ES2936687T3 - Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión - Google Patents
Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión Download PDFInfo
- Publication number
- ES2936687T3 ES2936687T3 ES21176685T ES21176685T ES2936687T3 ES 2936687 T3 ES2936687 T3 ES 2936687T3 ES 21176685 T ES21176685 T ES 21176685T ES 21176685 T ES21176685 T ES 21176685T ES 2936687 T3 ES2936687 T3 ES 2936687T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- sol
- gel
- zirconium
- tetra
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims description 86
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims description 86
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 83
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 81
- -1 hydroxy organosilane Chemical class 0.000 claims abstract description 70
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 89
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 63
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 28
- GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N zirconium(4+) ion Chemical compound [Zr+4] GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 8
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000004867 thiadiazoles Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 claims description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 3
- YMJMHACKPJBWMC-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] YMJMHACKPJBWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N ethanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- IKGXNCHYONXJSM-UHFFFAOYSA-N methanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C IKGXNCHYONXJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- RYFZCINHIIRSSF-UHFFFAOYSA-N CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.[Zr+4].[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[Zr+4] Chemical compound CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.CC([O-])C.[Zr+4].[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[Zr+4] RYFZCINHIIRSSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 claims 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 162
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 29
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 24
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 24
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 12
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 9
- 150000003573 thiols Chemical group 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 5
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XFVUECRWXACELC-UHFFFAOYSA-N trimethyl oxiran-2-ylmethyl silicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OCC1CO1 XFVUECRWXACELC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- SBOJXQVPLKSXOG-UHFFFAOYSA-N o-amino-hydroxylamine Chemical compound NON SBOJXQVPLKSXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000007944 thiolates Chemical group 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000000157 electrochemical-induced impedance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 231100000647 material safety data sheet Toxicity 0.000 description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNTNRNUQVKDIPV-UHFFFAOYSA-N 3h-dithiazole Chemical compound N1SSC=C1 UNTNRNUQVKDIPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001339 C alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100034216 Melanocyte-stimulating hormone receptor Human genes 0.000 description 1
- 101710161100 Melanocyte-stimulating hormone receptor Proteins 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000815 N-oxide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008351 acetate buffer Substances 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000005872 benzooxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 231100000357 carcinogen Toxicity 0.000 description 1
- 239000003183 carcinogenic agent Substances 0.000 description 1
- 238000007744 chromate conversion coating Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 125000005509 dibenzothiophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical class Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004870 dithiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000000840 electrochemical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229920006334 epoxy coating Polymers 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003733 fiber-reinforced composite Substances 0.000 description 1
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 239000002828 fuel tank Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012764 mineral filler Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 1
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005306 thianaphthenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- SEAZOECJMOZWTD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC1CO1 SEAZOECJMOZWTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/08—Anti-corrosive paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C20/00—Chemical coating by decomposition of either solid compounds or suspensions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating
- C23C20/06—Coating with inorganic material, other than metallic material
- C23C20/08—Coating with inorganic material, other than metallic material with compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B64—AIRCRAFT; AVIATION; COSMONAUTICS
- B64D—EQUIPMENT FOR FITTING IN OR TO AIRCRAFT; FLIGHT SUITS; PARACHUTES; ARRANGEMENT OR MOUNTING OF POWER PLANTS OR PROPULSION TRANSMISSIONS IN AIRCRAFT
- B64D45/00—Aircraft indicators or protectors not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D185/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/002—Priming paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1254—Sol or sol-gel processing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B60—VEHICLES IN GENERAL
- B60Y—INDEXING SCHEME RELATING TO ASPECTS CROSS-CUTTING VEHICLE TECHNOLOGY
- B60Y2200/00—Type of vehicle
- B60Y2200/50—Aeroplanes, Helicopters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B60—VEHICLES IN GENERAL
- B60Y—INDEXING SCHEME RELATING TO ASPECTS CROSS-CUTTING VEHICLE TECHNOLOGY
- B60Y2410/00—Constructional features of vehicle sub-units
- B60Y2410/13—Materials or fluids with special properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B64—AIRCRAFT; AVIATION; COSMONAUTICS
- B64D—EQUIPMENT FOR FITTING IN OR TO AIRCRAFT; FLIGHT SUITS; PARACHUTES; ARRANGEMENT OR MOUNTING OF POWER PLANTS OR PROPULSION TRANSMISSIONS IN AIRCRAFT
- B64D45/00—Aircraft indicators or protectors not otherwise provided for
- B64D2045/009—Fire detection or protection; Erosion protection, e.g. from airborne particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2222/00—Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
- C23C2222/20—Use of solutions containing silanes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
Los aspectos descritos en este documento generalmente se relacionan con un sol-gel que es el producto de reacción de un hidroxiorganosilano, un alcóxido metálico y un estabilizador de ácido. El hidroxi organosilano está representado por la fórmula (I): en la que R se selecciona de alquilo, cicloalquilo, éter y arilo. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)
Description
DESCRIPCIÓN
Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión
Campo de la invención
Los aspectos de la presente descripción generalmente se refieren a películas de sol-gel resistentes a la corrosión para aplicaciones aeroespaciales.
Antecedentes
Las superficies de las aeronaves están típicamente hechas de un metal, tal como aluminio o titanio. Se puede recubrir una imprimación sobre la superficie metálica para prevenir o reducir la corrosión. Sin embargo, debido a que los imprimadores no se adhieren adecuadamente a las superficies metálicas, los recubrimientos adhesivos se disponen típicamente entre una superficie metálica y una imprimación para promover la adhesión entre el metal y la imprimación.
Se puede disponer una película adhesiva de sol-gel en la interfaz entre el metal y la imprimación. Después de un uso prolongado de la superficie de la aeronave, pueden formarse poros dentro de una película de sol-gel. Los poros retienen agua con el tiempo, lo que promueve la corrosión de la superficie del metal. Las películas típicas de sol-gel no poseen inherentemente propiedades de resistencia a la corrosión. Además, la presencia de agua dentro de los poros está sujeta a un aumento de la presión osmótica dentro del poro, lo que crea un defecto visualmente notable en la superficie de la aeronave conocido como una "ampolla".
La protección contra la corrosión de las superficies metálicas de las aeronaves se ha basado típicamente en imprimaciones que tienen cromo hexavalente. Sin embargo, el cromo hexavalente es un carcinógeno y es tóxico para el medio ambiente. Por lo tanto, existe una presión reguladora para eliminar el uso de cromo hexavalente de los imprimadores y pretratamientos. Además, se han agregado inhibidores de corrosión a las películas de sol-gel (o se han incluido en la formación de la película de sol-gel), pero se ha encontrado que estos inhibidores disminuyen tanto la capacidad adhesiva de la película de sol-gel como la capacidad anticorrosiva del inhibidor de corrosión cuando está presente en la película de sol-gel.
Por lo tanto, existe una necesidad en la técnica de nuevas y mejoradas películas de sol-gel adhesivas resistentes a la corrosión.
Resumen
En un aspecto, un sol-gel que es el producto de reacción de un hidroxi organosilano, un alcóxido metálico, un estabilizador ácido y un inhibidor de corrosión. El hidroxi organosilano está representado por la Fórmula (I):
en la que R se selecciona de alquilo, cicloalquilo, éter y arilo. El estabilizador ácido está en una relación molar de estabilizador ácido con respecto a alcóxido metálico de 1:1 o mayor y el sol-gel tiene un pH de aproximadamente 3 a aproximadamente 4.
En al menos un aspecto, un método para formar un sol-gel incluye mezclar un alcóxido metálico y un estabilizador ácido para formar una primera mezcla, y mezclar con la primera mezcla un hidroxi organosilano para formar una segunda mezcla. El hidroxi organosilano está representado por la Fórmula (I):
en la que R se selecciona del grupo que comprende alquilo, cicloalquilo, éter y arilo.
Breve descripción de los dibujos
Para que la manera en que las características mencionadas anteriormente de la presente descripción puedan entenderse en detalle, una descripción más particular de la divulgación, resumida anteriormente, puede tenerse como referencia a aspectos, algunos de los cuales se ilustran en los dibujos anexos. Sin embargo, debe observarse que los dibujos adjuntos ilustran solo aspectos típicos de esta presente divulgación y, por lo tanto, no deben considerarse limitantes de su alcance, ya que la presente divulgación puede admitir otros aspectos igualmente efectivos.
La Figura 1 es una vista lateral de un sol-gel inhibidor de la corrosión dispuesto sobre un sustrato.
La Figura 2 es un diagrama de flujo de un método para formar un sol-gel.
La Figura 3 es un 
espectro de FT-IR y un barrido de polarización de Tafel de AC-131 (3%) y sol-gel HS (6%, 15% 30%) en Al 2024.
La Figura 4 son imágenes de paneles de Al 2024 recubiertos con CRB con una concentración creciente de aglutinante después de 336 horas de prueba de acuerdo con la norma ASTM B117.
La Figura 5 es un gráfico que ilustra el % de transmitancia de una solución sol-gel de ácido acético glacial y tetrapropoxi zirconio.
La Figura 6 es un gráfico que ilustra el cambio en la absorbancia a 500 nm de una solución sol-gel de ácido acético glacial y tetrapropoxi zirconio en una relación molar de 2 :1.
La Figura 7 son imágenes de paneles de AI2024 recubiertos con CRB o sol-gel HS de control sin ningún IC-1000 y una imprimación epoxídica sin cromato después de 500 h de prueba de niebla salina acidificada.
La Figura 8 es un
gráfico que ilustra el efecto de la adición de inhibidores de corrosión al pH del sol-gel concentrad
La Figura 9 son imágenes de paneles de Al 2024 recubiertos con CRB de bajo pH o AC-131 de control (sin ningún IC-1000) y una imprimación epoxídica sin cromato después de 500 horas de prueba de niebla salina acidificada.
La Figura 10 son espectros Raman de GTMS e hidroxi organosilano (1).
La Figura 11 es un gráfico que ilustra la densidad y el % de sólidos de diversas formulaciones con glicidoxi trimetoxisilano frente a hidroxi organosilano.
La Figura 12 es un diagrama de Tafel de sol-gel formulado usando hidroxi organosilano frente a glicidoxi trimetoxisilano.
La Figura 13 son imágenes de SEM de sol-gel formulado con hidroxi organosilano (1) y GTMS.
La Figura 14 son imágenes de paneles de Al 2024 recubiertos con CRB HS de bajo pH o sol-gel de control (sin ningún
IC-1000) formulado usando hidroxi organosilano (1) (H) y GTMS (G) y una imprimación epoxídica sin cromato después
500 horas de prueba de niebla salina acidificada.
La Figura 15 son imágenes de SEM de una sección transversal de una sección media de un panel de Al 2024 recubierto con CRB o sol-gel de control y una imprimación epoxídica sin cromato.
Para facilitar la comprensión, se han usado números de referencia idénticos, donde sea posible, para designar elementos idénticos que son comunes a las Figuras. Las Figuras no están dibujadas a escala y pueden simplificarse para mayor claridad. Se contempla que los elementos y características de un aspecto puedan incorporarse de manera beneficiosa en otros aspectos sin mención adicional.
Descripción detallada
Los aspectos de la presente descripción generalmente se refieren a sol-geles resistentes a la corrosión para aplicaciones aeroespaciales. Los sol-geles de la presente descripción incluyen (o son el producto de reacción de) un hidroxi organosilano, un alcóxido metálico, un estabilizador de ácido y un inhibidor de corrosión. Se ha descubierto que un hidroxi organosilano previene o reduce la porosidad y la formación de ampollas de un recubrimiento de solgel/imprimación sobre una superficie metálica, proporcionando una capacidad de inhibición de corrosión de una película de sol-gel porque se evita o reduce la acumulación de agua dentro del sol-gel. Además, una relación molar de estabilizador ácido con respecto a alcóxido metálico es aproximadamente 1:1 o mayor, tal como aproximadamente
2:1 o mayor, que proporciona un pH del sol-gel de aproximadamente 3 a aproximadamente 4, lo que no obstaculiza
(1) la formación del sol-gel, (2) la capacidad adhesiva de la película de sol-gel tras la adición de un inhibidor de corrosión, o (3) la capacidad anticorrosiva del inhibidor de corrosión. Los sol-geles de la presente descripción tienen una capacidad inherente de inhibición de la corrosión, y los imprimadores (dispuestos en el sol-gel) que tienen cromo hexavalente (VI) son meramente opcionales.
Los métodos para formar un sol-gel de la presente descripción incluyen mezclar un alcóxido metálico y un estabilizador ácido, tal como ácido acético, seguido de agitación de aproximadamente 1 minuto a aproximadamente 1 hora, tal como aproximadamente 30 minutos. Luego se agrega un hidroxi organosilano a la mezcla y se agita de aproximadamente 1 minuto a aproximadamente 1 hora, tal como aproximadamente 30 minutos. Se agrega un inhibidor de corrosión a la mezcla. La mezcla se puede depositar sobre un sustrato metálico. La mezcla depositada puede curarse a temperatura ambiente o puede calentarse para aumentar la velocidad de curado/formación de sol-gel.
Sol-geles: El término "sol-gel", una contracción de solución/gelación, se refiere a una serie de reacciones en las que una especie metálica soluble (típicamente un alcóxido metálico o una sal metálica) se hidroliza para formar un hidróxido metálico. La especie metálica soluble generalmente contiene ligandos orgánicos diseñados para corresponder con la resina en la estructura unida. Una especie metálica soluble sufre heterohidrólisis y heterocondensación formando enlaces heterometálicos, por ejemplo. Si-O-Zr. En ausencia de ácido orgánico, cuando se agrega alcóxido metálico al agua, se forma rápidamente un precipitado blanco de, por ejemplo, Zr(OH)2. El Zr(OH)2 no es soluble en agua, lo que dificulta la formación de sol-gel. El ácido agregado al alcóxido metálico para permitir un sistema de base acuosa. Dependiendo de las condiciones de reacción, los polímeros metálicos pueden condensarse en partículas coloidales o pueden crecer para formar un gel de red. La relación de orgánicos a inorgánicos en la matriz polimérica se controla para maximizar el rendimiento para una aplicación particular.
Hidroxi organosilano: un hidroxi organosilano útil para formar sol-geles de la presente descripción proporciona una porosidad reducida y formación de ampollas de sol-geles. Los hidroxi organosilanos son sustancialmente no reactivos frente a los inhibidores de corrosión, a diferencia del compuesto que contiene epoxi-(3-glicidiloxipropil)trimetoxisilano (GTMS) utilizado para sol-geles convencionales, como se explica con más detalle a continuación. Los hidroxi organosilanos de la presente descripción están representados por la Fórmula (I):
en la que R se selecciona de alquilo, cicloalquilo, éter y arilo. Alquilo incluye alquilo C1-20 lineal o ramificado. El alquilo C1-20 incluye metilo, etilo, propilo, butilo, pentilo, hexilo, heptilo, octilo, nonilo, decilo, undecilo, dodecilo, tridecilo, tetradecilo, pentadecilo, hexadecilo, heptadecilo, octadecilo, nonadecilo e icosanilo. El éter incluye éter de polietilenglicol, éter de polipropilenglicol, éter de alquilo C1-20, éter de arilo y éter de cicloalquilo. En al menos un aspecto, el éter se selecciona de:
n es un número entero positivo. En al menos un aspecto, n es un número entero positivo y el peso molecular promedio en número (Mn) del éter es de aproximadamente 300 a aproximadamente 500, tal como de aproximadamente 375 a aproximadamente 450, tal como de aproximadamente 400 a aproximadamente 425.
En al menos un aspecto, el hidroxi organosilano está representado por el compuesto 1:
Alcóxido metálico: Un alcóxido metálico útil para formar sol-geles de la presente descripción proporciona átomos metálicos coordinados en un sol-gel para adhesivo y resistencia mecánica. Los alcóxidos metálicos de la presente descripción incluyen alcóxidos de zirconio, alcóxidos de titanio, alcóxidos de hafnio, alcóxidos de itrio, alcóxidos de cerio, alcóxidos de lantano o mezclas de los mismos. Los alcóxidos metálicos pueden tener cuatro ligandos alcoxi coordinados a un metal que tiene un número de oxidación de 4. Ejemplos no limitantes de alcóxidos metálicos son tetrametóxido de zirconio (IV), tetraetóxido de zirconio (IV), tetra-n-propóxido de zirconio (IV), tetraisopropóxido de zirconio (IV), tetra-n-butóxido de zirconio (IV), tetra-isobutóxido de zirconio ( IV), tetra-n-pentóxido de zirconio (IV), tetra-isopentóxido de zirconio (IV), tetra-n-hexóxido de zirconio (IV), tetra-isohexóxido de zirconio (IV), tetra-nheptóxido de zirconio (IV), tetra-isoheptóxido de zirconio (IV), tetra-n-octóxido de zirconio (IV), tetra-n-isooctóxido de zirconio (IV), tetra-n-nonóxido de zirconio (IV), tetra-n-isononóxido de zirconio (IV), tetra-n-decilóxido de zirconio (IV) y tetra-n-isodecilóxido de zirconio (IV).
Inhibidor de corrosión: un inhibidor de corrosión útil para formar sol-geles de la presente descripción proporciona resistencia a la corrosión de un sustrato metálico dispuesto adyacente al sol-gel. Los inhibidores de corrosión de la presente descripción son compuestos que tienen una o más fracciones tiol. Las superficies metálicas de las aeronaves son típicamente aleaciones que tienen un componente principal, tal como aluminio, y un componente menor, conocido como un compuesto intermetálico. Los compuestos intermetálicos a menudo contienen cobre metálico que es propenso a la corrosión. Sin estar atados a la teoría, se cree que la interacción de las fracciones tiol de un inhibidor de corrosión de la presente descripción con compuestos intermetálicos que contienen cobre en una superficie metálica (tal como una superficie de aleación de aluminio) evita la corrosión de la superficie metálica. Más específicamente, la interacción de las fracciones tiol de un inhibidor de corrosión de la presente descripción con los compuestos intermetálicos bloquea la reducción de los compuestos intermetálicos disminuyendo la velocidad de reducción del oxígeno y disminuyendo la oxidación de una aleación metálica, tal como una aleación de aluminio.
Los inhibidores de corrosión de la presente descripción son compuestos orgánicos que pueden incluir un grupo disulfuro y/o un grupo tiolato (por ejemplo, un enlace metal-sulfuro). En al menos un aspecto, un inhibidor de corrosión está representado por la fórmula: R1--Sn-X--R2 , en la que R1 es H o un grupo orgánico, n es un número entero mayor que o igual a 1, X es un átomo de azufre o metal, y R2 es H o un grupo orgánico, en el que al menos uno de R1 y R2 es un grupo orgánico (preferiblemente en el que R1 y R2 son ambos grupos orgánicos). Uno o ambos de R1 y R2 pueden incluir grupos polisulfuro y/o grupos tiol adicionales. Además, los inhibidores de corrosión pueden ser poliméricos con la fórmula -(R1--Sn-X--R2)q-, en la que R1 es H o un grupo orgánico, n es un número entero positivo, X es un átomo de azufre o de metal, R2 es H o un grupo orgánico, y q es un número entero positivo y en el que al menos uno de R1 y R2 es un grupo orgánico (preferiblemente en el que R1 y R2 son ambos grupos orgánicos). Un grupo orgánico es una fracción que comprende al menos un átomo de carbono y opcionalmente uno o más átomos que no son hidrógeno ni carbono. R1 y R2 pueden ser cada uno un grupo orgánico que tiene 1-24 átomos de carbono y/o átomos que no son de hidrógeno. R1 y R2 (de un inhibidor de corrosión polimérico o monomérico) se pueden seleccionar independientemente de H o un grupo orgánico que comprende alquilo, cicloalquilo, arilo, heteroarilo, heterociclilo, tiol, polisulfuro o tiona combinaciones de los mismos opcionalmente sustituidos (por ejemplo, arilalquilo). En al menos un aspecto R1 y R2 (de un inhibidor de corrosión polimérico o monomérico) se selecciona independientemente de H, alquilo, cicloalquilo, arilo, heteroarilo, tiol, polisulfuro o tiona. R1 y R2 puede seleccionarse independientemente de H o un grupo orgánico seleccionado de alquilo, cicloalquilo, arilo, heteroarilo, heterociclilo o combinaciones de los mismos opcionalmente sustituidos. R1 y R2 pueden seleccionarse independientemente de alquilo, cicloalquilo, arilo, heteroarilo y heterociclilo opcionalmente sustituidos. R1 y R2 pueden ser ambos heteroarilo opcionalmente sustituido. Los ejemplos heteroaromáticos de grupos R1 y R2 incluyen azoles, triazoles, tiazoles, ditiazoles y/o tiadiazoles. Los sustituyentes opcionales de cada uno de R1 y R2 pueden seleccionarse independientemente de alquilo, amino, un sustituyente que contiene fósforo (tal como -P(=O)(OR*)2 , -P(=O)R*2 , -P(=S)(OR*)2 , -P(=S)R*2 , -P(=O)(OR*)(NR*), -P(=O)(OR*)R*, -P(=CR*2)R*2 , -P(=O)(OR*)R*, -PR*2), éter, alcoxi, hidroxi, un sustituyente que contiene azufre tales como -SR*, -H(SR*) (OR*), -CH(SR*)2 , -SSR*, -C(=O)SR*, -S(=O)R*, -S(=O)2R*, -C(=S)R*, -S(=O)2(OR*), -S(=O)2(NR*), -S(OR*), un sustituyente que contiene selenio (tal como -SeR*, -SeSeR*, -C(=Se)R*, -Se(=O)R*, -Se(=O)2R*, -Se(=O)OH), y un sustituyente que contiene teluro (tales como -TeR*, -TeTeR*, -C(=Te)R*, -Te(=O)R*, -Te(=O)2R*, -Te(=O)OH), en el que cada R* se selecciona independientemente de H, alquilo, éter, arilo, heteroarilo, heterociclilo o combinaciones de los mismos, o dos grupos R* pueden formar juntos un grupo cíclico. Por ejemplo, los sustituyentes opcionales de R1 y R2 pueden seleccionarse independientemente de alquilo, amino, éter, alcoxi, hidroxi, un sustituyente que contiene fósforo o un sustituyente que contiene azufre, o seleccionarse independientemente de alquilo, amino, éter, alcoxi, hidroxi y -SH, o seleccionarse independientemente de amino, hidroxi y -SH. En algunas realizaciones, R1 y R2 son heteroarilo (por ejemplo, azol, triazol, tiazol, ditiazol o tiadiazol, preferiblemente tiadiazol) independientemente sustituidos por una o más fracciones
seleccionadas de alquilo, amino, éter, alcoxi, hidroxi o -SH, o independientemente sustituido por una o más fracciones seleccionadas de amino, hidroxi o -SH.
Los inhibidores de corrosión pueden incluir un metal en un complejo metal-tiolato. Los inhibidores de corrosión pueden incluir un centro metálico y uno o más grupos tiol (ligandos) unidos y/o coordinados con el centro metálico con un enlace metal-sulfuro. Un tiolato es un derivado de un tiol en el que un átomo metálico reemplaza al hidrógeno unido al azufre. Los tiolatos tienen la fórmula general M-S--R1 , en la que M es un metal y R1 es un grupo orgánico. R1 puede incluir un grupo disulfuro. Los complejos metálica-tiolato tienen la fórmula general M-(S--R1)n ', en la que n' generalmente es un número entero de 2 a 9 y M es un átomo metálico. Los metales son cobre, zinc, zirconio, aluminio, hierro, cadmio, plomo, mercurio, plata, platino, paladio, oro y/o cobalto. R1 puede ser como se definió anteriormente en referencia a las fórmulas de inhibidor de corrosión R1--Sn--X--R2 y -(R1--Sn--X--R2)q-. En algunas realizaciones, n' es 2 y/o M puede ser zinc. Los inhibidores de corrosión de la presente descripción incluyen tiadiazoles que tienen una o más fracciones tiol. Ejemplos no limitativos de tiadiazoles que tienen una o más fracciones tiol incluyen 1,3,4-tiadiazol-2,5-ditiol y tiadiazoles representados por la Fórmula (II) o la Fórmula (III):
El tiadiazol de fórmula (II) se puede adquirir a través de Vanderbilt Chemicals, LLC (de Norwalk, Connecticut) y se conoce como Vanlube® 829. El tiadiazol de Fórmula (III) se puede adquirir a través de WPC Technologies, Inc.MR (de Oak Creek, Wisconsin) y se conoce como InhibiCorMR 1000.
En al menos un aspecto, una fracción en peso (% en peso) de (alcóxido metálico hidroxi organosilano estabilizador ácido) en el sol-gel es de aproximadamente 0,3% en peso a aproximadamente 50% en peso, tal como de aproximadamente 1% en peso a aproximadamente 45% en peso, tal como de aproximadamente 2% en peso a aproximadamente 40% en peso, tal como de aproximadamente 3% en peso a aproximadamente 35% en peso, tal como de aproximadamente 4% en peso a aproximadamente 25% en peso, tal como de aproximadamente 8% en peso a aproximadamente 22% en peso, por ejemplo aproximadamente 10% en peso, aproximadamente 12% en peso, aproximadamente 15% en peso. Una mayor cantidad de (alcóxido metálico hidroxi organosilano estabilizador ácido) proporciona mayores cantidades de inhibidor de corrosión para estar presentes en el sol-gel. Una fracción en peso (% en peso) del inhibidor de corrosión en el sol-gel es de aproximadamente 0 ,1% en peso a aproximadamente 50% en peso, tal como de aproximadamente 0,2% en peso a aproximadamente 40% en peso, tal como de aproximadamente 0,5% en peso a aproximadamente 35 % en peso, tal como de aproximadamente 1% en peso a aproximadamente 30% en peso, tal como de aproximadamente 2% en peso a aproximadamente 25% en peso, tal como de aproximadamente 3% en peso a aproximadamente 20% en peso, por ejemplo aproximadamente 4% en peso, aproximadamente 5% en peso, aproximadamente 7% en peso, aproximadamente 10% en peso, aproximadamente 15% en peso.
Estabilizador ácido: un estabilizador ácido usado para formar sol-geles de la presente descripción proporciona estabilización de un alcóxido metálico y un inhibidor de corrosión de sol-gel, así como la reducción del pH del sol-gel. El valor de pH de un sol-gel (y la composición que forma el sol-gel) se puede controlar mediante el uso de un estabilizador ácido. Los estabilizadores ácidos de la presente descripción incluyen ácidos orgánicos. Los ácidos orgánicos incluyen ácido acético (tal como el ácido acético glacial) o ácido cítrico. También se pueden usar estabilizadores de ácido menos ácidos, tales como glicoles, etoxietanol o H2NCH2CH2OH.
Se ha descubierto que los inhibidores de corrosión que tienen fracciones tio tienen una fuerte propensión a reaccionar con (1) fracciones alcoxi de alcóxidos metálicos así como (2) fracciones alcoxi y restos epoxi de glicidil trimetoxisilano (GTMS). Si el inhibidor de corrosión reacciona, se une covalentemente a uno o más componentes del sol-gel y, en consecuencia, no puede difundirse a través del sol-gel para proteger el sustrato metálico de la corrosión.
En al menos un aspecto, una relación molar de estabilizador ácido con respecto a alcóxido metálico es de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 40:1, tal como de aproximadamente 3:1 a aproximadamente 8:1, tal como de aproximadamente 4:1 a aproximadamente 6:1, tal como de aproximadamente 4:1 a aproximadamente 5:1.
Sin estar atados a la teoría, se cree que el estabilizador ácido en estas proporciones no solo contribuye a estabilizar un alcóxido metálico para hidrólisis, sino que también protona las fracciones tiol de un inhibidor de corrosión, lo que reduce o previene la reacción de un inhibidor de corrosión con un alcóxido metálico. La reacción de un inhibidor de corrosión de la presente descripción se reduce/previene adicionalmente mediante el uso del hidroxi organosilano en el sol-gel porque un hidroxi organosilano no tiene una fracción epoxi para que un inhibidor de corrosión reaccione con, a diferencia del (3-glicidiloxipropil)trimetoxisilano (GTMS) de sol-geles convencionales. Por consiguiente, un inhibidor de corrosión de la presente descripción puede moverse a través del sol-gel y realizar la inhibición de la corrosión en una superficie de sustrato metálico.
Además, se ha descubierto que el pH alto de los inhibidores de corrosión impide la formación de sol-gel, probablemente porque las fracciones tio son básicas, lo que aumenta el pH del sol-gel total (por ejemplo, el inhibidor de corrosión de Fórmula (III) tiene un pH de 6). Sin embargo, si un sol-gel es demasiado ácido, puede degradar el sustrato metálico. En al menos un aspecto, un pH de un sol-gel de la presente descripción es de aproximadamente 3 a aproximadamente 4. Un pH por debajo de aproximadamente 3 tiende a degradarse, por ejemplo, el aluminio y un pH por encima de 4 tiende a dificultar la formación de sol-gel.
Los componentes sol-gel de la presente descripción, tales como inhibidores de corrosión, pueden disolverse en uno o más disolventes antes de añadirse a una mezcla que contiene otros componentes sol-gel. Los inhibidores de corrosión, por ejemplo, generalmente tienen una solubilidad limitada en agua y solventes acuosos. Los inhibidores de corrosión pueden ser polvos insolubles, materiales insolubles (por ejemplo, agregados, sólidos y/o líquidos), compuestos hidrófobos, aceites pesados y/o grasas. Por lo tanto, los inhibidores de corrosión pueden disolverse en solventes compatibles y pueden suspenderse, emulsionarse y/o dispersarse dentro de soluciones y/o disolventes incompatibles. Los disolventes adecuados para disolver, suspender, emulsionar y/o dispersar componentes sol-gel de la presente descripción pueden ser acuosos, orgánicos polares y/u orgánicos no polares. Para los sol-geles que son acuosos y/o incluyen un componente acuoso, los disolventes orgánicos polares pueden ser ventajosos para disolver los inhibidores de corrosión, que son poco solubles en agua, antes de la combinación con los otros componentes sol-gel. Adicionalmente o alternativamente, un inhibidor de corrosión puede suspenderse, emulsionarse y/o dispersarse en una solución acuosa antes de la combinación con componentes sol-gel. Los ejemplos de disolventes para disolver, suspender, emulsionar y/o dispersar componentes sol-gel incluyen agua, alcohol (por ejemplo, etanol o propanol), éter (por ejemplo, dimetil éter o dipropilenglicol dimetil éter), glicol éter, tetrahidrofurano (THF), N-metil-2-pirrolidona (NMP), dimetilsulfóxido (DMSO) y sus mezclas. Al curar, por ejemplo, calentamiento, de una mezcla que contiene los componentes sol-gel, algunos o todos los disolventes pueden eliminarse del sol-gel/mezcla.
Sistemas sol-gel
La Figura 1 es una vista lateral de un sol-gel inhibidor de corrosión dispuesto sobre un sustrato. Como se muestra en la Figura 1, un sistema 100 sol-gel inhibidor de la corrosión comprende un sol-gel 102 dispuesto sobre un sustrato 104 metálico. El sol-gel 102 tiene propiedades inhibidoras de la corrosión que proporcionan protección contra la corrosión del sustrato 104 metálico. Sol-gel 102 promueve adherencia entre el sustrato 104 metálico y una capa 106 secundaria. La capa 106 secundaria puede ser un sellador o pintura.
El sustrato 104 metálico puede ser cualquier material adecuado y/o puede incluir cualquier estructura adecuada que se beneficie de la disposición del sol-gel 102 sobre la misma. El sustrato 104 metálico puede definir uno o más componentes (tales como componentes estructurales o mecánicos) de aparatos expuestos al medio ambiente, tales como aeronaves, embarcaciones, naves espaciales, vehículos terrestres, equipos y/u otros aparatos susceptibles a la degradación ambiental. El sustrato 104 metálico puede ser parte de una estructura más grande, tal como un componente de vehículo. Un componente de vehículo es cualquier componente adecuado de un vehículo, tal como un componente estructural, tal como un panel o junta, de una aeronave, automóvil, etc. Los ejemplos de un componente de vehículo incluyen una unidad de potencia auxiliar (APU), una nariz de una aeronave, un tanque de combustible, un cono de cola, un panel, una junta de solape recubierta entre dos o más paneles, un ensamblaje de ala con el fuselaje, un compuesto estructural de aeronave, una junta de cuerpo de fuselaje, una junta de la costilla del ala con la carcaza, y/u otro componente interno. El sustrato 104 metálico puede estar hecho de aluminio, aleación de aluminio, níquel, hierro, aleación de hierro, acero, titanio, aleación de titanio, cobre, aleación de cobre o mezclas de los mismos. El sustrato 104 metálico puede ser un sustrato 'desnudo', que no tiene recubrimiento (metal no chapado), recubrimiento de conversión y/o protección contra la corrosión entre el sustrato 104 metálico y el sol-gel 102. Además o alternativamente, el sustrato 104 metálico puede incluir la oxidación de la superficie. Por lo tanto, el sol-gel 102 puede unirse directamente al sustrato 104 metálico y/o a una capa de óxido superficial en una superficie del sustrato 104 metálico.
La capa 106 secundaria está dispuesta sobre una segunda superficie 110 de sol-gel 102 opuesta a la primera superficie 108 de sol-gel 102. En al menos un aspecto, el sol-gel 102 tiene un espesor que es menor que el espesor del sustrato 104 metálico. En al menos un aspecto, el sol-gel 102 tiene un espesor de aproximadamente 1 |jm (micras) a aproximadamente 500 nm, tal como de aproximadamente 5 jm a aproximadamente 100 nm, tal como de aproximadamente 10 jm a aproximadamente 100 jm . Los recubrimientos más delgados pueden tener menos defectos (es más probable que estén libres de defectos), mientras que los recubrimientos más gruesos pueden proporcionar más protección contra la abrasión, la electricidad y/o térmica al sustrato 104 metálico subyacente.
En al menos un aspecto, la capa 106 secundaria incluye material orgánico (por ejemplo, composiciones químicas orgánicas) configurado para unirse y/o adherirse al sol-gel 102. La capa 106 secundaria incluye una pintura, una capa superior, un recubrimiento polimérico (por ejemplo, un recubrimiento epoxídico y/o un recubrimiento de uretano), un material polimérico, un material compuesto (por ejemplo, un compuesto relleno y/o un compuesto reforzado con fibras), un material laminado o mezclas de los mismos. En al menos un aspecto, la capa 106 secundaria incluye un polímero, una resina, un polímero termoestable, un polímero termoplástico, un epoxi, una laca, un poliuretano, un poliéster o combinaciones de los mismos. La capa 106 secundaria puede incluir adicionalmente un pigmento, un aglutinante, un tensioactivo, un diluyente, un disolvente, un material en partículas (por ejemplo, rellenos minerales), fibras (por ejemplo, carbono, aramida y/o fibras de vidrio), o combinaciones de los mismos.
Métodos para elaborar un sol-gel
Los métodos para formar un sol-gel de la presente descripción incluyen mezclar un alcóxido metálico, ácido acético y agua, seguido de agitación durante aproximadamente 1 minuto a aproximadamente 1 hora, tal como aproximadamente 30 minutos. Luego se agrega un hidroxi organosilano a la mezcla y se agita durante aproximadamente 1 minuto a aproximadamente 1 hora, tal como aproximadamente 30 minutos. Se agrega un inhibidor de corrosión a la mezcla. La mezcla se puede depositar sobre un sustrato metálico. La mezcla depositada puede curarse a temperatura ambiente 0 puede calentarse para aumentar la velocidad de curado/formación de sol-gel.
La Figura 2 es un diagrama de flujo que ilustra un método 200 para formar un sol-gel 102. Como se muestra en la Figura 2, el sol-gel 102 puede formarse una mezcla 202, uno o más componentes de sol-gel. Los componentes de sol-gel incluyen dos o más de hidroxi organosilano, alcóxido metálico, estabilizador ácido e inhibidor de corrosión. Curando 208, los componentes mezclados forman sol-gel 102.
En general, la mezcla 202 se realiza combinando los componentes de la solución sol (por ejemplo, mediante dispersión, emulsión, suspensión y/o disolución) y opcionalmente agitando los componentes de la solución sol. Además, la mezcla 202 generalmente incluye mezclar los componentes de la solución sol en cantidades y/o relaciones suficientes para proporcionar una solución sol activa que pueda reaccionar para formar el sol-gel.
La mezcla 202 incluye mezclar los componentes sol-gel para formar una mezcla (por ejemplo, una solución, una mezcla, una emulsión, una suspensión y/o un coloide). En al menos un aspecto, la mezcla 202 incluye mezclar todos los componentes sol-gel juntos al mismo tiempo. Alternativamente, la mezcla 202 incluye mezclar cualquiera dos componentes (por ejemplo, alcóxido metálico y estabilizador ácido) para formar una primera mezcla y luego mezclar los componentes restantes en la primera mezcla para formar una segunda mezcla.
La mezcla 202 puede incluir disolver, suspender, emulsionar y/o dispersar el inhibidor de corrosión en un disolvente antes de mezclarlo con uno o más de los otros componentes sol-gel. Los ejemplos de disolventes para disolver, suspender, emulsionar y/o dispersar componentes sol-gel incluyen agua, alcohol (por ejemplo, etanol o propanol), éter (por ejemplo, dimetil éter o dipropilenglicol dimetil éter), glicol éter, tetrahidrofurano (THF), N-metil-2-pirrolidona (NMP), dimetilsulfóxido (DMSO) y sus mezclas. Adicional o alternativamente, la mezcla 202 puede incluir mezclar el inhibidor de corrosión como un sólido, un agregado y/o un polvo con uno o más de los otros componentes sol-gel. Cuando, por ejemplo, la mezcla 202 incluye la mezcla de sólidos, polvos y/o líquidos viscosos, la mezcla 202 puede incluir la mezcla con un mezclador de alto cizallamiento (por ejemplo, un agitador de pintura o un mezclador o agitador centrífugo planetario). Un mezclador de alto cizallamiento puede ser ventajoso para romper y/o dispersar finamente los sólidos para formar una mezcla sustancialmente uniforme. Por ejemplo, un mezclador de alto cizallamiento puede disolver, suspender, emulsionar, dispersar, homogeneizar, desaglomerar y/o desintegrar sólidos en la solución sol.
En general, la mezcla 202 incluye mezclar dos o más componentes sol-gel para formar una mezcla. Los componentes sol-gel se pueden diluir para controlar las reacciones de autocondensación y aumentar así la vida útil de la solución sol mezclada. La mezcla 202 puede incluir la mezclar y un porcentaje en peso (% en peso) del inhibidor de corrosión en la mezcla es de aproximadamente 0,1% en peso a aproximadamente 50% en peso, tal como de aproximadamente 0,2% en peso a aproximadamente 40% en peso, tal como de aproximadamente 0,5 % en peso a aproximadamente 35% en peso, tal como de aproximadamente 1% en peso a aproximadamente 30% en peso, tal como de aproximadamente 2% en peso a aproximadamente 25% en peso, tal como de aproximadamente 3% en peso a aproximadamente 20% en peso, por ejemplo aproximadamente 4% en peso, aproximadamente 5% en peso, aproximadamente 7% en peso, aproximadamente 10% en peso, aproximadamente 15% en peso. La mezcla 202 incluye la mezcla y la fracción en peso (% en peso) de (alcóxido metálico hidroxi organosilano estabilizador ácido) en la mezcla es de aproximadamente 0,3% en peso a aproximadamente 50% en peso, tal como de aproximadamente 1% en peso a aproximadamente 45% en peso , tal como de aproximadamente 2% en peso a aproximadamente 40% en peso, tal como de aproximadamente 3% en peso a aproximadamente 35% en peso, tal como de aproximadamente 4% en peso a aproximadamente 25% en peso, tal como de aproximadamente 8% en peso a aproximadamente 22 % en peso, por ejemplo aproximadamente 10% en peso, aproximadamente 12% en peso, aproximadamente 15% en peso.
En al menos un aspecto, una relación molar de estabilizador ácido con respecto a alcóxido metálico es de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 40:1, tal como de aproximadamente 3:1 a aproximadamente 8:1, tal como de aproximadamente 4:1 a aproximadamente 6:1, tal como de aproximadamente 4:1 a aproximadamente 5:1.
La mezcla de componentes sol-gel puede incubarse 204 durante un período de tiempo, tal como de aproximadamente 1 minuto a aproximadamente 60 minutos, tal como de aproximadamente 5 minutos a aproximadamente 30 minutos, tal como de aproximadamente 10 minutos a aproximadamente 20 minutos. Además, la vida útil es el período de tiempo desde la mezcla hasta que se forma el sol-gel (por ejemplo, la mezcla se vuelve demasiado viscosa para ser utilizable). La vida útil puede ser de aproximadamente 1 hora a aproximadamente 24 horas, tal como de aproximadamente 2 horas a aproximadamente 8 horas, tal como aproximadamente 4 horas. La incubación 204 puede realizarse en condiciones ambientales (por ejemplo, a temperatura ambiente) y/o a temperatura elevada. Las temperaturas de incubación adecuadas incluyen de aproximadamente 10 °C a aproximadamente 100 °C, tal como de aproximadamente
20 °C a aproximadamente 70 °C, tal como de aproximadamente 30 °C a aproximadamente 50 °C, por ejemplo aproximadamente 40 °C.
En al menos un aspecto, el método 200 incluye recubrir 206 el sustrato 104 metálico con una mezcla que comprende componentes sol-gel y la incubación 204 de la mezcla. La incubación 204 incluye, después de mezclar la mezcla que comprende componentes sol-gel, permitir que la mezcla que comprende componentes sol-gel permanezca a temperatura ambiente durante 30 minutos o más. El recubrimiento 206 puede incluir humedecer el sustrato 104 metálico con una mezcla que comprende componentes sol-gel, por ejemplo, asperjando, sumergiendo, cepillando y/o limpiando la mezcla que comprende componentes sol-gel sobre el sustrato 104 metálico. Por ejemplo, formas adecuadas de aspersión incluye la aspersión con una pistola de aspersión, una pistola de aspersión de alto volumen y baja presión, y/o un aspersor de bomba manual. La mezcla que comprende componentes sol-gel se deja escurrir del sustrato 104 metálico humedecido durante unos minutos (por ejemplo, 1-30 minutos, 1-10 minutos o 3-10 minutos) y, si es necesario, el exceso de mezcla no drenada puede ser transferido del sustrato 104 metálico y/o soplado suavemente el sustrato 104 metálico con aire comprimido.
En al menos un aspecto, el recubrimiento 206 incluye limpiar y/o tratar previamente el sustrato 104 metálico antes de humedecer el sustrato metálico con la mezcla que comprende componentes sol-gel. En general, el sol-gel 102 se adhiere y/o se une mejor con un sustrato metálico limpio y desnudo, sustancialmente libre de suciedad, óxidos superficiales y/o productos de corrosión. La limpieza puede incluir desengrasado, un lavado alcalino, grabado químico, desoxidado químico y/o desoxidado mecánico (por ejemplo, lijado y/o abrasión). El recubrimiento 206 no incluye típicamente el recubrimiento del sustrato 104 metálico con una subcapa o la formación de un recubrimiento de conversión química sobre el sustrato 104 metálico. En cambio, en la mayoría de los aspectos, el recubrimiento 206 típicamente incluye el recubrimiento directo del sustrato 104 metálico (desnudo).
En al menos un aspecto, los métodos de la presente descripción incluyen curar una mezcla que comprende componentes sol-gel. Como se muestra en la Figura 2, el curado 208 puede incluir el secado de una mezcla que comprende componentes sol-gel dispuestos sobre el sustrato 104 metálico y puede realizarse en condiciones ambientales, a temperatura ambiente y/o temperatura elevada. En al menos un aspecto, una temperatura de curado es de aproximadamente 10 °C a aproximadamente 150 °C, tal como de aproximadamente 20 °C a aproximadamente 100 °C, tal como de aproximadamente 30 °C a aproximadamente 70 °C, tal como de aproximadamente 40 °C a aproximadamente 50 °C. El curado 208 puede realizarse durante un período de tiempo, tal como de aproximadamente 1 minuto a aproximadamente 48 horas, tal como de aproximadamente 5 minutos a aproximadamente 24 horas, tal como de aproximadamente 10 minutos a aproximadamente 8 horas, tal como de aproximadamente 30 minutos a aproximadamente 4 horas, por ejemplo aproximadamente 1 hora.
Después del recubrimiento 206 y/o curado 208, el sol-gel es adecuado para la exposición a un entorno externo y/o para la aplicación de una capa 106 secundaria. Como se muestra en la Figura 2, la deposición 210 una capa 106 secundaria de material orgánico se puede realizar antes de que el curado 208 esté completamente terminado, por ejemplo, la deposición 210 de una capa 106 secundaria se realiza al menos parcialmente concurrentemente con el curado 208. La deposición 210 puede incluir pintura, aspersión, inmersión, contacto, adhesión y/o unión de sol-gel 102 con el material orgánico para formar la capa 106 secundaria. Una capa secundaria incluye una pintura, un plástico reforzado con fibra u otro material orgánico adecuado.
Ejemplos
Experimental: Materiales: se obtuvo Inhibicor 1000 (IC-1000) a través de Wayne Pigment Corporation. Se obtuvo un kit de AC-131 al 3% a través de 3M. AC-131 al 3% es un recubrimiento de conversión sin cromato para uso en aleaciones de aluminio, níquel, acero inoxidable, magnesio y titanio. Como se usa en este documento, la combinación de (TPOZ GTMS/hidroxi organosilano) a veces se denomina "aglutinante". AC-131 tiene una Parte A, que es una mezcla acuosa de ácido acético y tetra-n-propóxido de zirconio (TPOZ), y una Parte B, que es GTMS. Los dos componentes se mezclan (Parte A Parte B) y la relación molar de silicio a zirconio en la mezcla es 2,77:1. Una relación molar de ácido acético a TPOZ en la Parte A es 0,45:1.
El ácido acético glacial (GAA) y el glicidoxipropil-trimetoxi-silano (GTMS) de Sigma Aldrich, productos químicos de UCT y/o Acros Organics. El tetra-n-propóxido de zirconio (TPOZ; 70% en n-propanol) se obtuvo a través de Sigma Aldrich. Antarox BL-204 (premezclado, 10% en peso en agua) es un agente humectante EO/PO de alcohol lineal y se obtuvo a través de Solvay Chemicals. Se obtuvo una imprimación epoxídica sin cromato a través de Hentzen Coatings, Inc.
Los sol-geles en el presente documento denominados sol-geles de "alta resistencia" son aquellos que tienen una fracción en volumen (% en volumen) de (TPOZ GTMS/hidroxi organosilano) que es mayor al 3% en volumen. Además, "sol-gel resistente a la corrosión" denominado "CRB" es un sol-gel que tiene un inhibidor de corrosión. Además, "pH bajo" de un sol-gel se considera en el presente documento como la Parte A de una mezcla que tiene una relación molar de ácido acético a TPOZ superior a 0,45:1.
Métodos: La corrosión de un panel recubierto con un sol-gel (una muestra) se puede controlar usando métodos electroquímicos. Un barrido de polarización se ejecuta con un potencial variable a través de un intervalo de potencial
especificado mientras se registra la respuesta de corriente. Durante el barrido de polarización anódica, cuando el recubrimiento del panel comienza a fallar, hay un aumento exponencial en la corriente registrada con un cambio continuo en el potencial. El potencial al que falla el recubrimiento que resulta en un aumento exponencial en la corriente se llama potencial de punto de ruptura. Un recubrimiento más poroso fallará más rápidamente (que un recubrimiento menos poroso) y, por lo tanto, alcanzará el potencial de punto de ruptura más rápido. El recubrimiento más poroso falla más rápidamente porque hay más ingreso de humedad en este recubrimiento (que el ingreso de humedad en un recubrimiento menos poroso). Un recubrimiento menos poroso resistirá la entrada de humedad y tardará más en alcanzar el potencial de punto de ruptura.
El análisis de Tafel, la resistencia a la polarización y los datos de espectroscopía de impedancia electroquímica (EIS) se recogieron en potenciostatos Gamry 600 y se realizó un ajuste de circuito equivalente en un analizador Gamry para estudiar el mecanismo de resistencia a la corrosión. Se realizó un barrido de potencial de circuito abierto (OCP) en cada panel durante 1 hora antes de realizar la resistencia de polarización y el análisis de Tafel. Para el análisis de Tafel y de resistencia a la polarización, que se usaron para el análisis electroquímico en el presente documento, se usó el panel metálico recubierto como electrodo de trabajo, un alambre de Pt como electrodo auxiliar, un electrodo de calomel saturado (SCE) como electrodo de referencia y se usó tampón de acetato de pH 5 (o tampón acuoso de NaCl al 5% en peso en PBS) como disolvente en la celda.
La prueba de aspersión de sal neutra (NSS) ASTM B117 y la prueba de aspersión de sal acidificada ASTM G85 o de sal de SO2 se usaron para la prueba de corrosión acelerada de los paneles recubiertos. Se recogieron los datos de espectroscopía Raman y FT-IR en un equipo de FT-IR Nicolet. La absorción UV-vis y el porcentaje de transmitancia se registraron en un Cary 5000. Los pesos de recubrimiento se calcularon pesando los paneles limpios y volviendo a pesar los paneles después de secar el panel recubierto con sol-gel durante la noche. Las imágenes del microscopio electrónico de barrido (SEM) de los recubrimientos sol-gel se recogieron en el FEI Helios Nanolab 600, con un detector de espectroscopía de energía dispersiva (EDS) Oxford x-Max. Para los análisis de FT-IR, las muestras se prepararon mediante moldeo por rotación de la formulación prefabricada sobre paneles de Al de 1 x 1 cm.
Para calcular el peso seco (Tabla 3) de los ingredientes formadores de película en las formulaciones de AC-131 al 3% en peso y AC-131 de alta resistencia, se formularon volúmenes de 5 mL de las soluciones de acuerdo con la Tabla 2 y se secaron en un horno de vacío a 100 °C durante 4-5 h.
La gravedad específica (SG) como de reporta en la hoja de datos de seguridad (SDS) para IC-1000 fue de 2,15. La concentración del volumen de pigmento (PVC) del inhibidor en la mezcla de AC-131 se calculó utilizando la ecuación (1):
masa del inhibidor
SG de! inhibidor
PVC
masa del inhibidor
+ (volumen total de la mezcla AC-131 * % de sólidos )
SG de! inhibidor
Ecuación (1)
Formulaciones de CRB de bajo pH y alta resistencia usando AC-131:
La relación en volumen de GAA:TPOZ fue de 2:1 para las formulaciones de pH bajo. Las formulaciones de alta resistencia se refieren a concentraciones de aglutinante > 3%. La Tabla 1 describe los volúmenes de ácido acético glacial (GAA) y n-propóxido de zirconio (TPOZ) utilizados para preparar la "Parte A" de la formulación de CRB. Los volúmenes medidos de GAA y TPOZ se mezclaron vigorosamente durante 10 minutos y luego se agregaron a la Parte A del kit de AC-131.
Las soluciones de la Parte A premezcladas (Tabla 1), se agregaron luego a un volumen medido (Tabla 2) de la solución de la Parte B del kit de AC-131 y el agente humectante Antarox BL-204 y la mezcla se agitaron seguido por un período de inducción de 30 minutos.
Tabla 1: Formulación de soluciones de AC-131 de alta resistencia (HS) de la Parte A de pH más bajo.
Tabla 2: Formulación de soluciones de AC-131 de HS de pH más bajo para CRB.
Se añadió el inhibidor a la solución premezclada de AC-131 de HS. Se añadieron a la mezcla perlas de vidrio de borosilicato (2 mm) igual a ~V2 del volumen de la solución en el frasco de vidrio. La mezcla de recubrimiento se mezcló luego en un agitador de pintura durante ~20 minutos. Las perlas de vidrio se eliminaron usando un filtro de pintura y el recubrimiento se empañó sobre paneles de Al 2024 limpios.
El GTMS, que es el componente primario de la Parte B de AC-131, de Sigma Aldrich se aseguró con un Sure Seal® para evitar la entrada de humedad y se conoce como GTMS (denominado "G"). El GTMS puede hidrolizarse con la adición de agua para formar hidroxi organosilano (1) (denominado "H").
Resultados y discusión
Sol-gel de alta resistencia
AC-131 de 3M (aglutinante al 3%) está en una relación molar de 0,45:1 de GAA:TPOZ. Se investigó la formulación de un sol-gel de alta resistencia (HS) (6%, 15% y 30% de aglutinante) para determinar si el aglutinante podría "contener" más inhibidor.
La Figura 3 es un espectro de FT-IR (izquierda) y un barrido de polarización de Tafel (derecha) de AC-131 (3%) y solgel de HS (6%, 15% y 30%) en Al 2024. Como se muestra en la Figura 3, la pasivación de Al 2024 aumenta con una mayor concentración de aglutinante del sol-gel. A partir del barrido de polarización de Tafel que se muestra en la Figura 3, el aumento de la concentración de aglutinante dio como resultado una disminución en la corriente de corrosión del panel de Al 2024 de 10 |jm a menos de 1 nm. Además, como lo ilustra el espectro de FT-IR de la Figura 3, el aumento de la concentración de aglutinante dio como resultado un aumento de la intensidad de la banda vibratoria Si-O-Si a 1010 cm_1. Para la misma carga de PVC de IC-1000, el aumento de la concentración de aglutinante mostró una mejora en la resistencia a la corrosión del panel desnudo de Al 2024, como se muestra en la Figura 4. (La Figura 4 son imágenes de paneles de Al 2024 recubiertos con CRB con una concentración creciente de aglutinante después de 336 horas de prueba de acuerdo con la norma ASTM B117.)
Sol-gel de HS de pH bajo
El aumento de la concentración de aglutinante afectó el pH, el peso del recubrimiento y la densidad del recubrimiento de sol-gel (Tabla 3). Para calcular el peso seco (Tabla 3) de los ingredientes formadores de película en las formulaciones de AC-131 al 3% en volumen y AC-131 de alta resistencia, se formularon volúmenes de 5 mL de las soluciones de acuerdo con la Tabla 2 y se secaron en un horno de vacío a 100 °C durante 4-5 h.
Tabla 3: Densidades y % de sólidos de las soluciones de AC-131 de HS
Un proceso de formación de sol-gel comienza por la hidrólisis de TPOZ en agua. TPOZ se hidroliza rápidamente en agua formando un precipitado blanco insoluble de Zr(OH)2. La adición de GAA da como resultado la formación lenta del complejo de Zr-ácido acético que ralentiza la formación de Zr(OH)2 y permite un sistema a base de agua. La hidrólisis catalizada por ácido de TpOZ favorece la reacción de hidrólisis sobre la condensación durante la formación del sol-gel.
Cuatro moles de GAA estabilizan 1 mol de TPOZ. Al preparar la parte A de la solución sol-gel, la turbidez de la mezcla (turbidez asociada con la formación de Zr(OH)2) fue un indicador del grado de formación del complejo de Zr- ácido acético. Para medir la turbidez de la solución, se registró su absorbancia a 500 nm y se comparó con el control (agua). La Figura 5 es un gráfico que ilustra el % de transmitancia de una solución sol-gel de ácido acético glacial y tetrapropoxi zirconio. Como se muestra en la Figura 5, después de 24 horas (h), todas las mezclas con un exceso molar de GAA eran claras. La Figura 6 es un gráfico que ilustra el cambio en la absorbancia a 500 nm (círculos con relleno) de una solución sol-gel de ácido acético glacial y tetrapropoxi zirconio en una relación molar de 2:1. Al preparar la parte A del sol-gel de HS, la Figura 6 ilustra que la solución era casi transparente con una absorbancia mínima en ~2-3 días después de mezclar TPOZ con GAA en agua. El pH de la mezcla (círculos sin relleno) también se registró en función del tiempo.
Sin embargo, como se muestra en la Figura 7, a una concentración de aglutinante más alta y una cantidad superior de carga de IC-1000, se observaron ampollas en el campo (Figura 7) después de 500 horas de prueba de acuerdo con la norma ASTM G85. (La Figura 7 son imágenes de paneles de AI2024 recubiertos con CRB o sol-gel de HS de control sin ningún IC-1000 y una imprimación epoxídica sin cromato después de 500 horas de prueba con niebla salina acidificada). La Figura 8 es un gráfico que ilustra el efecto de la adición de inhibidores de corrosión a pH de sol-gel concentrado. Como se muestra en la Figura 8 , la adición de IC-1000 afectó el pH del recubrimiento, lo que a su vez afectó su rendimiento en las cámaras de niebla salina. IC-1000 se neutraliza a un pH de 6,3 durante su tratamiento y, como se muestra en la Figura 8 , la adición de IC-1000 afectó el pH del sol-gel de HS. Para combatir este efecto, se probó una formulación de CRB de pH más bajo en la cámara de niebla salina acidificada. La Figura 9 son imágenes de paneles de Al2024 recubiertos con CRB de bajo pH o AC-131 de control (sin ningún IC-1000) y una imprimación epoxídica sin cromato después de 500 horas de prueba de niebla salina acidificada. Como se muestra en la Figura 9, hubo una mejora en la resistencia a la corrosión del recubrimiento (en comparación con la Figura 7), sin embargo, todavía se observaron ampollas más pequeñas en el campo.
Hidroxi organosilano frente a GTMS
En un esfuerzo por comprender la diferencia en la cinética de la formación de sol-gel en función del pH, se investigaron los espectros Raman de sol-geles. La Figura 10 son los espectros Raman de GTMS y el hidroxi organosilano (1). Como se muestra en la Figura 10, el espectro Raman del hidroxi organosilano (1) indica una ausencia de los picos de estiramiento amplios de -OCH3 a -2900 cm-1 (a diferencia del espectro Raman de GTMS), el pico epoxi a 1254 cm-1 (también a diferencia del espectro Raman de GTMS) y picos agudos a -637 cm-1 del estiramiento de SiO3.
La Figura 11 es un gráfico que ilustra la densidad y el % de sólidos de diversas formulaciones con glicidoxi trimetoxisilano frente a hidroxi organosilano, específicamente la densidad y el % de sólidos de diversas formulaciones con hidroxi organosilano (1) frente a GTMS. En cada conjunto, las formulaciones de AC-131 y sol-gel de alta resistencia con el hidroxi organosilano (1) tenían densidades más altas (gráfico de barras) en comparación con la misma formulación con el GTMS. El % de sólidos (gráfico de líneas) de cada formulación no tenía una tendencia clara a diferencia de la densidad.
La Figura 12 es un diagrama de Tafel de sol-gel formulado usando hidroxi organosilano frente a glicidoxi trimetoxisilano. Durante el barrido anódico (Figura 12) de un panel de Al recubierto con sol-gel, la corriente aumentó constantemente hasta alcanzar un valor máximo definido como la corriente crítica o Icrit a aproximadamente 0 V. Después de este punto, el aumento de la corriente es mínimo hasta que ocurra una falla en el recubrimiento. El inicio de la corrosión se indica por un aumento en la corriente mientras se barre anódicamente el potencial. De la Figura 10, la formulación de sol-gel con el GTMS comenzó a fallar a 0,75 V en comparación con 1,25 V para la formulación de sol-gel con el hidroxi organosilano (1). También hubo un ligero cambio anódico en el potencial de corrosión e Icrit de la formulación de sol-gel con el GTMS en comparación con el hidroxi organosilano (1).
La Figura 13 son imágenes de SEM de sol-gel formulado con hidroxi organosilano (1) (sol-gel (H)) y GTMS (sol-gel (G)). La imagen de SEM de sol-gel formulado con GTMS reveló una estructura porosa que tenía una apariencia suave en comparación con el sol-gel formulado con hidroxi organosilano (1) que es menos poroso y más rígido.
La porosidad del sol-gel de hidroxi organosilano y el sol-gel de GTMS se calculó usando la ecuación (2):
p =
x i o - í&ecorr/Po)
........................ (2)
en la que P es la tasa de porosidad total del recubrimiento, Rps es la resistencia a la polarización del sustrato, Rp es la resistencia a la polarización del panel recubierto, AEcorr es la diferencia de potencial entre el potencial de corrosión libre del sustrato y el panel recubierto y pa es la pendiente anódica de Tafel del sustrato. La resistencia a la polarización se calculó a partir de la curva de resistencia a la polarización y el potencial de corrosión y la pendiente anódica de Tafel se calculó a partir de un gráfico de Tafel del recubrimiento. Se calculó que la porosidad del sol-gel de GTMS era del 26% en comparación con el 18% para el sol-gel de hidroxi organosilano.
La Figura 14 son imágenes de paneles de Al2024 recubiertos con CRB de HS de bajo pH o sol-gel de control (sin ningún IC-1000) formulado usando hidroxi organosilano (1) (H) y GTMS (G) y un imprimador epóxico sin cromato después de 500 h de prueba de niebla salina acidificada. Como se muestra en la Figura 14, la formulación de CRB
con el hidroxi organosilano (1) mostró formación de ampollas reducida en comparación con las formulaciones con el GTMS.
Además, también se estudió el espesor del CRB en comparación con el sol-gel de control. La Figura 15 son imágenes de SEM de una sección transversal de una sección media de un panel de Al2024 recubierto con CRB o sol-gel de control y una imprimación epoxídica sin cromato. Como se muestra en la Figura 15, el espesor de AC-131 fue de ~0,3 |jm y un sol-gel al 6% de pH bajo con formulación de CRB IC-1000 con 6 PVC fue de ~0,6 |jm y una formulación de CRB IC-1000 con 6 PVC de sol-gel del 15% de pH bajo fue de ~3 jm .
Las descripciones de los diversos aspectos de la presente divulgación se han presentado con fines ilustrativos, pero no pretenden ser exhaustivas o limitadas a los aspectos divulgados. Muchas modificaciones y variaciones serán evidentes para los expertos en la técnica sin apartarse del alcance y espíritu de los aspectos descritos. La terminología utilizada en este documento se eligió para explicar mejor los principios de los aspectos, la aplicación práctica o la mejora técnica sobre las tecnologías que se encuentran en el mercado, o para permitir que otros expertos en la técnica comprendan los aspectos divulgados en este documento.
Definiciones
El término "alquilo" incluye un radical alquilo acíclico lineal o ramificado sustituido o no sustituido que contiene de 1 a aproximadamente 20 átomos de carbono. En al menos un aspecto, alquilo es un alquilo C1-10, alquilo C1-7 o alquilo C1-5. Los ejemplos de alquilo incluyen, pero no se limitan a, metilo, etilo, propilo, butilo, pentilo, hexilo, heptilo, octilo, nonilo, decilo e isómeros estructurales de los mismos.
El término "cicloalquilo" incluye un radical alquilo cíclico sustituido o no sustituido que contiene de 3 a aproximadamente 20 átomos de carbono. En al menos un aspecto, el cicloalquilo es un cicloalquilo C3-10 o un cicloalquilo C3-6.
El término "arilo" se refiere a cualquier anillo de carbono monocíclico, bicíclico o tricíclico de hasta 6 átomos en cada anillo, en el que al menos un anillo es aromático, o un sistema de anillo aromático de 5 a 14 átomos de carbono que incluye un grupo aromático carbocíclico fusionado con un grupo cicloalquilo de 5 o 6 miembros. Los ejemplos de grupos arilo incluyen, pero no se limitan a, fenilo, naftilo, antracenilo o pirenilo.
El término "alcoxi" es RO-- en el que R es alquilo como se define en el presente documento. Los términos alquiloxi, alcoxilo y alcoxi pueden usarse indistintamente. Los ejemplos de alcoxi incluyen, pero no se limitan a, metoxilo, etoxilo, propoxilo, butoxilo, pentoxilo, hexiloxilo, heptiloxilo, octiloxilo, noniloxilo, deciloxilo e isómeros estructurales de los mismos.
El término "heteroarilo" se refiere a un anillo monocíclico, bicíclico o tricíclico que tiene hasta 10 átomos en cada anillo, en el que al menos un anillo es aromático y contiene de 1 a 4 heteroátomos en el anillo seleccionado de N, O y S. Los ejemplos no limitativos de heteroarilo incluyen, pero no se limitan a, piridilo, tienilo, furanilo, pirimidilo, imidazolilo, piranilo, pirazolilo, tiazolilo, tiadiazolilo, isotiazolilo, oxazolilo, isoxazoilo, pirrolilo, piridazinilo, pirazinilo, quinolinilo, isoquinolinilo, benzofuranilo, dibenzofuranilo, dibenzotiofenilo, benzotienilo, indolilo, benzotiazolilo, benzooxazolilo, benzimidazolilo, isoindolilo, benzotriazolilo, purinilo, tianaftenilo y pirazinilo. La unión de heteroarilo puede ocurrir a través de un anillo aromático o a través de un anillo no aromático o un anillo que no contiene heteroátomos.
El término "heterociclilo" se refiere a un sistema de anillo monocíclico, bicíclico o tricíclico no aromático de 3 a 20 miembros, en el que al menos un anillo contiene un heteroátomo seleccionado de oxígeno, azufre y nitrógeno. Cada anillo puede estar saturado o parcialmente insaturado (es decir, comprende uno o más dobles enlaces), puede comprender átomos de azufre y/o nitrógeno oxidados, puede comprender átomos de nitrógeno cuaternizados y puede fusionarse a un anillo de benceno.
El término "éter" se refiere a un grupo orgánico que comprende dos átomos de carbono que están separados por un átomo de oxígeno puente, por ejemplo, R'-O-R', en el que R' es alquilo, arilo, heteroarilo, heterociclilo o cualquiera combinaciones de los mismos (por ejemplo, arilalquilo). El término "hidroxi" e "hidroxilo" se refiere cada uno a -OH.
Los compuestos de la presente descripción incluyen formas tautoméricas, geométricas o estereoisoméricas de los compuestos. La presente descripción también abarca las formas de éster, oxima, onio, hidrato, solvato y N-óxido de un compuesto. La presente descripción considera todos estos compuestos, incluidos los isómeros geométricos cis y trans (isómeros geométricos Z y E), enantiómeros R y S, diastereómeros, isómeros d, isómeros l, atropisómeros, epímeros, confórmeros, rotámeros, la presente descripción abarca mezclas de isómeros y racematos de los mismos.
Claims (15)
1. Un sol-gel que es el producto de reacción de:
un alcóxido metálico;
un estabilizador ácido y
un hidroxiorganosilano representado por la Fórmula (I):
en la que
R es alquilo C1-20, cicloalquilo, éter o arilo.
2. El sol-gel de la reivindicación 1, en el que
R es alquilo C1-20 seleccionado del grupo que comprende metilo, etilo, propilo, butilo, pentilo, hexilo, heptilo, octilo, nonilo, decilo, undecilo, dodecilo, tridecilo, tetradecilo, pentadecilo, hexadecilo, heptadecilo, octadecilo, nonadecilo e icosanilo.
3. El sol-gel de la reivindicación 1, en el que R es alquilo C1-10.
4. El sol-gel de la reivindicación 1, en el que R es éter seleccionado del grupo que comprende éter de polietilenglicol, éter de polipropilenglicol, éter de alquilo C1-20, éter de arilo y éter de cicloalquilo.
5. Sol-gel de la reivindicación 4, en el que R es seleccionado del grupo que comprende:
en el que n es un número entero positivo.
6. El sol-gel de la reivindicación 5, en el que el hidroxiorganosilano es:
7. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 1-6, en el que el alcóxido metálico se selecciona del grupo que comprende tetrametóxido de zirconio (IV), tetraetóxido de zirconio (IV), tetra-n-propóxido de zirconio (IV), tetraisopropóxido de zirconio (IV), tetra-n-butóxido de zirconio (IV), tetra-isobutóxido de zirconio (IV), tetra-n-pentóxido de zirconio (IV), tetra-isopentóxido de zirconio (IV), tetra-n-hexóxido de zirconio (IV), tetra-isohexóxido de zirconio (IV), tetra-n-heptóxido de zirconio (IV), tetra-isoheptóxido de zirconio (IV), tetra-n-octóxido de zirconio (IV), tetra-nisooctóxido de zirconio (IV), tetra-n-nonóxido de zirconio (IV), tetra-n-isononóxido de zirconio (IV), tetra-n-decilóxido de zirconio (IV), tetra-n-isodecilóxido de zirconio (IV) y mezclas de los mismos.
8. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 1-7, en el que la relación molar de estabilizador ácido a alcóxido metálico es 2:1 o mayor y el sol-gel tiene un pH de aproximadamente 3 a aproximadamente 4.
9. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 1-8, en el que la relación molar de estabilizador ácido a alcóxido metálico es de aproximadamente 3:1 a aproximadamente 8:1.
10. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 1-9, en el que el estabilizador de ácido es ácido acético.
11. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 1-10, preparado mediante un proceso que comprende: mezclar un alcóxido metálico y un estabilizador de ácido para formar una primera mezcla; y
mezclar con la primera mezcla un hidroxiorganosilano para formar una segunda mezcla, el hidroxiorganosilano representado por la Fórmula (I):
en la que:
R es alquilo C1-20, cilcoalquilo, éter, o ariloether, or aryl.
12. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 1-11, que comprende además un inhibidor de la corrosión.
13. El sol-gel de la reivindicación 12, en el que el inhibidor de corrosión está representado por la fórmula: R1--Sn--X--R2 o M-(S--R1)n ', en la que R1 es un grupo orgánico, n es un número entero positivo, X es un átomo de azufre o de metal, R2 es un grupo orgánico, M es un átomo de metal y n' es un número entero de 2 a 9.
14. El sol-gel de la reivindicación 12 o 13, en el que el inhibidor de la corrosión comprende un tiadiazol sustituido por una o más fracciones tiol.
15. El sol-gel de una cualquiera de las reivindicaciones 12-14, en el que el inhibidor de corrosión está representado por la fórmula (II) o la fórmula (III):
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US15/414,150 US10508205B2 (en) | 2017-01-24 | 2017-01-24 | Corrosion resistant adhesive sol-gel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2936687T3 true ES2936687T3 (es) | 2023-03-21 |
Family
ID=60856842
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES19204485T Active ES2885301T3 (es) | 2017-01-24 | 2017-12-06 | Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión |
| ES17205717T Active ES2769131T3 (es) | 2017-01-24 | 2017-12-06 | Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión |
| ES21176685T Active ES2936687T3 (es) | 2017-01-24 | 2017-12-06 | Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES19204485T Active ES2885301T3 (es) | 2017-01-24 | 2017-12-06 | Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión |
| ES17205717T Active ES2769131T3 (es) | 2017-01-24 | 2017-12-06 | Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10508205B2 (es) |
| EP (3) | EP3351599B1 (es) |
| JP (2) | JP7089883B2 (es) |
| CN (1) | CN108342722B (es) |
| AU (1) | AU2017272213B2 (es) |
| CA (1) | CA2985275C (es) |
| ES (3) | ES2885301T3 (es) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11987725B2 (en) | 2017-06-30 | 2024-05-21 | The Boeing Company | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials |
| US11505722B2 (en) * | 2017-06-30 | 2022-11-22 | The Boeing Company | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials |
| US10926237B2 (en) * | 2018-02-02 | 2021-02-23 | The Boeing Company | Soluble corrosion resistant sol-gel |
| US11932949B2 (en) * | 2021-08-31 | 2024-03-19 | The Boeing Company | Corrosion resistant coating systems |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4463114A (en) * | 1982-03-31 | 1984-07-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic films |
| US5866652A (en) | 1996-02-27 | 1999-02-02 | The Boeing Company | Chromate-free protective coatings |
| US5869141A (en) | 1996-11-04 | 1999-02-09 | The Boeing Company | Surface pretreatment for sol coating of metals |
| US5849110A (en) | 1996-11-04 | 1998-12-15 | The Boeing Company | Sol coating of metals |
| US5789085A (en) | 1996-11-04 | 1998-08-04 | Blohowiak; Kay Y. | Paint adhesion |
| US5814137A (en) | 1996-11-04 | 1998-09-29 | The Boeing Company | Sol for coating metals |
| US6037060A (en) | 1996-11-04 | 2000-03-14 | The Boeing Company | Sol for bonding expoxies to aluminum or titanium alloys |
| GB2391237B (en) * | 2001-05-04 | 2004-12-01 | Wayne Pigment Corp | Corrosion inhibitor composition applicable for aluminium and steel protection and procedures and processes using the same and paints comprising the same |
| US6579472B2 (en) * | 2001-07-27 | 2003-06-17 | The Boeing Company | Corrosion inhibiting sol-gel coatings for metal alloys |
| US6796702B2 (en) * | 2002-11-26 | 2004-09-28 | The Boeing Company | Automated sol-gel mixer |
| US6768048B2 (en) | 2002-12-04 | 2004-07-27 | The Boeing Company | Sol-gel coatings for solar cells |
| JP2004307897A (ja) | 2003-04-03 | 2004-11-04 | Nippon Steel Corp | シリカ−ジルコニア系皮膜を有する表面処理金属材料およびその製造方法 |
| DE102004037045A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
| FR2886309B1 (fr) * | 2005-05-31 | 2007-08-17 | Airbus France Sas | Sol pour le revetement par voie sol-gel d'une surface et procede de revetement par voie sol-gel le mettant en oeuvre |
| US8592042B2 (en) * | 2006-11-09 | 2013-11-26 | The Boeing Company | Sol-gel coating method and composition |
| JP2010521582A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-24 | クロスリンク | 耐腐食性有機陰イオンの改質金属塩を有する耐腐食性コーティング |
| EP2118341A2 (en) * | 2007-03-05 | 2009-11-18 | Scott Hayes | Multi-layer and composite corrosion resistant coatings |
| US8541062B2 (en) * | 2009-09-28 | 2013-09-24 | Guardian Industries Corp. | Multi-layer anti-reflective coatings and processes therefor |
| DE102010009999B4 (de) * | 2010-03-02 | 2017-02-09 | Schott Ag | Verwendung von Nanopartikeln und/oder Organosilanen zur Herstellung von vorgespannten, mehrlagig beschichteten Glas-Substraten |
| US9222006B2 (en) * | 2013-02-28 | 2015-12-29 | The Boeing Company | Joining a thermoplastic material and a metal |
| US9359507B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-06-07 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Ambient curable corrosion resistant sol-gel coating and composition and process for making the same |
| RU2710814C2 (ru) | 2013-03-16 | 2020-01-14 | Прк-Десото Интернэшнл, Инк. | Золь-гель композиции, ингибирующие коррозию |
| US20140322540A1 (en) | 2013-04-26 | 2014-10-30 | The Boeing Company | Surface treatment for structural bonding to aluminum |
| JP6318248B2 (ja) * | 2013-08-06 | 2018-04-25 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ | 金属表面予備処理のための被覆組成物、その製造およびその使用 |
| US10208213B2 (en) * | 2013-08-12 | 2019-02-19 | Basf Coatings Gmbh | Dip-coating composition for electroconductive substrates, comprising a sol-gel composition |
| US10167394B2 (en) | 2014-11-26 | 2019-01-01 | The Boeing Company | Corrosion-inhibiting sol-gel coating systems and methods |
| FR3029835B1 (fr) * | 2014-12-15 | 2019-06-28 | Airbus Group | Revetements anticorrosion charges en particules mesostructurees |
-
2017
- 2017-01-24 US US15/414,150 patent/US10508205B2/en active Active
- 2017-11-09 CA CA2985275A patent/CA2985275C/en active Active
- 2017-12-06 ES ES19204485T patent/ES2885301T3/es active Active
- 2017-12-06 EP EP17205717.6A patent/EP3351599B1/en active Active
- 2017-12-06 AU AU2017272213A patent/AU2017272213B2/en active Active
- 2017-12-06 EP EP19204485.7A patent/EP3620496B1/en active Active
- 2017-12-06 ES ES17205717T patent/ES2769131T3/es active Active
- 2017-12-06 ES ES21176685T patent/ES2936687T3/es active Active
- 2017-12-06 EP EP21176685.2A patent/EP3916057B1/en active Active
- 2017-12-25 CN CN201711416479.7A patent/CN108342722B/zh active Active
-
2018
- 2018-01-22 JP JP2018007872A patent/JP7089883B2/ja active Active
-
2019
- 2019-12-16 US US16/715,749 patent/US20200115561A1/en active Pending
-
2022
- 2022-06-13 JP JP2022094877A patent/JP7462702B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU2017272213A1 (en) | 2018-08-09 |
| AU2017272213B2 (en) | 2023-02-09 |
| CA2985275C (en) | 2023-03-14 |
| EP3351599B1 (en) | 2019-12-04 |
| JP7462702B2 (ja) | 2024-04-05 |
| EP3620496B1 (en) | 2021-06-30 |
| EP3351599A1 (en) | 2018-07-25 |
| US20180208777A1 (en) | 2018-07-26 |
| JP7089883B2 (ja) | 2022-06-23 |
| CA2985275A1 (en) | 2018-07-24 |
| JP2018154813A (ja) | 2018-10-04 |
| CN108342722A (zh) | 2018-07-31 |
| US10508205B2 (en) | 2019-12-17 |
| EP3620496A1 (en) | 2020-03-11 |
| EP3916057A1 (en) | 2021-12-01 |
| ES2769131T3 (es) | 2020-06-24 |
| ES2885301T3 (es) | 2021-12-13 |
| JP2022141634A (ja) | 2022-09-29 |
| EP3916057B1 (en) | 2022-11-02 |
| US20200115561A1 (en) | 2020-04-16 |
| CN108342722B (zh) | 2022-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2936687T3 (es) | Sol-gel adhesivo resistente a la corrosión | |
| US20230383148A1 (en) | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials | |
| US11987725B2 (en) | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials | |
| US11692113B2 (en) | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials | |
| US10926237B2 (en) | Soluble corrosion resistant sol-gel | |
| EP3299491B1 (en) | Corrosion resistant surface treatment and primer system for aluminum aircraft using chromium-free inhibitors | |
| EP4141143A1 (en) | Corrosion resistant coating systems |