ES2558684T3 - Dispositivo de generación de plasma y dispositivo quirúrgico de plasma - Google Patents

Dispositivo de generación de plasma y dispositivo quirúrgico de plasma Download PDF

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Abstract

Un dispositivo de generación de plasma (1), que comprende: un ánodo (7); un cátodo (5), teniendo dicho cátodo una punta (15), siendo dicha punta la parte del cátodo más próxima al ánodo y en disminución hacia el ánodo, teniendo dicha punta una base (31) en el extremo más alejado del ánodo; un canal de plasma (11), que se extiende longitudinalmente entre dicho cátodo y a través de dicho ánodo, y que tiene una abertura de salida en el extremo más alejado de dicho cátodo, estando formada una parte de dicho canal de plasma mediante uno o varios, preferentemente dos o más, electrodos intermedios (9', 9'', 9''') aislados eléctricamente entre sí y dicho ánodo; y una cámara de plasma (17) conectada dicho canal de plasma en el extremo del cátodo de dicho canal de plasma, en el que una parte de dicha punta del cátodo se extiende longitudinalmente a lo largo de una longitud parcial de la cámara de plasma, y en el que la distancia entre el extremo de la punta del cátodo (33) más próximo al ánodo y el extremo del cátodo de dicho canal de plasma (35) es menor o igual que la distancia entre el extremo de la punta del cátodo más próximo al ánodo y cualquier otra superficie, caracterizado porque el dispositivo de generación de plasma comprende además un elemento aislante tubular (19) que se extiende a lo largo, y alrededor de una parte del cátodo y tiene una superficie límite (21) en el extremo más próximo al ánodo, estando situada dicha punta del cátodo (15) de tal modo que una longitud parcial (lc) de dicha punta del cátodo (15) sobresale más allá de la superficie límite (21) de dicho elemento aislante tubular (19).

Description

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DESCRIPCION
Dispositivo de generacion de plasma y dispositivo quirurgico de plasma Reivindicacion de prioridad
Esta solicitud reivindica la prioridad de la solicitud de patente sueca numero 0501604-3, presentada el 8 de julio de 2005.
Sector tecnico de la invencion
La presente invencion se refiere a un dispositivo de generacion de plasma, que comprende un anodo, un catodo y un canal de plasma que en su direccion longitudinal se extiende por lo menos parcialmente entre dicho catodo y dicho anodo. La invencion se refiere a si mismo a un dispositivo quirurgico de plasma y a la utilizacion de un dispositivo quirurgico de plasma en el sector de la cirugfa.
Antecedentes de la tecnica
Los dispositivos de plasma se refieren a dispositivos que estan dispuestos para generar un gas de plasma. Dicho gas de plasma puede ser utilizado, por ejemplo, en cirugfa con el objetivo de provocar la destruccion (diseccion) y/o coagulacion de tejidos biologicos.
Como norma, dichos dispositivos de plasma estan formados con un extremo largo y estrecho, o similar, que se puede aplicar facilmente en un area deseada que se debe tratar, tal como un tejido con hemorragia. En la punta del dispositivo esta presente un gas de plasma, cuya temperatura elevada permite el tratamiento del tejido adyacente a la punta.
La memoria WO 2004/030551 (Suslov) da a conocer un dispositivo quirurgico de plasma segun la tecnica anterior. Este dispositivo comprende un sistema de generacion de plasma con un anodo, un catodo y un canal de suministro de gas para suministrar gas al sistema de generacion de plasma. Ademas, el sistema de generacion de plasma comprende una serie de electrodos que estan dispuestos entre dichos catodo y anodo. Un cuerpo envolvente de un material electricamente conductor que esta conectado al anodo cierra el sistema de generacion de plasma y forma el canal de suministro de gas. La memoria WO2004/105450 (Bijker et al.) es otro documento de la tecnica anterior. Esta da a conocer una fuente en cascada dotada de un catodo, un cuerpo envolvente del catodo, un canal de plasma y una placa del anodo dotada de una abertura de salida que conecta con el canal de plasma. El catodo tiene una punta que esta situada cerca del lado inferior del cuerpo envolvente del catodo.
Debido a los desarrollos recientes en la tecnologfa quirurgica, se esta utilizando con mas frecuencia la denominada cirugfa laparoscopica (no invasiva ("keyhole")). Esto implica, por ejemplo, una mayor necesidad de dispositivos de pequenas dimensiones para permitir la accesibilidad sin cirugfa extensiva. Los instrumentos pequenos son ventajosos asimismo en operaciones quirurgicas para conseguir una buena precision.
Cuando se fabrican dispositivos de plasma de pequenas dimensiones, existe a menudo el riesgo de que el material adyacente al catodo se caliente a temperaturas elevadas debido a la temperatura del catodo, que en algunos casos puede superar los 3000 °C. A estas temperaturas existe el riesgo de que el material adyacente al catodo se degrade y contamine el gas de plasma. Un gas de plasma contaminado puede, por ejemplo, introducir partfculas no deseables en el area quirurgica y puede ser nocivo para el paciente que esta siendo tratado.
Por lo tanto, existe la necesidad de dispositivos de plasma mejorados, en particular dispositivos de plasma de pequenas dimensiones que puedan producir un plasma de alta temperatura.
Resumen de la invencion
Un objetivo de la presente invencion es dar a conocer un dispositivo mejorado de generacion de plasma, segun el preambulo de la reivindicacion 1.
Son objetivos adicionales de la invencion dar a conocer un dispositivo quirurgico de plasma, y utilizar dicho dispositivo quirurgico de plasma en el sector de la cirugfa.
Segun un aspecto de la invencion, se da a conocer un dispositivo de generacion de plasma segun la reivindicacion 1. La camara de plasma tiene adecuadamente una seccion transversal que excede la seccion transversal de la abertura del canal de plasma mas proxima al catodo.
Por canal de plasma se entiende un canal alargado que esta en comunicacion de fluido con la camara de plasma. El canal de plasma esta situado mas alla, en la direccion del catodo al anodo, de la camara de plasma y se extiende alejandose del catodo hacia el anodo. En una realizacion, el canal de plasma se extiende desde la camara de plasma hacia el anodo y a traves del mismo. El canal de plasma tiene adecuadamente una salida en el anodo, salida
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a traves de la cual se puede descargar plasma generado, durante el funcionamiento del dispositivo. Puede estar dispuesta una parte de transicion entre el canal de plasma y la camara de plasma. Alternativamente, la camara de plasma y el canal de plasma pueden estar en contacto directo entre st
Por camara de plasma se entiende un area en la que un gas de generacion de plasma que se suministra al dispositivo de generacion de plasma se convierte principalmente en plasma. Con un dispositivo segun la invencion, se proporcionan condiciones completamente nuevas de generacion de dicho plasma.
En los dispositivos de generacion de plasma de la tecnica anterior, los danos y la generacion de material debido a la alta temperatura del catodo se impiden a menudo mediante situar los materiales adyacentes al catodo a una distancia considerablemente grande del catodo. Ademas, el catodo se situa a menudo en contacto directo con el canal de plasma para impedir la aparicion de un arco electrico generado incorrectamente, en cuyo caso el canal de plasma, debido a las altas temperaturas del catodo, recibe normalmente unas dimensiones considerablemente grandes con respecto a las dimensiones del catodo para no resultar danado mediante el alta temperatura en funcionamiento. Por lo tanto, dichos dispositivos de la tecnica anterior recibiran a menudo unas dimensiones exteriores que son habitualmente mayores de 10 mm, que pueden ser poco manejables y diffciles de gestionar en aplicaciones, por ejemplo, en lo que se denomina cirugfa laparoscopica (cirugfa no invasiva) y otras aplicaciones de espacio limitado.
Mediante una camara de plasma que esta, por lo menos parcialmente, entre el extremo del catodo dirigido al anodo y la abertura del canal de plasma mas proxima al catodo, es posible disponer un dispositivo de generacion de plasma con menores dimensiones exteriores que las de los dispositivos de la tecnica anterior.
Para este tipo de dispositivos de generacion de plasma, no es raro que la punta del catodo tenga, en funcionamiento, una temperatura mayor de 2500 °C, en algunos casos mayor de 3000 °C.
Utilizando una camara de plasma, se puede proporcionar ventajosamente la posibilidad de formar un espacio alrededor del catodo, especialmente de la punta del catodo mas proxima al anodo. Por consiguiente, la camara de plasma permite que las dimensiones del dispositivo de generacion de plasma sean relativamente pequenas. El espacio alrededor de la punta del catodo es conveniente para reducir el riesgo de que la alta temperatura del catodo en funcionamiento dane y/o degrade el material del dispositivo, material que es contiguo al catodo. En particular, esto es importante para dispositivos previstos para aplicaciones quirurgicas en las que existe el riesgo de que el material degradado pueda contaminar el plasma y acompanar el plasma al area quirurgica, lo que puede provocar consecuencias negativas en un paciente. Una camara de plasma segun la invencion es particularmente ventajosa con tiempos de funcionamiento continuos prolongados.
Otra ventaja que se consigue disponiendo una camara de plasma es que el arco electrico que se preve sea generado entre el catodo y el anodo se puede obtener de manera segura dado que la camara de plasma permite que la punta del catodo este situada en la proximidad de la abertura del canal de plasma mas proxima al catodo, sin que el material continuo resulte danado y/o degradado debido a la elevada temperatura del catodo. Si la punta del catodo esta situada a demasiada distancia de la abertura del canal de plasma, se genera a menudo de manera desfavorable un arco electrico entre el catodo y las estructuras contiguas, provocando por lo tanto un funcionamiento incorrecto del dispositivo y, en algunos casos, asimismo danos en el dispositivo.
Un dispositivo de generacion de plasma segun la invencion puede ser particularmente adecuado cuando es deseable proporcionar dispositivos de generacion de plasma con dimensiones exteriores pequenas, tal como un diametro exterior inferior a 10 mm, y especialmente inferior a 5 mm. Ademas, la invencion es adecuada para proporcionar un dispositivo de generacion de plasma que puede generar un plasma que tiene a menudo una temperatura superior a 10.000 °C cuando el plasma se descarga a traves de la salida del canal de plasma en el extremo del dispositivo. Por ejemplo, el plasma descargado a traves de la salida del canal de plasma puede tener una temperatura entre 10.000 y 15.000 °C. Dichas temperaturas elevadas seran posibles, por ejemplo, mediante la opcion de hacer menor la seccion transversal del canal de plasma cuando se utiliza una camara de plasma segun la invencion. Dimensiones menores de la seccion transversal del canal de plasma permiten asimismo un dispositivo de generacion de plasma con precision mejorada en comparacion con los dispositivos de la tecnica anterior.
Sorprendentemente, se ha encontrado que las propiedades del dispositivo de generacion de plasma se pueden ver afectadas mediante variaciones de la forma de la punta del catodo y su posicion con respecto a un elemento aislante dispuesto a lo largo y alrededor del catodo. Por ejemplo, se ha encontrado que dicho elemento aislante resulta a menudo danado debido a la temperatura elevada de la punta del catodo, en caso de que toda la punta del catodo este situada en el interior del elemento aislante. Se ha encontrado asimismo que, en funcionamiento, se puede producir una chispa entre el catodo y el elemento aislante en caso de que toda la punta del catodo este situada en el exterior de la cara extrema, mas proxima al anodo, del elemento de aislamiento, en cuyo caso dicha chispa puede danar el elemento aislante.
Segun la invencion, el dispositivo de generacion de plasma esta dotado de un elemento aislante que se extiende a lo largo y alrededor de partes del catodo, sobresaliendo una longitud parcial de dicha punta del catodo mas alla de una
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superficie Ifmite de dicho elemento aislante. La superficie Ifmite del elemento aislante consiste adecuadamente en una cara extrema situada lo mas proxima al anodo. El elemento aislante esta destinado a proteger partes del dispositivo de generacion de plasma que estan dispuestas en la proximidad del catodo, de la temperatura elevada del mismo en funcionamiento. El elemento aislante esta conformado adecuadamente como una pieza tubular alargada con un orificio pasante.
Para el funcionamiento adecuado del dispositivo de generacion de plasma, es esencial que una chispa generada en la punta del catodo alcance un punto en el canal de plasma. Esto se consigue colocando el catodo de tal modo que la distancia entre (i) el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo y (ii) el extremo del canal de plasma mas proximo al catodo ("el extremo del catodo del canal de plasma") sea menor o igual que la distancia entre (a) el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo y (b) cualquier otra superficie. Preferentemente, el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo esta mas cerca del extremo del catodo del canal de plasma que cualquier otro punto en la superficie de la camara de plasma o del elemento aislante.
Al disponer el catodo de tal modo que la punta en disminucion sobresalga mas alla de la superficie lfmite del elemento aislante, se puede establecer una distancia en la direccion radial entre la punta del catodo y la parte del elemento aislante contigua a la superficie lfmite. Dicha distancia permite reducir el riesgo de que el elemento aislante resulte danado por la punta del catodo, que en funcionamiento esta caliente. Por lo tanto, debido a la forma en disminucion de la punta del catodo, la distancia entre el catodo y el elemento aislante disminuye gradualmente mientras que la temperatura del catodo disminuye alejandose de la punta mas caliente en el extremo mas proximo al anodo. Una ventaja que se puede conseguir mediante dicha disposicion del catodo es que se puede mantener relativamente pequena la diferencia en seccion transversal entre el catodo en la base de la punta del catodo y la dimension interior del elemento aislante. Por consiguiente, las dimensiones exteriores del dispositivo de generacion de plasma se pueden disponer de manera deseable, por ejemplo, para cirugfa no invasiva y otras aplicaciones de espacio limitado.
En una realizacion alternativa, sustancialmente la mitad de la longitud de la punta del catodo sobresale mas alla de dicha superficie lfmite del elemento aislante. Se ha encontrado que dicha relacion entre la posicion de la punta del catodo y el elemento aislante es particularmente ventajosa para reducir el riesgo de que el elemento aislante resulte danado en funcionamiento, y para reducir el riesgo de que se produzca una chispa entre el catodo y la pieza tubular aislante cuando se genera un arco electrico entre el catodo y el anodo.
En funcionamiento, se puede generar una chispa desde un borde del catodo en la base de la punta del catodo, que esta situada en el extremo de la punta del catodo mas alejado del anodo, asf como desde el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo. Para impedir la generacion de chispas desde la base de la punta del catodo, el catodo se situa preferentemente de tal modo que el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo esta mas cerca del extremo del catodo del canal de plasma, de lo que lo esta el borde en la base de la punta del catodo a la superficie lfmite del elemento aislante.
En otra realizacion alternativa, la punta del catodo del catodo sobresale mas alla de dicha superficie lfmite del elemento aislante, con una longitud correspondiente sustancialmente al diametro de la base de la punta del catodo. Por la longitud de la punta del catodo se entiende la longitud de una parte en disminucion del extremo del catodo que esta dirigido al anodo. La punta del catodo en disminucion entra adecuadamente a una parte parcial del catodo que tiene un diametro sustancialmente uniforme. En una realizacion, la punta del catodo en disminucion del catodo tiene forma conica. La punta del catodo puede tener, por ejemplo, forma de un cono completo o de parte de un cono. Ademas, la base de la punta del catodo esta definida como una superficie en seccion transversal, transversalmente a la direccion longitudinal del catodo, en la posicion en la que la punta del catodo entra a la parte parcial del catodo con un diametro sustancialmente uniforme.
Un gas de generacion de plasma fluye oportunamente, en funcionamiento, entre dicho elemento aislante y dicho catodo.
En una realizacion, a lo largo de una seccion transversal comun direccionalmente a traves de un plano a lo largo de la base de la punta del catodo, la diferencia en seccion transversal entre un canal dispuesto en el elemento aislante y el catodo es igual o mayor que la superficie minima en seccion transversal del canal de plasma. La superficie minima en seccion transversal del canal de plasma puede estar situada en cualquier lugar a lo largo de la extension del canal de plasma. Al disponer dicha relacion entre las superficies en seccion transversal del catodo y el elemento aislante, se puede evitar que el espacio entre el catodo y el elemento aislante constituya una parte sustancialmente limitadora de la propagacion, de la trayectoria del flujo del gas de generacion de plasma, cuando se pone en marcha el dispositivo de generacion de plasma. Por consiguiente, esto permite que se pueda establecer con relativa rapidez la presion de funcionamiento del dispositivo de generacion de plasma, lo que permite tiempos cortos de puesta en marcha. Los tiempos cortos de puesta en marcha son particularmente convenientes en los casos en que el operador pone en marcha y detiene el dispositivo de generacion de plasma varias veces durante una misma secuencia de utilizacion. En una realizacion, la superficie en seccion transversal del canal dispuesto en el elemento aislante es adecuadamente de entre 1,5 y 2,5 veces la superficie en seccion transversal del catodo en un plano en seccion transversal comun.
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En una realizacion de la invencion, el elemento aislante tiene un diametro interior entre 0,35mm y 0,80 mm en la proximidad de la base de la punta del catodo, preferentemente entre 0,50 mm y 0,60 mm. Sin embargo, se apreciara que el diametro interior del elemento aislante es mayor que el diametro del catodo con seccion transversal comun, formando por lo tanto un espacio entre los dos.
La punta del catodo del catodo tiene adecuadamente una longitud que es mayor que el diametro de la base de la punta del catodo. En una realizacion, la longitud es igual o mayor que 1,5 veces el diametro de la base de la punta del catodo. Al conformar la punta del catodo con dicha relacion entre el diametro de la base y la longitud, se ha encontrado que la forma de la punta del catodo proporciona la posibilidad de establecer una distancia entre la punta del catodo y la pieza tubular aislante, que es adecuada para impedir danos en la pieza tubular aislante durante el funcionamiento del dispositivo de generacion de plasma. En una realizacion alternativa, la longitud de la punta del catodo es de 2 a 3 veces el diametro de la base de la punta del catodo.
Tal como se ha mencionado anteriormente, por lo menos una realizacion del dispositivo de generacion de plasma esta dotada de un elemento aislante que se extiende a lo largo, y alrededor de partes del catodo. La camara de plasma se extiende adecuadamente entre una superficie lfmite de dicho elemento aislante y dicha abertura en el extremo del catodo del canal de plasma. Por lo tanto, la camara de plasma, o la parte de la camara de plasma en la que se genera la parte principal del plasma, se extiende adecuadamente desde la posicion en la que la punta del catodo sobresale mas alla del elemento aislante y hasta la abertura en el extremo del catodo del canal de plasma.
En una realizacion, una parte en disminucion hacia el anodo conecta la camara de plasma y el canal de plasma. Esta parte en disminucion salva la diferencia entre la seccion transversal de la camara de plasma y la seccion transversal del canal de plasma hacia el anodo. Dicha parte en disminucion permite una extraccion de calor favorable, para la refrigeracion de estructuras adyacentes a la camara de plasma y al canal de plasma.
Se ha encontrado conveniente conformar la superficie en seccion transversal de la camara de plasma, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma, aproximadamente de 4 a 16 veces mayor que la superficie en seccion transversal del canal de plasma. Adecuadamente, la superficie en seccion transversal de la camara de plasma es de 4 a 16 veces mayor que la superficie en seccion transversal de la abertura del extremo del catodo del canal de plasma. La relacion entre la seccion transversal de la camara de plasma y la del canal de plasma proporciona un espacio ventajoso alrededor de la punta del catodo, que reduce el riesgo de que el dispositivo de generacion de plasma resulte danado debido a las temperaturas elevadas que se pueden producir en funcionamiento.
Preferentemente, la seccion transversal de la camara de plasma, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma, es circular. Se ha encontrado que es ventajoso conformar la camara de plasma con un diametro, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma, que se corresponda sustancialmente con la longitud de la camara de plasma, en la direccion longitudinal del canal de plasma. Se ha encontrado que esta relacion entre el diametro y la longitud de la camara de plasma es favorable para reducir el riesgo de danos debidos, por ejemplo, a las temperaturas elevadas que se pueden producir en funcionamiento, mientras que reduce al mismo tiempo el riesgo de que se genere un arco electrico incorrecto.
Se ha encontrado ademas que es ventajoso conformar la camara de plasma con un diametro de la superficie en seccion transversal de la camara de plasma que corresponda a entre 2 y 2, 5 veces el diametro de la base de la punta del catodo.
Convenientemente, asimismo la longitud de la camara de plasma corresponde a entre 2 y 2,5 veces el diametro de la base de la punta del catodo.
Sorprendentemente, se ha encontrado que las propiedades del dispositivo de generacion de plasma se pueden ver afectadas por variaciones de la posicion de la punta del catodo en relacion con la abertura del extremo del catodo del canal de plasma. Entre otras cosas, se ha encontrado que se puede ver afectado el arco electrico que se desea generar entre el catodo y el anodo cuando se pone en marcha el dispositivo de generacion de plasma. Por ejemplo, se ha encontrado que se puede producir desfavorablemente un arco electrico entre el catodo y partes, adyacentes al mismo, del dispositivo de generacion de plasma, en caso de que la punta del catodo este situada demasiado lejos de la abertura del extremo del catodo del canal de plasma. Ademas, se ha encontrado que la elevada temperatura de la punta del catodo en funcionamiento puede danar y degradar el canal de plasma y/o el material contiguo al mismo, si la punta del catodo esta situada demasiado cerca de la abertura en el extremo del catodo del canal de plasma. En una realizacion, se ha encontrado que es conveniente que la punta del catodo se extienda sobre la mitad de la longitud, o mas de la mitad de la longitud, de dicha camara de plasma. En una realizacion alternativa, se ha encontrado adecuado disponer la punta del catodo para que se extienda sobre 1/2 a 2/3 de la longitud de la camara de plasma. En otra realizacion alternativa, la punta del catodo se extiende sobre aproximadamente la mitad de la longitud de la camara de plasma.
En una realizacion del dispositivo de generacion de plasma, el extremo del catodo mas proximo al anodo esta situado a una cierta distancia de la abertura del extremo del catodo del canal de plasma, distancia que se
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corresponde sustancialmente con la longitud de aquella parte de la punta del catodo que sobresale mas alia de la superficie Umite del elemento aislante.
Ademas, en una realizacion se ha encontrado conveniente disponer el extremo del catodo dirigido al anodo, de tal modo que el extremo del catodo situado a cierta distancia, en la direccion longitudinal del canal de plasma, corresponda sustancialmente al diametro de la base de la punta del catodo desde el extremo de la camara de plasma que esta situado mas proximo al anodo.
Al disponer la posicion de la punta del catodo a esta distancia desde el lfmite o el extremo de la camara de plasma, en la direccion longitudinal del canal de plasma, se ha encontrado que se puede generar de manera segura un arco electrico reduciendose al mismo tiempo el riesgo de que el material contiguo al canal de plasma resulte danado por las altas temperaturas en funcionamiento.
La camara de plasma esta conformada adecuadamente mediante un electrodo intermedio situado lo mas proximo a la punta del catodo. Al integrar la camara de plasma como una parte del electrodo intermedio, se proporciona una construccion simple. De manera similar, es conveniente que el canal de plasma este conformado, por lo menos parcialmente, mediante por lo menos un electrodo intermedio que este situado, por lo menos parcialmente, entre dicho catodo y dicho anodo.
En una realizacion del dispositivo de generacion de plasma, la camara de plasma y por lo menos partes del canal de plasma estan formadas mediante un electrodo intermedio que esta dispuesto lo mas proximo a la punta del catodo. En otra realizacion, la camara de plasma esta formada por un electrodo intermedio, que esta aislado electricamente de los electrodos intermedios que forman el canal de plasma.
Como un ejemplo de una realizacion del dispositivo de generacion de plasma, el canal de plasma tiene un diametro que es aproximadamente de 0,20 a 0,50 mm, preferentemente de 0,30 a 0,40 mm.
En una realizacion, el dispositivo de generacion de plasma comprende dos o mas electrodos intermedios dispuestos entre dicho catodo y dicho anodo para formar por lo menos parte del canal de plasma. De acuerdo con un ejemplo de una realizacion del dispositivo de generacion de plasma, los electrodos intermedios forman conjuntamente una parte del canal de plasma con una longitud de aproximadamente 4 a 10 veces el diametro del canal de plasma. Aquella parte del canal de plasma que se extiende a traves del anodo tiene adecuadamente una longitud de 3 a 4 veces el diametro del canal de plasma. Ademas, esta dispuesto adecuadamente un medio aislante entre cada electrodo intermedio y el siguiente. Los electrodos intermedios estan fabricados preferentemente de cobre o de aleaciones que contienen cobre.
Como un ejemplo de otra realizacion, el diametro de dicho catodo esta entre 0,30 y 0,60 mm, preferentemente de 0,40 a 0,50 mm.
Segun un segundo aspecto de la invencion, se da a conocer un dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo de generacion de plasma como el descrito anteriormente. Dicho dispositivo quirurgico de plasma del tipo descrito en este documento puede ser utilizado adecuadamente para la destruccion o coagulacion de tejido biologico. Ademas, dicho dispositivo quirurgico de plasma puede ser utilizado ventajosamente en cirugfa cardfaca o cerebral. Alternativamente, dicho dispositivo quirurgico de plasma puede ser utilizado ventajosamente en cirugfa hepatica, del bazo o de rinon.
Breve descripcion del dibujo
La invencion se describira a continuacion en mayor detalle haciendo referencia al dibujo esquematico adjunto, que muestra a modo de ejemplo realizaciones actualmente preferidas de la invencion.
La figura 1a es una vista en seccion transversal de una realizacion de un dispositivo de generacion de plasma segun la invencion; y
la figura 1b es una ampliacion parcial de la realizacion segun la figura 1a.
Descripcion de realizaciones preferidas
La figura 1a muestra en seccion transversal una realizacion de un dispositivo de generacion de plasma 1 segun la invencion. La seccion transversal en la figura 1a esta tomada traves del centro del dispositivo de generacion de plasma 1 en su direccion longitudinal. El dispositivo comprende una pieza tubular extrema alargada 3 que aloja un sistema de generacion de plasma, para generar plasma que se descarga en el extremo de la pieza tubular extrema 3. El plasma generado puede ser utilizado, por ejemplo, para detener hemorragias en tejidos, vaporizar tejidos, cortar tejidos, etc.
El dispositivo de generacion de plasma 1 segun la figura 1a comprende un catodo 5, un anodo 7 y una serie de electrodos 9', 9'', 9''' dispuestos entre el anodo y el catodo, en este texto denominados electrodos intermedios. Los
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electrodos intermedios 9', 9'', 9''' son anulares y forman parte de un canal de plasma 11 que se extiende desde una posicion frente al catodo 5 y mas alla hacia, y a traves del anodo 7. El extremo de entrada del canal de plasma 11 esta situado en el extremo del catodo del canal de plasma. El canal de plasma 11 se extiende a traves del anodo 7 donde esta dispuesta su salida. En el canal de plasma 11, el plasma que lo atraviesa esta destinado a calentarse y salir finalmente en el extremo del mismo en el anodo 7. Los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' estan aislados y separados del contacto directo entre sf mediante un medio aislante anular 13', 13'', 13'''. La forma de los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' y las dimensiones del canal de plasma 11 se pueden ajustar para cualquier objetivo deseado. El numero de electrodos intermedios 9', 9'', 9''' puede asimismo variarse de manera opcional. La realizacion mostrada en la figura 1a esta dotada de tres electrodos intermedios 9', 9'', 9'''.
En la realizacion mostrada en la figura 1a, el catodo 5 esta conformado como un elemento cilmdrico alargado. Preferentemente, el catodo 5 esta fabricado de tungsteno, opcionalmente con aditivos, tales como lantano. Dichos aditivos pueden ser utilizados, por ejemplo, para reducir la temperatura que se produce en el extremo del catodo 5.
Ademas, el extremo del catodo 5 que esta dirigido hacia el anodo 7 tiene una parte extrema en disminucion 15. Esta parte en disminucion 15 forma adecuadamente una punta situada en el extremo del catodo, tal como se muestra en la figura 1a. La punta del catodo 15 tiene adecuadamente forma conica. La punta del catodo 15 puede consistir asimismo en una parte de un cono, o tener formas alternativas con una geometna en disminucion hacia el anodo 7.
El otro extremo del catodo 5 dirigido alejandose del anodo 7 esta conectado a un conductor electrico para ser conectado a una fuente de energfa electrica. El conductor esta rodeado adecuadamente por un aislante. (El conductor no se muestra en la figura 1).
Una camara de plasma 17 esta conectada al extremo de entrada del canal de plasma 11 y tiene una superficie en seccion transversal, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma 11, que excede la superficie en seccion transversal del canal de plasma 11 en la entrada del mismo.
La camara de plasma 17 que se muestra en la figura 1a tiene seccion transversal circular, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma 11, y tiene una extension en la direccion longitudinal del canal de plasma 11 que corresponde aproximadamente al diametro de la camara de plasma 17. La camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 estan dispuestos de manera sustancialmente concentrica entre sf El catodo 5 se extiende al interior de la camara de plasma 17 sobre aproximadamente la mitad de la longitud de la misma, y el catodo 5 esta dispuesto de manera sustancialmente concentrica con la camara de plasma 17. La camara de plasma 17 consiste en un rebaje integrado en el primer electrodo intermedio 9', que esta situado a continuacion del catodo 5.
La figura 1a muestra asimismo un elemento aislante 19 que se extiende a lo largo, y alrededor de parte del catodo 5. El elemento aislante 19 esta conformado adecuadamente como una pieza tubular cilmdrica alargada, y el catodo 5 esta situado parcialmente en un orificio circular que se extiende a traves del elemento aislante tubular 19. El catodo 5 esta dispuesto sustancialmente en el centro del orificio pasante del elemento aislante 19. Ademas, el diametro interior del elemento aislante 19 es algo mayor que el diametro exterior del catodo 5, formando de ese modo una distancia entre la superficie circunferencial exterior del catodo 5 y la superficie interior del orificio circular del elemento aislante 19.
Preferentemente, el elemento aislante 19 esta fabricado de un material resistente a la temperatura, tal como un material ceramico, un material plastico resistente la temperatura o similares. El elemento aislante 19 esta destinado a proteger partes contiguas del dispositivo de generacion de plasma 1 de las temperaturas elevadas que se pueden producir, por ejemplo, alrededor del catodo 5, en particular alrededor de la punta del catodo 15.
El elemento aislante 19 y el catodo 5 estan dispuestos uno con respecto al otro de tal modo que el extremo del catodo 5 dirigido hacia el anodo 7 sobresale mas alla de una cara extrema 21, que esta dirigida hacia el anodo 7, del elemento aislante 19. En la realizacion mostrada en la figura 1a, aproximadamente la mitad de la punta en disminucion 15 del catodo 5 se extiende mas alla de la cara extrema 21 del elemento aislante 19.
Una parte de suministro de gas (no mostrada en la figura 1) esta conectada a la parte de generacion de plasma. El gas suministrado al dispositivo de generacion de plasma 1 consiste ventajosamente en el mismo tipo de gases que se utilizan como gas de generacion de plasma en los instrumentos de la tecnica anterior, por ejemplo gases inertes, tales como argon, neon, xenon, helio, etc. Se permite al gas de generacion de plasma fluir a traves de la parte de suministro de gas y al interior el espacio dispuesto entre el catodo 5 y el elemento aislante 19. Por consiguiente, el gas de generacion de plasma fluye a lo largo del catodo 5 dentro del elemento aislante 19 hacia el anodo 7. Cuando el gas de generacion de plasma atraviesa el extremo del elemento aislante 19 que esta situado mas proximo al anodo 7, el gas entra a la camara de plasma 17.
El dispositivo de generacion de plasma 1 segun la figura 1a comprende ademas canales adicionales 23 que comunican con una pieza tubular extrema alargada 3. Los canales adicionales 23 estan formados adecuadamente en una pieza con un cuerpo envolvente que esta conectado a la pieza tubular extrema 3. La pieza tubular extrema 3 y el cuerpo envolvente pueden estar interconectados, por ejemplo, mediante una union roscada, pero son
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concebibles asimismo otros metodos de conexion tales como soldadura, soldadura blanda, etc. Ademas, los canales adicionales 23 pueden estar fabricados, por ejemplo, mediante extrusion del cuerpo envolvente o mediante mecanizado del cuerpo envolvente. Sin embargo, se apreciara que los canales adicionales 23 pueden estar formados asimismo mediante una o varias partes que son independientes del cuerpo envolvente y estan dispuestas en el interior del cuerpo envolvente.
En una realizacion, el dispositivo de generacion de plasma 1 comprende dos canales adicionales 23, uno constituyendo un canal de entrada y el otro constituyendo un canal de salida para un refrigerante. El canal de entrada y el canal de salida comunican entre sf para permitir que el refrigerante pase a traves de la pieza tubular extrema 3 del dispositivo de generacion de plasma 1. Es posible asimismo dotar el dispositivo de generacion de plasma 1 de mas de dos canales de refrigeracion, que se utilizan para suministrar o descargar refrigerante. Se utiliza preferentemente agua como refrigerante, aunque son concebibles otros tipos de fluidos. Los canales de refrigeracion estan dispuestos de tal modo que el refrigerante se suministra a la pieza tubular extrema 3 y fluye entre los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' y la pared interior de la pieza tubular extrema 3. El interior de la pieza tubular extrema 3 constituye el area que conecta entre sf dichos por lo menos dos canales adicionales.
Los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' estan dispuestos en el interior de la pieza tubular extrema 3 del dispositivo de generacion de plasma 1 y estan situados de manera sustancialmente concentrica con la pieza tubular extrema 3. Los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' tienen un diametro exterior que, en relacion con el diametro interior de la pieza tubular 3, forma un espacio intermedio entre la superficie exterior de los electrodos intermedios y la pared interior de la pieza tubular extrema 3. Es en este espacio intermedio donde se permite al refrigerante suministrado desde los canales adicionales 23 fluir entre los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' y la pieza tubular extrema 3.
Los canales adicionales 23 se pueden presentar en numero diferente y recibir secciones transversales diferentes. Es posible asimismo utilizar la totalidad, o parte de los canales adicionales 23 con otros propositos. Por ejemplo, se pueden disponer tres canales adicionales 23 donde, por ejemplo, dos se utilizan para suministrar y descargar un refrigerante y uno para aspirar lfquidos, o similares, desde un area de cirugfa, etc.
En la realizacion mostrada en la figura 1a, tres electrodos intermedios 9', 9'', 9''' estan separados mediante medios aislantes 13', 13'', 13'" que estan dispuestos entre el catodo 5 y el anodo 7. El primer electrodo intermedio 9', el primer aislante 13' y el segundo electrodo intermedio 9'' estan ajustados a presion entre sf. Analogamente, el segundo electrodo intermedio 9'', el segundo aislante 13'' y el tercer electrodo intermedio 9''' estan ajustados a presion entre sf. Sin embargo, se apreciara que el numero de electrodos 9', 9'', 9''' se puede seleccionar segun la opcion.
El electrodo 9''' que esta situado mas lejos del catodo 5 esta en contacto con un medio aislante anular 13''' que, a su vez, esta dispuesto contra el anodo 7.
El anodo 7 esta conectado a la pieza tubular extrema alargada 3. En la realizacion mostrada en la figura 1a, el anodo 7 y la pieza tubular extrema 3 estan formados integralmente entre sf. En realizaciones alternativas, el anodo 7 puede estar formado como un elemento independiente que se une a la pieza tubular extrema 3 mediante una union roscada entre el anodo 7 y la pieza tubular extrema 3, mediante soldadura o mediante soldadura blanda. La conexion entre el anodo 7 y la pieza tubular extrema 3 es adecuadamente tal que proporciona un contacto electrico entre ambas.
Haciendo referencia a la figura 1b, se describiran a continuacion relaciones geometricas adecuadas entre las partes incluidas en el dispositivo de generacion de plasma 1. Cabe senalar que las dimensiones indicadas a continuacion constituyen tan solo realizaciones a modo de ejemplo del dispositivo de generacion de plasma 1 y se pueden modificar segun el sector de aplicacion y las propiedades deseadas.
El diametro interior di del elemento aislante 19 es solamente algo mayor que el diametro exterior dc del catodo 5. En la realizacion mostrada en la figura 1b, el diametro exterior dc del catodo 5 es de aproximadamente 0,50 mm y el diametro interior di del elemento aislante 19 de aproximadamente 0,80 mm.
Segun la figura 1b, la punta 15 del catodo 5 esta situada de tal modo que aproximadamente la mitad de la longitud Lc de la punta 15 sobresale mas alla de una superficie lfmite 21 del elemento aislante 19. En la realizacion mostrada en la figura 1b, este saliente lc corresponde aproximadamente al diametro dc del catodo 5.
La longitud total Lc de la punta del catodo 15 corresponde adecuadamente a aproximadamente de 1,5 a 3 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 31. En la realizacion mostrada en la figura 1b, la longitud Lc de la punta del catodo 15 corresponde aproximadamente a 2 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 31. En una realizacion, el catodo 5 esta situado de tal modo que la distancia entre el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo 33 y el extremo del catodo del canal de plasma 35 es menor o igual que la distancia entre el extremo de la punta del catodo 33 y cualquier otra superficie, incluyendo cualquier superficie de la camara de plasma 17 y la superficie lfmite del elemento aislante 21. Ademas, en una realizacion, el catodo esta situado de manera que la distancia entre el extremo de la punta del catodo 33 y el extremo del catodo del canal de
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plasma 35 es menor o igual que la distancia entre el borde en la base de la punta del catodo 31 y la superficie Ifmite del elemento aislante 21.
En una realizacion, el diametro dc del catodo 5 es aproximadamente de 0,3 a 0,6 mm en la base de la punta del catodo 31. En la realizacion mostrada en la figura 1b, el diametro dc del catodo 5 es de aproximadamente 0,50 mm en la base de la punta del catodo 31. Preferentemente, el catodo 5 tiene un diametro sustancialmente identico dc entre la base de la punta del catodo 31 y el extremo, opuesto a la punta del catodo 15, del catodo 5. Sin embargo, se apreciara que es posible variar este diametro a lo largo de la extension del catodo 5.
En una realizacion, la camara de plasma 17 tiene un diametro Dch que corresponde a aproximadamente 2 a 2,5 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 31. En la realizacion mostrada en la figura 1b, la camara de plasma 17 tiene un diametro Dch que corresponde aproximadamente a 2 veces el diametro dc del catodo 5.
La extension de la camara de plasma 17 en la direccion longitudinal del dispositivo de generacion de plasma 1 corresponde aproximadamente a 2 a 2,5 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 31. En la realizacion mostrada en la figura 1b, la longitud Lch de la camara de plasma 17 corresponde aproximadamente al diametro Dch de la camara de plasma 17.
En la realizacion mostrada en la figura 1b, el catodo 5 que se extiende al interior de la camara de plasma 17 esta situado a una distancia del extremo de la camara de plasma 17 mas proximo al anodo 7, que corresponde aproximadamente al diametro dc de la punta del catodo 31 en la base de la misma.
En la realizacion mostrada en la figura 1b, la camara de plasma 17 esta en comunicacion de fluido con el canal de plasma 11. El canal de plasma 11 tiene adecuadamente un diametro dch que es de aproximadamente 0,2 a 0,5 mm. En la realizacion mostrada en la figura 1b, el diametro dch del canal de plasma 11 es de aproximadamente 0,40 mm. Sin embargo, se apreciara que el diametro dch del canal de plasma 11 puede variar de diferentes maneras a lo largo de la extension del canal de plasma 11 para proporcionar diferentes propiedades deseables del dispositivo de generacion de plasma 1.
Entre la camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 esta dispuesta una parte de transicion 25 de la camara de plasma 17, que constituye una transicion en disminucion, alejandose del catodo 5 hacia el anodo 7, entre el diametro Dch de la camara de plasma 17 y el diametro dch del canal de plasma 11. La parte de transicion 25 puede estar formada de varias maneras alternativas. En la realizacion mostrada en la figura 1b, la parte de transicion 25 esta formada como un borde biselado que forma una transicion entre el diametro interior Dch de la camara de plasma 17 y el diametro interior dch del canal de plasma 11. Sin embargo, cabe senalar que la camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 se pueden disponer en contacto directo entre sf sin una parte de transicion 25.
El canal de plasma 11 esta formado por el anodo 7 y los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' dispuestos entre el catodo 5 y el anodo 7. La longitud del canal de plasma 11 entre la abertura del extremo del catodo del canal de plasma y hasta el anodo corresponde adecuadamente a aproximadamente de 4 a 10 veces el diametro dch del canal de plasma 11. En la realizacion mostrada en la figura 1a, la longitud del canal de plasma 11 entre la abertura del extremo del catodo del canal de plasma y el anodo es de aproximadamente 2,8 mm.
La parte del canal de plasma que se extiende a traves del anodo es aproximadamente de 3 a 4 veces el diametro dch del canal de plasma 11. Para la realizacion mostrada en la figura 1a, la parte del canal de plasma que se extiende a traves del anodo tiene una longitud de aproximadamente 2 mm.
El dispositivo de generacion de plasma 1 se puede disponer ventajosamente como parte de un instrumento desechable. Por ejemplo, un dispositivo completo con el dispositivo de generacion de plasma 1, la carcasa exterior, los tubos, los terminales de acoplamiento, etc., se puede comercializar como un instrumento desechable. Alternativamente, puede ser desechable solamente el dispositivo de generacion de plasma y conectarse a multiples dispositivos de uso.
Son posibles otras realizaciones y variaciones. Por ejemplo, el numero y la forma de los electrodos intermedios 9', 9'', 9''' puede variar en funcion de que tipo de gas de generacion de plasma se utiliza y de las propiedades deseadas del plasma generado.
Durante la utilizacion, el gas de generacion de plasma, tal como argon, que se suministra por medio de la parte de suministro de gas, se suministra al espacio entre el catodo 5 y el elemento aislante 19, tal como se ha descrito anteriormente. El gas de generacion de plasma suministrado se transmite a traves de la camara de plasma 17 y del canal de plasma 11, para ser descargado a traves de la abertura del canal de plasma 11 en el anodo 7. Una vez se ha establecido el suministro de gas, se conecta un sistema de tension, que inicia un proceso de descarga en el canal de plasma 11 y provoca un arco electrico entre el catodo 5 y el anodo 7. Antes del establecimiento del arco electrico, es conveniente suministrar refrigerante al dispositivo de generacion de plasma 1 a traves de los canales adicionales 23 que se han descrito anteriormente. Una vez que se ha establecido el arco electrico, se genera un gas de plasma
en la camara de plasma 17 y mientras se calienta es transmitido a traves del canal de plasma 11 hacia la abertura del mismo en el anodo 7.
Una corriente de funcionamiento adecuada I para el dispositivo de generacion de plasma 1 segun las figuras 1a y 1b 5 es adecuadamente menor de 10 amperios, preferentemente de 4 a 6 amperios. La tension de funcionamiento del dispositivo de generacion de plasma 1 depende, entre otras cosas, del numero de electrodos intermedios 9', 9'', 9''' y de la longitud del mismo. Un diametro relativamente pequeno dch del canal de plasma 11 permite un consumo de energfa relativamente bajo y una corriente de funcionamiento I relativamente baja cuando se utiliza el dispositivo de generacion de plasma 1.
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En el arco electrico establecido entre el catodo 5 y el anodo 7 predomina una temperatura T en el centro del mismo a lo largo del eje central del canal de plasma 11, y esta es proporcional a la relacion entre la corriente de descarga I y el diametro dch del canal de plasma 11 (T = K*I/ dch). Para proporcionar una temperatura elevada del plasma, por ejemplo de 10.000 a 15.000 °C, a la salida del canal de plasma 11 en el anodo 7, a un nivel de corriente I 15 relativamente bajo, la seccion transversal del canal de plasma 11 y, por lo tanto, la seccion transversal del arco electrico que calienta el gas, debera ser pequena, por ejemplo de 0,2 a 0,5 mm. Con una seccion transversal pequena del arco electrico, la intensidad del campo electrico en el canal de plasma 11 tiene un valor elevado.

Claims (16)

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    REIVINDICACIONES
    1. Un dispositivo de generacion de plasma (1), que comprende: un anodo (7);
    un catodo (5), teniendo dicho catodo una punta (15), siendo dicha punta la parte del catodo mas proxima al anodo y en disminucion hacia el anodo, teniendo dicha punta una base (31) en el extremo mas alejado del anodo; un canal de plasma (11), que se extiende longitudinalmente entre dicho catodo y a traves de dicho anodo, y que tiene una abertura de salida en el extremo mas alejado de dicho catodo, estando formada una parte de dicho canal de plasma mediante uno o varios, preferentemente dos o mas, electrodos intermedios (9', 9'', 9''') aislados electricamente entre sf y dicho anodo; y
    una camara de plasma (17) conectada dicho canal de plasma en el extremo del catodo de dicho canal de plasma, en el que una parte de dicha punta del catodo se extiende longitudinalmente a lo largo de una longitud parcial de la camara de plasma, y
    en el que la distancia entre el extremo de la punta del catodo (33) mas proximo al anodo y el extremo del catodo de dicho canal de plasma (35) es menor o igual que la distancia entre el extremo de la punta del catodo mas proximo al anodo y cualquier otra superficie,
    caracterizado porque el dispositivo de generacion de plasma comprende ademas un elemento aislante tubular (19) que se extiende a lo largo, y alrededor de una parte del catodo y tiene una superficie lfmite (21) en el extremo mas proximo al anodo, estando situada dicha punta del catodo (15) de tal modo que una longitud parcial (lc) de dicha punta del catodo (15) sobresale mas alla de la superficie lfmite (21) de dicho elemento aislante tubular (19).
  2. 2. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que sustancialmente la mitad de la longitud (Lc) de la punta del catodo (15) sobresale mas alla de dicha superficie lfmite (21) del elemento aislante (19).
  3. 3. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que la punta del catodo (15) sobresale mas alla de dicha superficie lfmite (21) del elemento aislante (19), en una longitud que corresponde sustancialmente a un diametro (dc) de la base (31) de la punta del catodo.
  4. 4. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que, a lo largo de una seccion transversal mutua direccionalmente, a traves de un plano a lo largo de la base (31) de la punta del catodo, la diferencia entre una seccion transversal del canal formado por el elemento aislante (19) y una seccion transversal del catodo (5) es igual o mayor que una superficie minima en seccion transversal del canal de plasma.
  5. 5. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que, en funcionamiento, fluye un gas de generacion de plasma entre dicho elemento aislante (19) y dicho catodo (5).
  6. 6. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 3, en el que la longitud (Lc) de dicha punta del catodo (15) es mayor, preferentemente igual o mayor que 1,5 veces el diametro (dc) de la base (31) de la punta del catodo.
  7. 7. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que por lo menos la mitad de la longitud (Lc) de la punta del catodo (15) se extiende al interior de dicha camara de plasma (17).
  8. 8. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que dicha camara de plasma (17) se extiende entre dicha superficie lfmite (21) de dicho elemento aislante (19) y el extremo del catodo de dicho canal de plasma (35).
  9. 9. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que una superficie en seccion
    transversal de la camara de plasma (17) es mayor, preferentemente de 4 a 16 veces mayor, que la superficie en
    seccion transversal de la abertura del canal de plasma (11) en el extremo del catodo de dicho canal de plasma (35).
  10. 10. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que un diametro (Dch) de la camara de plasma (17), transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma, corresponde sustancialmente a la longitud (Lch) de la camara de plasma, en la direccion longitudinal del canal de plasma.
  11. 11. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que dicha camara de plasma (17) tiene una parte en disminucion (25) conectada a dicho canal de plasma (11).
  12. 12. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que dicho catodo (5) se extiende al interior de dicha camara de plasma (17) con una longitud (lc) correspondiente a un diametro (dc) de la base (31) de la punta del catodo (15).
  13. 13. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que la distancia entre el extremo
    (33) del catodo mas proximo al anodo y el extremo del catodo del canal de plasma (35) corresponde
    sustancialmente a un diametro (dc) de la base (31) de la punta del catodo (15).
  14. 14. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que dicha camara de plasma (17) esta formada mediante uno de dichos uno o varios electrodos intermedios, siendo dicho un electrodo intermedio el mas proximo al catodo (5).
    5 15. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que dicha camara de plasma (17) y,
    por lo menos partes de dicho canal de plasma (11) estan formadas mediante uno de dichos uno o varios electrodos intermedios, siendo dicho un electrodo intermedio el electrodo intermedio mas proximo al catodo (5).
  15. 16. El dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1, en el que dicha camara de plasma (17) 10 esta formada mediante un electrodo intermedio aislado electricamente de los electrodos intermedios que forman el
    canal de plasma (11).
  16. 17. Un dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo de generacion de plasma acorde con la reivindicacion 1.
    15
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