ES2693105T3 - Sustrato OLED difusivo transparente y método para producir semejante sustrato - Google Patents

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Abstract

Un sustrato OLED difusivo transparente que comprende los siguientes elementos o capas sucesivos: (a) un sustrato plano transparente fabricado de vidrio mineral con un índice de refracción de entre 1,45 y 1,65, (b) una capa rugosa de bajo índice que comprende partículas minerales, estando dichas partículas minerales unidas a un lado del sustrato por medio de un esmalte de bajo índice, creando las partículas minerales cercanas, en o que sobresalen de la superficie de esmalte una rugosidad de la superficie caracterizada por una desviación media aritmética Ra comprendida entre 0,15 y 3 μm, teniendo las partículas minerales y el esmalte un índice de refracción de entre 1,45 y 1,65; estando la razón en volumen de las partículas minerales con respecto al esmalte de bajo índice comprendida entre 0,3 y 3, (c) una capa de planarización de alto índice fabricada de un esmalte que tiene un índice de refracción comprendido entre 1,8 y 2,1 que cubre la capa rugosa de bajo índice (b).

Description

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DESCRIPCION
Sustrato OLED difusivo transparente y metodo para producir semejante sustrato
La presente invencion se refiere a un nuevo metodo para producir sustratos translucidos y de dispersion de luz para diodos organicos emisores de luz (OLED) y a sustratos obtenibles mediante tal metodo.
Los OLED son elementos optoelectronicos que comprenden un apilamiento de capas organicas con colorantes fluorescentes o fosforescentes intercalados entre electrodos, al menos uno de los cuales es translucido. Cuando se aplica un voltaje a los electrodos, los electrones inyectados desde el catodo y los agujeros inyectados desde el anodo se combinan dentro de las capas organicas, dando como resultado la emision de luz desde las capas fluorescentes/fosforescentes.
Se sabe comunmente que la extraccion de luz de los OLED convencionales es bastante pobre, ya que la mayona de la luz queda atrapada por la reflexion interna total en las capas organicas de alto mdice y las capas conductoras transparentes (TCL). La reflexion interna total tiene lugar no solo en el lfmite entre el TCL de alto mdice y el sustrato de vidrio subyacente (mdice de refraccion de aproximadamente 1,5) sino tambien en el lfmite entre el vidrio y el aire.
Segun las estimaciones, en los OLED convencionales que no comprenden ninguna capa de extraccion adicional, aproximadamente 60% de la luz emitida desde las capas organicas queda atrapada en el lfmite del TCL/vidrio, una fraccion adicional de 20% queda atrapada en la superficie de vidrio/aire y solo aproximadamente 20% sale del OLED al aire.
Se sabe como reducir este atrapamiento de luz por medio de una capa de dispersion de luz entre el TCL y el sustrato de vidrio. Tales capas dispersoras de luz tienen un alto mdice de refraccion cercano al mdice TCL y contienen una pluralidad de elementos difusores de luz.
Tambien se sabe que aumenta el acoplamiento de la luz al texturizar la interfaz entre el vidrio y las capas de alto mdice del OLED.
Ambos de estos medios de extraccion "internos", tambien denominados comunmente "capas de extraccion interna" (IEL), comprenden asperezas que deben planarizarse antes de aplicar el TCL y el apilamiento organico.
El documento WO2011/089343 describe sustratos OLED que comprenden al menos una superficie texturizada planarizada con un recubrimiento de vidrio de alto mdice. Los sustratos se describen como texturizados por grabado al acido. El grabado de vidrio utilizando acidos fuertes, en particular HF, es un metodo comunmente utilizado para la texturizacion de superficies de vidrio. Sin embargo, tal metodo de qmmica humeda es un procedimiento complicado cuando se lleva a cabo sobre vidrio delgado (grosor <1 mm). Esta tecnica permite que solamente una de las dos caras que se va a grabar por la etapa del procedimiento como placa de vidrio tenga que mantenerse en una posicion horizontal durante la etapa de grabado. Ademas, los parametros del perfil de rugosidad son difmiles de optimizar y, sobre todo, el uso de HF da como resultado importantes problemas de seguridad para el medio ambiente y las personas que trabajan cerca.
El autor de la presente solicitud ha desarrollado recientemente un metodo alternativo interesante para el desbaste de uno o ambos lados del sustrato de vidrio, comprendiendo dicho metodo el desbaste mecanico (lapeado). Este metodo, descrito en la solicitud europea 12306179.8 presentada el 28 de septiembre de 2012, es mucho menos peligroso que el grabado qmmico, permite un mejor control del perfil de rugosidad y hace posible el desbaste simultaneo de ambas caras de los sustratos, produciendo de ese modo en una sola etapa de procedimiento las capas de extraccion internas y externas (IEL y EEL) de un sustrato de vidrio OLED transparente.
Los documentos WO2012/133832 A1, WO2013187735 A1 y EP2819198 A1 tambien describen sustratos para OLED que contienen capas de extraccion de luz. La presente invencion se refiere a otro metodo para producir sustratos de vidrio de bajo mdice difusivo, no comprendiendo dicho metodo ni una etapa de grabado qmmico ni una etapa de abrasion mecanica. La idea subyacente en la presente invencion es unir partmulas minerales de bajo mdice por medio de un aglutinante mineral de bajo mdice a un sustrato de vidrio de bajo mdice, siendo la cantidad de aglutinante mineral con respecto a las partmulas minerales lo suficientemente baja para que las partmulas minerales sobresalgan de la superficie de aglutinante o, al menos, creen una rugosidad significativa en la superficie de aglutinante mineral.
El sustrato de bajo mdice difusivo asf obtenido se somete a continuacion a una etapa de planarizacion comunmente conocida utilizando una frita de mdice alto, y el sustrato difusivo planarizado resultante se puede recubrir con una capa conductora transparente (TCL) y se puede utilizar como un sustrato de extraccion de luz para OLED.
El metodo de la presente invencion es facil de implementar, ya que solo requiere un equipo bastante simple y comunmente conocido. Una ventaja significativa sobre el metodo de lapeado descrito en el documento Ep 12306179.8 es que puede ser utilizado para superficies muy grandes. Ademas, el metodo de lapeado reduce ligeramente la resistencia mecanica del sustrato, que no es el caso para el metodo de la presente invencion.
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El primer objeto de estudio de la presente invencion es un sustrato OLED difusivo transparente que comprende los siguientes elementos o capas sucesivos:
(a) un sustrato plano transparente hecho de vidrio mineral con un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65,
(b) una capa rugosa de bajo mdice que comprende partmulas minerales, estando unidas dichas partmulas minerales a un lado del sustrato por medio de un esmalte de bajo mdice, las partmulas minerales cercanas, en o que sobresalen de la superficie de un esmalte creando una rugosidad de la superficie caracterizada por una desviacion media aritmetica Ra comprendidas entre 0,15 y 3 pm, tanto las partmulas minerales como el esmalte de bajo mdice tienen un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65, estando comprendida la razon en volumen de las partmulas minerales con respecto al esmalte de bajo mdice entre 0,3 y 3;
(c) una capa de planarizacion de alto mdice fabricada de un esmalte que tiene un mdice de refraccion comprendido entre 1,8 y 2,1 que cubre la capa rugosa de bajo mdice (b).
La presente invencion tambien proporciona un metodo para preparar un sustrato difusivo como se define anteriormente.
La capa de bajo mdice del sustrato OLED de la presente invencion se define por su mdice de refraccion (1,45 - 1,65) y por su perfil de rugosidad de la superficie, es decir, una desviacion media aritmetica Ra (tal como se define en ISO 4287) comprendida entre 0,15 y 3 pm siendo creada dicha rugosidad por las partmulas minerales cercanas, en o que sobresalen de la superficie del esmalte de bajo mdice. No es necesario que las partmulas minerales sobresalgan necesariamente del esmalte de bajo mdice, si no que pueden incrustarse en el mismo siempre que sea evidente, por ejemplo, a partir de una vista en seccion de SEM, que la rugosidad o la ondulacion de la capa de mineral de bajo mdice se pueda atribuir a las partmulas subyacentes, coincidiendo estrechamente el perfil de la superficie con la presencia/ausencia de partmulas minerales incrustadas.
Las partmulas minerales utilizadas en la presente invencion pueden ser partmulas cristalinas, amorfas o semicristalinas. Pueden tener una forma aleatoria con bordes mas o menos afilados, pero preferiblemente son partmulas mas bien esfericas libres de bordes afilados.
En una realizacion preferida, las partmulas minerales son cuentas solidas. Tales cuentas se prefieren a las partmulas de borde afilado y forma aleatoria porque se extienden facilmente sobre la superficie del sustrato, facilitando asf la formacion de una monocapa delgada de cuentas, en lugar de agregados de gran tamano. Las partmulas de tipo esfera sin bordes afilados tambien son mas facilmente planarizadas que las partmulas de forma aleatoria. Debe entenderse que las cuentas huecas no estan incluidas en la definicion de partmulas minerales de la presente invencion, debido a que el gas contenido en las mismas tiene un mdice de refraccion que no esta comprendido entre 1,45 y 1,65.
El termino "partmula mineral", especialmente cuando se utiliza para describir el metodo de la presente invencion, abarca partmulas funcionalizadas con grupos de superficie organicos, tales como grupos trialquilsililo. Dichos grupos de superficie organicos sufren una descomposicion termica durante la etapa de coccion o etapa de fusion del aglutinante mineral o, como muy tarde, durante la formacion de la capa de esmalte de alto mdice y en consecuencia ya no estaran presentes en producto final.
Las partmulas minerales utilizadas en la presente invencion, ya sean esfericas o no, tienen un diametro esferico equivalente medio (medido por DLS) de entre 0,3 pm y 10 pm, preferiblemente de entre 0,5 pm y 8 pm, mas preferiblemente de entre 0,8 pm y 7 pm, el diametro esferico equivalente de las partmulas de forma irregular se define como el diametro de la esfera que tiene el mismo volumen que la partmula mineral.
Sin embargo, el diametro esferico equivalente medio no es el unico parametro de tamano a considerar para seleccionar las partmulas minerales que se utilizaran en la presente invencion. Ventajosamente, las partmulas minerales estan esencialmente libres de partmulas de gran tamano, que sobresaldnan no solo del aglutinante mineral sino tambien de la capa de esmalte de alto mdice, lo que llevana a continuacion una fuga de corriente en el OLED final. Las partmulas minerales utilizadas en la presente invencion, en consecuencia, estan preferiblemente esencialmente desprovistas de partmulas que tienen un diametro esferico equivalente superior a 15 pm, preferiblemente superior a 12 pm.
Como ya se especifico anteriormente, el sustrato de vidrio, las partmulas minerales y el aglutinante mineral, es decir el esmalte de bajo mdice, tienen todos aproximadamente el mismo mdice de refraccion, comprendido entre 1,45 y 1,65, preferiblemente entre 1,50 y 1,60.
En una realizacion preferida de la presente invencion, las partmulas minerales se seleccionan entre partmulas de sflice.
Con el fin de obtener sustratos difusivo a partir de ingredientes que tengan aproximadamente el mismo mdice de refraccion, es necesario crear y controlar la rugosidad de la superficie de la capa mineral de bajo mdice. Como se
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menciono anteriormente, la capa mineral de bajo mdice debe tener una desviacion media aritmetica Ra comprendida entre 0,15 y 3 pm, preferiblemente entre 0,2 y 2 pm.
La desviacion media aritmetica Ra se define en la norma ISO 4287. Puede medirse mediante microscopfa electronica de barrido (SEM) de secciones transversales de la muestra, mediante la medicion del perfil de superficie o mediante microscopfa laser 3D.
Para obtener una capa mineral de bajo mdice que tenga tanto una rugosidad superficial adecuada como una resistencia mecanica satisfactoria, es importante seleccionar adecuadamente la cantidad de frita de vidrio de bajo mdice con respecto a la cantidad de partmulas minerales. Si se utilizan cantidades demasiado altas de frita de vidrio, las partmulas minerales se incrustaran completamente en la matriz de aglutinante mineral de bajo mdice resultante y no crearan la rugosidad de la superficie requerida (Ra) de entre 0,15 y 3 pm. Por otro lado, en caso de que la cantidad de aglutinante mineral sea demasiado baja con respecto a las partmulas minerales, la resistencia de union del aglutinante de esmalte es demasiado debil y la capa mineral resultante sera excesivamente fragil y se danara facilmente cuando se manipule.
El solicitante encontro que una razon en peso de partmulas minerales con respecto a frita de vidrio comprendida entre 0,2 y 4, preferiblemente entre 0,4 y 3, conduce a una rugosidad de la superficie y resistencia mecanica adecuada de la capa de bajo mdice.
La capa mineral final de bajo mdice se caracteriza por la razon en volumen de las partmulas minerales con respecto al esmalte de bajo mdice que esta comprendida entre 0,3 y 3, preferiblemente entre 0,5 y 2 y mas preferiblemente entre 0,7 y 1,5.
El esmalte de alto mdice (c) sobre la capa mineral de bajo mdice (b) debe ser lo suficientemente grueso como para cubrir y planarizar completamente el perfil de rugosidad del mismo.
El grosor de la capa de alto mdice esta comprendido ventajosamente entre 3 pm y 20 pm, preferiblemente entre 4 pm y 15 pm y mas preferiblemente entre 5 pm y 12 pm. El grosor de la capa de alto mdice es la distancia media entre las lmeas medias (definidas como en la norma ISO 4287, 3.1.8.1) del perfil de rugosidad de la capa de bajo mdice y el perfil de rugosidad de la capa de alto mdice.
La rugosidad de la superficie de la capa de alto mdice debe ser preferiblemente lo mas baja posible y el esmalte de alto mdice tiene ventajosamente una desviacion media aritmetica Ra de menos de 3 nm, mas preferiblemente de menos de 2 nm y lo mas preferiblemente de menos de 1 nm.
La capa de alto mdice preferiblemente esta esencialmente libre de elementos difusores dispersos en la misma, especialmente libres de partmulas solidas difusivas dispersas en la misma. De hecho, tales partmulas difusivas solidas podnan sobresalir de manera no deseable de la superficie de la capa de alto mdice y provocar corrientes de fuga en el OLED final.
El sustrato de vidrio plano resultante que lleva la capa mineral de bajo mdice (partmulas minerales de bajo mdice + esmalte de bajo mdice) planarizado por la frita de vidrio de alto mdice generalmente tiene una turbidez comprendida entre 75 y 98%, preferiblemente entre 85 y 97%, y mas preferiblemente entre 87 y 95%. El valor de la turbidez puede medirse mediante espectrofotometros opticos como PE Lambda 950 o Varian Carry 5000, pero tambien mediante un dispositivo dedicado mas rapido y mas barato como BYK Hazemeter.
En una realizacion preferida, el sustrato OLED difusivo transparente de la presente invencion comprende adicionalmente una capa electro-conductora transparente (d), preferiblemente directamente en contacto con la capa de esmalte de alto mdice (c). Tales capas conductoras transparentes que pueden utilizarse como anodos para OLEd son bien conocidas en la tecnica anterior. El material mas comunmente utilizado es ITO (oxido de indio y estano). La capa conductora transparente debe tener una transmision de luz de al menos 80%, y un mdice de refraccion (a A =550 nm) de entre 1,7 y 2,2. Su grosor total normalmente esta comprendido entre 50 y 400 nm.
Como se menciono anteriormente, la presente invencion tambien se refiere a un metodo para preparar el sustrato OLED de la presente invencion. Comprendiendo dicho metodo las siguientes etapas sucesivas:
(1) Proporcionar un sustrato plano transparente fabricado de vidrio mineral con un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65;
(2) Aplicar sobre un lado de dicho sustrato de frita de vidrio de bajo mdice mezclado con las partmulas minerales que tienen una temperatura de transicion vftrea (Tg) o una temperatura de fusion de al menos 50°C mayor que la Tg de frita de vidrio, teniendo tanto la frita de vidrio como las partmulas minerales un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65, estando comprendida la razon en volumen de las partmulas minerales con respecto esmalte de bajo mdice entre 0,3 y 3;
(3) Calentar la capa de frita de vidrio resultante a una temperature que permita la fusion de la frita de vidrio sin la fusion las parffculas minerales, dando como resultado una capa rugosa de bajo mdice que comprende parffculas minerales unidas el sustrato por medio del esmalte de bajo mdice.
(4) Aplicar sobre dicha capa de mdice bajo rugosa una capa de frita de vidrio de alto mdice que tiene un mdice de 5 refraccion de entre 1,8 y 2,1;
(5) Secar y fundir dicha frita de vidrio de alto mdice para obtener un esmalte de alto mdice que tiene un mdice de refraccion comprendido entre 1,8 y 2,1 cubriendo la capa rugosa transparente de bajo mdice.
Los sustratos de vidrio plano proporcionados en la etapa (1) ventajosamente tienen un grosor de entre 0,1 y 5 mm, preferiblemente de entre 0,3 y 1,6 mm.
10 En la etapa (2), las parffculas de frita de vidrio y las parffculas minerales, se mezclan y se suspenden en un vehmulo organico convencional que comprende un disolvente organico y un poffmero organico. La suspension se aplica posteriormente conforme a las tecnicas conocidas tales como serigraffa o recubrimiento de ranuras. Las parffculas minerales pueden ser amorfas, cristalinas o semicristalinas. Estas no debeffan fusionarse o ablandarse substancialmente durante la posterior etapa de fusion (4) de la frita de vidrio. Por eso el punto de fusion de las 15 parffculas cristalinas o la Tg de la fraccion amorfa de las parffculas deben ser significativamente mas alta que la Tg de la frita de vidrio, es decir, al menos 50°C, mas preferiblemente al menos 100°C mayor que la Tg de la frita de vidrio.
Las fritas de vidrio de bajo mdice que pueden utilizarse en la presente invencion para unir las parffculas minerales a los sustratos de vidrio son bien conocidas en la tecnica.
Las fritas de vidrio de bajo mdice preferidas tienen la siguiente composicion:
20 SiO2:10 - 40% en peso
Al2O3:1 - 7% en peso
B2O3:20 - 50% en peso
Na2O+Li2O+K2O:5 - 30% en peso
ZnO: 3 - 35% en peso
25 En la etapa (3) el sustrato de frita recubierta es sometido a coccion a una temperatura suficientemente alta para lograr la fusion de la frita de vidrio. Para obtener la fusion completa de la frita de vidrio, generalmente es necesario calentar el sustrato a una temperatura al menos 100°C mayor que la Tg de la frita de vidrio y mantener esta temperatura a lo largo de una duracion de aproximadamente 2 a 30 min.
En una realizacion ffpica, la frita de vidrio y las parffculas minerales (70 - 80% en peso) se mezclan con 20 - 30% en 30 peso de vehmulo organico (etil celulosa y disolvente organico). La pasta resultante se aplica a continuacion sobre el sustrato de vidrio por ejemplo mediante serigraffa o recubrimiento de ranura. La capa resultante se seca por calentamiento a una temperatura de 120 - 200°C. El aglutinante organico (etil celulosa) se quema a una temperatura entre 350 - 440°C, y la etapa de coccion que da como resultado el esmalte final se lleva a cabo a una temperatura de entre 510°C y 610°C, preferiblemente entre 520°C y 600°C.
35 En la etapa (4), se aplica posteriormente la frita de vidrio de alto mdice sobre la capa rugosa de bajo mdice mediante cualquier metodo adecuado, tal como serigraffa, recubrimiento por pulverizacion, recubrimiento por barra, recubrimiento por rodillo, recubrimiento por ranura y recubrimiento por centrifugacion, de una suspension acuosa u organica de parffculas de vidrio. Una descripcion de las fritas de vidrio de alto mdice adecuadas y los metodos para recubrirlas y cocerlas se pueden encontrar, por ejemplo, en el documento EP 2 178 343.
40 La frita de vidrio debe seleccionarse para que tenga un punto de fusion comprendido entre 450°C y 570°C y debe conducir a un esmalte con un mdice de refraccion de 1,8 a 2,2.
Las fritas de vidrio de bajo mdice preferidas tienen la siguiente composicion:
Bi2O3: 55 - 75% en peso
BaO: 0 - 20% en peso
45 ZnO: 0 - 20% en peso
Al2O3: 1 - 7% en peso
SiO2: 5 - 15% en peso
B2O3: 5 - 20% en peso
5
10
15
20
25
30
35
40
Na2O: 0,1 -1% en peso CeO2: 0 - 0,1% en peso
En una realizacion ffpica, las parffculas de frita de vidrio (70 - 80% en peso) se mezclan con 20 - 30% en peso de un vefffculo organico (etil celulosa y disolvente organico). La pasta de frita resultante se aplica a continuacion sobre el sustrato de vidrio recubierto difusivo mediante serigraffa o recubrimiento de ranuras. La capa resultante se seca calentando a una temperatura de 120 - 200°C. El aglutinante organico (etil celulosa) se quema a una temperatura de entre 350 y 440°C, y la etapa de coccion que da como resultado el esmalte final se lleva a cabo a una temperatura de entre 510°C y 610°C, preferiblemente entre 520°C y 600°C.
Se ha demostrado que los esmaltes resultantes tienen una rugosidad superficial con una desviacion media aritmetica Ra (ISO 4287) de menos de 3 nm cuando se mide por AFM en un area de 10 pm x 10 pm.
La cantidad de frita de vidrio de alto mdice recubierta sobre la superficie rugosa generalmente esta comprendida entre 20 y 200 g/m2, preferiblemente entre 25 y 150 g/m2, mas preferiblemente entre 30 y 100 g/m2, y lo mas preferiblemente entre 35 y 70 g/m2.
La frita de vidrio de alto mdice utilizada en la presente invencion y el esmalte resultante de la misma preferiblemente carecen sustancialmente de parffculas de dispersion solidas tales como parffculas cristalinas de SiO2 o TO2. Tales parffculas se utilizan comunmente como elementos de dispersion en las capas de dispersion de alto mdice, pero generalmente requieren una capa de planarizacion adicional, lo que aumenta el grosor total del recubrimiento de alto mdice.
Los sustratos difusivos planarizados con un esmalte de alto mdice son particularmente utiles como sustratos para OLED de mision de fondo. Se debe aplicar una capa conductora transparente sobre el esmalte de alto mdice antes de la aplicacion del apilamiento de capas organicas que emiten luz.
En una realizacion preferida, el metodo de la presente invencion, por lo tanto, comprende adicionalmente una etapa adicional de recubrimiento del esmalte de alto mdice resultante de la etapa con una capa conductora transparente, preferiblemente un oxido conductor transparente. La formacion de tal tCl puede llevarse a cabo de acuerdo con metodos convencionales tales como la pulverizacion catodica con magnetron.
Ejemplo 1
La frita de bajo mdice (20 partes en peso) se mezcla con parffculas esfericas de SiO2 (10 partes en peso) que tienen un diametro equivalente promedio de 6 pm. El polvo resultante se dispersa en 70 partes en peso de un medio organico utilizando un procedimiento de molienda de 3 rodillos.
La frita de bajo mdice utilizada tiene la siguiente composicion: 28,4 % en peso de SO2; 3,6 % en peso de A^Oa; 39,5 % en peso de B2O3; 15,9 % en peso de oxidos alcalinos (Na2O, Li2O, K2O); 12,6 % en peso de ZnO. Tiene un mdice de refraccion de 1,54 y una Tgde 484°C.
La suspension resultante se recubre mediante serigraffa o sustrato de vidrio sodo-calcico (0,7 mm) y posteriormente se somete a secado a 150°C. El recubrimiento secado se cuece a 600°C durante 20 minutos en un horno de infrarrojos.
La Figura 1 muestra la micrograffa SEM de la capa rugosa de bajo mdice despues de la coccion y antes de la planarizacion con la frita de alto mdice.
La capa rugosa de bajo mdice resultante se recubre a continuacion por serigraffa con una suspension de la frita de alto mdice que tiene un mdice de refraccion de 1,90.
El recubrimiento se seca a 150°C y se somete a coccion durante 10 minutos a 545°C en un horno de infrarrojos.
La Figura 2 muestra la micrograffa SEM del sustrato planarizado (sustrato de vidrio que transporta parffculas minerales unidas por esmalte de bajo mdice de color gris; capa de planarizacion de alto mdice de color blanco).

Claims (15)

  1. 5
    10
    15
    20
    25
    30
    35
    40
    45
    REIVINDICACIONES
    1. Un sustrato OLED difusivo transparente que comprende los siguientes elementos o capas sucesivos:
    (a) un sustrato plano transparente fabricado de vidrio mineral con un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65,
    (b) una capa rugosa de bajo mdice que comprende partmulas minerales, estando dichas partmulas minerales unidas a un lado del sustrato por medio de un esmalte de bajo mdice, creando las partmulas minerales cercanas, en o que sobresalen de la superficie de esmalte una rugosidad de la superficie caracterizada por una desviacion media aritmetica Ra comprendida entre 0,15 y 3 pm, teniendo las partmulas minerales y el esmalte un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65; estando la razon en volumen de las partmulas minerales con respecto al esmalte de bajo mdice comprendida entre 0,3 y 3,
    (c) una capa de planarizacion de alto mdice fabricada de un esmalte que tiene un mdice de refraccion comprendido entre 1,8 y 2,1 que cubre la capa rugosa de bajo mdice (b).
  2. 2. El sustrato de acuerdo con la reivindicacion 1, en donde las partmulas minerales tienen un diametro esferico equivalente promedio de entre 0,3 pm y 10 pm, preferiblemente de entre 0,5 pm y 8 pm, mas preferiblemente de entre 0,8 pm y 7 pm.
  3. 3. El sustrato de acuerdo con la reivindicacion 1 o 2, en donde las partmulas minerales son cuentas solidas.
  4. 4. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde las partmulas minerales estan esencialmente libres de partmulas que tienen un diametro esferico equivalente mayor que 15 pm, preferiblemente mayor que 12 pm y mas preferiblemente mayor que 10 pm.
  5. 5. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el mdice de refraccion del sustrato, esmalte de bajo mdice y partmulas minerales esta comprendido entre 1,50 y 1,60.
  6. 6. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el grosor de la capa de alto mdice esta comprendido entre 3 pm y 20 pm, preferiblemente entre 4 pm y 15 pm y mas preferiblemente entre 5 pm y 12 pm.
  7. 7. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la rugosidad de la superficie de la capa de alto mdice tiene una desviacion media aritmetica Ra de menos de 3 nm, mas preferiblemente de menos de 2 nm y lo mas preferiblemente de menos de 1 nm.
  8. 8. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la capa de alto mdice esta esencialmente libre de elementos difusivos dispersos en el mismo, especialmente libres de partmulas solidas difusivas dispersas en el mismo.
  9. 9. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde las partmulas minerales se seleccionan entre partmulas de sflice.
  10. 10. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende adicionalmente una capa electroconductora transparente sobre la capa de esmalte de alto mdice.
  11. 11. El sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la razon en volumen de las partmulas minerales con respecto al esmalte de bajo mdice esta comprendida entre 0,5 y 2, preferiblemente entre 0,7 y 1,5.
  12. 12. Un metodo para preparar un sustrato difusivo transparente de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 - 11, que comprende las siguientes etapas:
    (1) Proporcionar un sustrato plano transparente fabricado de vidrio mineral que tiene un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65;
    (2) Aplicar sobre un lado de dicho sustrato la mezcla de frita de vidrio de bajo mdice con las partmulas minerales que tienen una temperatura de transicion vftrea (Tg) o una temperatura de fusion al menos 50°C mayor que la Tg de la frita de vidrio, teniendo la frita de vidrio y las partmulas minerales un mdice de refraccion de entre 1,45 y 1,65;
    (3) Calentar la capa de frita de vidrio resultante a una temperatura que permite la fusion de la frita de vidrio sin fusion de las partmulas minerales, dando como resultado una capa rugosa de bajo mdice que comprende las partmulas minerales unidas al sustrato por medio del esmalte de bajo mdice, estando la razon en volumen de las particulas minerales con respecto esmalte de bajo mdice comprendida entre 0,3 y 3;
    (4) Aplicar sobre dicha capa rugosa de bajo mdice una capa de frita de vidrio de alto mdice que tiene un mdice de refraccion de entre 1,8 y 2,1;
    (5) Secar y fundir dicha frita de vidrio de alto mdice para obtener un esmalte de alto mdice que tiene un mdice de refraccion comprendido entre 1,8 y 2,1 que cubre la capa rugosa transparente de bajo mdice.
  13. 13. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 12, en donde las partmulas minerales tienen un diametro esferico equivalente promedio de entre 0,3 pm y 10 pm, preferiblemente de entre 0,5 y 8 pm, y mas preferiblemente de entre
    5 0,8 pm y 7 pm.
  14. 14. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 12 o 13, en donde la razon en peso de las partmulas minerales respecto a la frita de vidrio esta comprendida entre 0,2 y 4, preferiblemente entre 0,4 y 3.
  15. 15. El metodo de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 12 a 14, en donde la fusion de la frita de vidrio de alto mdice se lleva a cabo a una temperatura comprendida entre 510°C y 580°C, preferiblemente entre 520°C y
    10 580°C.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2695052T3 (es) * 2013-05-17 2018-12-28 Saint-Gobain Glass France Sustrato OLED difusor transparente y método para producir tal sustrato
EP2814078B1 (en) 2013-06-14 2016-02-10 Saint-Gobain Glass France Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate
FR3082516B1 (fr) * 2018-06-15 2020-06-26 Saint-Gobain Glass France Substrat verrier a l’aspect de metal texture

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002196117A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Nitto Denko Corp 光拡散層、光拡散性シート及び光学素子
US7212341B2 (en) * 2001-03-21 2007-05-01 Fujifilm Corporation Antireflection film, and image display device
FR2844364B1 (fr) * 2002-09-11 2004-12-17 Saint Gobain Substrat diffusant
JP5066814B2 (ja) * 2005-03-11 2012-11-07 三菱化学株式会社 エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
TR201904597T4 (tr) * 2005-09-14 2019-05-21 Ferro Corp Donma etki̇leri̇ üretmek üzere uzatilmiş firinlama aralikli emayeler
JP5023737B2 (ja) * 2007-02-27 2012-09-12 凸版印刷株式会社 有機エレクトロルミネセンスデバイス
CN101766052B (zh) * 2007-07-27 2012-07-18 旭硝子株式会社 透光性基板、其制造方法、有机led元件及其制造方法
JPWO2009116531A1 (ja) * 2008-03-18 2011-07-21 旭硝子株式会社 電子デバイス用基板、有機ｌｅｄ素子用積層体及びその製造方法、有機ｌｅｄ素子及びその製造方法
US20100110551A1 (en) * 2008-10-31 2010-05-06 3M Innovative Properties Company Light extraction film with high index backfill layer and passivation layer
DE102009036134A1 (de) * 2009-08-05 2011-02-10 Schott Ag Substratglas für Lumineszenzdioden mit einer Streupartikel enthaltenden Schicht und Verfahren zu dessen Herstellung
EA201270559A1 (ru) * 2009-10-15 2012-11-30 Асахи Гласс Компани, Лимитед Органический светодиодный элемент, стеклянная фритта для рассеивающего слоя для применения в органическом светодиодном элементе и способ получения диффузионного слоя для применения в органическом светодиодном элементе
FR2955575B1 (fr) 2010-01-22 2012-02-24 Saint Gobain Substrat verrier revetu d'une couche haut indice sous un revetement electrode et dispositif electroluminescent organique comportant un tel substrat.
FR2963705B1 (fr) * 2010-08-06 2012-08-17 Saint Gobain Support a couche diffusante pour dispositif a diode electroluminescente organique, dispositif electroluminescent organique comportant un tel support
US9224983B2 (en) * 2010-12-20 2015-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate for surface light emitting device and method of manufacturing the substrate, surface light emitting device, lighting apparatus, and backlight including the same
EP2693839A4 (en) * 2011-03-31 2014-11-26 Asahi Glass Co Ltd ORGANIC LED ELEMENT, TRANSLUCENT SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING THE LIGHT TRACEABLE SUBSTRATE
TWI523292B (zh) * 2012-03-30 2016-02-21 Ｌｇ化學股份有限公司 用於有機電子裝置之基板
KR101715112B1 (ko) * 2012-06-14 2017-03-10 쌩-고벵 글래스 프랑스 Ｏｌｅｄ 소자용 적층체, 그 제조방법 및 이를 구비한 ｏｌｅｄ 소자

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