FI122699B - Förfarande för doping av ett material - Google Patents

Förfarande för doping av ett material Download PDF

Info

Publication number
FI122699B
FI122699B FI20045490A FI20045490A FI122699B FI 122699 B FI122699 B FI 122699B FI 20045490 A FI20045490 A FI 20045490A FI 20045490 A FI20045490 A FI 20045490A FI 122699 B FI122699 B FI 122699B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
doping
doped
dopant
previous
layer
Prior art date
Application number
FI20045490A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI20045490A (sv
FI20045490A0 (sv
Inventor
Pekka T Soininen
Original Assignee
Beneq Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beneq Oy filed Critical Beneq Oy
Publication of FI20045490A0 publication Critical patent/FI20045490A0/sv
Priority to FI20045490A priority Critical patent/FI122699B/sv
Priority to KR1020067027145A priority patent/KR20070032957A/ko
Priority to JP2007517322A priority patent/JP5032986B2/ja
Priority to CN2005800207881A priority patent/CN1972880B/zh
Priority to US11/597,358 priority patent/US20070218290A1/en
Priority to EP05757891A priority patent/EP1776321A1/en
Priority to PCT/FI2005/050234 priority patent/WO2006000643A1/en
Priority to RU2006144402/03A priority patent/RU2370464C2/ru
Priority to CA 2568002 priority patent/CA2568002A1/en
Publication of FI20045490A publication Critical patent/FI20045490A/sv
Application granted granted Critical
Publication of FI122699B publication Critical patent/FI122699B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01838Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the deposited glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Claims (23)

1. Förfarande för doping av ett material, i vilket förfarande ätminsto-ne ett avlagringsskikt av ett dopingämne avlagras pä ett materials yta och/eller 5 pä en del / delar av dess yta medelst atomskiktdopingförfarande (ALD-förfarande), kännetecknat av att det medelst dopingämnet belagda materialet vidarebehandlas genom att förändra och/eller förstöra dopiningsskiktets eller dopningsskiktens ursprungliga struktur ätminstone delvis sä att dopiningsskik-tet eller dopningsskikten tillsammans med materialet bildar ett nytt material. 10
2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att materialet som skall dopas är ett enhetligt fast eller amorft material.
3. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att materialet som skall dopas är partikelaktigt eller poröst.
4. Förfarande enligt patentkrav 3, kännetecknat av att materialets 15 specifika yta är över 1 m2/g, fördelaktigt över 10 m2/g, och företrädesvis över 100 m2/g.
5. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, kännetecknat av att materialet är glas, keramik, polymer, metall eller kompositmaterial framställt av dessa. 20
6. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck nat av att pä materialets yta avlagras mer än ett avlagringslikt av dopingämne.
7. Förfarande enligt patentkrav 6, kännetecknat av att ätminstone en del av skikten är avlagrade av olika dopingämne.
8. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck-25 nat av att vidarebehandlingen av det medelst dopingämnet belagda materialet sker medelst mekanisk eller kemisk behandling, strälning eller värme. 5
9. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck- C\J ^ nat av att materialet omfattar reaktiva grupper tili vilka dopingämnena kan bin- ° da sig. CD 30
10. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att de reaktiva | grupperna är valda frän gruppen -ON, -OR, -SH och/eller -NH-m, där R bety- o der kolväte. CD J
11. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck- o nat av att pä materialets yta tilläggs reaktiva grupper genom att behandla ma- ™ 35 terialet med strälning eller genom att läta ytan reagera med lämplig gas eller vätska som formar en aktiv grupp pä materialets yta.
12. Förfarande enligt patentkrav 11, kännetecknat av att förfarandet omfattar även sköljning av materialets yta med inert gas mellan avlagringen skikten som utförs medelst atomskiktdopingförfarande.
13. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck-5 nat av att materialet som skall dopas är pä ytan av ett stödmaterial.
14. Förfarande enligt patentkrav 13, kännetecknat av att materialet som skall dopas har anbringats pä ytan av ett stödmaterial och/eller pä ytan/ytor av detta medelst atomskiktdopingförfarande.
15. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-14, kännetecknat av 10 att under vidarebehandlingen löses dopingämnet delvis eller helt i materialet som skall dopas.
16. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-14, kännetecknat av att under vidarebehandlingen förblir dopingämnet som en del av en mellanfas-struktur i materialet som skall dopas. 15
17. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-14, kännetecknat av att under vidarebehandlingen reagerar dopingämnet med materialet som skall dopas bildande en ny förening som en del av strukturen som formas.
18. Förfarande enligt patentkrav 17, kännetecknat av att materialet som skall dopas, kompositmaterialet eller dopingämnet och det under vidare- 20 behandlingen medelst ALD-förfarandet avlagrade dopingämnet reagerar formande olika föreningar pä olika ställen av materialet som skall dopas.
19. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, kännetecknat av att egenskaperna pä materialet som dopats förändras pä grund av diffusion, blandning eller reaktion. 25
20. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck- nat av att förfarandet används för att ge det dopade materialet en ny egen-5 skap, säsom förändrad brytningskoefficient, absorptionsförmäga, elektrisk- (M ^ och/eller värmeledningsförmäga, färg, eller mekanisk eller kemisk beständig- ° het. CD 30
21. Förfarande enligt nägot av de tidigare patentkraven, känneteck- | nat av att dopingämnet är ett tillsatsämne, hjälpämne, fyllnadsämne, färgämne, o etter blandningsämne. CD J
22. Förfarande enligt patentkrav 21, kännetecknat av att dopnings- o ämnet är ett hjälpämne för värme-, ljus- eller elledningsförmäga, härdare, ^ 35 mjukningsmedel, pigment eller sintringstillsatsämne .
23. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att det används för att framställa det yttersta skalskiktet för ett glasämne, kärnan för ett glas-ämne, en ljusledare, strukturer i kiselskivor, härdmetall, ytblandning eller kom-positmaterial. 5 C\J δ (M co o σ> X en CL O σ> sj- m sj- o o (M
FI20045490A 2004-06-24 2004-12-17 Förfarande för doping av ett material FI122699B (sv)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20045490A FI122699B (sv) 2004-12-17 2004-12-17 Förfarande för doping av ett material
US11/597,358 US20070218290A1 (en) 2004-06-24 2005-06-23 Method for Doping Material and Doped Material
JP2007517322A JP5032986B2 (ja) 2004-06-24 2005-06-23 材料にドーピングするための方法およびドーピングされた材料
CN2005800207881A CN1972880B (zh) 2004-06-24 2005-06-23 掺杂材料的方法和掺杂的材料
KR1020067027145A KR20070032957A (ko) 2004-06-24 2005-06-23 재료도핑방법 및 도핑된 재료
EP05757891A EP1776321A1 (en) 2004-06-24 2005-06-23 Method for doping material and doped material
PCT/FI2005/050234 WO2006000643A1 (en) 2004-06-24 2005-06-23 Method for doping material and doped material
RU2006144402/03A RU2370464C2 (ru) 2004-06-24 2005-06-23 Способ легирования материала и легированный материал
CA 2568002 CA2568002A1 (en) 2004-06-24 2005-06-23 Method for doping material and doped material

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20045490A FI122699B (sv) 2004-12-17 2004-12-17 Förfarande för doping av ett material
FI20045490 2004-12-17

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20045490A0 FI20045490A0 (sv) 2004-12-17
FI20045490A FI20045490A (sv) 2006-06-18
FI122699B true FI122699B (sv) 2012-05-31

Family

ID=33548087

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20045490A FI122699B (sv) 2004-06-24 2004-12-17 Förfarande för doping av ett material

Country Status (1)

Country Link
FI (1) FI122699B (sv)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2134661A4 (en) * 2007-02-12 2014-08-20 Beneq Oy METHOD FOR DOPING GLASS

Also Published As

Publication number Publication date
FI20045490A (sv) 2006-06-18
FI20045490A0 (sv) 2004-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070218290A1 (en) Method for Doping Material and Doped Material
Baldus et al. Novel high‐performance ceramics—amorphous inorganic networks from molecular precursors
Loehman Oxynitride glasses
US10676391B2 (en) High temperature glass-ceramic matrix with embedded reinforcement fibers
JPS62501699A (ja) 多成分光ファイバ及びその製造方法
TW201018655A (en) Corrosion-resistant bonding agent's for bonding ceramic componets which are exposed to plasmas
RU2370464C2 (ru) Способ легирования материала и легированный материал
JPH02196045A (ja) 高純度石英母材製造用加熱炉
KR100967034B1 (ko) 실투가 조절된 용융 석영 제품
FI122699B (sv) Förfarande för doping av ett material
US20080038524A1 (en) Selective Doping of a Material
KR101084393B1 (ko) 광섬유 모재의 제조 방법 및 그 장치
US20110120190A1 (en) Method for producing quartz glass using a mixed powder
EP0466109B1 (en) Process for producing a silicon carbide-base complex
CN104611916A (zh) 外表沉积SiBCN涂层的碳纤维及其制备方法
CN1972880A (zh) 掺杂材料的方法和掺杂的材料
JP3393063B2 (ja) 不純物金属遮蔽用耐熱性合成シリカガラス及びその製造方法
US7179505B2 (en) Manufacturing method of MoSi2-SiC nanocomposite coating
JPH0461811B2 (sv)
US6997015B2 (en) EUV lithography glass structures formed by extrusion consolidation process
WO2017034904A1 (en) Layered glass structures
EP0674607B1 (en) Amorphous boron carbide coating
EP0405544B1 (en) Method of manufacturing sintered body of silicon carbide
JP2021155295A (ja) セラミックス被膜とその製造方法
US4940477A (en) Method for synthesizing topaz

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: BENEQ OY

Free format text: BENEQ OY

FG Patent granted

Ref document number: 122699

Country of ref document: FI

Kind code of ref document: B

MM Patent lapsed