FI111357B - Elektriskt kontrollerbar skiva med varierande tjocklek och förfarande för dess bildning - Google Patents
Elektriskt kontrollerbar skiva med varierande tjocklek och förfarande för dess bildning Download PDFInfo
- Publication number
- FI111357B FI111357B FI20010916A FI20010916A FI111357B FI 111357 B FI111357 B FI 111357B FI 20010916 A FI20010916 A FI 20010916A FI 20010916 A FI20010916 A FI 20010916A FI 111357 B FI111357 B FI 111357B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- electrode
- optical
- electrode structure
- thickness
- light
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 86
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 16
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 14
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 14
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 14
- 239000003190 viscoelastic substance Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 claims description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/001—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on interference in an adjustable optical cavity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/06—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the phase of light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
Claims (16)
1. Ljus genomsläppande optisk kopplingsanordning, som används för hantering av genom sagda anordning släppande ljusvag eller Ijusvagor (B), varvid anordningen omfattar ätminstone: — en första transparent elektrodkonstruktion (ES1), som bestär av en elektrodzon eller flera elektrodzoner med en inverkande sammanlagd yta av och som är anordnade pä sä sätt, att sagda elektrodzoner kan motta en spanning eller spänningar, — en andra transparent elektrodkonstruktion (ES2), som bestär av en elektrodzon eller flera elektrodzoner med en inverkande sammanlagd yta av A2 och som är anordnade pä sä sätt, att sagda elektrodzoner kan motta en spanning eller spänningar, och — ett mellan sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkon-struktioner placerat skikt av dielektriskt och transparent viskoelas-tiskt material, som kan förändra sin form relativt en lokal tjocklek som korrelat till ett eller flera elektriska fait som bildar sagda första (ES1) eller andra (ES2) elektrodkonstruktion, när sagda ett eller flera elektriska fält genomsläpper sagda viskoelastiskt material (G), kännetecknad därav, att sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruktioner är anordnade sä, att — den inverkande sammanlagda ytan A^ av sagda första elektrodkonstruktion (ES1) är väsentligen större än den inverkande sammanlagda ytan A2 av sagda andra elektrodkonstruktion (ES2), och — för ytan, som motsvarar väsentligen projektionen av sagda yta A2 tili sagda yta A1f kan tjockleken av skiktet av det viskoelastiska materialet (G) förändras elektriskt pä sä sätt, att tjockleken av sagda skikt i olika delar av projektionsytan stannar väsentligen lika stor, för att genomföra en elektriskt kontrollerbar skiva (30) med varierande tjocklek varvid sagda skiva (30) med varierande tjocklek är tillämplig för föränd-ring av längden av den optiska banan av förmedlat ljus för att utföra optisk koppling som baserar sig pä interferometri.
2. Anordning enligt krav 1, kännetecknad därav, att sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruktioner bestär bäda av en enstaka rektangel elektrodzon, och sagda elektrodzoner är anordnade sä, att deras planer är parallella med varandra.
3. Anordning enligt krav 1 eller 2, kännetecknad därav, att under-lagsmaterialet (SM1) som stöder sagda första elektrodkonstruktion (ES1) och/eller underlagsmaterialet (SM2) som stöder sagda andra elektrodkonstruktion (ES2) är anordnade att astadkomma spektrisk filtrering av ljusvägen (B).
4. Anordning enligt nägot av de föregäende kraven 1—3, kännetecknad därav, att sagda första (ES1) och/eller andra (ES2) elektrodkonstruktion är en indiumtennoxid (ITO) -konstruktion.
5. Anordning enligt nägot av de föregäende kraven 1—4, kännetecknad därav, att alla fasta optiska ytorna (ES1, ES2, SM1, SM2) av sagda anordning (30) är försedda med reflektionen spärrande beläggningar.
6. Anordning enligt nägot av kraven 1—4, kännetecknad därav, att sagda anordning (30) är placerad mellan tvä externa, starkt reflekte-rande speglar för att bilda en interferometriskt optisk kavitet.
7. Anordning enligt nägot av de föregäende kraven 1—4, kännetecknad därav, att sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruktionen stödjande underlagsmaterialen (SM1, SM2) och/eller sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruktion är anordnade att reflektera ljus (RC1, RC2) för att bilda en interfero-metrisk optisk kavitet och att genomföra en optiskt kontrollerbar Fabry-Perot-interferometri.
8. Anordning enligt nägot av de föregäende kraven 1-5, kännetecknad därav, att sagda anordning (30) är placerad pä den optiska banan av ätminstone en optisk gren (51, 52) av Mach-Zehnder interferometri för att genomföra en elektriskt kontrollerbar Mach-Zehnder-interferometri -typisk koppling (50).
9. Förfarande för att bilda en ljus genomsläppande optisk kopplings-anordning, som används för bantering av genom sagda anordning släppande ljusväg eller ljusvägor (B), varvid anordningen omfattar ätminstone de följande steg: — en första transparent elektrodkonstruktion (ES1) bildas, som bestär av en eller elektrodzon eller flera elektrodzoner med en inverkande sammanlagd yta av Ai och som är anordnade pä sä sätt, att sagda elektrodzoner kan motta en spanning eller spänningar, — en andra transparent elektrodkonstruktion (ES2) bildas, som bestär av en elektodzon eller flera elektrodzonen med en inverkande sammanlagd yta av A2 och som är anordnade pä sä sätt, att sagda elektrodzoner kan motta en spänning eller spänningar, och — ett mellan sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruk-tioner placerat skikt av dielektriskt och transparent viskoelastiskt material bildas, som kan förändra sin form relativt en lokal tjocklek som korrelat tili ett eller flera elektriska fält som bildar sagda första (ES1) eller andra (ES2) elektrodkonstruktion, när sagda ett eller flera elektriska fält genomsläpper sagda viskoelastiskt material (G). kännetecknat därav, att sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrod-konstruktioner anordnas sä, att — den inverkande sammanlagda ytan A1 av sagda första elektrodkonstruktion (ES1) är väsentligen större än den inverkande sammanlagda ytan A2 av sagda andra elektrodkonstruktion (ES2), och — för ytan, som motsvarar väsentligen projektionen av sagda yta A2 tili sagda yta Ah kan tjockleken av skiktet av det viskoelastiska materialet (G) förändras elektriskt pä sä sätt, att tjockleken av sagda skikt i olika delar av projektionsytan stannar väsentligen lika stor, för att genomföra en elektriskt kontrollerbar skiva (30) med varierande tjocklek; varvid sagda skiva (30) med varierande tjocklek är tillämplig för föränd-ring av längden av den optiska banan av förmedlat ljus för att utföra optisk koppling som baserar sig pä interferometri.
10. Förfarande enligt krav 9, kännetecknat därav, att sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruktioner bestär bäda av en enstaka rektangel elektrodzon, och sagda elektrodzoner anordnas sä att deras planer är parallella med varandra.
11. Förfarande enligt krav 9 eller 10, kännetecknat därav, att under-lagsmaterialet (SM1) som stöder sagda första elektrodkonstruktion (ES1) och/eller underlagsmaterialet (SM2) som stöder sagda andra elektrodkonstruktion (ES2) anordnas att ästadkomma spektriskt filtre-ring av ljusvägen (B).
12. Förfarande enligt nägot av de föregäende kraven 9—11, kännetecknat därav, att sagda första (ES1) och/eller andra (ES2) elektrodkonstruktion bildas som en indiumtennoxid (ITO) -konstruktion.
13. Förfarande enligt nägot av de föregäende kraven 9—12, kännetecknat därav, att alla fasta optiska ytorna (ES1, ES2, SM1, SM2) av sagda anordning (30) förses med reflektionen spärrande beläggningar.
14. Förfarande enligt nägot av kraven 9—12, kännetecknat därav, att sagda anordning (30) placeras mellan tvä externa, starkt reflekterande speglar för att bilda en interferometriskt optisk kavitet.
15. Förfarande enligt nägot av de föregäende kraven 9—12, kännetecknat därav, att sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrod-konstruktionen stödjande underlagsmaterialen (SM1, SM2) och/eller sagda första (ES1) och andra (ES2) elektrodkonstruktion anordnas att reflektera ljus (RC1, RC2) för att bilda en interferometrisk optisk kavitet och att genomföra en optiskt kontrollerbar Fabry-Perot-interferometri.
16. Förfarande enligt nägot av de föregäende kraven 9 eller 13, kännetecknat därav, att sagda anordning (30) placeras pä den optiska banan av ätminstone en optisk gren (51, 52) av Mach-Zehnder interfe-rometri för att genomföra en elektriskt kontrollerbar Mach-Zehnder-interferometri -typisk koppling (50).
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20010916A FI111357B (sv) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Elektriskt kontrollerbar skiva med varierande tjocklek och förfarande för dess bildning |
PCT/FI2002/000307 WO2002091059A1 (en) | 2001-05-03 | 2002-04-12 | Electrically controlled variable thickness plate |
US10/476,821 US6950227B2 (en) | 2001-05-03 | 2002-04-12 | Electrically controlled variable thickness plate |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20010916 | 2001-05-03 | ||
FI20010916A FI111357B (sv) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Elektriskt kontrollerbar skiva med varierande tjocklek och förfarande för dess bildning |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI20010916A0 FI20010916A0 (sv) | 2001-05-03 |
FI20010916L FI20010916L (sv) | 2002-11-04 |
FI111357B true FI111357B (sv) | 2003-07-15 |
Family
ID=8561108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI20010916A FI111357B (sv) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Elektriskt kontrollerbar skiva med varierande tjocklek och förfarande för dess bildning |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6950227B2 (sv) |
FI (1) | FI111357B (sv) |
WO (1) | WO2002091059A1 (sv) |
Families Citing this family (76)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7370185B2 (en) * | 2003-04-30 | 2008-05-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Self-packaged optical interference display device having anti-stiction bumps, integral micro-lens, and reflection-absorbing layers |
US7050126B2 (en) | 2003-04-03 | 2006-05-23 | Nokia Corporation | Direct view display based on light diffraction from a deformable layer |
US7072093B2 (en) | 2003-04-30 | 2006-07-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical interference pixel display with charge control |
US7447891B2 (en) | 2003-04-30 | 2008-11-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Light modulator with concentric control-electrode structure |
US7212332B2 (en) * | 2004-06-01 | 2007-05-01 | Intel Corporation | Micro-electromechanical system (MEMS) polyelectrolyte gel network pump |
US7733553B2 (en) | 2005-09-21 | 2010-06-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Light modulator with tunable optical state |
GB0718706D0 (en) | 2007-09-25 | 2007-11-07 | Creative Physics Ltd | Method and apparatus for reducing laser speckle |
WO2007142978A2 (en) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Light Resonance Technologies, Llc | Light filter/modulator and array of filters/modulators |
JP4733094B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2011-07-27 | 住友大阪セメント株式会社 | 光素子 |
US11726332B2 (en) | 2009-04-27 | 2023-08-15 | Digilens Inc. | Diffractive projection apparatus |
US9335604B2 (en) | 2013-12-11 | 2016-05-10 | Milan Momcilo Popovich | Holographic waveguide display |
US11300795B1 (en) | 2009-09-30 | 2022-04-12 | Digilens Inc. | Systems for and methods of using fold gratings coordinated with output couplers for dual axis expansion |
US8233204B1 (en) | 2009-09-30 | 2012-07-31 | Rockwell Collins, Inc. | Optical displays |
US10795160B1 (en) | 2014-09-25 | 2020-10-06 | Rockwell Collins, Inc. | Systems for and methods of using fold gratings for dual axis expansion |
US11320571B2 (en) | 2012-11-16 | 2022-05-03 | Rockwell Collins, Inc. | Transparent waveguide display providing upper and lower fields of view with uniform light extraction |
US8659826B1 (en) | 2010-02-04 | 2014-02-25 | Rockwell Collins, Inc. | Worn display system and method without requiring real time tracking for boresight precision |
US9274349B2 (en) | 2011-04-07 | 2016-03-01 | Digilens Inc. | Laser despeckler based on angular diversity |
EP2748670B1 (en) | 2011-08-24 | 2015-11-18 | Rockwell Collins, Inc. | Wearable data display |
WO2016020630A2 (en) | 2014-08-08 | 2016-02-11 | Milan Momcilo Popovich | Waveguide laser illuminator incorporating a despeckler |
US10670876B2 (en) | 2011-08-24 | 2020-06-02 | Digilens Inc. | Waveguide laser illuminator incorporating a despeckler |
US9599813B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-03-21 | Rockwell Collins, Inc. | Waveguide combiner system and method with less susceptibility to glare |
US9366864B1 (en) | 2011-09-30 | 2016-06-14 | Rockwell Collins, Inc. | System for and method of displaying information without need for a combiner alignment detector |
US8634139B1 (en) | 2011-09-30 | 2014-01-21 | Rockwell Collins, Inc. | System for and method of catadioptric collimation in a compact head up display (HUD) |
US9715067B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-07-25 | Rockwell Collins, Inc. | Ultra-compact HUD utilizing waveguide pupil expander with surface relief gratings in high refractive index materials |
US20150010265A1 (en) | 2012-01-06 | 2015-01-08 | Milan, Momcilo POPOVICH | Contact image sensor using switchable bragg gratings |
US9523852B1 (en) | 2012-03-28 | 2016-12-20 | Rockwell Collins, Inc. | Micro collimator system and method for a head up display (HUD) |
JP6238965B2 (ja) | 2012-04-25 | 2017-11-29 | ロックウェル・コリンズ・インコーポレーテッド | ホログラフィック広角ディスプレイ |
US9933684B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-04-03 | Rockwell Collins, Inc. | Transparent waveguide display providing upper and lower fields of view having a specific light output aperture configuration |
US9674413B1 (en) | 2013-04-17 | 2017-06-06 | Rockwell Collins, Inc. | Vision system and method having improved performance and solar mitigation |
WO2015015138A1 (en) | 2013-07-31 | 2015-02-05 | Milan Momcilo Popovich | Method and apparatus for contact image sensing |
US9244281B1 (en) | 2013-09-26 | 2016-01-26 | Rockwell Collins, Inc. | Display system and method using a detached combiner |
FR3012255B1 (fr) * | 2013-10-17 | 2017-03-10 | Commissariat Energie Atomique | Procede de formation de rides par fusion d'une fondation sur laquelle repose une couche contrainte |
US10732407B1 (en) | 2014-01-10 | 2020-08-04 | Rockwell Collins, Inc. | Near eye head up display system and method with fixed combiner |
US9519089B1 (en) | 2014-01-30 | 2016-12-13 | Rockwell Collins, Inc. | High performance volume phase gratings |
US9244280B1 (en) | 2014-03-25 | 2016-01-26 | Rockwell Collins, Inc. | Near eye display system and method for display enhancement or redundancy |
WO2016020632A1 (en) | 2014-08-08 | 2016-02-11 | Milan Momcilo Popovich | Method for holographic mastering and replication |
WO2016042283A1 (en) | 2014-09-19 | 2016-03-24 | Milan Momcilo Popovich | Method and apparatus for generating input images for holographic waveguide displays |
US9715110B1 (en) | 2014-09-25 | 2017-07-25 | Rockwell Collins, Inc. | Automotive head up display (HUD) |
US10088675B1 (en) | 2015-05-18 | 2018-10-02 | Rockwell Collins, Inc. | Turning light pipe for a pupil expansion system and method |
WO2016113534A1 (en) | 2015-01-12 | 2016-07-21 | Milan Momcilo Popovich | Environmentally isolated waveguide display |
US9632226B2 (en) | 2015-02-12 | 2017-04-25 | Digilens Inc. | Waveguide grating device |
US10247943B1 (en) | 2015-05-18 | 2019-04-02 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display (HUD) using a light pipe |
US11366316B2 (en) | 2015-05-18 | 2022-06-21 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display (HUD) using a light pipe |
US10126552B2 (en) | 2015-05-18 | 2018-11-13 | Rockwell Collins, Inc. | Micro collimator system and method for a head up display (HUD) |
US10108010B2 (en) | 2015-06-29 | 2018-10-23 | Rockwell Collins, Inc. | System for and method of integrating head up displays and head down displays |
US9910276B2 (en) | 2015-06-30 | 2018-03-06 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Diffractive optical elements with graded edges |
US10670862B2 (en) | 2015-07-02 | 2020-06-02 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Diffractive optical elements with asymmetric profiles |
US9864208B2 (en) | 2015-07-30 | 2018-01-09 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Diffractive optical elements with varying direction for depth modulation |
US10038840B2 (en) | 2015-07-30 | 2018-07-31 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Diffractive optical element using crossed grating for pupil expansion |
US10073278B2 (en) | 2015-08-27 | 2018-09-11 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Diffractive optical element using polarization rotation grating for in-coupling |
CN108474945B (zh) | 2015-10-05 | 2021-10-01 | 迪吉伦斯公司 | 波导显示器 |
US10429645B2 (en) | 2015-10-07 | 2019-10-01 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Diffractive optical element with integrated in-coupling, exit pupil expansion, and out-coupling |
US10241332B2 (en) | 2015-10-08 | 2019-03-26 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Reducing stray light transmission in near eye display using resonant grating filter |
US10234686B2 (en) | 2015-11-16 | 2019-03-19 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Rainbow removal in near-eye display using polarization-sensitive grating |
US10598932B1 (en) | 2016-01-06 | 2020-03-24 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display for integrating views of conformally mapped symbols and a fixed image source |
US10859768B2 (en) | 2016-03-24 | 2020-12-08 | Digilens Inc. | Method and apparatus for providing a polarization selective holographic waveguide device |
WO2017178781A1 (en) | 2016-04-11 | 2017-10-19 | GRANT, Alastair, John | Holographic waveguide apparatus for structured light projection |
WO2018102834A2 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Digilens, Inc. | Waveguide device with uniform output illumination |
US10545346B2 (en) | 2017-01-05 | 2020-01-28 | Digilens Inc. | Wearable heads up displays |
US10108014B2 (en) * | 2017-01-10 | 2018-10-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Waveguide display with multiple focal depths |
US10295824B2 (en) | 2017-01-26 | 2019-05-21 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display with an angled light pipe |
EP3698214A4 (en) | 2017-10-16 | 2021-10-27 | Digilens Inc. | SYSTEMS AND METHODS FOR MULTIPLICATION OF THE IMAGE RESOLUTION OF A PIXELIZED DISPLAY |
KR102745805B1 (ko) | 2018-01-08 | 2024-12-20 | 디지렌즈 인코포레이티드. | 광 도파관의 제조 방법 |
EP3710893A4 (en) | 2018-01-08 | 2021-09-22 | Digilens Inc. | SYSTEMS AND METHODS FOR HIGH RATE RECORDING OF HOLOGRAPHIC NETWORKS IN WAVEGUIDE CELLS |
CN111615655B (zh) | 2018-01-08 | 2023-03-21 | 迪吉伦斯公司 | 用于制造波导单元的系统和方法 |
WO2019136476A1 (en) | 2018-01-08 | 2019-07-11 | Digilens, Inc. | Waveguide architectures and related methods of manufacturing |
RU2701186C1 (ru) * | 2018-01-09 | 2019-09-25 | Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет" | Селективное зеркало |
US11402801B2 (en) | 2018-07-25 | 2022-08-02 | Digilens Inc. | Systems and methods for fabricating a multilayer optical structure |
WO2020149956A1 (en) | 2019-01-14 | 2020-07-23 | Digilens Inc. | Holographic waveguide display with light control layer |
US20220283377A1 (en) | 2019-02-15 | 2022-09-08 | Digilens Inc. | Wide Angle Waveguide Display |
WO2020168348A1 (en) | 2019-02-15 | 2020-08-20 | Digilens Inc. | Methods and apparatuses for providing a holographic waveguide display using integrated gratings |
CN113728258A (zh) | 2019-03-12 | 2021-11-30 | 迪吉伦斯公司 | 全息波导背光及相关制造方法 |
US20200386947A1 (en) | 2019-06-07 | 2020-12-10 | Digilens Inc. | Waveguides Incorporating Transmissive and Reflective Gratings and Related Methods of Manufacturing |
JP2022543571A (ja) | 2019-07-29 | 2022-10-13 | ディジレンズ インコーポレイテッド | 画素化されたディスプレイの画像解像度および視野を乗算するための方法および装置 |
JP2022546413A (ja) | 2019-08-29 | 2022-11-04 | ディジレンズ インコーポレイテッド | 真空回折格子および製造方法 |
WO2022187870A1 (en) | 2021-03-05 | 2022-09-09 | Digilens Inc. | Evacuated periotic structures and methods of manufacturing |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4626920A (en) * | 1984-01-30 | 1986-12-02 | New York Institute Of Technology | Solid state light modulator structure |
GB2237443A (en) | 1989-08-03 | 1991-05-01 | Rank Brimar Ltd | Light modulating device |
US5311360A (en) * | 1992-04-28 | 1994-05-10 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for modulating a light beam |
GB2321114B (en) | 1997-01-10 | 2001-02-21 | Lasor Ltd | An optical modulator |
US5867297A (en) * | 1997-02-07 | 1999-02-02 | The Regents Of The University Of California | Apparatus and method for optical scanning with an oscillatory microelectromechanical system |
US5937115A (en) * | 1997-02-12 | 1999-08-10 | Foster-Miller, Inc. | Switchable optical components/structures and methods for the fabrication thereof |
US6377383B1 (en) * | 1997-09-04 | 2002-04-23 | The University Of British Columbia | Optical switching by controllable frustration of total internal reflection |
US6130770A (en) * | 1998-06-23 | 2000-10-10 | Silicon Light Machines | Electron gun activated grating light valve |
JP4156221B2 (ja) * | 2001-10-11 | 2008-09-24 | 大日本印刷株式会社 | 光学構造体 |
US6822797B1 (en) * | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
FI114945B (sv) * | 2002-09-19 | 2005-01-31 | Nokia Corp | Elektriskt ställbart diffraktivt gitter element |
-
2001
- 2001-05-03 FI FI20010916A patent/FI111357B/sv active
-
2002
- 2002-04-12 US US10/476,821 patent/US6950227B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-12 WO PCT/FI2002/000307 patent/WO2002091059A1/en not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI20010916A0 (sv) | 2001-05-03 |
WO2002091059A1 (en) | 2002-11-14 |
FI20010916L (sv) | 2002-11-04 |
US20040184138A1 (en) | 2004-09-23 |
US6950227B2 (en) | 2005-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI111357B (sv) | Elektriskt kontrollerbar skiva med varierande tjocklek och förfarande för dess bildning | |
US10856057B2 (en) | Optical device and methods | |
US6903872B2 (en) | Electrically reconfigurable optical devices | |
US7920330B2 (en) | Tunable optical active elements | |
US6556338B2 (en) | MEMS based variable optical attenuator (MBVOA) | |
US9625878B2 (en) | Dynamic time multiplexing fabrication of holographic polymer dispersed liquid crystals for increased wavelength sensitivity | |
KR20040035678A (ko) | 포토닉 mems 및 구조물 | |
US20230350266A1 (en) | Electrically-reconfigurable high quality factor metasurfaces for dynamic wavefront shaping | |
WO2017057700A1 (ja) | 光変調器及び光変調装置 | |
WO2007090843A2 (en) | Tunable optical active elements | |
WO2004023174A2 (en) | Photorefractive devices | |
KR20030064850A (ko) | 미세-전자기계로 재구성 가능한 광학격자 | |
CA2396859A1 (en) | Optical device for filtering and sensing | |
JP2005525604A (ja) | 可変光減衰器の方法及びデバイス | |
Kosugi et al. | Surface-normal electro-optic-polymer modulator with silicon subwavelength grating | |
JP2016183995A (ja) | 光変調装置及び光変調システム | |
Naeem et al. | Active-metasurfaces to realize tunable resonances and focusing | |
WO2022085455A1 (ja) | 光変調器及び光変調器アレイ | |
JP4700698B2 (ja) | 波長同調可能な選択性オプトエレクトロニックフィルタ | |
Horie et al. | Active dielectric antenna for phase only spatial light modulation | |
US7085059B2 (en) | Spatial light modulator with robust mirror substrate condition | |
Trimm et al. | Dynamic MEMS-based photonic bandgap filter | |
KR20240088875A (ko) | 편광 변경 구조물 | |
Strzelecki et al. | Multiplexed Holographic Tunable Resonators for Reconfigurable Optical Interconnects | |
Aksyuk et al. | Small footprint nano-mechanical plasmonic phase modulators |