ES2224556T3 - Composicion fotosensible; revelable en medio acuoso; con propiedades de adhesion y decapado mejoradas. - Google Patents

Abstract

LA INVENCION DESCRIBE UNA COMPOSICION FORMADORA DE IMAGEN FOTOGRAFICA Y CON ACCION NEGATIVA QUE COMPRENDE: (A) ENTRE 30 Y 80% EN PESO BASADO EN EL PESO TOTAL DE (A) + (B) DE UN POLIMERO LIGANTE QUE TIENE ACIDO FUNCIONALMENTE SUFICIENTE PARA HACER QUE ESTA COMPOSICION FORMADORA DE IMAGEN FOTOGRAFICA PUEDA REVELARSE EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, (B) ENTRE UN 20 Y UN 70 % EN PESO BASADO EN EL PESO TOTAL DE (A) + (B) DE UN COMPUESTO AL , BE ETILENICAMENTE INSATURADOS, NO GASEOSOS Y POLI MERIZABLES POR ADICION QUE PUEDE FORMAR UN ALTO POLIMERO MEDIANTE LA POLIMERIZACION MEDIANTE ADICION DE UNA CADENA DE PROPAGACION INICIADA DE RADICAL LIBRE AL MENOS UN 50% EN MOLES DE MITADES AL , BE ETILENICAMENTE INSATURADAS DE (B) QUE SON MIT ADES METACRILICAS, Y (C) ENTRE 0,1 Y 20% EN PESO BASADO EN EL PESO TOTAL DE (A) + (B) DE UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIDADOR. EL COMPUESTO FOTOPOLIMERIZABLE (B) COMPRENDE ENTRE 1 Y 70% EN PESO CON RESPECTO AL TOTAL DE (A) + (B), UN OLIGOMERO DE URETANO, QUE TIENE, ADEMAS DE INSATURACION AL , BE ETILENICA, LA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO.

Description

Composición fotosensible; revelable en medio acuoso; con propiedades de adhesión y decapado mejoradas.

La presente invención se refiere a composiciones fotosensibles de acción negativa tales como las que se utilizan como sustancias fotorresistentes en el campo de los circuitos impresos. Dicha composición fotosensible contiene, como porción de su componente fotosensible, un oligómero de uretano que tiene funcionalidad ácido.

Antecedentes de la invención

La presente invención se refiere a composiciones fotosensibles de acción negativa que se pueden revelar en soluciones acuosas alcalinas. La invención se puede aplicar de forma particular a resinas fotosensibles primarias, si bien se puede aplicar también a composiciones que son endurecibles como para formar máscaras soldadas.

Se describen varias de estas composiciones fotosensibles. Las composiciones esenciales del tipo al que se refiere la presente invención son A) un polímero aglutinante; B) compuesto(s) \alpha,\delta-etilénicamente insaturado(s) fotopolimerizable(s) y C) entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 20% en peso en función del peso total de A) más B) de un sistema químico fotoiniciador. El polímero aglutinante A) tiene funcionalidad ácido suficiente, generalmente funcionalidad ácido carboxílico, como para que el polímero aglutinante sea soluble en solución acuosa alcalina y, por lo tanto, haga que la composición fotosensible se pueda revelar en soluciones acuosas alcalinas. El (los) compuesto(s) fotopolimerizable(s) B) son monómeros y/o oligómeros de cadena corta, teniendo una porción sustancial de ellos funcionalidad \alpha,\delta-etilénicamente insaturada múltiple.

El sistema químico fotoiniciador C) incluye sustancias químicas que generan radicales libres al ser expuestas a radiación actínica. Estos radicales libres propagan la polimerización de las fracciones \alpha,\delta-etilénicamente insaturadas de los compuestos fotopolimerizables B). En este sentido, se considera que el sistema fotoiniciador C) incluye no solamente compuestos químicos que generan radicales libes, sino también catalizadores y sensibilizadores que promueven la polimerización iniciada por radicales libres de las fracciones \alpha,\delta-etilénicamente insaturadas de los compuestos fotopolimerizables B).

Las placas de circuitos impresos tienen prácticamente de forma invariable orificios pasantes para conectar el conjunto de circuitos sobre las caras opuestas de la placa. Cuanto más grandes se hacen los orificios de las placas de circuitos impresos, más importante se hace la fuerza de enmascaramiento; por lo tanto, se requiere una mayor flexibilidad de las composiciones fotosensibles. Una mejor flexibilidad contribuye asimismo a una mejor adherencia de trama que permite una mejor compatibilidad con sistemas de eliminación de poliéster automáticos. Si la sustancia fotorresistente es frágil, dichos sistemas de eliminación de poliéster causarán el descascarillado de la sustancia fotorresistente y, en consecuencia, defectos en la línea de circuito.

Al reemplazar una porción de monómeros foto reactivos convencionales (como por ejemplo triacrilato de trimetilolpropano etoxilado) con un oligómero a base de uretano isocianúrico, se ha observado una significativa mejora de la fuerza de enmascaramiento y la flexibilidad. No obstante, a pesar de que la flexibilidad era considerable mejor, la adherencia de líneas finas no se mejoraba y se demostró que el oligómero constituía el origen principal del espumado de revelado.

Se ha demostrado una mejor adherencia de líneas finas y una menor espumación del revelador cuando el oligómero isocianúrico consiste en el producto de un polietoximonometacrilato y el trímero de isocianurato de diisocianato de hexametileno, tal como se describe por ejemplo en la solicitud de patente europea EP 0 738927 A2 y el documento de patente japonesa JP 08-286372. El uso del producto de un polialcoximonometacrilato en sustancias fotorresistentes curables por UV potencia el comportamiento de dichas composiciones en relación con las que se obtienen con compuestos de uretano a base del trímero de isocianurato de diisocianato de hexametileno. Hoy en día, los requisitos comerciales abarcan más mejoras adicionales tanto en la adherencia de líneas finas como en la espumación del revelador.

En la presente invención, se mejoran los oligómeros a base de uretano isocianúricos, tal como se han descrito, para su uso en la composición fotosensible mediante la incorporación de funcionalidad ácido. Se ha observado que la funcionalidad ácido reduce al mínimo la espuma del revelador aumentando el equilibrio hidrófilo de la cadena principal del oligómero. Con el ácido en la cadena principal es mucho más fácil emulsionar toda la molécula de oligómero.

Además de mejorar el problema de la espuma del revelador, se ha observado que los oligómeros con función ácido mejoran la adherencia de líneas finas del material fotorresistentes. Probablemente, esto se debe a que la funcionalidad ácido produce un revelado más rápido. El revelado más rápido tiene como consecuencia que el material fotorresistente se aloje en la solución de revelado durante un período de tiempo más corto.

Además de las mejoras relacionadas con la adherencia y el espumado, la funcionalidad ácido también contribuye a un tiempo de desprendimiento más rápido.

La presente invención se refiere a una composición fotosensible de acción negativa que comprende A) entre 30 y 80% en peso, en función del peso total de A) más B) de un aglutinante polimérico orgánico que tiene suficiente funcionalidad ácido como para hacer que la composición fotosensible se pueda revelar en solución acuosa alcalina, B) entre 20 y 70% en peso, en función del peso total de A) más B) de compuestos \alpha,\beta-etilénicamente insaturados no gaseosos polimerizables por adición capaces de formar un polímero por polimerización de adición de propagación de cadena iniciada por radicales libres, y C) entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 20% en peso, en relación con el peso total de A) más B) de un sistema químico generador de radicales libres sensibles a la radiación, orgánico que se puede activar por radiación actínica para iniciar la polimerización de adición de propagación de cadena del material polimerizable por adición. De acuerdo con la invención, el componente B) comprende entre 20 y 70% en peso en función del peso total de A) más B) de un oligómero de uretano que presenta la fórmula general:

X(R)_{n>2}

en la que X es una fracción hidrocarburo alifática, cicloalifática o aromática polivalente, un isocianurato polivalente o un biuret polivalente,

en la que las R' son iguales o diferentes y se seleccionan entre:

-NH-CO-A_{p}-O-CO-CY=CH_{2} y

-NH-CO-A_{m}-[-O-CO-NH-Z-NH-CO-]_{t}-G-CO-NH-Z-NH-CO-A_{p}-O-CO- CY=CH_{2},

en la que m = 0-25; p = 1-25; t = 0-1; e Y es H, CH_{3}, o C_{2}H_{5},

siempre que al menos una de las R' sea lo segundo;

las A' son iguales o diferentes y se seleccionan entre una o más de:

-[O-CHY-CHY-]- en la que las Y son iguales o diferentes y se seleccionan entre H, CH_{3}, o C_{2}H_{5};

-[O-(CH_{2})_{3-4}-], y

-[O-(CH_{2})_{3-5}-CO-]-, como homopolímeros o copolímeros;

Z es una fracción de hidrocarburo aromática o alquilo divelente;

y G presenta la fórmula general:

1, en la que V es una fracción hidrocarburo aromática o alquilo y W es un grupo ácido seleccionado entre COOH, SO_{3}H y PO_{3}HR^{1}, donde R^{1} es H o alquilo de C_{1-18}.

Cuando se ha indicado anteriormente que las A son iguales o diferentes, significa que las A pueden ser iguales o diferentes en cualquier molécula de oligómero o pueden ser iguales o diferentes dentro de cualquier grupo R. Si las A son diferentes dentro de cualquier grupo R, las diferentes A pueden distribuirse al azar o las diferentes A pueden estar en bloques.

Preferiblemente X es:

2

Preferiblemente A es -[-O-CHCH_{3}-CH_{2}-]- ó -[-O-CH_{2}-CHCH_{3}-]-,

Preferiblemente m = 0.

Preferiblemente t = 0.

Preferiblemente p = 5-6.

Preferiblemente Y = CH_{3}.

Preferiblemente G = O-CH_{2}-C(CH_{3})(COOH)-CH_{2}-O ó

\hskip2,9cm

O-CH(COOH)-CH(COOH)-O, siendo sobre todo preferible el primero.

Preferiblemente Z = (CH_{2})_{6}.

Descripción detallada de determinados modos de realización preferibles

En el presente documento, a no ser que se señale de otra forma, todos los porcentajes son porcentajes en peso. El componente A) (polímero aglutinante) y el componente B) (los compuestos fotosensibles) se consideran aquí como equivalentes al 100% en peso, y los demás componentes, incluyendo los componentes del sistema químico de fotoiniciador, se basan en el peso total de A) más B).

La invención se refiere a composiciones fotosensibles que se pueden revelar en solución acuosa alcalina y que por lo tanto tienen una funcionalidad ácido sustancial. Dichas composiciones fotosensibles tienen típicamente un aglutinante A) que tiene funcionalidad ácido, típicamente tienen un índice de acidez de al menos aproximadamente 80, preferiblemente al menos aproximadamente 100 y más preferiblemente aproximadamente 150 o más, hasta aproximadamente 250. La funcionalidad ácido es típicamente funcionalidad ácido carboxílico, si bien puede incluir también por ejemplo funcionalidad ácido sulfónico o funcionalidad ácido fosfórico. Los polímeros aglutinantes de las composiciones fotosensibles tienen típicamente pesos moleculares promedio de peso comprendidos entre aproximadamente 20.000 y aproximadamente 200.000, preferiblemente al menos aproximadamente 80.000.

Los polímeros se derivan típicamente de una mezcla de monómeros con función ácido y monómeros con función no ácido. Algunos ejemplos específicos de monómeros con función ácido adecuados son ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido maleico, ácido fumárico, ácido citracónico, ácido 2-acrilamido-2-metilpropanosulfónico, fosfato de 2-hidroxietil acrilolilo, fosfato de 2-hidroxipropil acrilol, fosfato de 2-hidroxi-alfa-acriloílo. Se pueden utilizar uno o más de dichos monómeros con función ácido para formar el polímero aglutinante.

Los monómeros con función ácido se pueden copolimerizar con monómeros con función no ácido, tales como ésteres de ácido acrílico y ácido metacrílico, por ejemplo, acrilato de metilo, acrilato de 2-etil hexilo, ácrilato de n-butilo, acrilato de n-hexilo, metacrilato de metilo, acrilato de hidroxietilo, metacrilato de butilo, acrilato de octilo, metacrilato de 2-etoxi-etilo, acrilato de t-butilo, diacrilato de 1,5-pentanodiol, acrilato de N,N-dietilaminoetilo, diacrilato de etilen glicol, diacrilato de 1,3-propanodiol, diacrilato de decametilen glicol, dimetacrilato de decametilen glicol, diacrilato de 1,4-ciclohexanodiol, diacrilato de 2,2-dimetilol propano, diacrilato de glicerol, diacrilato de tripropilen glicol, triacrilato de glicerol, dimetacrilato de 2,2-di(p-hidroxifenil)-propano, diacrilato de trietilen glicol, dimetacrilato de polioxietil-2-2-di(p-hidroxifenil)-propano, dimetacrilato de trietilen glicol, triacrilato de polioxipropiltrimetilol propano, dimetacrilato de etilen glicol, dimetacrilato de butilen glicol, dimetacrilato de 1,3-propanodiol, dimetacrilato de butilen glicol, dimetacrilato de 1,3-propanodiol, trimetacrilato de 1,2,4-butanotriol, dimetacrilato de 2,2,4-trimetil-1,3-pentanodiol, trimetacrilato de pentaeritritol, etilen-1,2-dimetacrilato de 1-fenilo, tetrametacrilato de pentaeritritol, trimetacrilato de trimetilol propano, dimetacrilato de 1,5-pentanodiol y dimetacrilato de 1,4-bencenodiol; estireno y estireno sustituido como 2-metil estireno y vinil tolueno así como ésteres de vinilo, tales como acrilato de vinilo y metacrilato de vinilo para proporcionar el índice de acidez deseado.

La cantidad del polímero aglutinante A) puede variar dentro de un amplio intervalo, típicamente entre aproximadamente 30 y aproximadamente 80% en peso de la composición en función del peso total de A) más B).

Entre los ejemplos de dichos polímeros y composiciones fotosensibles en las que se utilizan dichos polímeros se incluyen las encontradas en las siguientes patentes EE.UU. Nº 3.953.309; 4.003.877; 4.610.951 y 4.695.527.

El componente fotopolimerizable B) constituye entre aproximadamente 5 y aproximadamente 100% en peso, preferiblemente entre aproximadamente 25 y aproximadamente 75% en peso de la cantidad total de B), es decir, entre aproximadamente 1 y aproximadamente 70% en peso, preferiblemente entre aproximadamente 5 y aproximadamente 52,5% en peso en función del peso total de A) más B), del oligómero de uretano con función ácido descrito anteriormente, que tiene insaturación poli \alpha,\beta-etilénica fotopolimerizable.

El resto del componente fotopolimerizable B), es decir entre 0 y aproximadamente 95% en peso, preferiblemente entre aproximadamente 25 y aproximadamente 75% en peso de B, es decir entre 0 y aproximadamente 69% en peso, preferiblemente entre aproximadamente 5 y aproximadamente 52,5% en peso en relación con el peso total de A) más B) es típicamente un monómero, dímero u oligómero de cadena corta que tiene insaturación etilénica, en particular insaturación \alpha,\beta-etilénica, incluyendo compuestos monofuncionales y compuestos que tienen una insaturación \alpha,\beta-etilénica 2 o superior. Típicamente, se utilizará una mezcla de monomeros monofuncionales y multifuncionales. Entre los compuestos fotopolimerizables adecuados se incluyen, sin limitarse sólo a ellos, los monómeros antes citados como adecuados para la formación de polímeros aglutinantes, en particular los compuestos con función no ácido. La cantidad total del componente fotopolimerizable B) se encuentra típicamente entre aproximadamente 20 y aproximadamente 70% en peso de la composición fotosensible en función del peso total de A) más B).

Para iniciar la polimerización de los monómeros tras la exposición a radiación actínica, la composición fotosensible contiene un sistema químico fotoiniciador. Generalmente, el sistema químico fotoiniciador constituye entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente 20% en peso en función del peso total de A) más B). Entre las sustancias químicas fotoiniciadoras se incluyen sin limitarse sólo a ellas 9-fenilacridina, n-fenil glicina, cetonas aromaticas (benzofenona, N,N'-tetrametil-4,4'-diaminobenzofenona [cetona de Michler], N,N'-tetraetil-4,4'-diaminobenzofenona, 4-metoxi-4'-dimetilaminobenzofenona, 3,3'-dimetil-4-metoxibenzofenona, p,p'-bis(dimetilamino)benzofenona, p,p'-bis(dietilamino)-benzofenona, antraquinona, 2-etilantraquinona, naftaquinona, fenantraquinona, benzoínas (benzoína, éter benzoin metílico, éter benzoín etílico, éter benzoín isopropílico, éter benzoín n-butílico, éter benzoín fenílico, metil benzoína, etil benzoína), derivados de bencilo (dibencilo, disulfuro de bencil difenilo, bencil dimetil cetal (SIC), derivados de acridina (9-fenilacridina, 1,7-bis(9-acridinil)heptano), tioxantonas (2-clorotioxantona, 2-metiltioxantona, 2,4-dietiltioxantona, 2,4-dimetiltioxantona, 2-isopropiltioxantona), acetofenonas (1,1-dicloroacetofenona, p-t-butildicloroacetofenona, 2,2-dietoxiacetofenona, 2,2-dimetoxi-2-fenilacetofenona, 2,2-dicloro-4-fenoxiacetofenona. Aunque no es un generador de radicales libres, se puede incluir trifenilfosfeno en el sistema químico fotoiniciador como catalizador.

La composición fotosensible puede incluir ventajosamente uno o más plastificantes en una proporción de aproximadamente 0,5 a aproximadamente 10% en peso en función del peso total de A) más B). Entre los ejemplos de plastificantes adecuados se incluyen sin limitarse sólo a ellos ésteres de ftalato (v.g., ftalato de dibutilo, ftalato de diheptilo, ftlato de dioctilo, ftalato de dialilo), glicoles (v.g. polietilen glicol, polipropilen glicol), ésteres de glicol (v.g., diacetato de trietilen glicol, diacetato de tetraetilenglicol, dibenzoato de dipropilen glicol), ésteres de fosfato (fosfato de tricresilo, fosfato de trifenilo), amidas (p-toluensulfonamida, bencenosulfonamida, N-n-butilacetonamida), ésteres de ácido dibásico alifático (adipato de diisobutilo, adipato de dioctilo, sebacato de dimetilo, azelato de dioctilo, malato de dibutilo, citrato de trietilo, citrato de tributilo, citrato de trietilacetilo, citrato de tri-n-propilacetilo, citrato de tri-n-butilacetilo, laurato de butilo, dioctil-4,5-diepoxiciclohexano-1,2-dicarboxilato, ésteres glicerintriatílicos.

Adicionalmente, las composiciones fotosensibles pueden contener una amplia variedad de componentes adicionales conocidos dentro de la especialidad incluyendo polímeros adicionales, tales como los que se podrían utilizar para llevar a efecto el curado de endurecimiento final de una máscara soldada, colorantes, formadores de color, estabilizantes, agentes de flexibilización y cargas.

El tratamiento de la composición fotosensible es el convencional. En un procedimiento típico, se aplica una capa de composición fotosensible, ya esté formada a partir de una composición líquida o esté transferida como una capa desde una capa seca, sobre una superficie de cobre de una tabla revestida con cobre. Se expone la capa de la composición fotosensible a radiación actínica a través de un diseño primario de circuito apropiado. La exposición a la radiación actínica polimeriza el monómero en las superficies expuestas a la luz, con el resultado de una estructura reticulada que es resistente al revelador. A continuación, se revela la composición en solución acuosa alcalina diluida, como por ejemplo una solución de carbonato sódico al 1%. La solución alcalina provoca la formación de sal con los grupos carboxílicos de los polímeros aglutinantes, haciéndolos solubles y eliminables. Tras el revelado, se puede utilizar una solución de grabado para eliminar el cobre de las áreas en las que la resina ha sido eliminada, formando así un circuito impreso. Se puede eliminar el resto de la resina utilizando un agente de desprendimiento adecuado.

La invención proporciona una pared lateral de protector de líneas finas (menos de 75 \mum) que se adhiere bien a las superficies de cobre.

A continuación, se describirá la presente invención con mayor detalle mediante ejemplos específicos.

Ejemplos A (comparativo) y B

Se formuló una composición fotosensible del siguiente modo:

Componente:	% peso*
1. Tercpolímero de metacrilato de metilo, acrilato de butilo, ácido metilmetacrílico	56,7
(índice de acidez 150, peso molecular de promedio de peso 80.000)
2. Dimetacrilato de bisfenol A etoxilado	14,4
3. Metacrilato de polipropilen glicol	12,2
4. Oligómero de uretano (A) o (B)**	16,7

(Continuación)

Componente:	% peso*
5. p-toluen sulfonamida (plastificante)	5,0
6. Colorante trifenilmetano	0,056
7. 9-fenilacridina (fotoiniciador)	0,17
* Los componentes 1-4 fueron calculados como el 100% en peso; el resto de los componentes fue calculado en
relación con los componentes 1-4.
** Los oligómeros de uretano presentan las fórmulas generales:

3

En el oligómero de uretano (A), las R presentan la fórmula:

NH-CO-O-(-CH_{2}-CH_{2}-O-)_{5-6}-CO-C(CH_{3})=CH_{2}

(distribuido por International Specialties como PEM6E)

En el oligómero de uretano (B), las R presentan la fórmula:

NH-CO-O-CH_{2}-C(CH_{3})(COOH)-CH_{2}-O-CO-HN-(CH_{2})_{6}-NH-CO-O-(- CH(CH_{3})-CH_{2})-O-)_{5-6}-CO-C(CH_{3})=CH_{2}.

El oligómero de uretano con función ácido del ejemplo (B) se sintetiza del siguiente modo.

Se introdujeron en un matraz limpio, de 1 litro, 0,212 litros de dimetilformamida, 67,0 gramos de ácido dimetilolpropiónico (DMPA), y 215 ppm (en función de los sólidos de DMPA) de dilaurato de dibutilestaño (DBTDL). Bajo una atmósfera de nitrógeno seco, se calentó la mezcla a 48ºC con agitación suave. Se añadieron 96,75 gramos de trímero de diisocianurato de 1,6-hexametileno a lo largo de un período de 1 hora y media, manteniendo la temperatura entre 55ºC y 60ºC. Se mantuvo la temperatura durante una hora con mezclado y después se enfrió la solución a 20ºC y se secó bajo una atmósfera de nitrógeno seca.

Se introdujeron en un matraz limpio, de 2 litros distinto 0,212 litros de dimetilformamida, 88,2 gramos de diisocianato de 1,6-hexametileno (HD)) y 171 ppm de DBTDL (en función de los sólidos de HDI). Bajo aire seco, se calentó la mezcla a 50ºC con agitación suave. Se añadió a esta mezcla gota a gota una solución de 174 gramos de polipropoximonometacrilato (348 en peso por hidroxilo equivalente) y 0,55 gramos de 3,5-di-terc-butil-4-hidroxicinamato de octadecilo, manteniendo la temperatura a entre 50ºC y 55ºC, manteniéndolo después a dicha temperatura durante 1 hora más. A continuación, se añadió lentamente el producto de reacción de DMPA y el trímero de isocianurato HDI (anterior), durante un período de 1 hora y media manteniendo una temperatura de 40ºC a 45ºC, tras lo cual se mantuvo toda la mezcla dentro de este intervalo de temperatura durante 1 hora y media más, enfriándolo a 20ºC y se selló bajo aire seco.

En la tabla 1, a continuación, se indican las propiedades de las composiciones fotosensibles:

TABLA 1

4

(1) Mínimo observado en resolución como líneas y espacios iguales, adherencia como líneas a una distancia de 400.

(2) Etapa sólida de Stouffer 21

(3) Revelado a 30ºC en monohidrato de carbonato sódico al 1%

(4) Resistencia a la punción con una sonda con punta de 22 mm de radio a través de un orificio de 6 mm enmascarado

(5) Cuchilla de aire caliente tras el revelado y mantenido a temperatura ambiente, 30% de HR durante 16 horas.

(6) Tras una inmersión de 4 minutos en agua del grifo a 20ºC

(7) En segundos, rociador con trasportador con solución de hidróxido sódico al 3%, a 55ºC

(8) Como componente al 15% en peso de película seca de 38 \mum de grosor de formulación fotosensible

Ver las fórmulas estructurales anteriores para (A) y (B)

(9) Por ASTM D714,5 = mejor

(19) Tras revestimiento de chapa instantáneo en estaño, 5 = mejor

Debe resaltarse en particular la reducción de la energía de exposición, la mejor adherencia de trama y un tiempo de desprendimiento más corto.

Claims (10)

1. Una composición fotosensible de acción negativa que consiste en:

A) entre 30 y 80% en peso, en función del peso total de (A) más (B) de un polímero aglutinante que tiene funcionalidad ácido suficiente como para hacer revelable dicha composición fotosensible en solución acuosa alcalina,

B) entre 20 y 70% en peso, en función del peso total de (A) más (B) de un compuesto(s) \alpha,\beta-etilénicamente insaturado(s), no gaseoso(s), polimerizable(s) por adición capaces de formar un polímero superior por polimerización de adición de propagación de cadena iniciada por radicales libres, constituyendo dicho componente B entre 1 y 70% en peso en función del peso total de (A) más (B) de un oligómero de uretano que presenta la fórmula:

X(R)_{n>2}

en la que X es una fracción hidrocarburo alifática, cicloalifática o aromática polivalente, un isocianurato polivalente o un biuret polivalente,

en la que las R' son iguales o diferentes y se seleccionan entre:

-NH-CO-A_{p}-O-CO-CY=CH_{2} y

-NH-CO-A_{m}-[-O-CO-NH-Z-NH-CO-]_{t}-G-CO-NH-Z-NH-CO-A_{p}-O-CO- CY=CH_{2},

en la que m = 0-25; p = 1-25; t = 0-1; e Y es H, CH_{3}, o C_{2}H_{5},

siempre que al menos una de las R' sea lo segundo;

las A' son iguales o diferentes y se seleccionan entre una de:

-[O-CHY-CHY-]- en la que las Y son iguales o diferentes y se seleccionan entre H, CH_{3}, o C_{2}H_{5};

-[O-(CH_{2})_{3-4}-], y

-[O-(CH_{2})_{3-5}-CO-]-, como homopolímeros o copolímeros;

Z es una fracción de hidrocarburo aromática o alquilo divelente;

y G presenta la fórmula general:

5, en la que V es una fracción hidrocarburo aromática o alquilo y W es un grupo ácido seleccionado entre COOH, SO_{3}H y PO_{3}HR^{1}, donde R^{1} es H o alquilo de C_{1-18}.

C) entre 0,1 y 20% en peso en función del peso total de (A) más (B) de un sistema químico fotoiniciador.

2. Una composición según la reivindicación 1 en la que X es:

6

3. Una composición según la reivindicación 1 ó 2 en la que A es -[-O-CHCH_{3}-CH_{2}-]- ó -[-O-CH_{2}-CHCH_{3}-]-.

4. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores en la que m = 0.

5. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores en la que t = 0.

6. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores en la que p = 5-6.

7. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores en la que Y = CH_{3}.

8. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores en la que G = O-CH_{2}-C(CH_{3})(COOH)-CH_{2}-O.

9. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7 en la que G = O-CH(COOH)-CH(COOH)-O.

10. Una composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores en la que Z = (CH_{2})_{6}.