘 팩킹 결합 장치
FI20051073A0 (fi) * 2005-10-24 2005-10-24 Geol Tutkimuskeskus Gtk Mittauslaite ja menetelmä vaahdotuspedin laadun ja sen sisäisten vaihteluiden luonnehtimiseksi mittaamalla sekä vaahdon että sen alla olevan nesteen/lietteen johtavuutta
US12325032B2 (en) * 2016-11-04 2025-06-10 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Interface detection device and system for dispersed multi-phase fluids
US9826856B1 (en) 2016-12-15 2017-11-28 Nicholas J. Singer Coffee dispenser
US10455968B1 (en) 2016-12-15 2019-10-29 Nicholas J. Singer Coffee dispenser

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3935739A (en) * 1974-04-10 1976-02-03 Liquidometer Corporation Liquid level gauging apparatus
US3911744A (en) * 1974-04-10 1975-10-14 Liquidometer Corp Liquid level gauging apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
GB1540341A (en) 1979-02-07
DE2720006B2 (de) 1979-07-05
FI771439A7 (fi) 1977-11-07
CA1053778A (en) 1979-05-01
DE2720006C3 (de) 1980-03-13
JPS52135767A (en) 1977-11-14
FI62594C (fi) 1983-01-10
US4059016A (en) 1977-11-22
DE2720006A1 (de) 1977-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI62594B (fi) Monitor foer kontrollering av skumnivao
KR100805310B1 (ko) 저항성 유체 레벨 감지 및 제어 시스템
US3498131A (en) Liquid level measuring or indicating device
US4641084A (en) Ion concentration measuring apparatus
US3800592A (en) Flowmeter
US5485747A (en) Method of measurement of relative humidity, in particular in radiosondes, and humidity detectors that make use of the method
GB1578527A (en) Apparatus for detecting water in oil
US4038871A (en) Liquid level gauge
JP2000028420A (ja) 液体レベル検出システム
KR920700405A (ko) 용량성 요소의 용량-전압 특성에 영향을 주는 양의 측정회로 및 방법
US3992662A (en) Liquid conductivity measuring device
US3635681A (en) Differential conductivity-measuring apparatus
ES483603A1 (es) Aparato de deteccion de nivel de liquido
ATE17784T1 (de) Vorrichtung zur messung der fuellhoehe und der mittleren temperatur von fluessigkeiten in tankanlagen.
US3959108A (en) System for automatically measuring and controlling the sulfate content of a chromium plating solution
US3582767A (en) Apparatus having an integrated amplifiers for monitoring the conductivity of solutions
US2945179A (en) Electrical measuring arrangement
US3593119A (en) Electronic titrimeter
US3593118A (en) Apparatus for measuring the electrical conductivity of liquids having dielectric-faced electrodes
US10101190B2 (en) Field device electronics for a conductive limit-level switch
SU1150489A1 (ru) Уровнемер
JPH0627011A (ja) 湿度又は液比重及び温度の測定装置
US20250377327A1 (en) Measurement of characteristics of a fluid
JPS5796244A (en) Measuring device for humidity
GB1174395A (en) Improvements in or relating to Level Indicators

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: NORANDA MINES LTD