ES2311924T3 - Distribucion de energia electromagnetica para corte mecanico inducido electromagneticamente. - Google Patents
Distribucion de energia electromagnetica para corte mecanico inducido electromagneticamente. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2311924T3 ES2311924T3 ES05075231T ES05075231T ES2311924T3 ES 2311924 T3 ES2311924 T3 ES 2311924T3 ES 05075231 T ES05075231 T ES 05075231T ES 05075231 T ES05075231 T ES 05075231T ES 2311924 T3 ES2311924 T3 ES 2311924T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- pulse
- established
- approximately
- output
- microseconds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title description 37
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 51
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 16
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 claims 2
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 claims 2
- 210000000845 cartilage Anatomy 0.000 claims 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 2
- 210000000515 tooth Anatomy 0.000 claims 2
- 210000004872 soft tissue Anatomy 0.000 claims 1
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 50
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 16
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 7
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 6
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N [Kr]F Chemical compound [Kr]F VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N argon hydrofluoride Chemical compound F.[Ar] ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- -1 tulium Chemical compound 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCGQDMQKGRJNO-UHFFFAOYSA-N xenon monochloride Chemical compound [Xe]Cl HGCGQDMQKGRJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/14—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using a fluid stream, e.g. a jet of gas, in conjunction with the laser beam; Nozzles therefor
- B23K26/146—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using a fluid stream, e.g. a jet of gas, in conjunction with the laser beam; Nozzles therefor the fluid stream containing a liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/356—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment by shock processing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/0915—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light
- H01S3/092—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light of flash lamp
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B18/18—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves
- A61B18/20—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves using laser
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Laser Surgery Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
Un aparato para impartir fuerzas disruptivas a un objetivo que comprende: una lámpara de destello o un diodo láser configurado para facilitar la generación por lo menos de un pulso de salida que tiene un ancho del pulso de hasta aproximadamente 300 microsegundos definido entre un principio de por lo menos un pulso y un final de por lo menos un pulso, una amplitud pico y un intervalo de la mitad máxima del ancho completo el cual, cuando está representado en un eje de tiempo de un gráfico que ilustra por lo menos un pulso, se define a partir de un tiempo inicial, donde la amplitud del por lo menos un pulso primero alcanza una mitad de la amplitud pico dentro del ancho del pulso, hasta un tiempo final donde la amplitud alcanza una mitad de la amplitud pico un tiempo final dentro del ancho del pulso, la localización del intervalo de la mitad máxima del ancho completo a lo largo del eje de tiempo relativo al ancho del pulso que está más cercano al principio del por lo menos un pulso que al final del por lo menos un pulso; y una salida del fluido configurada para dirigir las partículas del fluido para la recepción de energía desde el al menos un pulso y la impartición de las fuerzas disruptivas al objetivo.
Description
Distribución de energía electromagnética para
corte mecánico inducido electromagnéticamente.
La presente invención se refiere generalmente a
los láseres y, más particularmente, a las distribuciones de la
energía óptica de salida de los láseres.
Una variedad de sistemas láser están presentes
en la técnica anterior. Un sistema láser de estado sólido comprende
generalmente una barra del láser para emitir luz coherente y una
fuente de estímulo para estimular la barra del láser para emitir la
luz coherente. Las lámparas de destello se utilizan típicamente como
fuentes de estimulación para los sistemas láser de erbio, por
ejemplo. La lámpara de destello se controla mediante una corriente
de la lámpara de destello, que comprende una forma de pulso y una
frecuencia predeterminadas.
La corriente de la lámpara de destello controla
la lámpara de destello a la frecuencia predeterminada, para
producir así una distribución de luz de salida de la lámpara de
destello que tiene sustancialmente la misma frecuencia que la
corriente de la lámpara de destello. Esta distribución de luz de
salida de la lámpara de destello controla la barra del láser para
producir luz coherente a sustancialmente la misma frecuencia
predeterminada que la corriente de la lámpara de destello. La luz
coherente generada mediante la barra del láser tiene una
distribución de la energía óptica de salida en un cierto plazo que
generalmente corresponde a la forma del pulso de la corriente de la
lámpara de destello.
La forma del pulso de la distribución de la
energía óptica de salida en un cierto plazo comprende típicamente
un aumento gradual relativo de energía que salta hasta una energía
máxima, y una disminución de energía subsiguiente en un cierto
plazo. La forma del pulso de una distribución de la energía óptica
de salida típica puede proporcionar una operación relativamente
eficiente del sistema láser, que corresponde a un cociente
relativamente alto de la energía óptica promedio de salida a la
potencia promedio introducida dentro del sistema láser.
La forma y la frecuencia del pulso de la técnica
anterior pueden ser convenientes para procedimientos de corte
térmico, por ejemplo, donde la energía óptica de salida se dirige
sobre una superficie designada para inducir el corte. Nuevos
procedimientos de corte, sin embargo, no cuentan completamente con
los mecanismos de corte térmico inducido por láser. Más
particularmente, un nuevo mecanismo de corte dirige la energía
óptica de salida desde un sistema láser dentro de una distribución
de partículas fluidas atomizadas localizadas en un volumen de
espacio justamente sobre la superficie designada. La energía óptica
de salida interactúa con las partículas fluidas atomizadas haciendo
que las mismas se expandan e impartan fuerzas de corte mecánicas
inducidas electromagnéticamente sobre la superficie designada. Como
resultado de las interacciones únicas de la energía óptica de salida
con las partículas del fluido atomizado, las formas y frecuencias
del pulso de distribución de la energía óptica de salida típica de
la técnica anterior no han sido especialmente convenientes para
proporcionar el corte mecánico óptico electromagnéticamente
inducido. Las distribuciones de energía óptica de salida
especializada se requieren para el corte óptimo cuando la energía
óptica de salida se dirige hacia el interior de una distribución de
partículas fluidas atomizadas para efectuar el corte mecánico
inducido electromagnéticamente de la superficie designada.
La patente de EE.UU No. 3.914.648 describe un
circuito de descarga de la lámpara de destello que comprende una o
más lámparas de destello de descarga gaseosa, un circuito de
preionización controlado por pulso para proporcionar a través de
cada lámpara de destello un pulso corto, de alto voltaje y baja
energía de preionización, y un circuito principal de descarga
accionado mediante el circuito de preionización para proporcionar la
descarga principal de la lámpara de destello alrededor del final
del uso del pulso de preionización. El circuito principal de
descarga se dispone en parte para tener inductancia mínima mediante
el suministro de un flujo de corriente de retorno igual, opuesto y
dentro de la proximidad cercana al flujo de corriente delantero en
la lámpara de destello. El pulso de preionización se proporciona a
través de un transformador o transformadores que también
proporcionan el pulso necesario de disparo para el circuito
principal de descarga. El circuito principal de descarga puede ser
variable para proporcionar desde la energía suficiente baja o justa
para producir una inversión de la población hasta esa energía
necesaria para producir la máxima inversión de la población
posible.
La patente de EE.UU. No. 5.221.561 describe un
proceso de tratamiento fotoquímico de un material sólido que
consiste en exponer el último a los pulsos de luz producidos al
menos por un tubo alargado de descarga de luz que tiene un gas raro
bajo presión baja. El gas, la presión y las características de la
descarga se adaptan a dicho material y sus precursores, cada pulso
que contiene un extenso espectro de emisión entre 160 y 5000 nm. Un
circuito eléctrico con características eléctricas modulables (LC)
permite modular las características de la descarga del tubo y del
almacenaje de la energía necesaria para dicha descarga.
\newpage
Según un segundo aspecto de la presente
invención se proporciona un método de impartir fuerzas disruptivas
a un objetivo, que comprende:
- generar por lo menos un pulso de salida usando una fuente de excitación que comprende una lámpara de destello o un diodo láser, el pulso de salida teniendo un ancho de pulso de hasta aproximadamente 300 microsegundos definidos entre un principio del pulso y un final del mismo, una amplitud pico y un intervalo de la mitad máxima del ancho completo que, cuando está representado en un eje de tiempo de un gráfico ilustrando el pulso, se define a partir de un tiempo de inicio, donde la amplitud del pulso primero alcanza una mitad de la amplitud pico dentro del ancho del pulso, hasta un tiempo final donde la amplitud alcanza una mitad de la amplitud pico un tiempo final dentro del ancho del pulso, la localización del intervalo de la mitad máxima del ancho completo a lo largo del eje de tiempo relativo al ancho del pulso que está más cercana al principio del pulso que al final del mismo;
- dirigir las partículas fluidas desde una salida de fluido para recibir energía del pulso; e
- impartir las fuerzas disruptivas hacia el objetivo.
Según un primer aspecto de la presente invención
se proporciona un aparato para impartir fuerzas disruptivas a un
objetivo, que comprende:
- una lámpara de destello o un diodo láser configurado para facilitar la generación por lo menos de un pulso de salida que tiene un ancho de hasta aproximadamente 300 microsegundos definido entre un principio del pulso y un final del mismo, una amplitud pico y un intervalo de la mitad máxima del ancho completo el cual, cuando está representado en un eje de tiempo de un gráfico que ilustra el pulso, se define a partir de un tiempo de inicio, donde la amplitud del pulso primero alcanza una mitad de la amplitud pico dentro del ancho del pulso, hasta un tiempo final donde la amplitud alcanza una mitad de la amplitud pico un tiempo final dentro del ancho del pulso, la localización del intervalo de la mitad máxima del ancho completo a lo largo del eje x relativo al ancho del pulso que está más cercano al principio del pulso que al final del mismo; y
- una salida de fluido configurada para dirigir las partículas fluidas para la recepción de la energía del pulso y la impartición de las fuerzas disruptivas al objetivo.
Las distribuciones de la energía óptica de
salida de la presente invención comprende magnitudes de la energía
relativamente altas al principio de cada pulso. Como resultado de
estas magnitudes de la energía relativamente altas al principio de
cada pulso, el borde principal de cada pulso comprende una pendiente
relativamente grande. Esta pendiente es preferiblemente mayor que o
igual a 5. Además, los valores de la mitad máxima del ancho
completo (FWHM) de las distribuciones de la energía óptica de salida
son mayores que 0,025 microsegundos. Más preferiblemente, los
valores de la mitad máxima del ancho completo están entre 0,025 y
250 microsegundos y, más preferiblemente, están entre 10 y 150
microsegundos. El valor de la mitad máxima del ancho completo está
alrededor de 70 microsegundos en la realización ilustrada. Una
lámpara de destello se utiliza para controlar el sistema láser, y
una corriente se utiliza para controlar la lámpara de destello. Un
circuito de generación de corriente para la lámpara de destello
comprende un inductor de núcleo sólido que tiene una inductancia de
aproximadamente 50 microhenrios y un condensador que tiene una
capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios.
La presente invención, junto con las
características adicionales y las ventajas de ella, pueden
comprenderse mejor por referencia a la descripción siguiente tomada
en conjunto con los dibujos ilustrativos que la acompañan.
\vskip1.000000\baselineskip
La Figura 1 es un trazado de la corriente
controladora de la lámpara de destello contra el tiempo según un
ejemplo de la técnica anterior;
La Figura 2 es un trazado de la energía óptica
de salida contra el tiempo para un sistema láser según un ejemplo
de la técnica anterior;
La Figura 3 es un diagrama esquemático del
circuito para generar una corriente controladora de la lámpara de
destello de acuerdo con un ejemplo de la presente invención;
La Figura 4 es un trazado de la corriente
controladora de la lámpara de destello contra el tiempo de acuerdo
con una realización de la presente invención; y
La Figura 5 es un trazado de la energía óptica
de salida contra el tiempo para un sistema láser de acuerdo con una
realización de la presente invención.
Refiriéndose más particularmente a los dibujos,
la Figura 1 ilustra un trazado de la corriente controladora de la
lámpara de destello contra el tiempo según un ejemplo de la técnica
anterior. La corriente controladora de la lámpara de destello 10
inicialmente salta hasta un valor máximo 12. El salto inicial 14
comprende típicamente una pendiente (corriente dividida por tiempo)
de entre 1 y 4. Después de alcanzar el valor máximo 12, la corriente
controladora de la lámpara de destello 10 declina con el tiempo,
según lo ilustrado por la porción de la corriente que declina 16.
La corriente controladora de la lámpara de destello de la técnica
anterior 10 puede comprender típicamente una frecuencia o intervalo
de repetición de 1 a 15 hertzios (Hz). Además, la corriente
controladora de la lámpara de destello 10 de la técnica anterior
puede comprender típicamente un ancho del pulso mayor de 300
microsegundos. El valor de la mitad máxima del ancho completo de la
corriente controladora de la lámpara de destello 10 está
típicamente entre 250 y 300 microsegundos. El valor de la mitad
máxima del ancho completo se define como un valor del tiempo que
corresponde a una longitud de la mitad máxima del ancho completo
trazada en el eje de tiempo. El intervalo de la mitad máxima del
ancho completo se define sobre el eje de tiempo a partir de un
tiempo inicial, donde la amplitud primero alcanza una mitad de la
amplitud pico del pulso completo, hasta un tiempo final, donde la
amplitud alcanza una mitad de la amplitud pico un tiempo final
dentro del pulso. El valor de la mitad máxima del ancho completo es
la diferencia entre el tiempo inicial y el tiempo final.
La Figura 2 ilustra un trazado de la energía
contra tiempo para la energía óptica de salida de un láser típico
de la técnica anterior. La distribución de la energía óptica de
salida comprende generalmente un valor máximo 22, un salto inicial
24, y una porción declinante de la energía de salida 26. Los
micropulsos 28 corresponden a las inversiones de la población
dentro de la barra del láser puesto que la luz coherente es generada
por la emisión estimulada. La potencia promedio del láser se puede
definir como la potencia entregada en un período de tiempo
predeterminado, que típicamente comprende un número de pulsos. La
eficacia del sistema láser se puede definir como el cociente de la
potencia óptica de salida del láser, a la potencia de entrada en el
sistema que se requiere para controlar la lámpara de destello. Los
sistemas láser típicos de la técnica anterior se diseñan con
corrientes controladoras de la lámpara de destello 10 y
distribuciones de la energía óptica de salida las cuales optimizan
la eficacia del sistema.
La Figura 3 ilustra un circuito controlador de
la lámpara de destello 30 según un ejemplo de la realización
preferida actualmente. El circuito controlador de la lámpara de
destello ilustrada 30 comprende una fuente de alimentación de alto
voltaje 33, un condensador 35, un rectificador 37, un inductor 39, y
una lámpara de destello 41. El condensador 35 está conectado entre
la fuente de alimentación de alto voltaje 33 y tierra, y la lámpara
de destello 41 está conectada entre el inductor 39 y tierra. La
fuente de alimentación de alto voltaje 33 comprende preferiblemente
una fuente de 1500 voltios, teniendo un índice de carga de 1500
julios por segundo. La lámpara de destello 41 puede comprender una
fuente de 450 a 700 torr y, en un ejemplo, comprende
preferiblemente una fuente de 450 torr. El condensador 35 en un
ejemplo, preferiblemente, comprende un condensador de 50
microfaradios, y el rectificador 37 en un ejemplo, comprende
preferiblemente un rectificador de silicio controlado. El inductor
39 en un ejemplo, preferiblemente, comprende un inductor de núcleo
sólido de 50 microhenrios. En realizaciones alternativas, el
inductor 39 puede comprender una inductancia de 13 microhenrios. Aún
en otras realizaciones alternativas, el inductor 39 puede
comprender valores de inductancia entre 10 y 15 microhenrios. Otros
valores para el inductor 39 y la capacitancia 35 pueden ser puestos
en ejecución para obtener corrientes controladoras de la lámpara de
destello que tienen amplitudes principales relativamente grandes,
por ejemplo, según lo discutido debajo.
La Figura 4 ilustra la corriente controladora de
la lámpara de destello 50 de una realización de la presente
invención, la cual pasa desde el inductor 39 a la lámpara de
destello 41. La corriente controladora 50 de la lámpara de destello
en el ejemplo de la presente invención tiene preferiblemente un
ancho del pulso que es mayor que aproximadamente 0,25 microsegundos
y, más preferiblemente, que está en un intervalo de 100 a 300
microsegundos. En la realización ilustrada, el ancho del pulso es
alrededor de 200 microsegundos. Un borde principal de la corriente
controladora de la lámpara de destello 50 en el presente ejemplo
tiene una pendiente de por lo menos 5 y, más preferiblemente, de 10
o más. En el ejemplo de una realización preferida actualmente, una
pendiente principal del borde de la corriente controladora de la
lámpara de destello 50 es 40 o más, según lo mostrado en la Figura
4. La corriente controladora de la lámpara de destello 50 en el
presente ejemplo comprende un valor máximo 52, una porción inicial
del salto 54, y una porción de corriente declinante 56. La lámpara
de destello 41 en el presente ejemplo comprende preferiblemente un
tubo de cristal cilíndrico que tiene un ánodo, un cátodo, y un gas
dentro tal como Xenón o Criptón. Un circuito ionizador (no mostrado)
ioniza el gas dentro de la lámpara de destello 41. Cuando se aplica
la corriente controladora de la lámpara de destello 50 al ánodo de
la lámpara de destello 41, aumenta el potencial entre el ánodo y el
cátodo. Este potencial aumenta cuando la corriente controladora de
la lámpara de destello aumenta, según lo indicado por la porción
inicial del salto 54. La corriente fluye a través del gas de la
lámpara de destello 41, dando por resultado que la lámpara de
destello 41 emite luz incoherente brillante.
La lámpara de destello 41 es enganchada a una
barra del láser (no mostrada), que en un ejemplo comprende
preferiblemente un cristal cilíndrico. La lámpara de destello 41 y
la barra del láser están paralelas, colocadas preferiblemente a una
distancia de menos de 1 centímetro entre ellas en el presente
ejemplo. La barra del láser en el presente ejemplo está suspendida
en dos placas, y no está conectada eléctricamente al circuito
controlador de la lámpara de destello 30. Aunque la lámpara de
destello 41 comprende los medios preferidos de estimulación de la
barra del láser en el presente ejemplo, otros medios están también
contemplados por la presente invención. Por ejemplo, para la fuente
de excitación pueden ser utilizados diodos en vez de las lámparas de
destello. El uso de diodos para generar la amplificación de luz
mediante la emisión estimulada se discute en el libro Ingeniería del
Láser de Estado Sólido, Cuarta Edición Revisada Extensivamente y
Actualizada, de Walter Koechner, publicado en 1996, cuyos
contenidos están expresamente incorporados aquí por referencia.
La luz incoherente desde la lámpara de destello
preferida actualmente 41 en el presente ejemplo choca con la
superficie externa de la barra del láser. Como la luz incoherente
penetra en la barra del láser, las impurezas dentro de la barra del
láser absorben la luz penetrante y emiten posteriormente luz
coherente. Ejemplos de tales impurezas pueden comprender el erbio y
el cromo, y la barra del láser en sí misma puede comprender un
cristal tal como YSGG, por ejemplo. El sistema láser preferido
actualmente en dos ejemplos comprende cualquier láser de estado
sólido como Er, Cr:YSGG, el cual genera energía electromagnética que
tiene una longitud de onda en un intervalo de 2,70 a 2,80
micrómetros, o un láser de estado sólido de erbio, itrio, aluminio,
granate (Er:YAG), el cual genera energía electromagnética que tiene
una longitud de onda de 2,94 micrómetros. Según lo preferido
actualmente, el láser de estado sólido Er, Cr:YSGG tiene una
longitud de onda de aproximadamente 2,78 micrómetros. Según una
realización alternativa, la barra del láser puede estar constituida
de un cristal YAG, y las impurezas pueden comprender impurezas del
erbio. Existen una variedad de otras posibilidades, algunas de las
cuales están en la cuarta edición del antedicho libro Ingeniería del
Láser de Estado Sólido, Cuarta Edición Revisada y Actualizada, de
Walter Koechner, publicado en 1996, cuyos contenidos se incorporan
expresamente aquí por referencia. Otros sistemas láser posibles
incluyen un láser de estado sólido de erbio, itrio, escandio,
galio, granate (Er:YSGG), el cual genera energía electromagnética
que tiene una longitud de onda en un intervalo de 2,70 a 2,80
micrómetros; un láser de estado sólido de cromo, tulio, erbio,
itrio, aluminio, granate (CTE: YAG), el cual genera energía
electromagnética que tiene una longitud de onda de 2,69 micrómetros;
un láser de estado sólido de erbio, ortoaluminato de itrio
(Er:YAL03), el cual genera energía electromagnética que tiene una
longitud de onda en un intervalo de 2,71 a 2,86 micrómetros; un
láser de estado sólido de holmio, itrio, aluminio, granate
(Ho:YAG), el cual genera energía electromagnética que tiene una
longitud de onda de 2,10 micrómetros; un láser de estado sólido de
neodimio cuadruplicado, itrio, aluminio, granate (Nd
cuadruplicado:YAG), el cual genera energía electromagnética que
tiene una longitud de onda de 266 nanómetros; un láser excímer de
fluoruro de argón (ArF), el cual genera energía electromagnética que
tiene una longitud de onda de 193 nanómetros; un láser excímer de
cloruro de xenón (XeCl), el cual genera energía electromagnética que
tiene una longitud de onda de 308 nanómetros; un láser excímer de
fluoruro de criptón (KrF), el cual genera energía electromagnética
que tiene una longitud de onda de 248 nanómetros; y un láser del
dióxido de carbono (CO_{2}) el cual genera energía
electromagnética que tiene una longitud de onda en un intervalo de 9
a 11 micrómetros.
Partículas como los electrones, asociadas a las
impurezas absorben energía del choque con radiación incoherente y
se elevan a estados de valencia mayores. Las partículas que se
elevan a niveles metaestables permanecen en estos niveles por
períodos de tiempo hasta que, por ejemplo, la energía de las
partículas de la radiación excita transiciones estimuladas. El
estímulo de una partícula en el nivel metaestable por una partícula
de energía resulta en que ambas partículas decaen a un estado de
potencial de tierra y en una emisión de fotones coherentes dobles
(partículas de energía). Los fotones coherentes dobles pueden
resonar a través de la barra del láser entre los espejos en los
terminales opuestos de la barra del láser, y pueden estimular otras
partículas en el nivel metaestable, para así generar subsiguientes
emisiones de fotones coherentes dobles. Este proceso se denomina
amplificación de luz por emisión estimulada. Con este proceso, un
par doble de fotones coherentes entrará en contacto con dos
partículas en el nivel metaestable, para de tal modo producir cuatro
fotones coherentes. Posteriormente, los cuatro fotones coherentes
chocarán con otras partículas en el nivel metaestable para de tal
modo producir ocho fotones coherentes.
El efecto de amplificación continuará hasta que
una mayoría de las partículas, que fueron elevadas al nivel
metaestable mediante luz incoherente estimulada desde la lámpara de
destello 41, hayan declinado de nuevo al estado de potencial de
tierra. La declinación de una mayoría de partículas desde el estado
metaestable al estado de potencial de tierra da lugar a la
generación de un número grande de fotones, correspondiendo a un
micropulso ascendente (64, por ejemplo, Figura 5). Como las
partículas en el nivel del potencial de tierra son nuevamente
estimuladas al estado metaestable, el número de fotones que son
emitidos disminuye, que corresponde a una pendiente hacia abajo en
el micropulso 64 por ejemplo. El micropulso continúa para declinar
correspondiendo a una disminución de la emisión de fotones
coherentes mediante el sistema láser. El número de partículas
estimuladas al nivel metaestable aumenta a una cantidad donde las
emisiones estimuladas ocurren en un nivel suficiente para aumentar
el número de los fotones coherentes generados. Cuando la generación
de fotones coherentes aumenta, y las partículas en el estado
metaestable decaen, el número de fotones coherentes se incrementa,
correspondiendo a un micropulso ascendente.
La distribución óptica por tiempo de la energía
de salida del sistema láser se ilustra en la Figura 5 en 60. La
distribución de la energía óptica de salida del ejemplo ilustrado de
la presente invención tiene preferiblemente un ancho del pulso que
es mayor que aproximadamente 0,25 microsegundos y, más
preferiblemente, está en un intervalo de 125 a 300 microsegundos.
En la realización ilustrada, el ancho del pulso es aproximadamente
200 microsegundos. La distribución de energía óptica de salida 60
comprende un valor máximo 62, un número de micropulsos principales
64, 66, 68, y una porción de energía óptica generalmente declinante
70.
Según un aspecto de la presente invención, la
distribución de la energía óptica de salida 60 comprende una
magnitud grande. Esta magnitud grande corresponde a uno o más
micropulsos agudamente crecientes en el borde principal del pulso.
Según lo ilustrado en la Figura 5, el micropulso 68 comprende un
valor máximo 62 el cual está en o cerca del comienzo del pulso.
Además, el valor de la mitad máxima del ancho completo de la
distribución de la energía óptica de salida 60 en la Figura 5 es
aproximadamente 70 microsegundos, comparado a los valores de la
mitad máxima del ancho completo de la técnica anterior que se
extienden típicamente por ejemplo desde 250 hasta 300
microsegundos. La invención de los solicitantes contempla pulsos que
comprenden valores de la mitad máxima del ancho completo mayores
que 0,025 microsegundos. En algunas realizaciones los valores de la
mitad máxima del ancho completo se extienden desde aproximadamente
0,25 microsegundos hasta aproximadamente 250 microsegundos y, más
preferiblemente, van desde 10 hasta 150 microsegundos, pero también
pueden ser posibles otros intervalos. Además, la invención de los
solicitantes contempla un ancho del pulso de entre 0,25 y 300
microsegundos, por ejemplo, comparado a los anchos del pulso típicos
de la técnica anterior los cuales son mayores que 300
microsegundos. Además, en un ejemplo una frecuencia de 20Hz se
prefiere actualmente. Alternativamente, puede utilizarse una
frecuencia de 30Hz. La invención de los solicitantes contempla
generalmente frecuencias entre 1 y 100 Hz, comparadas a las
frecuencias de la técnica anterior que típicamente van desde 1 a 15
Hz.
Según lo mencionado anteriormente, el intervalo
de la mitad máxima del ancho completo se define a partir de un
tiempo inicial,
donde la amplitud primero se eleva sobre una
mitad de la amplitud pico, hasta un tiempo final, donde la amplitud
cae por debajo de una mitad de la amplitud pico un tiempo final
durante el ancho del pulso. Se define valor de la mitad máxima del
ancho completo como la diferencia entre el tiempo inicial y el
tiempo final.
La localización del intervalo de la mitad máxima
del ancho completo a lo largo del eje de tiempo, concerniente al
ancho del pulso, está más cercano al principio del pulso que al
final del pulso. La localización del intervalo de la mitad máxima
del ancho completo está preferiblemente dentro de la primera mitad
del pulso y, más preferiblemente en un ejemplo, está dentro de
aproximadamente el primer tercio del pulso a lo largo del eje de
tiempo. También son posibles otras localizaciones del intervalo de
la mitad máxima del ancho completo de acuerdo con la presente
invención. El tiempo inicial del intervalo de la mitad máxima del
ancho completo ocurre preferiblemente dentro de los primeros 10 a
15 microsegundos y, más preferiblemente, ocurre dentro de los
primeros 12,5 microsegundos del borde principal del pulso. El
tiempo inicial, sin embargo, puede ocurrir tanto más temprano como
más tarde dentro del pulso. El tiempo inicial se alcanza
preferiblemente dentro del primer décimo del ancho del pulso.
Otra característica distintiva de la
distribución de la energía óptica de salida 60 es que los
micropulsos 64, 66, 68, por ejemplo, comprenden aproximadamente un
tercio de la amplitud máxima 62. Más preferiblemente, los
micropulsos principales 64. 66, 68 comprenden amplitudes de
aproximadamente una mitad de la amplitud máxima 62. En contraste,
los micropulsos principales de la técnica anterior, según lo
mostrado en la Figura 2, son relativamente pequeños en
amplitud.
La pendiente de la distribución óptica de la
energía de salida 60, medida desde los picos de los micropulsos
principales 64, 66 hasta la amplitud máxima 62 es mayor que o igual
a 5 y, más preferiblemente, es mayor que aproximadamente 10. En la
realización ilustrada, la pendiente está alrededor de 50. En
contraste, la pendiente de la distribución de la energía óptica de
salida de la técnica anterior es aproximadamente 4. En realizaciones
modificadas, la pendiente es mayor que o igual a aproximadamente
100 y, más preferiblemente, en un ejemplo, es aproximadamente
240.
La distribución óptica de la energía de salida
60 de la presente invención es útil para maximizar un efecto de
corte de una fuente de energía electromagnética, tal como un láser,
dirigido en una distribución de las partículas del fluido atomizado
sobre una superficie designada. Un aparato para dirigir energía
electromagnética en una distribución de las partículas del fluido
atomizado sobre una superficie designada se describe en el
documento US-A-5741247 y se titula
"Partículas de fluido atomizado para corte inducido
electromagnéticamente". Los micropulsos principales de alta
intensidad 64, 66 y 68 imparten cantidades grandes de energía en
partículas del fluido atomizado las cuales en un ejemplo comprenden
preferiblemente agua, para de tal modo expandir las partículas del
fluido en donde las fuerzas mecánicas de corte se aplican a la
superficie designada. Se ha descubierto que los micropulsos que
siguen después del micropulso máximo 68 refuerzan aún más la
eficacia del corte. Según las aplicaciones de la presente
invención, un solo micropulso principal grande 68 se puede generar
o, alternativamente, pueden ser generados dos o más micropulsos
principales grandes 68 (ó 64, 66, por ejemplo).
El circuito de generación de corriente de la
lámpara de destello 30 de un ejemplo ilustrado de la presente
invención genera un pulso relativamente estrecho, el cual está en la
orden de 0,25 a 300 microsegundos, por ejemplo. Además, el
intervalo de la mitad máxima del ancho completo de la distribución
óptica de la energía de salida 60 de la presente invención comienza
preferiblemente dentro de los primeros 70 microsegundos, por
ejemplo, comparado a los intervalos de la mitad máxima del ancho
completo de la técnica anterior que comienza dentro de los primeros
250 a 300 microsegundos. La frecuencia relativamente rápida, y la
distribución inicial relativamente grande de energía óptica en la
porción principal de cada pulso de las aplicaciones de la presente
invención, dan lugar a un corte mecánico eficiente. Si un número de
pulsos de la distribución de energía óptica de salida 60 fue
trazado, y la potencia promedio determinada, esta potencia promedio
sería relativamente baja, comparada a la cantidad de energía
entregada al sistema del láser vía la fuente de alimentación de alto
voltaje 33. Es decir la eficacia del sistema láser de ciertas
realizaciones de la presente invención puede ser menor que la de
los sistemas típicos de la técnica anterior. Puesto que las
distribuciones de la energía óptica de salida de ciertas
realizaciones de la presente invención se adaptan únicamente para
impartir energía electromagnética en partículas del fluido
atomizado sobre una superficie designada, de cualquier modo, el
corte real de la presente invención se optimiza. El efecto del
corte obtenido por ciertas aplicaciones de las distribuciones de la
energía óptica de salida de la presente invención es limpio y de
gran alcance y, proporciona además un corte consistente. Los
términos "corte" y "cortante" se definen ampliamente aquí
como la impartición de fuerzas mecánicas disruptivas sobre la
superficie designada.
Una realización de la presente invención
comprende un circuito de generación de corriente de la lámpara de
destello que incluye:
- un inductor de núcleo sólido que tiene una inductancia de un valor cercano a 50 microhenrios;
- un condensador acoplado al inductor, teniendo el condensador una capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios; y
- una lámpara de destello acoplada al inductor de núcleo sólido.
En otra realización la invención comprende un
circuito de generación de corriente de la lámpara de destello que
incluye:
- un inductor que tiene una inductancia menor que aproximadamente 16 microhenrios;
- un condensador acoplado al inductor, teniendo el condensador una capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios; y
- una lámpara de destello acoplada al inductor.
En otra realización, la presente invención
comprende un pulso para controlar una lámpara de destello que se
utiliza como una fuente de estimulación para una barra del láser,
que comprende:
- un borde principal que tiene una pendiente la cual es mayor que o igual a aproximadamente 5, siendo definida la pendiente en un trazado del pulso como y sobre x (y/x) donde y es corriente en amperios y x es tiempo en microsegundos; y
- un valor de la mitad máxima del ancho completo en un intervalo desde aproximadamente 0,025 a aproximadamente 250 microsegundos.
En otra realización más de la presente invención
se proporciona un pulso de salida de la energía óptica de un
sistema láser, que comprende una distribución de energía óptica en
el tiempo que se puede expresar como un trazado de la energía
óptica contra el tiempo en microsegundos, el pulso de salida que
comprende un ancho del pulso en un intervalo desde aproximadamente
0,25 microsegundos hasta aproximadamente 300 microsegundos y un
valor de la mitad máxima del ancho completo en un intervalo de
aproximadamente 0,025 microsegundos hasta aproximadamente 250
microsegundos.
En otra realización más de la presente invención
se proporciona un pulso de la energía óptica de salida de un
sistema láser, que comprende una distribución de energía óptica en
el tiempo que se puede expresar como un trazado de la energía
óptica contra el tiempo en microsegundos, el pulso de salida
comprendiendo un ancho del pulso en un intervalo desde
aproximadamente 0,025 microsegundos hasta aproximadamente 250
microsegundos, y el pulso de salida comprendiendo además un borde
principal que tiene una pendiente que es mayor o igual a
aproximadamente 5, siendo definida la pendiente en un trazado del
pulso de salida como y sobre x (y/x) donde
y es la energía óptica y x es el tiempo en
microsegundos.
Otra realización de la presente invención
comprende un pulso de salida de la energía óptica de un sistema
láser, que comprende una distribución de energía óptica en el tiempo
que se puede expresar como un trazado de la energía óptica contra
el tiempo en microsegundos, una localización del intervalo de la
mitad máxima del ancho completo del pulso de salida que está dentro
de una primera mitad del pulso de salida y de un tiempo inicial del
intervalo de la mitad máxima del ancho completo del pulso de salida
que está dentro de un primer décimo del pulso de salida.
Una realización adicional de la presente
invención incluye un pulso de salida de la energía óptica de un
sistema láser, el cual comprende una distribución de la energía
óptica en el tiempo que se puede expresar como un trazado de la
energía óptica contra el tiempo en microsegundos, el pulso de salida
comprendiendo por lo menos un subpulso principal, que tiene una
amplitud de aproximadamente un tercio de una amplitud máxima del
pulso de salida.
Otra realización de la presente invención
incluye un pulso de salida de la energía óptica de un sistema láser,
que comprende una distribución de energía óptica en el tiempo que
se puede expresar como un trazado de la energía óptica contra el
tiempo en microsegundos, el pulso de salida que comprende un borde
principal que tiene una pendiente que es mayor que o igual a
aproximadamente 5, siendo definida la pendiente en un trazado del
pulso de salida como y sobre x (y/x) donde
y es la energía óptica y x es el tiempo en
microsegundos.
Una realización adicional de la presente
invención incluye un aparato para impartir fuerzas disruptivas a un
objetivo, que comprende:
- un inductor que tiene una inductancia dentro del intervalo de aproximadamente 10 a 50 microhenrios;
\newpage
- un condensador acoplado al inductor, teniendo el condensador una capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios;
- una lámpara de destello acoplada al inductor y un cierre acoplado a una barra del láser para así controlar la barra del láser y generar por lo menos un pulso de salida que tiene un valor de la mitad máxima del ancho completo en un intervalo desde aproximadamente 0,025 hasta aproximadamente 250 microsegundos; y
- una salida del fluido con la cual el pulso interactúa impartiendo energía a las partículas del fluido atomizado, salida del fluido que se orienta para dirigir las partículas del fluido a lo largo de una trayectoria lejos del aparato;
- en donde el aparato se construye para dirigir al menos un pulso de salida en la proximidad cercana a la trayectoria y, en uso, las fuerzas disruptivas se imparten al objetivo.
Una realización adicional más de la presente
invención incluye un método de impartir fuerzas disruptivas a un
objetivo, que comprende:
- proporcionar una fuente de energía electromagnética que abarca un inductor que tiene una inductancia dentro del intervalo de aproximadamente 10 a 50 microhenrios, un condensador acoplado al inductor y que tiene una capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios, y una lámpara de destello acoplada al inductor y un cierre acoplado a una barra del láser para de tal modo controlar la barra del láser;
- proporcionar un sistema de entrega;
- activar la fuente de energía electromagnética para de tal modo generar por lo menos un pulso de salida de la energía electromagnética que comprende un borde principal el cual tiene una pendiente que es mayor o igual a aproximadamente 5, siendo definida la pendiente en un trazado del pulso como y sobre x (y/x) donde y es la amplitud y x es el tiempo en microsegundos, y el valor de la mitad máxima del ancho completo en un intervalo desde aproximadamente 0,025 hasta aproximadamente 250 microsegundos; y
- dirigir por lo menos un pulso de salida de la energía electromagnética y de las partículas del fluido desde una salida del fluido con lo cual por lo menos un pulso de salida interactúa impartiendo energía a las partículas del fluido, usando el sistema de entrega, en donde la energía electromagnética es dirigida en una dirección general hacia el objetivo y se imparten las fuerzas disruptivas al objetivo.
\vskip1.000000\baselineskip
Este listado de referencias citadas por el
solicitante tiene como único fin la conveniencia del lector. No
forma parte del documento de la Patente Europea. Aunque se ha puesto
gran cuidado en la compilación de las referencias, no pueden
excluirse errores u omisiones y la OEP rechaza cualquier
responsabilidad en este sentido.
\bullet US 3914648 A
\bullet US 5221561 A
\bullet US 5741247 A
Claims (89)
1. Un aparato para impartir fuerzas disruptivas
a un objetivo que comprende:
- una lámpara de destello o un diodo láser configurado para facilitar la generación por lo menos de un pulso de salida que tiene un ancho del pulso de hasta aproximadamente 300 microsegundos definido entre un principio de por lo menos un pulso y un final de por lo menos un pulso, una amplitud pico y un intervalo de la mitad máxima del ancho completo el cual, cuando está representado en un eje de tiempo de un gráfico que ilustra por lo menos un pulso, se define a partir de un tiempo inicial, donde la amplitud del por lo menos un pulso primero alcanza una mitad de la amplitud pico dentro del ancho del pulso, hasta un tiempo final donde la amplitud alcanza una mitad de la amplitud pico un tiempo final dentro del ancho del pulso, la localización del intervalo de la mitad máxima del ancho completo a lo largo del eje de tiempo relativo al ancho del pulso que está más cercano al principio del por lo menos un pulso que al final del por lo menos un pulso; y
- una salida del fluido configurada para dirigir las partículas del fluido para la recepción de energía desde el al menos un pulso y la impartición de las fuerzas disruptivas al objetivo.
2. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 1, en donde el diodo láser se configura para
funcionar a una frecuencia dentro de un intervalo desde
aproximadamente 1 hasta aproximadamente 100 Hz.
3. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 1, que comprende además un inductor (39) que tiene
una inductancia de aproximadamente 50 microhenrios, un condensador
(35) que se acopla al inductor y el cual tiene una capacitancia de
aproximadamente 50 microfaradios, y una lámpara de destello (41)
acoplada al inductor, y que comprende además una barra del láser
para facilitar la generación del pulso de salida.
4. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 1 que comprende además un inductor (39) que tiene una
inductancia menor que aproximadamente 16 microhenrios, un
condensador (35) que se acopla al inductor y que tiene una
capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios, y una lámpara de
destello (41) acoplada al inductor, y que comprende además una
barra del láser para facilitar la generación del pulso de
salida.
5. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 3 ó 4, en donde el inductor (39)
es un inductor de núcleo sólido que tiene una inductancia con un
valor de aproximadamente 50 microhenrios.
6. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 3 a 5, en donde el inductor (39)
se ajusta para generar una inductancia de aproximadamente 10 a 15
microhenrios.
7. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 3 a 5, en donde el inductor (39)
se ajusta para generar una inductancia de aproximadamente 13
microhenrios.
8. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 3 a 5, en donde el inductor (39)
se ajusta para funcionar al menos parcialmente en un modo saturado
para generar una inductancia de aproximadamente 10 a 15
microhenrios.
9. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 3 a 5, en donde el inductor (39)
se ajusta para funcionar al menos parcialmente en un modo saturado
para generar una inductancia de aproximadamente 13
microhenrios.
10. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, y que comprende además una
fuente de alimentación de alto voltaje (33).
11. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, y que comprende además un
rectificador (37).
12. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 11, en donde el rectificador (37) comprende un
rectificador controlado de silicio.
13. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 10 a 12, en donde:
- la fuente de alimentación de alto voltaje (33) comprende una fuente de alimentación de alto voltaje que tiene una salida de aproximadamente 1500 voltios; y
- la fuente de alimentación de alto voltaje (33) comprende un índice de carga de aproximadamente 1500 julios por segundo.
14. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 10 a 13, en donde la fuente de
alimentación de alto voltaje (33) se acopla al condensador (35) y
al inductor (39).
15. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 10 a 14, en donde:
- el condensador (35) está conectado entre la fuente de alimentación de alto voltaje y tierra;
- el inductor (39) comprende un primer extremo y un segundo extremo;
- el inductor se acopla en un extremo a la lámpara de destello (41); y
- el inductor se acopla en el otro extremo a ambos, el condensador y la fuente de alimentación de alto voltaje.
16. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 11 a 15, en donde el inductor
(39) se acopla a la fuente de energía de alto voltaje (33) vía el
rectificador (37).
17. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 16, en donde la salida del
fluido se orienta para dirigir las partículas del fluido a cruzarse
e interactuar por lo menos parcialmente con el pulso de salida.
18. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17, en donde la salida del
fluido comprende un atomizador.
19. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 18, en donde el pulso de
salida tiene una longitud de onda que es absorbida sustancialmente
por las partículas del fluido.
20. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 19, en donde por lo menos un
pulso de salida comprende una pluralidad de pulsos de salida.
21. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 20, en donde la pluralidad de pulsos de salida tiene
una frecuencia dentro de un intervalo de aproximadamente 1 Hertz
hasta aproximadamente 100 Hertz.
22. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 21, en donde las fuerzas
disruptivas comprenden fuerzas disruptivas de corte.
23. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 22, en donde las fuerzas
disruptivas comprenden fuerzas de ablación.
24. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 23, en donde el aparato
comprende un láser que tiene una entre una longitud de onda dentro
de un intervalo de aproximadamente 2,69 hasta aproximadamente 2,80
micrómetros, y una longitud de onda de aproximadamente 2,94
micrómetros.
25. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 24, en donde el aparato
comprende un láser de entre los siguientes: un Er: YAG, un Er:YSGG,
un Er, Cr:YSGG y un CTE:YAG.
26. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 25, en donde el objetivo
comprende uno entre diente, hueso, cartílago y tejido blando.
27. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 26, en donde las partículas
del fluido comprenden el agua.
28. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 27, en donde:
- la salida del fluido se configura para colocar el fluido en un volumen en proximidad cercana al objetivo; y
- el aparato comprende una fuente de energía electromagnética que se configura para dirigir energía electromagnética en el volumen en proximidad cercana al objetivo para hacer que las fuerzas disruptivas se impartan al objetivo.
29. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 28, en donde un valor de la
mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida
está en un intervalo desde aproximadamente 0,025 hasta
aproximadamente 250 microsegundos.
30. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 28, en donde un valor de la
mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida
está en un intervalo de aproximadamente 10 a 150 microsegundos.
31. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 28, en donde un valor de la
mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida
es aproximadamente 70 microsegundos.
32. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 31, en donde el por lo menos
un pulso de salida comprende un borde principal que tiene una
pendiente que es mayor que o igual a aproximadamente 5, siendo
definida la pendiente en un trazado del por lo menos un pulso de
salida como y sobre x (y/x) donde y es
amplitud y x es tiempo en microsegundos.
33. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 32, en donde la variable y en el trazado
denota energía electromagnética.
34. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 32, en donde la pendiente es mayor que o igual a
aproximadamente 10.
35. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 32, en donde la pendiente es aproximadamente 50.
36. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 35, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho de pulso que está dentro de un
intervalo de aproximadamente 0,25 microsegundos hasta
aproximadamente 300 microsegundos.
37. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 36, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho de pulso que está dentro de un
intervalo de aproximadamente 100 microsegundos hasta
aproximadamente 300 microsegundos.
38. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 37, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho de pulso de aproximadamente 200
microsegundos.
39. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 38, en donde el por lo menos
un pulso de salida comprende una pluralidad de pulsos de salida que
tienen una frecuencia que está dentro de un intervalo de
aproximadamente 1 Hertz hasta aproximadamente 100 hertzios.
40. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 38, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene una frecuencia de aproximadamente 20
Hertz.
41. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 1 y cualquier reivindicación dependiente de ella, en
donde el por lo menos un pulso de salida se genera de acuerdo con
por lo menos un pulso de la corriente que controla una lámpara de
destello (41), el por lo menos un pulso de corriente comprendiendo
un borde principal que tiene una pendiente mayor que o igual a
aproximadamente 5, estando definida la pendiente en un trazado del
por lo menos un pulso de corriente como y sobre x
(y/x) en donde y es la amplitud de la corriente en
amperios y x es el tiempo en microsegundos.
42. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 41, en donde el por lo menos un pulso de corriente
tiene un ancho del pulso en un intervalo desde aproximadamente 0,25
microsegundos hasta aproximadamente 300 microsegundos.
43. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 42, en donde el por lo menos un pulso de corriente
tiene un ancho del pulso que está dentro de un intervalo de
aproximadamente 100 microsegundos hasta aproximadamente 300
microsegundos.
44. El aparato según lo establecido en la
reivindicación 43, en donde:
- el ancho del pulso es aproximadamente 200 microsegundos; y
- un valor de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida es aproximadamente 70 microsegundos.
45. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 44 en donde:
- el intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida está situado dentro del primer tercio del por lo menos un pulso de salida; y
- un tiempo inicial del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida está dentro de los primeros 10 a 15 microsegundos del por lo menos un pulso de salida.
46. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 45, en donde un tiempo
inicial del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por
lo menos un pulso de salida está dentro de los primeros 12,5
microsegundos del por lo menos un pulso de salida.
47. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 46, en donde una amplitud de
por lo menos uno de los primeros subpulsos principales (64, 66, 68)
del por lo menos un pulso de salida es aproximadamente un tercio de
una amplitud máxima del por lo menos un pulso de salida.
\newpage
48. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 46, en donde una amplitud de
por lo menos uno de los pocos primeros subpulsos principales (64,
66, 68) del por lo menos un pulso de salida es aproximadamente una
mitad de una amplitud máxima del por lo menos un pulso de
salida.
49. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 48, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho del pulso que es mayor que
aproximadamente 0,25 microsegundos.
50. El aparato según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 49, en donde un tiempo
inicial del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por
lo menos un pulso de salida está dentro del primer décimo del por
lo menos un pulso de salida.
51. Un método de impartir fuerzas disruptivas a
un objetivo, que comprende:
- generar por lo menos un pulso de salida usando una fuente de excitación que comprende una lámpara de destello o un diodo láser, el por lo menos un pulso de salida teniendo un ancho del pulso de hasta aproximadamente 300 microsegundos definido entre un principio del por lo menos un pulso y un final del por lo menos un pulso, una amplitud pico y un intervalo de la mitad máxima del ancho completo el cual, cuando está representado en un eje de tiempo del gráfico que ilustra el por lo menos un pulso, se define a partir de un tiempo inicial, donde la amplitud del por lo menos pulso primero alcanza una mitad de la amplitud pico dentro del ancho del pulso, hasta un tiempo final donde la amplitud alcanza una mitad de la amplitud pico un tiempo final dentro del ancho del pulso, la localización del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida a lo largo del eje de tiempo relativo al ancho del pulso que está más cercano al principio del por lo menos un pulso que al final del por lo menos un pulso;
- dirigir las partículas del fluido desde una salida de fluido para recibir energía del por lo menos un pulso e impartir las fuerzas disruptivas al objetivo.
52. El método según lo establecido en la
reivindicación 51, en donde el diodo láser se configura para
funcionar a una frecuencia dentro de un intervalo desde
aproximadamente 1 Hz hasta aproximadamente 100 Hz.
53. El método según lo establecido en la
reivindicación 51, en donde la fuente de excitación comprende un
inductor (39) que tiene una inductancia de aproximadamente 50
microhenrios, un condensador (35) que se acopla al inductor y que
tiene una capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios, y una
lámpara de destello (41) acoplada al inductor, y en donde por lo
menos se genera un pulso de salida usando una barra del láser.
54. El método según lo establecido en la
reivindicación 51, en donde la fuente de excitación comprende un
inductor (39) que tiene una inductancia menor que aproximadamente
16 microhenrios, un condensador (35) que se acopla al inductor y el
cual tiene una capacitancia de aproximadamente 50 microfaradios, y
una lámpara de destello (41) acoplada al inductor, el por lo menos
un pulso de salida siendo generado usando la fuente de excitación y
una barra del láser.
55. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 54, la salida de fluido que
dirige las partículas del fluido para cruzarse y por lo menos
interactuar parcialmente con el por lo menos un pulso de
salida.
56. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 55, la salida del fluido
comprendiendo un atomizador.
57. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 56 por lo menos un pulso de
salida que tiene una longitud de onda que es absorbida
sustancialmente por al menos una porción de las partículas del
fluido.
58. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 57, el por lo menos un pulso
de salida comprendiendo una pluralidad de pulsos de salida.
59. El método según lo establecido en la
reivindicación 58, en donde la pluralidad de pulsos de salida tiene
una frecuencia dentro de un intervalo de aproximadamente 1 Hertz
hasta aproximadamente 100 Hertz.
60. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 59, las fuerzas disruptivas
comprendiendo fuerzas de corte.
61. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 60, las fuerzas disruptivas
comprendiendo fuerzas de ablación.
62. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 61, siendo generado el por
lo menos un pulso de salida usando un láser que tiene una de una
longitud de onda dentro de un intervalo desde aproximadamente 2,69
hasta aproximadamente 2,80 micrómetros y una longitud de onda de
aproximadamente 2,94 micrómetros.
63. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 62, siendo generado el por
lo menos un pulso de salida usando un láser de entre los
siguientes: un Er:YAG, un Er:YSGG, un Er, Cr:YSGG y un CTE:YAG.
64. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 63, en donde la impartición
de fuerzas disruptivas al objetivo comprende impartir fuerzas
disruptivas a uno entre diente, hueso, cartílago y tejido
blando.
65. El método según lo establecido en cualquiera
de las reivindicaciones 51 a 64, en donde las partículas del fluido
comprenden el agua.
66. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 65, la salida del fluido
colocando fluido en un volumen en la proximidad cercana al
objetivo, y la fuente de excitación dirigiendo energía
electromagnética dentro del volumen en la proximidad cercana al
objetivo para hacer que las fuerzas disruptivas sean impartidas al
objetivo.
67. El método según lo establecido en alianza
con una de las reivindicaciones 51 a 66, en donde un valor de la
mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida
está en un intervalo de aproximadamente 0,025 hasta aproximadamente
250 microsegundos.
68. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 66, en donde un valor de la
mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida
está en un intervalo desde 10 a 150 microsegundos.
69. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 66, en donde un valor de la
mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida
es aproximadamente 70 microsegundos.
70. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones hasta la 69, en donde el por lo
menos un pulso de salida comprende un borde principal que tiene una
pendiente que es mayor que o igual a aproximadamente 5, siendo
definida la pendiente en un trazado del por lo menos un pulso de
salida como y sobre x (y/x) donde y es
amplitud y x es tiempo en microsegundos.
71. El método según lo establecido en la
reivindicación 70, en donde la variable y en el trazado
denota energía electromagnética.
72. El método según lo establecido en la
reivindicación 70, en donde la pendiente es mayor que o igual a
aproximadamente 10.
73. El método según lo establecido en la
reivindicación 70, en donde la pendiente es mayor que o igual a
aproximadamente 40.
74. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 73, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho del pulso dentro de un intervalo
desde aproximadamente 0,25 microsegundos hasta aproximadamente 300
microsegundos.
75. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 74, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho del pulso dentro de un intervalo
de aproximadamente 100 microsegundos a aproximadamente 300
microsegundos.
76. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones hasta la 75, el por lo menos un
pulso de salida teniendo un ancho del pulso de aproximadamente 200
microsegundos.
77. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 76, el por lo menos un pulso
de salida que comprende una pluralidad de pulsos de salida que
tienen una frecuencia dentro de un intervalo de aproximadamente 1
Hertz hasta aproximadamente 100 Hz.
78. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones hasta la 76, el por lo menos un
pulso de salida comprendiendo una pluralidad de pulsos de salida
que tienen una frecuencia de aproximadamente 20 Hertz.
79. El método según lo establecido en la
reivindicación 51 y cualquier reivindicación dependiente de ella,
siendo generado el por lo menos un pulso de salida de acuerdo con
por lo menos un pulso de corriente que controla una lámpara de
destello, el por lo menos un pulso de corriente comprendiendo un
borde principal que tiene una pendiente que es mayor que o igual a
aproximadamente 5, siendo definida la pendiente en un trazado del
por lo menos un pulso de corriente como y sobre x (y/x) en donde y
es la amplitud de la corriente en amperios y x es el tiempo en
microsegundos.
80. El método según lo establecido en la
reivindicación 79, el por lo menos un pulso de corriente teniendo un
ancho en un intervalo desde aproximadamente 0,25 microsegundos
hasta aproximadamente 300 microsegundos.
81. El método según lo establecido en la
reivindicación 80, el por lo menos un pulso de corriente teniendo un
ancho de pulso dentro de un intervalo desde aproximadamente 100
microsegundos hasta aproximadamente 300 microsegundos.
82. El método según lo establecido en la
reivindicación 81, en donde:
- el ancho del pulso es aproximadamente 200 microsegundos; y
- un valor de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida es aproximadamente 70 microsegundos.
83. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones hasta la 82, en donde:
- el intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida está situado dentro del primer tercio del por lo menos un pulso de salida; y
- un tiempo inicial del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por lo menos un pulso de salida está dentro de unos primeros 10 a 15 microsegundos del por lo menos un pulso de salida.
84. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones hasta la 83, en donde un tiempo
inicial del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por
lo menos un pulso de salida está dentro de unos primeros 12,5
microsegundos del por lo menos un pulso de salida.
85. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones hasta la 84, en donde una
amplitud de por lo menos uno de los pocos primeros subpulsos
principales del por lo menos un pulso de salida es alrededor de un
tercio de una amplitud máxima del al menos un pulso de salida.
86. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 84, en donde una amplitud de
por lo menos uno de los pocos primeros subpulsos principales del
por lo menos un pulso de salida es alrededor de una mitad de una
amplitud máxima del al menos un pulso de salida.
87. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 86, en donde el por lo menos
un pulso de salida tiene un ancho del pulso que es mayor que
aproximadamente 0,25 microsegundos.
88. El método según lo establecido en una
cualquiera de las reivindicaciones 51 a 87, en donde un tiempo
inicial del intervalo de la mitad máxima del ancho completo del por
lo menos un pulso de salida está dentro de un primer décimo del por
lo menos un pulso de salida.
89. Un método según una cualquiera de las
reivindicaciones 51 a 88, en donde el método se realiza usando la
estructura que incluye un inductor, un condensador, y una lámpara
de destello según lo reivindicado en una cualquiera de las
reivindicaciones 3 a 9.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/903,187 US6288499B1 (en) | 1997-06-12 | 1997-06-12 | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting |
| US903187 | 1997-06-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2311924T3 true ES2311924T3 (es) | 2009-02-16 |
Family
ID=25417081
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES98929060T Expired - Lifetime ES2257809T3 (es) | 1997-06-12 | 1998-06-11 | Distribuciones de energia electromagnetica para cortes mecanicos inducidos de modo electromagnetico. |
| ES05075231T Expired - Lifetime ES2311924T3 (es) | 1997-06-12 | 1998-06-11 | Distribucion de energia electromagnetica para corte mecanico inducido electromagneticamente. |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES98929060T Expired - Lifetime ES2257809T3 (es) | 1997-06-12 | 1998-06-11 | Distribuciones de energia electromagnetica para cortes mecanicos inducidos de modo electromagnetico. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (6) | US6288499B1 (es) |
| EP (2) | EP1016328B1 (es) |
| AU (1) | AU8071798A (es) |
| DE (2) | DE69839829D1 (es) |
| ES (2) | ES2257809T3 (es) |
| WO (1) | WO1998057526A2 (es) |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090281531A1 (en) * | 1995-08-31 | 2009-11-12 | Rizoiu Ioana M | Interventional and therapeutic electromagnetic energy systems |
| US20060241574A1 (en) * | 1995-08-31 | 2006-10-26 | Rizoiu Ioana M | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced disruptive cutting |
| US7320594B1 (en) * | 1995-08-31 | 2008-01-22 | Biolase Technology, Inc. | Fluid and laser system |
| US20060240381A1 (en) * | 1995-08-31 | 2006-10-26 | Biolase Technology, Inc. | Fluid conditioning system |
| US20100125291A1 (en) * | 1995-08-31 | 2010-05-20 | Rizoiu Ioana M | Drill and flavored fluid particles combination |
| US20090105707A1 (en) * | 1995-08-31 | 2009-04-23 | Rizoiu Ioana M | Drill and flavored fluid particles combination |
| US20050281887A1 (en) * | 1995-08-31 | 2005-12-22 | Rizoiu Ioana M | Fluid conditioning system |
| US5741247A (en) * | 1995-08-31 | 1998-04-21 | Biolase Technology, Inc. | Atomized fluid particles for electromagnetically induced cutting |
| US6288499B1 (en) * | 1997-06-12 | 2001-09-11 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting |
| US20090143775A1 (en) * | 1995-08-31 | 2009-06-04 | Rizoiu Ioana M | Medical laser having controlled-temperature and sterilized fluid output |
| US20080157690A1 (en) * | 2001-05-02 | 2008-07-03 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting |
| US7288086B1 (en) * | 2001-06-21 | 2007-10-30 | Biolase Technology, Inc. | High-efficiency, side-pumped diode laser system |
| US20070060917A1 (en) * | 2002-06-21 | 2007-03-15 | Biolase Technology, Inc. | High-efficiency, side-pumped diode laser system |
| US20100151406A1 (en) * | 2004-01-08 | 2010-06-17 | Dmitri Boutoussov | Fluid conditioning system |
| AU2005206809B2 (en) * | 2004-01-08 | 2010-04-01 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting |
| EP2329785B1 (en) * | 2004-01-22 | 2013-03-06 | Biolase, Inc. | Electromagnetically induced treatment devices |
| DE102004012682A1 (de) * | 2004-03-16 | 2005-10-06 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels Lasertechnik und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren |
| JP2008508034A (ja) * | 2004-07-27 | 2008-03-21 | バイオレーズ テクノロジー インコーポレイテッド | 触覚的フィードバックの先端部フェルールを有するコントラ・アングル回転型のハンドピース |
| US7970030B2 (en) * | 2004-07-27 | 2011-06-28 | Biolase Technology, Inc. | Dual pulse-width medical laser with presets |
| JP2006053690A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Ricoh Co Ltd | 画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラムおよび記録媒体 |
| US20070016176A1 (en) | 2004-08-13 | 2007-01-18 | Dmitri Boutoussov | Laser handpiece architecture and methods |
| EP1782511B1 (en) | 2004-08-13 | 2015-04-29 | Biolase, Inc. | Dual pulse-width medical laser with presets |
| JP2008545479A (ja) * | 2005-05-25 | 2008-12-18 | バイオレーズ テクノロジー インコーポレイテッド | 増大したスポットサイズを有する電磁エネルギー放出装置 |
| CA2610289A1 (en) * | 2005-06-24 | 2007-01-04 | Biolase Technology, Inc. | Visual feedback implements for electromagnetic energy output devices |
| US7814915B2 (en) * | 2006-03-03 | 2010-10-19 | Cutera, Inc. | Aesthetic treatment for wrinkle reduction and rejuvenation |
| KR100750633B1 (ko) * | 2006-04-18 | 2007-08-20 | 삼성전자주식회사 | 휴대 단말기 간의 캐릭터 전이 시스템 및 방법 |
| EP3311770B1 (en) | 2006-04-20 | 2023-06-21 | Sonendo, Inc. | Apparatus for treating root canals of teeth |
| US10835355B2 (en) | 2006-04-20 | 2020-11-17 | Sonendo, Inc. | Apparatus and methods for treating root canals of teeth |
| US7980854B2 (en) | 2006-08-24 | 2011-07-19 | Medical Dental Advanced Technologies Group, L.L.C. | Dental and medical treatments and procedures |
| US7415050B2 (en) * | 2006-09-18 | 2008-08-19 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting |
| US8613741B1 (en) * | 2006-10-11 | 2013-12-24 | Candela Corporation | Voltage bucking circuit for driving flashlamp-pumped lasers for treating skin |
| US7815630B2 (en) * | 2007-01-25 | 2010-10-19 | Biolase Technology, Inc. | Target-close electromagnetic energy emitting device |
| US7695469B2 (en) * | 2007-01-25 | 2010-04-13 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetic energy output system |
| US9101377B2 (en) * | 2007-01-25 | 2015-08-11 | Biolase, Inc. | Electromagnetic energy output system |
| US20080276192A1 (en) * | 2007-05-03 | 2008-11-06 | Biolase Technology, Inc. | Method and apparatus for controlling an electromagnetic energy output system |
| US20090225060A1 (en) * | 2007-05-03 | 2009-09-10 | Rizoiu Ioana M | Wrist-mounted laser with animated, page-based graphical user-interface |
| AU2009305681A1 (en) | 2008-10-15 | 2010-04-22 | Biolase, Inc. | Satellite-platformed electromagnetic energy treatment device |
| AU2009319746B2 (en) | 2008-11-29 | 2013-08-15 | Biolase, Inc. | Non-contact handpiece for laser tissue cutting |
| JP5902096B2 (ja) | 2009-11-13 | 2016-04-13 | ソネンド インコーポレイテッド | 歯科治療のための液体噴射装置および方法 |
| US9675426B2 (en) | 2010-10-21 | 2017-06-13 | Sonendo, Inc. | Apparatus, methods, and compositions for endodontic treatments |
| US20120099815A1 (en) * | 2010-10-26 | 2012-04-26 | Dmitri Boutoussov | Collimating coupler for laser treatment devices |
| CA2816967C (en) | 2010-11-04 | 2018-07-17 | Biolase, Inc. | Initiation sequences for ramping-up pulse power in a medical laser having high-intensity leading subpulses |
| US8914790B2 (en) | 2012-01-11 | 2014-12-16 | Microsoft Corporation | Contextual solicitation in a starter application |
| IN2014DN08727A (es) | 2012-03-22 | 2015-05-22 | Sonendo Inc | |
| US10631962B2 (en) | 2012-04-13 | 2020-04-28 | Sonendo, Inc. | Apparatus and methods for cleaning teeth and gingival pockets |
| EP3943042B1 (en) | 2012-12-20 | 2024-03-13 | Sonendo, Inc. | Apparatus for cleaning teeth and root canals |
| US10363120B2 (en) | 2012-12-20 | 2019-07-30 | Sonendo, Inc. | Apparatus and methods for cleaning teeth and root canals |
| US10722325B2 (en) | 2013-05-01 | 2020-07-28 | Sonendo, Inc. | Apparatus and methods for treating teeth |
| CA2911415A1 (en) | 2013-06-26 | 2014-12-31 | Sonendo, Inc. | Apparatus and methods for filling teeth and root canals |
| CA2945691C (en) | 2014-01-31 | 2023-07-25 | Biolase, Inc. | Multiple beam laser treatment device |
| EP3023072B1 (en) | 2014-11-24 | 2018-01-10 | Fotona d.o.o. | Laser system for controlling the laser pulse shape |
| US10806544B2 (en) | 2016-04-04 | 2020-10-20 | Sonendo, Inc. | Systems and methods for removing foreign objects from root canals |
| GB2538014B (en) * | 2016-07-27 | 2017-03-29 | Synlatex Ltd | Applicator mitt assembly system |
| CN107486630A (zh) * | 2017-09-30 | 2017-12-19 | 广州市普汉科技有限公司 | 一种具备互联网自动式雕刻与切割功能的激光加工设备及其加工方法 |
| USD997355S1 (en) | 2020-10-07 | 2023-08-29 | Sonendo, Inc. | Dental treatment instrument |
Family Cites Families (108)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552675A (en) | 1959-04-08 | 1996-09-03 | Lemelson; Jerome H. | High temperature reaction apparatus |
| US3286128A (en) * | 1962-12-17 | 1966-11-15 | Us Scientific Instruments | Apparatus for multiple electric impulse production |
| GB1242123A (en) | 1968-11-12 | 1971-08-11 | Nat Res Dev | Improvements relating to a method and apparatus for laser beam cutting |
| US3679998A (en) * | 1971-01-21 | 1972-07-25 | Hughes Aircraft Co | Laser flashtube triggering arrangement |
| IL40602A (en) * | 1972-10-17 | 1975-07-28 | Panengeneering Ltd | Laser device particularly useful as surgical scalpel |
| US3914648A (en) * | 1974-05-10 | 1975-10-21 | Avco Everett Res Lab Inc | Flashlamp discharge circuit |
| US4005333A (en) * | 1974-06-03 | 1977-01-25 | Hughes Aircraft Company | Apparatus for increasing output efficiency of an optically pumped Nd:YAG laser |
| JPS5157283A (en) | 1974-11-15 | 1976-05-19 | Nippon Electric Co | Handotaikibanno bunkatsuhoho |
| GB2023330B (en) * | 1978-04-28 | 1982-05-06 | Lasers Ltd J K | Laser flashtube power supply |
| US4276497A (en) * | 1978-04-28 | 1981-06-30 | J. K. Lasers Limited | Laser flashtube power supply |
| US4276518A (en) * | 1978-05-01 | 1981-06-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Optical oscillator |
| NL7902158A (nl) * | 1979-03-20 | 1980-09-23 | Philips Nv | Handhaardroger. |
| US4445892A (en) | 1982-05-06 | 1984-05-01 | Laserscope, Inc. | Dual balloon catheter device |
| JPS5945092A (ja) | 1982-09-06 | 1984-03-13 | Fuji Denpa Koki Kk | レ−ザ加工装置 |
| US4477796A (en) * | 1982-09-29 | 1984-10-16 | Kearsley Wayne A | Spatial acquisition flash beacon |
| US4550275A (en) * | 1983-10-07 | 1985-10-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | High efficiency pulse ultraviolet light source |
| US4862888A (en) | 1983-10-28 | 1989-09-05 | Bausch & Lomb Incorporated | Laser system |
| IL75998A0 (en) * | 1984-08-07 | 1985-12-31 | Medical Laser Research & Dev C | Laser system for providing target tissue specific energy deposition |
| GB8428411D0 (en) | 1984-11-09 | 1984-12-19 | Micra Ltd | Laser knives |
| DE3506249A1 (de) | 1985-02-22 | 1986-08-28 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8012 Ottobrunn | Verfahren und vorrichtung zur zertruemmerung eines festen koerpers |
| US4913142A (en) | 1985-03-22 | 1990-04-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Catheter for laser angiosurgery |
| US4770811A (en) * | 1985-03-22 | 1988-09-13 | Kigre, Inc. | Sensitized laser glass |
| US4917084A (en) * | 1985-07-31 | 1990-04-17 | C. R. Bard, Inc. | Infrared laser catheter system |
| US5196004A (en) | 1985-07-31 | 1993-03-23 | C. R. Bard, Inc. | Infrared laser catheter system |
| US4910438A (en) * | 1985-12-17 | 1990-03-20 | Hughes Aircraft Company | Wide band, high efficiency simmer power supply for a laser flashlamp |
| US5336217A (en) * | 1986-04-24 | 1994-08-09 | Institut National De La Sante Et De La Recherche Medicale (Insepm) | Process for treatment by irradiating an area of a body, and treatment apparatus usable in dermatology for the treatment of cutaneous angio dysplasias |
| DE3719561C2 (de) | 1986-06-12 | 1998-12-10 | Morita Mfg | Medizinisches Lichtbestrahlungshandstück |
| US4724299A (en) | 1987-04-15 | 1988-02-09 | Quantum Laser Corporation | Laser spray nozzle and method |
| US4908030A (en) | 1987-04-29 | 1990-03-13 | Vent-Plant Corporation, Inc. | Method of manufacturing synthetic bone coated surgical implants |
| US4931047A (en) | 1987-09-30 | 1990-06-05 | Cavitron, Inc. | Method and apparatus for providing enhanced tissue fragmentation and/or hemostasis |
| US4986268A (en) * | 1988-04-06 | 1991-01-22 | Tehrani Fleur T | Method and apparatus for controlling an artificial respirator |
| US5324200A (en) * | 1988-08-25 | 1994-06-28 | American Dental Technologies, Inc. | Method for enlarging and shaping a root canal |
| EP0368512A3 (en) * | 1988-11-10 | 1990-08-08 | Premier Laser Systems, Inc. | Multiwavelength medical laser system |
| US5151029A (en) | 1988-12-21 | 1992-09-29 | Endo Technic Corporation | Removing physiologic tissue from a tooth canal |
| US5092773A (en) | 1989-01-18 | 1992-03-03 | Endo Technic Corporation | Method and apparatus for filling a tooth canal |
| DE3911871A1 (de) | 1989-04-11 | 1990-10-25 | Aesculap Ag | Verfahren zum zerstoeren und abtragen von zahnmaterial |
| US5389988A (en) | 1989-05-22 | 1995-02-14 | Nikon Corporation | Trimming camera |
| US5709676A (en) * | 1990-02-14 | 1998-01-20 | Alt; Eckhard | Synergistic treatment of stenosed blood vessels using shock waves and dissolving medication |
| US4985027A (en) | 1990-02-26 | 1991-01-15 | Dressel Thomas D | Soft tissue aspiration device and method |
| US5102410A (en) | 1990-02-26 | 1992-04-07 | Dressel Thomas D | Soft tissue cutting aspiration device and method |
| US5059200A (en) | 1990-04-06 | 1991-10-22 | John Tulip | Laser lithotripsy |
| US5092864A (en) | 1990-04-30 | 1992-03-03 | Microfab Technologies, Inc. | Method and apparatus for improved laser surgery |
| JP2658506B2 (ja) * | 1990-06-06 | 1997-09-30 | 三菱電機株式会社 | 希ガス放電蛍光ランプ装置 |
| US5086378A (en) | 1990-08-20 | 1992-02-04 | Prince Mark W | Fiber optic finger light |
| US5756982A (en) | 1990-09-11 | 1998-05-26 | Metrologic Instruments, Inc. | Body-wearable automatic laser scanner with power-conserving control subsystem |
| US5182410A (en) * | 1990-12-14 | 1993-01-26 | Aluminum Company Of America | Organo-aluminum hydroxide compounds |
| FR2674768B1 (fr) * | 1991-04-02 | 1994-09-02 | France Telecom | Procede de traitement photochimique d'un materiau utilisant une source de lumiere a tubes a eclairs. |
| US5263950A (en) | 1991-07-24 | 1993-11-23 | L'esperance Medical Technologies, Inc. | Phaco-extractor for fragmenting cataractous-lens situs of fragmentation |
| EP0530574B1 (de) * | 1991-08-28 | 1997-11-05 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur Lasermaterialbearbeitung biologischer Hartsubstanz, insbesondere Zahnhartsubstanz |
| US5267856A (en) | 1991-09-20 | 1993-12-07 | Premier Laser Systems, Inc. | Laser surgical method |
| US5713845A (en) | 1991-10-29 | 1998-02-03 | Thermolase Corporation | Laser assisted drug delivery |
| DE4138468A1 (de) | 1991-11-22 | 1993-06-03 | Stiftung Fuer Lasertechnologie | Einrichtung und verfahren zum abtragen von material von einem substrat |
| US5374266A (en) | 1991-11-27 | 1994-12-20 | Kabushiki Kaisha Morita Seisakusho | Medical laser treatment device |
| US5334019A (en) | 1991-12-06 | 1994-08-02 | American Dental Technologies, Inc. | Dental air abrasive system |
| IL100664A0 (en) * | 1992-01-15 | 1992-09-06 | Laser Ind Ltd | Method and apparatus for controlling a laser beam |
| US5263850A (en) * | 1992-02-05 | 1993-11-23 | Boston Thermal Energy Corporation | Emission control system for an oil-fired combustion process |
| US5318562A (en) | 1992-03-10 | 1994-06-07 | Laser Endo Technic Corporation | Handpiece for delivering laser radiation |
| US5405368A (en) * | 1992-10-20 | 1995-04-11 | Esc Inc. | Method and apparatus for therapeutic electromagnetic treatment |
| US5237331A (en) * | 1992-05-08 | 1993-08-17 | Henderson Sammy W | Eyesafe coherent laser radar for velocity and position measurements |
| US5242454A (en) * | 1992-06-12 | 1993-09-07 | Omega Universal Technologies, Ltd. | Method for diagnosis and shock wave lithotripsy of stones in the submaxillary and parotid glands |
| US5401171A (en) | 1992-07-20 | 1995-03-28 | Paghdiwala; Abid F. | Dental laser device and method |
| DE4226461C2 (de) | 1992-08-10 | 1994-10-20 | Siemens Ag | Zahnärztliches Instrument zur Behandlung von Zähnen mittels Laserstrahlen |
| US5626631A (en) * | 1992-10-20 | 1997-05-06 | Esc Medical Systems Ltd. | Method and apparatus for therapeutic electromagnetic treatment |
| US6315772B1 (en) | 1993-09-24 | 2001-11-13 | Transmedica International, Inc. | Laser assisted pharmaceutical delivery and fluid removal |
| US5409376A (en) | 1993-03-10 | 1995-04-25 | Murphy; Quentin M. | Apparatus and process for laser-assisted driling |
| DE4313231A1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-10-27 | Baasel Carl Lasertech | Stromversorgung für eine Laserblitzlampe |
| JP3116675B2 (ja) * | 1993-07-28 | 2000-12-11 | ソニー株式会社 | 半導体レーザー |
| US5313481A (en) * | 1993-09-29 | 1994-05-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Copper laser modulator driving assembly including a magnetic compression laser |
| US5498935A (en) * | 1993-11-12 | 1996-03-12 | William H. McMahan | Laser flash lamp control system |
| US5570182A (en) * | 1994-05-27 | 1996-10-29 | Regents Of The University Of California | Method for detection of dental caries and periodontal disease using optical imaging |
| DE4434409C1 (de) * | 1994-09-26 | 1996-04-04 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zum Materialbearbeiten mit Plasma induzierender Laserstrahlung |
| US5836940A (en) * | 1994-10-25 | 1998-11-17 | Latis, Inc. | Photoacoustic drug delivery |
| DE4442238C1 (de) * | 1994-11-28 | 1996-04-04 | Precitec Gmbh | Verfahren zur thermischen Bearbeitung eines Werkstücks, insbesondere mittels Laserstrahlung |
| GB2297610A (en) | 1995-02-03 | 1996-08-07 | Harwill Ind Pty Ltd | An illuminating device which can be worn on a finger |
| CA2186899C (en) * | 1995-02-17 | 2010-04-20 | Daniel L. Birx | Pulse power generating circuit with energy recovery |
| US5554172A (en) | 1995-05-09 | 1996-09-10 | The Larren Corporation | Directed energy surgical method and assembly |
| US5611797A (en) * | 1995-07-26 | 1997-03-18 | Virginia C. George | Combination handpiece and surgical laser tool |
| US6288499B1 (en) * | 1997-06-12 | 2001-09-11 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting |
| US6231567B1 (en) | 1995-08-31 | 2001-05-15 | Biolase Technology Inc. | Material remover and method |
| US6669685B1 (en) | 1997-11-06 | 2003-12-30 | Biolase Technology, Inc. | Tissue remover and method |
| US6254597B1 (en) | 1995-08-31 | 2001-07-03 | Biolase Technology, Inc. | Tissue remover and method |
| US6350123B1 (en) | 1995-08-31 | 2002-02-26 | Biolase Technology, Inc. | Fluid conditioning system |
| US6567582B1 (en) * | 1995-08-31 | 2003-05-20 | Biolase Tech Inc | Fiber tip fluid output device |
| US5785521A (en) | 1995-08-31 | 1998-07-28 | Biolase Technology, Inc. | Fluid conditioning system |
| EP0847319B1 (en) | 1995-08-31 | 2004-04-07 | Biolase Technology, Inc. | User programmable combination of atomized particles for electromagnetically induced cutting |
| US6389193B1 (en) | 1998-12-22 | 2002-05-14 | Biolase Technology, Inc. | Rotating handpiece |
| US5741247A (en) * | 1995-08-31 | 1998-04-21 | Biolase Technology, Inc. | Atomized fluid particles for electromagnetically induced cutting |
| US5723864A (en) * | 1995-09-01 | 1998-03-03 | Innovative Lasers Corporation | Linear cavity laser system for ultra-sensitive gas detection via intracavity laser spectroscopy (ILS) |
| US6118521A (en) | 1996-01-02 | 2000-09-12 | Lj Laboratories, L.L.C. | Apparatus and method for measuring optical characteristics of an object |
| US5825958A (en) | 1996-01-25 | 1998-10-20 | Pharos Optics, Inc. | Fiber optic delivery system for infrared lasers |
| US5820627A (en) * | 1996-03-28 | 1998-10-13 | Physical Sciences, Inc. | Real-time optical feedback control of laser lithotripsy |
| US6022309A (en) * | 1996-04-24 | 2000-02-08 | The Regents Of The University Of California | Opto-acoustic thrombolysis |
| GB9611180D0 (en) * | 1996-05-29 | 1996-07-31 | Sls Wales Ltd | Treatment of vascular lesions |
| US6083218A (en) | 1996-07-10 | 2000-07-04 | Trw Inc. | Method and apparatus for removing dental caries by using laser radiation |
| US6080148A (en) * | 1996-11-18 | 2000-06-27 | Trimedyne, Inc. | Variable pulse width lasing device |
| US5998759A (en) * | 1996-12-24 | 1999-12-07 | General Scanning, Inc. | Laser processing |
| WO1999022656A1 (en) | 1997-10-30 | 1999-05-14 | Sonique Surgical Systems, Inc. | Laser-assisted liposuction method and apparatus |
| US5968033A (en) * | 1997-11-03 | 1999-10-19 | Fuller Research Corporation | Optical delivery system and method for subsurface tissue irradiation |
| US6544256B1 (en) * | 1998-04-24 | 2003-04-08 | Biolase Technology, Inc. | Electromagnetically induced cutting with atomized fluid particles for dermatological applications |
| US6449301B1 (en) * | 1999-06-22 | 2002-09-10 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for mode locking of external cavity semiconductor lasers with saturable Bragg reflectors |
| WO2001041266A1 (en) * | 1999-12-06 | 2001-06-07 | Candela Corporation | Multipulse dye laser |
| US20060004306A1 (en) * | 2004-04-09 | 2006-01-05 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Methods and products for producing lattices of EMR-treated islets in tissues, and uses therefor |
| US6701181B2 (en) * | 2001-05-31 | 2004-03-02 | Infraredx, Inc. | Multi-path optical catheter |
| JP4613274B2 (ja) | 2001-06-21 | 2011-01-12 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | 複合型光ファイバを用いたレーザ加工システム |
| WO2003017745A2 (en) * | 2001-08-23 | 2003-03-06 | Sciperio, Inc. | Architecture tool and methods of use |
| US6902290B2 (en) | 2002-08-02 | 2005-06-07 | R & H Industries, Inc. | Finger-mounted light for variable light output |
| US7326199B2 (en) | 2003-12-22 | 2008-02-05 | Cutera, Inc. | System and method for flexible architecture for dermatologic treatments utilizing multiple light sources |
| US20050143792A1 (en) | 2003-12-24 | 2005-06-30 | Harvey Jay | Hair treatment method |
-
1997
- 1997-06-12 US US08/903,187 patent/US6288499B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-11 EP EP98929060A patent/EP1016328B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-11 DE DE69839829T patent/DE69839829D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-11 AU AU80717/98A patent/AU8071798A/en not_active Abandoned
- 1998-06-11 DE DE69832714T patent/DE69832714T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-11 EP EP05075231A patent/EP1560470B8/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-11 ES ES98929060T patent/ES2257809T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-11 ES ES05075231T patent/ES2311924T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-11 WO PCT/US1998/012357 patent/WO1998057526A2/en active IP Right Grant
-
2001
- 2001-06-18 US US09/883,607 patent/US20020014855A1/en not_active Abandoned
-
2002
- 2002-06-06 US US10/164,451 patent/US6821272B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-11-18 US US10/993,498 patent/US7108693B2/en active Active
-
2006
- 2006-09-18 US US11/523,492 patent/US7696466B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-06-26 US US11/823,149 patent/US20080151953A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1998057526A2 (en) | 1998-12-17 |
| DE69832714D1 (de) | 2006-01-12 |
| DE69832714T2 (de) | 2006-07-13 |
| US6821272B2 (en) | 2004-11-23 |
| ES2257809T3 (es) | 2006-08-01 |
| US20020149324A1 (en) | 2002-10-17 |
| EP1016328A4 (en) | 2000-07-05 |
| US20080151953A1 (en) | 2008-06-26 |
| US6288499B1 (en) | 2001-09-11 |
| AU8071798A (en) | 1998-12-30 |
| WO1998057526A3 (en) | 1999-03-11 |
| EP1560470A1 (en) | 2005-08-03 |
| EP1560470B8 (en) | 2008-10-15 |
| EP1016328A2 (en) | 2000-07-05 |
| US7696466B2 (en) | 2010-04-13 |
| EP1016328B1 (en) | 2005-12-07 |
| US20020014855A1 (en) | 2002-02-07 |
| US20060043903A1 (en) | 2006-03-02 |
| DE69839829D1 (de) | 2008-09-11 |
| EP1560470B1 (en) | 2008-07-30 |
| US7108693B2 (en) | 2006-09-19 |
| US20070014322A1 (en) | 2007-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2311924T3 (es) | Distribucion de energia electromagnetica para corte mecanico inducido electromagneticamente. | |
| Berlien | Applied laser medicine | |
| US7970027B2 (en) | Electromagnetic energy distributions for electromagnetically induced mechanical cutting | |
| US11103309B2 (en) | Multiple beam laser treatment device | |
| US6998567B2 (en) | Generation and application of efficient solid-state laser pulse trains | |
| US20140065575A1 (en) | Method and apparatus for treatment of solid material including hard tissue | |
| US20050167610A1 (en) | Laser driven ion accelerator | |
| US20090281531A1 (en) | Interventional and therapeutic electromagnetic energy systems | |
| KR101576870B1 (ko) | 피부용 레이저 장치 | |
| US6449294B1 (en) | Single dominant spike output erbium laser | |
| US6593706B1 (en) | High pressure neon arc lamp | |
| AU580713B2 (en) | Mode locked pulsed dye laser | |
| Absten et al. | Laser physics for the non-specialist | |
| Absten et al. | Simplified Physics | |
| GB1592811A (en) | Gas lasers |