ES2325894B1 - Metodo y aparato para la fabricacion de elementos opticos difractivos. - Google Patents
Metodo y aparato para la fabricacion de elementos opticos difractivos. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2325894B1 ES2325894B1 ES200600446A ES200600446A ES2325894B1 ES 2325894 B1 ES2325894 B1 ES 2325894B1 ES 200600446 A ES200600446 A ES 200600446A ES 200600446 A ES200600446 A ES 200600446A ES 2325894 B1 ES2325894 B1 ES 2325894B1
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- radiation
- substrate
- optical elements
- diffractive optical
- starting material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/547—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
Abstract
Método y aparato para la fabricación de
elementos ópticos difractivos.
La presente invención propone un método para la
fabricación de elementos ópticos difractivos de una forma simple y
económica. Este método incluye los siguientes pasos: (a) situar un
substrato transparente próximo a un material de partida, ambos
ubicados en el interior de una cámara; (b) modular espacialmente
una radiación proveniente de una fuente de radiación según un
patrón de difracción requerido; (c) irradiar el substrato de forma
que la radiación lo atraviese; (d) exponer el material de partida a
la radiación transmitida a través del substrato, de modo que al
incidir la radiación sobre el material de partida se produzca su
evaporación o sublimación; (e) depositar la fase de vapor del
material de partida sobre el substrato; y (f) registrar en el
material depositado una estructura difractiva durante el proceso de
deposición irradiando el material depositado de forma concurrente a
través del substrato con la radiación modulada. El elemento
fabricado presenta funcionalidad ópticadifractiva a causa de los
cambios locales inducidos en su estructura, gobernados por la
distribución de la intensidad luminosa empleada en el proceso de
fabricación
Description
Método y aparato para la fabricación de
elementos ópticos difractivos.
| US 5,910,256 | 6/1999 | Tsunetomo et al. |
| US 6,110,291 | 8/2000 | Haruta et al. |
| US 6,452,698 B1 | 9/2002 | Vlcek et al. |
| US 6,649,861 B2 | 11/2003 | Duignan |
| US 6,766,764 B1 | 7/2004 | Chrisey et al. |
| US 6,924,457 B2 | 8/2005 | Koyama et al. |
J. Teteris y M. Reinfelde,
"Holographic recording in amorphous chalcogenide semiconductor
thin films", Journal of Non-Crystalline
Solids 326&327 (2003) 494.
A.V. Kolobov y Ka. Tanaka, en
"Photoinduced Phenomena in Amorphous Chalcogenides: From
Phenomenology to Nanoscale", Handbook of Advanced Electronic and
Photonic Materials and Devices, Vol. 5, Hari Singh Nalwa, ed.
(Academic Press, San Diego, 2001), p. 47.
A. Zakery, Y. Ruan, A. V.
Rode, M. Samoc y B.
Luther-Davies, "Low-loss
waveguides in ultrafast laser-deposited As2S3
chalcogenide films", J. Opt. Soc. Am. B 20 (2003)
1844.
La presente invención se enmarca en el campo de
los elementos ópticos con funcionalidad difractiva, y los métodos
para fabricarlos.
Los elementos ópticos tienen una gran
importancia en todos aquellos campos tecnológicos en los que se
necesita modular la distribución espacial de la luz. Ante tal
demanda, se hace necesaria la optimización de las técnicas de
fabricación de estructuras ópticas simples, así como la producción
de estructuras ópticas con nuevas funcionalidades.
Existe una variedad de métodos para la
fabricación de elementos ópticos difractivos, así como para el
registro de estructuras difractivas en medios semiconductores, los
cuales se basan en el procesado de un material soporte empleando
técnicas fotolitográficas clásicas, u otras más modernas de
ablación láser [US 5,910,256] [US 6,924,457 B2], o registro
holográfico [US 6,452,698 B1] [Teteris y Reinfelde]. A diferencia
de la presente invención, todos ellos comparten el carácter
secuencial (no concurrente) del proceso, es decir, los
métodos incluyen (a) la preparación previa del material soporte, y
(b) su procesado posterior.
Por otro lado, por su relevancia con la
invención aquí expuesta y reclamada, y al entender de los
firmantes, son de destacar los métodos de deposición asistidos por
luz, los cuales son ampliamente conocidos y usados en tecnologías
planares [US 6,110,291]. En estas tecnologías se emplean
láseres pulsados para la deposición de compuestos conductores,
semiconductores y superconductores, destinados a integrar
dispositivos ópticos y/o electrónicos, tanto activos como pasivos.
Así, pueden encontrarse patentes reclamando derechos sobre la
explotación industrial de un variado número de dispositivos planares
basados en el método de deposición asistido por láser pulsado o
PLD. Una búsqueda avanzada demuestra, además, que en todos los
casos las invenciones evitan la interacción entre el haz láser y la
fase de vapor, o pluma de plasma, generada a partir del material de
partida, de forma que la configuración de los sistemas empleados
consideran que el haz pulsado que produce la ablación del material
de partida y la pluma del material eyectado son no
colineales, y en ningún caso se considera actuación
concurrente alguna sobre el depósito durante su crecimiento, vía
irradiación luminosa.
Igualmente, por su relevancia con la presente
invención, y con el fin de demostrar su actividad inventiva,
citamos el único caso encontrado [US 6,766,764 B1] en el que un haz
láser pulsado incide a través de una de las caras de un substrato
transparente. En esta patente, el substrato transparente no está
destinado a servir de soporte al depósito y permitir su
fotomodelado estructural durante el crecimiento, sino que, por el
contrario, soporta al material de partida. La invención citada
considera que el substrato soporta una capa de un material que es
fotoevaporable, la cual a su vez soporta a una capa del material
destinado a ser depositado sobre un segundo substrato. La base de
esta invención es que la evaporación fotoinducida del material de
transferencia, a través del substrato transparente, produce la
eyección del material de interés en una zona localizada del
substrato receptor. Al igual que en los casos anteriores, en esta
invención no se considera actuación concurrente alguna sobre el
depósito durante su crecimiento, vía irradiación
luminosa.
Finalmente, destacamos, de nuevo hasta donde ha
alcanzado nuestra búsqueda, que en el único caso encontrado en el
que se contempla la estructuración del depósito, ésta se realiza de
forma secuencial, en dos pasos, dentro del sistema de fabricación,
produciendo un depósito planar previo, vía irradiación luminosa, y
la ablación posterior de éste, también mediante irradiación
luminosa, que está condicionada a un cambio en la configuración del
sistema que permite la exposición del material ya depositado al haz
luminoso [US 6,649,861 B2]. En cualquier caso, el objeto de la
invención (tecnologías planares) no es relevante para la actividad
inventiva aquí expuesta.
La presente invención propone un método para la
fabricación asistida por luz de depósitos de compuestos
semiconductores que sirven de soporte a estructuras ópticas
difractivas, que se sustenta en las siguientes evidencias
físicas:
físicas:
- 1.
- Fragmentos estructurales de los elementos constituyentes de compuestos semiconductores puede ser eyectados de un sólido al irradiarlos con luz de energía fotónica comparable (del orden de magnitud) a su gap óptico, con una intensidad lo suficientemente elevada. Esta intensidad depende del tipo de material semiconductor.
- 2.
- La fase de vapor generada, o pluma de plasma, se condensa sobre un substrato ubicado en las proximidades del material de partida, dando lugar a un depósito de este material sobre el substrato.
- 3.
- La morfología del depósito está relacionada con las características de la pluma o fase de vapor, las cuales dependen de la distribución espacial de la intensidad de la radiación luminosa sobre el material blanco, la radiancia espectral de la fuente luminosa, la distancia entre el material blanco y el substrato, la presión y la atmósfera en la cámara, la temperatura del material de partida, la temperatura del substrato, y el tiempo de irradiación.
- 4.
- La iluminación concurrente del depósito en crecimiento afecta las propiedades físico-químicas del material que forma dicho depósito, vía su efecto sobre la estructura del material en formación (ver Figura 1). La creación de estructuras con funcionalidad difractiva puede ser controlada a través de la distribución espacial de la intensidad luminosa que incide de forma concurrente sobre la zona de depósito del substrato, y pueden cubrir un amplio intervalo de espaciados difractivos [Kolobov y Tanaka]. Estas estructuras pueden ser de fase (consecuencia de cambios locales en el espesor y/o el índice de refracción en el depósito) y/o de amplitud (consecuencia de cambios locales en el coeficiente de absorción en el depósito).
\vskip1.000000\baselineskip
Sobre la base de las anteriores evidencias, los
firmantes de la presente patente proponen un método sencillo, no
obvio, para la fabricación de estructuras ópticas difractivas en
medios semiconductores.
Un escenario preferido para la invención, no
exclusivo en lo que se refiere al material usado, ni a la
configuración del sistema de fabricación, es aquel en el que un haz
láser continuo, con una longitud de onda de 532 nm, y con una
distribución espacial de la intensidad luminosa con su fase
siguiendo el patrón de las zonas de Fresnel, atraviesa
perpendicularmente un substrato transparente de caras
planoparalelas antes de alcanzar un material blanco situado a pocos
milímetros del substrato. Tal modulación puede conseguirse con un
conjunto de elementos ópticos tal como se ilustra en la Figura 3.
Tal material blanco es un disco (pastilla) de alrededor de 1 cm de
diámetro y 2 mm de espesor, formado por polvo compactado de una
aleación de un semiconductor amorfo V-VI (por
ejemplo, una aleación de As y S), que es sensible a la energía
fotónica de la radiación luminosa procedente de una fuente láser de
Nd:YAG (2.33 eV). Las caras enfrentadas del substrato y de la
pastilla son paralelas.
La configuración descrita produce un depósito
con una morfología asférica, que soporta una distribución de
anillos concéntricos en forma de relieves superficiales de alta
frecuencia espacial, como ilustra la Figura 2. Tales elementos
ópticos combinan la funcionalidad refractiva del perfil de baja
frecuencia espacial, con la funcionalidad difractiva de alta
frecuencia espacial añadida mediante las zonas de Fresnel. Esta
combinación puede emplearse en la compensación, por ejemplo, de las
aberraciones cromáticas que presentan estas estructuras ópticas
cuando realizan su función óptica característica de forma
independiente.
La transparencia de los semiconductores
V-VI en la región espectral infrarroja (IR)
[Kolobov y Tanaka] garantiza la estabilidad de los elementos ópticos
fabricados en esta ventana espectral, lo que la convierte pues en
la región espectral de trabajo preferida.
\newpage
No obstante, los firmantes de la presente
patente han observado que los elementos ópticos producidos según el
escenario preferido descrito, y posiblemente debido a la
iluminación concurrente del material siendo depositado, presentan
una mayor transparencia óptica, y un umbral de daño más elevado a
la radiación láser empleada en el proceso de fabricación, en
comparación con el del material de partida. Se ha observado
experimentalmente un aumento en la intensidad de daño de más de un
orden de magnitud en aleaciones de composición As_{20}S_{80},
con respecto a la intensidad soportada por el material de
partida.
Por otra parte, por su relevancia con la
presente invención, se ha demostrado [Zakery et al.] que el
recubrimiento de un depósito calcogenuro amorfo con una capa de
polimetil metacrilato (PMMA), aumenta varios órdenes de magnitud el
umbral de daño a la radiación para la que la aleación calcogenura,
sin recubrimiento alguno, seria sensible.
Con tales evidencias, propias y reportadas en la
literatura, se infiere que aunque la IR sea la ventana preferida,
no debe considerarse como exclusiva.
Figura 1. Patrones de difracción de rayos X
correspondientes a: (a) un lingote de la aleación amorfa
As_{20}S_{80}, (b) una pastilla formada a partir del polvo
compactado de este material, y que constituye el material de
partida usado en los ejemplos reales descritos en esta patente, y
(c) el correspondiente a un depósito realizado a partir de este
material de partida mediante el método descrito en la presente
invención. Los resultados demuestran la diferencia estructural entre
el material depositado y el material de partida.
Figura 2. Esquema ilustrativo de la combinación
de la funcionalidad refractiva de un elemento óptico asférico (a) y
la funcionalidad difractiva de un elemento óptico formado por
placas zonales de Fresnel (b), para formar un elemento óptico como
el representado en (c), con la sección transversal mostrada en
(d).
Figura 3. Ejemplo de una combinación de
elementos ópticos que produce una modulación en la intensidad
luminosa en la forma de placas zonales de Fresnel. Tal radiación
actúa sobre el depósito en formación, para la fabricación, según la
presente invención, de un elemento óptico que combina
funcionalidades refractivas y difractivas.
Objetos:
- 100.-
- Material de partida.
- 101.-
- Substrato.
- 102.-
- Depósito.
- 201.-
- Divisor de haz.
- 202.-
- Lente.
- 203.-
- Lente.
- 204.-
- Espejo.
- 205.-
- Espejo.
- 206.-
- Lente.
- 207.-
- Divisor de haz.
- 208.-
- Lente.
- 209.-
- Atenuador.
- 300.-
- Haz luminoso.
- 301.-
- Componente transversal del haz 300 tras su paso por el divisor de haz 201.
- 302.-
- Componente longitudinal del haz 300 tras su paso por el divisor de haz 201.
\vskip1.000000\baselineskip
Figura 4. Esquema de la sección transversal del
aparato para la fabricación de elementos ópticos difractivos según
la presente invención, en una configuración colineal, donde un solo
haz luminoso genera la fase de vapor del material de partida e
irradia de forma concurrente el depósito durante su
crecimiento.
\newpage
\global\parskip0.990000\baselineskip
Objetos:
- 1.-
- Cámara.
- 2 y 3.-
- Ventanas transparentes, practicadas en la cámara.
- 4.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 5.-
- Material de partida.
- 6.-
- Substrato.
- 7.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 8.-
- Fuente calefactora.
Figura 5. Esquema de la sección transversal del
aparato para la fabricación de elementos ópticos difractivos, según
la presente invención, en una configuración colineal, donde más de
una fuente de radiación luminosa interviene en el proceso.
Objetos:
- 1.-
- Cámara.
- 2 y 3.-
- Ventanas transparentes, practicadas en la cámara.
- 4.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 5.-
- Material de partida.
- 6.-
- Substrato.
- 7.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 8.-
- Fuente calefactora.
- 9.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 10.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 11.-
- Divisor de haz.
Figura 6. Esquema de la sección transversal del
aparato para la fabricación de elementos ópticos difractivos según
la presente invención, en una configuración no colineal, donde una
fuente de radiación luminosa interviene exclusivamente en la
eyección del material de partida, y una fuente de radiación
adicional interviene en la creación de estructuras difractivas en el
depósito.
Objetos:
- 1.-
- Cámara.
- 2 y 3.-
- Ventanas transparentes, practicadas en la cámara.
- 4.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 5.-
- Material de partida.
- 6.-
- Substrato.
- 7.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 8.-
- Fuente calefactora.
- 12.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 13.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 14.-
- Espejo.
\global\parskip1.000000\baselineskip
Figura 7. Esquema de la sección transversal del
aparato para la fabricación de elementos ópticos difractivos según
la presente invención, en una configuración no colineal, donde dos o
más fuentes de radiación luminosa intervienen en la eyección del
material de partida, y dos o más fuentes de radiación adicionales
intervienen en la creación de estructuras difractivas en el
depósito.
Objetos:
- 1.-
- Cámara.
- 2 y 3.-
- Ventanas transparentes, practicadas en la cámara.
- 4.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 5.-
- Material de partida.
- 6.-
- Substrato.
- 7.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 8.-
- Fuente calefactora.
- 9.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 10.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 11.-
- Divisor de haz.
- 12.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 13.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 14.-
- Espejo.
- 15.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 16.-
- Medios de modulación opto-mecánicos.
- 17.-
- Divisor de haz.
La presente invención propone un método según la
reivindicación independiente 1 y un aparato según la reivindicación
independiente 13 para la fabricación de elementos ópticos
difractivos de una forma simple y económica y un elemento óptico
difractivo según la reivindicación independiente 12 obtenido
mediante el método de la invención.
El método de la invención comprende los
siguientes pasos: (a) situar un substrato (6), que es transparente
tanto a la radiación de trabajo a la que va destinado el elemento
óptico fabricado como a la radiación empleada en la fabricación,
próximo a un material de partida (5), ambos ubicados en el interior
de una cámara (1); (b) modular espacialmente una radiación
proveniente de una fuente de radiación (4) según un patrón de
difracción requerido; (c) irradiar el substrato (6) de forma que la
radiación lo atraviese; (d) exponer el material de partida (5) a la
radiación transmitida a través del substrato (6), de modo que al
incidir la radiación sobre el material de partida (5) se produzca
su evaporación o sublimación; (e) depositar la fase de vapor del
material de partida (5) sobre el substrato (6); y (f) registrar en
el material depositado una estructura difractiva durante el proceso
de deposición irradiando el material depositado de forma
concurrente a través del substrato (6) con la radiación
modulada.
El aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos de la presente invención comprende: (a) una
cámara (1) con al menos una ventana transparente; (b) un sistema de
vacío; (c) una fuente de radiación luminosa; (d) un substrato (6)
transparente tanto a la radiación de trabajo a la que va destinado
el elemento óptico fabricado como a la radiación de la fuente de
radiación luminosa, estando localizado dicho substrato (6) en el
trayecto óptico de la radiación procedente de la fuente de
radiación luminosa; (e) medios de soporte mecánicos, ubicados en el
interior de la cámara (1), que soportan el substrato (6) y que le
confieren libertad para moverse en las tres direcciones
cartesianas, x', y', z', así como rotar alrededor de un eje
perpendicular a su superficie, \theta', y alrededor de un eje
paralelo a su superficie, \varphi'; (f) un material de partida
(5), localizado en el trayecto óptico de la radiación transmitida a
través del substrato (6) y situado suficientemente próximo al
substrato (6) para que la fase de vapor generada por la irradiación
se condense sobre el substrato (6); (g) medios de soporte
mecánicos, ubicados en el interior de la cámara (1), que soportan
el material de partida (5) y que le confieren libertad para moverse
en las tres direcciones cartesianas, x, y, z, así como rotar
alrededor de un eje perpendicular a su superficie, \theta, de
forma no solidaria con el substrato (6); y (h) medios de modulación
opto-mecánicos (7, 10), ubicados en el exterior de
la cámara (1), que modulan la distribución espacial de la radiación
luminosa incidente sobre el substrato (6) según el patrón difractivo
requerido.
El elemento fabricado presenta funcionalidad
óptica difractiva a causa de los cambios locales inducidos en su
estructura, gobernados por la distribución de la intensidad luminosa
empleada en el proceso de fabricación.
Son objetos de la presente invención:
- a)
- proporcionar un método simple de fabricación de elementos ópticos con funcionalidad difractiva,
- b)
- proporcionar un método y un aparato para la fabricación de elementos ópticos difractivos usando radiación luminosa,
- c)
- proporcionar un método y un aparato para la fabricación de elementos ópticos que combinen funcionalidades refractivas y difractivas,
- d)
- proporcionar un método y un aparato para la fabricación de elementos ópticos difractivos con extensión de su funcionalidad a altas intensidades luminosas,
- e)
- proporcionar un método y un aparato para mejorar la estabilidad y alargar la vida de las estructuras ópticas con funcionalidad difractiva, creadas en medios semiconductores.
La Figura 4 ilustra un primer escenario
preferido según el método propuesto para la fabricación de
elementos ópticos que combinen funcionalidades refractivas y
difractivas. Con referencia a esta figura, el sistema consta de una
cámara (1) con ventanas transparentes (2) y (3), y una fuente de
radiación luminosa (4), continua o pulsada, un material de partida
(5), y un substrato (6) que es transparente a la radiación
procedente de la fuente de radiación luminosa (4), y transparente
también a la radiación de trabajo a la que va destinado el elemento
óptico que se pretende fabricar. La distribución espacial de la
intensidad luminosa sobre el depósito es controlada mediante unos
medios de modulación opto-mecánicos (7), que
consisten en una combinación de elementos ópticos (lentes, espejos,
filtros, divisores de haz, máscaras, moduladores espaciales de luz,
de fase y de amplitud) y/o mecánicos (etapas de posicionamiento
lineal, etapas de posicionamiento angular, moduladores espaciales de
luz mecánicos) para modular espacialmente la radiación según el
patrón difractivo requerido. En la Figura 3 se representa un
conjunto de elementos ópticos que produce una modulación en la
intensidad luminosa en la forma de placas zonales de Fresnel. Esta
combinación de elementos sirve como ejemplo de los medios de
modulación opto-mecánicos (7), (10), (13) y (16),
indicados en las Figuras 4, 5, 6 y 7.
El método contempla la posibilidad de que sean
varios los haces que emerjan de los medios de modulación
opto-mecánicos (7), y que éstos interfieran sobre la
zona del substrato donde se realizará el depósito, para registrar,
por ejemplo, una red de Bragg, con control sobre el espaciado de la
red a través del control del ángulo entre los haces interfirientes.
El haz luminoso procedente de la fuente de radiación luminosa (4)
(o haces, atendiendo a lo comentado) es introducido en la cámara a
través de la ventana (2), y atraviesa el substrato (6) antes de
incidir sobre el material de partida (5), para provocar su
eyección. La generación de esta pluma puede estar asistida por
calor a través de una fuente calefactora (8). La deposición puede
estar también asistida térmicamente mediante el suministro de calor
al substrato, de forma similar a la fuente calefactora (8) (no
representado en la Figura 4). La deposición se realiza a presión y
atmósfera controladas.
El material de partida (5), ubicado en el
interior de la cámara puede ser un lingote de una aleación
semiconductora, o una pastilla formada a partir del polvo de la
aleación a depositar. La pastilla puede ser una mezcla homogénea o
heterogénea de aleaciones semiconductoras que contengan algún
elemento calcógeno (O, S, Se y/o Te) y otros reactivos, por ejemplo,
Ge, Ga, Si, P, As, Sb, I, Pm, Sm, Eu, Er, que actúen como elementos
tanto pasivos, como activos, para una determinada radiación
luminosa. La aleación amorfa As_{20}S_{80} constituye el
material de partida usado en los ejemplos reales descritos en esta
patente. El material de partida está soportado por medios de
soporte mecánicos que le confieren libertad para moverse en las tres
direcciones cartesianas, x, y, z, así como rotar alrededor de un
eje perpendicular a su superficie, \theta.
El substrato (6) está soportado por medios de
soporte mecánicos que le confieren libertad para moverse en las
tres direcciones cartesianas, x', y', z', así como rotar alrededor
de un eje perpendicular a su superficie, \theta', y alrededor de
un eje paralelo a su superficie, \varphi', de forma no solidaria
con el material de partida.
La Figura 5 ilustra un segundo escenario
preferido según el método propuesto para la fabricación de
elementos ópticos que combinen funcionalidades refractivas y
difractivas. Con referencia a esta figura, y de forma similar a lo
descrito en la Figura 4, el sistema consta de una cámara (1) con
ventanas transparentes (2) y (3), una primera fuente de radiación
luminosa (4), continua o pulsada, una segunda fuente de radiación
luminosa (9), continua o pulsada, un material de partida (5), y un
substrato (6) que es transparente a las radiaciones procedentes de
las fuentes de radiación luminosa (4) y (9), y transparente también
a la radiación de trabajo a la que va destinado el elemento óptico
que se pretende fabricar. El control de la distribución espacial de
la intensidad de la radiaciones procedentes de las fuentes de
radiación luminosa (4) y (9) se realiza mediante unos primeros (7)
y unos segundos (10) medios de modulación
opto-mecánicos, respectivamente, que consisten en
combinaciones de elementos ópticos (lentes, espejos, filtros,
divisores de haz, máscaras, moduladores espaciales de luz, de fase y
de amplitud) y/o mecánicos (etapas de posicionamiento lineal,
etapas de posicionamiento angular, moduladores espaciales de luz
mecánicos) para modular espacialmente la radiación según el patrón
difractivo requerido. Como en el escenario comentado anteriormente,
el método contempla la posibilidad de que sean varios los haces que
surjan de los medios de modulación opto-mecánicos
(7), (10). Los haces procedentes de las fuentes (4) y (9) se
encaminan hacia el interior de la cámara, a través de la ventana
(2), vía el divisor de haz (11), con direcciones de propagación
coincidentes, u opcionalmente, con direcciones de propagación no
coincidentes. Ambos haces luminosos procedentes de las fuentes (4)
y (9) atraviesan el substrato (6), y al menos uno de ellos provoca
la eyección del material de partida (5). La generación de la pluma
puede estar asistida por calor a través de una fuente calefactora
(8). La deposición puede estar también asistida térmicamente
mediante el suministro de calor al substrato, de forma similar a la
fuente calefactora (8) (no representado en la Figura 5). La
deposición se realiza a presión y atmósfera controladas.
La Figura 6 ilustra un tercer escenario
preferido según el método propuesto para la fabricación de
elementos ópticos que combinen funcionalidades refractivas y
difractivas. Con referencia a esta figura, y de forma similar a lo
descrito en las Figuras 4 y 5, el sistema consta de una cámara (1)
con ventanas transparentes (2) y (3), una fuente de radiación
luminosa (4), continua o pulsada, una segunda fuente de radiación
luminosa (12), continua o pulsada, un material de partida (5), y un
substrato (6) que es transparente a la radiación procedente de la
fuente de radiación luminosa (4), y transparente también a la
radiación de trabajo a la que va destinado el elemento óptico que
se pretende fabricar. El control de la distribución espacial de la
intensidad de la radiaciones procedentes de las fuentes (4) y (12)
se realiza mediante medios de modulación
opto-mecánicos, que consisten en combinaciones de
elementos ópticos (lentes, espejos, filtros, divisores de haz,
máscaras, moduladores espaciales de luz, de fase y de amplitud) y/o
mecánicos (etapas de posicionamiento lineal, etapas de
posicionamiento angular, moduladores espaciales de luz mecánicos)
(7) y (13), respectivamente para modular espacialmente la radiación
según el patrón difractivo requerido.
El haz procedente de la fuente (4) se introduce
en la cámara a través de la ventana (2), y atraviesa el substrato
(6) para irradiar el material que va a ser depositado. El haz
procedente de la fuente (12) se introduce en la cámara a través de
la ventana (3), vía el espejo (14), e incide sobre el material de
partida para provocar su eyección. La generación de la pluma puede
estar asistida por calor a través de una fuente calefactora (8). La
deposición puede estar también asistida térmicamente mediante el
suministro de calor al substrato, de forma similar a la fuente
calefactora (8) (no representado en la Figura 6). La deposición se
realiza a presión y atmósfera controladas.
La Figura 7 ilustra un cuarto escenario
preferido según el método propuesto, más general, para la
fabricación de elementos ópticos que combinen funcionalidades
refractivas y difractivas. Con referencia a esta figura, y de forma
similar a lo descrito en las Figuras 4, 5 y 6, el sistema consta de
una cámara (1) con ventanas transparentes (2) y (3), primera (4) y
segunda (9) fuentes de radiación luminosa, continuas o pulsadas,
encargadas del registro de las estructuras difractivas, tercera
(12) y cuarta (15) fuentes de radiación luminosa, continuas o
pulsadas, encargadas de provocar la eyección del material de
partida (5), y un substrato (6) que es transparente a las
radiaciones procedentes de las fuentes (4) y (9), y transparente
también a la radiación de trabajo a la que va destinado el elemento
óptico que se pretende fabricar. El control de la distribución
espacial de la intensidad de la radiaciones procedentes de las
fuentes (4), (9), (12) y (15) se realiza mediante medios de
modulación opto-mecánicos (7), (10), (13) y (16),
respectivamente, que consisten en combinaciones de elementos
ópticos (lentes, espejos, filtros, divisores de haz, máscaras,
moduladores espaciales de luz, de fase y de amplitud) y/o mecánicos
(etapas de posicionamiento lineal, etapas de posicionamiento
angular, moduladores espaciales de luz mecánicos) para modular
espacialmente la radiación. Los haces procedentes de las fuentes (4)
y (9) se encaminan hacia el interior de la cámara, a través de la
ventana (2), vía el divisor de haz (11), con direcciones de
propagación coincidentes, u opcionalmente, con direcciones de
propagación no coincidentes. Los haces procedentes de las fuentes
(12) y (15) se combinan mediante el divisor de haz (17), y se
introducen en la cámara a través de la ventana (3), vía el espejo
(14), e inciden sobre el material de partida para provocar su
eyección. La generación de la pluma puede estar asistida por calor
a través de una fuente calefactora (8). La deposición puede estar
también asistida térmicamente mediante el suministro de calor al
substrato, de forma similar a la fuente calefactora (8) (no
representado en la Figura 7). La deposición se realiza a presión y
atmósfera controladas.
En una realización posible el aparato para la
fabricación de elementos ópticos difractivos dispone adicionalmente
de un sistema de inyección de gases (p. ej., He, Ne, Ar, H_{3}As,
H_{2}S, H_{2}Se), no representado en las Figuras.
A continuación se describe un escenario real con
el fin de ilustrar el uso de la presente invención para la
fabricación de una lente asférica que combina funcionalidades
refractivas y difractivas, altamente transparente en el IR, y con
alto umbral de daño. El haz es tratado según el montaje óptico
ilustrado en la Figura 3. El material de partida (100), en este
caso, es una pastilla circular de 13 mm de diámetro, formada con
125 mg del polvo compactado, durante 10 minutos y con una carga de
10 toneladas, de una aleación calcogenura amorfa de composición
As_{20}S_{80}, que presenta un gap óptico de 2.1 eV. La presión
en la cámara se reduce por debajo de 10^{-4} mbar. La radiación
luminosa (300) procede de un generador láser continuo de Nd:YAG
emitiendo a 532 nm (2.33 eV), con una potencia de 1.5 W. El haz es
filtrado mediante un filtro espacial, y colimado con una lente de
150 mm de focal (no mostrados en la Figura 3). El haz se divide
empleando un cubo divisor de haz (201). La sección de uno los haces
emergentes (301) se reduce mediante la combinación de una lente
(202) de 150 mm y otra lente (203) de 75 mm de distancia focal, y
se emplean espejos (204) y (205) para encaminarlo. Este haz se
enfoca mediante una lente (206) de 50 mm de focal, y se dirige a un
segundo divisor de haz (207). La componente trasversal que resulta
de la interacción del haz (301) con el cubo divisor (207), es
colimada mediante una lente (208) de 50 mm de focal. Esta lente
constituye la salida del montaje óptico antes de introducir la
radiación resultante en la cámara. Por otro lado, el segundo haz
(302) emergente del primer divisor de haz atraviesa un atenuador
(209) para compensar las pérdidas que sufre el haz (301). El haz
(302) atraviesa el segundo divisor de haz (207) y es enfocado por la
lente (208) de 50 mm de focal que se enfrenta a la cámara. El haz
(302) induce mayormente la eyección del material de partida. El
material eyectado de la superficie de la pastilla genera una
distribución de la fase de vapor en forma de huso (pluma), que es
perpendicular a la superficie irradiada de la pastilla. El
substrato transparente (101) se ubica en la cámara perpendicular al
eje óptico del montaje descrito, a 2 mm del material de partida, y
es atravesado por la radiación generada a la salida de tal montaje.
Sobre la cara del substrato enfrentada al material de partida, se
condensa la fase de vapor de este material (102), presentando una
distribución espacial asférica sobre su superficie. La actuación
concurrente de la radiación luminosa, modulada según el patrón
generado por la interferencia de los haces (301) y (302), sobre el
depósito, produce un relieve superficial sobre la superficie
asférica en la forma de placas zonales de Fresnel. No se descarta
que, acompañando al relieve superficial observado, la radiación
luminosa produzca cambios locales en el índice de refracción y/o el
coeficiente de absorción en el material depositado. El elemento
difractivo creado según el escenario descrito actuaria, en el caso
de que no estuviera afectado por el perfil refractivo, como una
lente difractiva de fase con una distancia focal de aproximadamente
25 mm.
Las condiciones del sistema pueden ajustarse
para el depósito de un perfil de espesor tanto uniforme como
variable, concentrado en una región localizada del substrato, o bien
extendido de forma arbitraria sobre él. El área cubierta por el
depósito y los perfiles de espesor pueden controlarse desplazando
el haz luminoso sobre la superficie del material de partida y/o el
substrato, vía los medios de soporte que confieren los grados de
libertad x, y, z, \theta, x', y', z', \theta', \varphi',
respectivamente, al material de partida, y al substrato, que
aparecen esquematizados en las Figuras 4, 5, 6 y 7.
Claims (20)
1. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos caracterizado porque comprende las
siguientes fases operativas:
- (a)
- situar un substrato (6), que es transparente tanto a la radiación de trabajo a la que va destinado el elemento óptico fabricado como a la radiación empleada en la fabricación, próximo a un material de partida (5), ambos ubicados en el interior de una cámara (1);
- (b)
- modular espacialmente una radiación proveniente de una fuente de radiación (4) según un patrón de difracción requerido;
- (c)
- irradiar el substrato (6) de forma que la radiación lo atraviese;
- (d)
- exponer el material de partida (5) a la radiación transmitida a través del substrato (6), de modo que al incidir la radiación sobre el material de partida (5) se produzca su evaporación o sublimación;
- (e)
- depositar la fase de vapor del material de partida (5) sobre el substrato (6);
- (f)
- registrar en el material depositado una estructura difractiva durante el proceso de deposición irradiando el material depositado de forma concurrente a través del substrato (6) con la radiación modulada.
\vskip1.000000\baselineskip
2. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicación 1, caracterizado
porque la vaporización o sublimación del material de partida (5) se
realiza por medios lumínicos.
3. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 y 2,
caracterizado porque las radiaciones luminosas implicadas en
el proceso son continuas o pulsadas.
4. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 3,
caracterizado porque las radiaciones luminosas implicadas en
el proceso son monocromáticas o policromáticas.
5. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 4,
caracterizado porque las radiaciones luminosas implicadas en
el proceso son coherentes o incoherentes.
6. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 5,
caracterizado
porque el material de partida (5) es un lingote o una pastilla formada a partir del polvo prensado del material a
depositar.
porque el material de partida (5) es un lingote o una pastilla formada a partir del polvo prensado del material a
depositar.
7. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 6,
caracterizado porque el material de partida (5) puede ser una
mezcla homogénea o heterogénea, de aleaciones semiconductoras que
contengan algún elemento calcógeno (O, S, Se y/o Te) y otros
reactivos, que actúen como elementos tanto pasivos, como activos,
para una determinada radiación luminosa.
8. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 7,
caracterizado porque el proceso se realiza a presión y
atmósfera controladas.
9. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 8,
caracterizado porque la fase de vapor o plasma presente en el
proceso procede de la evaporación y/o sublimación del material de
partida (5) mediante la acción conjunta del calentamiento y la
radiación luminosa.
10. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 1 a 9,
caracterizado porque la temperatura del substrato (6) es
diferente de la temperatura ambiente.
11. Método para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según cualquiera de las reivindicaciones 1 a
10, caracterizado porque las caras enfrentadas del material
de partida (5) y el substrato (6) son paralelas.
12. Elemento óptico difractivo obtenido mediante
el método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11.
13. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos, que comprende:
- (a)
- una cámara (1) con al menos una ventana transparente,
- (b)
- un sistema de vacío,
- (c)
- una fuente de radiación luminosa,
- (d)
- un substrato (6) transparente tanto a la radiación de trabajo a la que va destinado el elemento óptico fabricado como a la radiación de la fuente de radiación luminosa, estando localizado dicho substrato (6) en el trayecto óptico de la radiación procedente de la fuente de radiación luminosa,
- (e)
- medios de soporte mecánicos, ubicados en el interior de la cámara (1), que soportan el substrato (6) y que le confieren libertad para moverse en las tres direcciones cartesianas, x', y', z', así como rotar alrededor de un eje perpendicular a su superficie, \theta', y alrededor de un eje paralelo a su superficie, \varphi',
- (f)
- un material de partida (5), localizado en el trayecto óptico de la radiación transmitida a través del substrato (6) y situado suficientemente próximo al substrato (6) para que la fase de vapor generada por la irradiación se condense sobre el substrato (6),
- (g)
- medios de soporte mecánicos, ubicados en el interior de la cámara (1), que soportan el material de partida (5) y que le confieren libertad para moverse en las tres direcciones cartesianas, x, y, z, así como rotar alrededor de un eje perpendicular a su superficie, \theta, de forma no solidaria con el substrato (6),
- (h)
- medios de modulación opto-mecánicos (7, 10), ubicados en el exterior de la cámara (1), que modulan la distribución espacial de la radiación luminosa incidente sobre el substrato (6) según el patrón difractivo requerido.
\vskip1.000000\baselineskip
14. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos, según reivindicación 13, caracterizado
porque dispone de un sistema de inyección de gases.
15. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicación 13, caracterizado
porque dispone de una fuente calefactora para el material de partida
(5).
16. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicación 13, caracterizado
porque dispone de una fuente calefactora para el substrato (6).
17. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 13 a 16,
caracterizado porque dispone de fuentes de radiación luminosa
adicionales para producir la eyección del material de partida
(5).
18. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 13 a 16,
caracterizado porque dispone de fuentes de radiación luminosa
adicionales para el registro de las estructuras difractivas.
19. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 17 o 18,
caracterizado porque las radiaciones luminosas presentes en
el proceso son iguales en su coherencia, cromaticidad, y carácter
temporal (pulsado o continuo).
20. Aparato para la fabricación de elementos
ópticos difractivos según reivindicaciones 17 o 18,
caracterizado porque las radiaciones luminosas presentes en
el proceso son diferentes en su dirección de propagación,
intensidad, coherencia, cromaticidad, o carácter temporal (pulsado o
continuo).
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ES200600446A ES2325894B1 (es) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | Metodo y aparato para la fabricacion de elementos opticos difractivos. |
| EP07704761A EP1990441B1 (en) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Method and apparatus for registering diffractive optical structures |
| AT07704761T ATE540136T1 (de) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Verfahren und vorrichtung zur registrierung von diffraktiven optischen strukturen |
| ES07704761T ES2380126T3 (es) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Método y aparato para el registro de estructuras ópticas difractivas |
| US12/280,319 US20090087581A1 (en) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Manufacturing diffractive optical elements |
| PCT/ES2007/000052 WO2007096440A1 (es) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Método y aparato para el registro de estructuras ópticas difractivas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ES200600446A ES2325894B1 (es) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | Metodo y aparato para la fabricacion de elementos opticos difractivos. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2325894A1 ES2325894A1 (es) | 2009-09-23 |
| ES2325894B1 true ES2325894B1 (es) | 2010-10-28 |
Family
ID=38436967
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES200600446A Active ES2325894B1 (es) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | Metodo y aparato para la fabricacion de elementos opticos difractivos. |
| ES07704761T Active ES2380126T3 (es) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Método y aparato para el registro de estructuras ópticas difractivas |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES07704761T Active ES2380126T3 (es) | 2006-02-24 | 2007-01-31 | Método y aparato para el registro de estructuras ópticas difractivas |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090087581A1 (es) |
| EP (1) | EP1990441B1 (es) |
| AT (1) | ATE540136T1 (es) |
| ES (2) | ES2325894B1 (es) |
| WO (1) | WO2007096440A1 (es) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023006197A1 (en) * | 2021-07-28 | 2023-02-02 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method of coating a coating region on a front surface of a substrate and apparatus for a thermal evaporation system |
| EP4320284A1 (en) * | 2021-07-28 | 2024-02-14 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Apparatus for a thermal evaporation system and method of coating a coating region on a front surface of a substrate |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4701592A (en) * | 1980-11-17 | 1987-10-20 | Rockwell International Corporation | Laser assisted deposition and annealing |
| FR2576147B1 (fr) * | 1985-01-17 | 1987-11-27 | Flicstein Jean | Procede de depot et de cristallisation d'une couche mince de materiau organique au moyen d'un faisceau d'energie |
| JP3080096B2 (ja) * | 1990-06-13 | 2000-08-21 | 住友電気工業株式会社 | 大面積薄膜の作製方法 |
| US5173441A (en) * | 1991-02-08 | 1992-12-22 | Micron Technology, Inc. | Laser ablation deposition process for semiconductor manufacture |
| GB2300000A (en) * | 1992-11-30 | 1996-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | Thin film forming using laser and activated oxidising gas |
| JP3255469B2 (ja) | 1992-11-30 | 2002-02-12 | 三菱電機株式会社 | レーザ薄膜形成装置 |
| JPH0870144A (ja) * | 1994-08-26 | 1996-03-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導部品の作製方法 |
| WO1998006676A1 (fr) * | 1996-08-13 | 1998-02-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procede d'usinage au laser pour substrat de verre, dispositif optique du type a diffraction fabrique par ce procede d'usinage, et procede de fabrication de ce dispositif optique |
| JP3270814B2 (ja) | 1996-08-27 | 2002-04-02 | 日本板硝子株式会社 | 回折型光学素子の製造方法 |
| CZ286152B6 (cs) | 1998-03-13 | 2000-01-12 | Miroslav Ing. Csc. Vlček | Transparentní a semitransparentní difrakční prvky |
| WO2000044960A1 (en) * | 1999-01-27 | 2000-08-03 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Matrix assisted pulsed laser evaporation direct write |
| US6649861B2 (en) | 2000-05-24 | 2003-11-18 | Potomac Photonics, Inc. | Method and apparatus for fabrication of miniature structures |
| US6869479B2 (en) * | 2002-03-29 | 2005-03-22 | Altair Center, Llc | Method of laser-assisted fabrication of optoelectronic and photonic components |
-
2006
- 2006-02-24 ES ES200600446A patent/ES2325894B1/es active Active
-
2007
- 2007-01-31 WO PCT/ES2007/000052 patent/WO2007096440A1/es active Application Filing
- 2007-01-31 ES ES07704761T patent/ES2380126T3/es active Active
- 2007-01-31 AT AT07704761T patent/ATE540136T1/de active
- 2007-01-31 US US12/280,319 patent/US20090087581A1/en not_active Abandoned
- 2007-01-31 EP EP07704761A patent/EP1990441B1/en not_active Not-in-force
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| BASE DE DATOS WPIL en QUESTEL, JP 4045263 A (SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES) 14.02.1992, resumen; figuras. * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1990441A4 (en) | 2010-06-02 |
| WO2007096440A1 (es) | 2007-08-30 |
| EP1990441A1 (en) | 2008-11-12 |
| ES2325894A1 (es) | 2009-09-23 |
| US20090087581A1 (en) | 2009-04-02 |
| EP1990441B1 (en) | 2012-01-04 |
| ES2380126T3 (es) | 2012-05-08 |
| ATE540136T1 (de) | 2012-01-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6924457B2 (en) | Laser processing method to a class substrate and an optical diffraction element obtained thereby, and a method for manufacturing optical elements | |
| JP2001007045A5 (es) | ||
| Henley et al. | Laser implantation of plasmonic nanostructures into glass | |
| ES2325894B1 (es) | Metodo y aparato para la fabricacion de elementos opticos difractivos. | |
| CN103379980A (zh) | 激光涂层的热处理 | |
| ES2299335B2 (es) | Metodo para la fabricacion de estructuras opticas con funcionalidad puramente refractivas. | |
| Chekalin et al. | A method of laser coloration in experiments on filamentation of individual impulses and the formation of a light bullet in a homogeneous transparent dielectrics | |
| Tan et al. | Direct grating writing using femtosecond laser interference fringes formed at the focal point | |
| US9897539B2 (en) | Apparatus and method for measuring deposition rate | |
| Schulz-Ruhtenberg et al. | Laser patterning of SiOx-layers for the fabrication of UV diffractive phase elements | |
| Borisov et al. | Deposition of Er3+ doped chalcogenide glass films by excimer laser ablation | |
| Makimura et al. | Ablation of silica glass using pulsed laser plasma soft X-rays | |
| Nakata et al. | Sub-micron period metal lattices fabricated by interfering ultraviolet femtosecond laser processing | |
| JP2004310009A (ja) | 光学用構造体及びその製造方法並びに光学素子 | |
| Nakata et al. | Interfering ultraviolet femtosecond laser processing of gold thin film and prospect of shortest period | |
| Quan-Zhong et al. | Fabrication of microstructures in LiF crystals by a femtosecond laser | |
| Fan et al. | On the Formation of Amorphous Ge Nanoclusters and Ge Nanocrystals in GeSi x O y Films on Quartz Substrates by Furnace and Pulsed Laser Annealing | |
| Ihlemann et al. | Periodic Surface Structures by Laser Interference Ablation | |
| US6744560B2 (en) | Non-linear optical material | |
| Alti et al. | Sculpted pulsed indium atomic beams via selective laser ablation of thin film | |
| Zhao et al. | Study of textured ZnS irradiated by femtosecond laser pulses | |
| Ivanov et al. | Latest achievements in chemical composition optimization of photo-thermo-refractive glass and its applications | |
| Takáts et al. | Stimulated interdiffusion and optical recording in Sb/As2S3 nanomultilayers | |
| Heber et al. | Laser ablation of SiOx thin films for direct mask writing | |
| Jakubczak et al. | Improved efficiency of materials processing by dual action of XUV/Vis-NIR ultrashort laser pulses and comprehensive study of high-order harmonic source at PALS |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EC2A | Search report published |
Date of ref document: 20090923 Kind code of ref document: A1 |
|
| FG2A | Definitive protection |
Ref document number: 2325894B1 Country of ref document: ES |
|
| FG2A | Definitive protection |
Ref document number: 2325894B1 Country of ref document: ES |