EP4584212A1 - Mikroelektromechanische vorrichtung - Google Patents

Mikroelektromechanische vorrichtung

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Publication number
EP4584212A1
EP4584212A1 EP23762434.1A EP23762434A EP4584212A1 EP 4584212 A1 EP4584212 A1 EP 4584212A1 EP 23762434 A EP23762434 A EP 23762434A EP 4584212 A1 EP4584212 A1 EP 4584212A1
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EP
European Patent Office
Prior art keywords
substrate
mems
asic
microelectromechanical
base plate
Prior art date
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Pending
Application number
EP23762434.1A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Ralf Noltemeyer
Arnd Kaelberer
Heiko Stahl
Tobias HENN
Jan Stiedl
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Carl Zeiss SMT GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH, Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
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Pending legal-status Critical Current

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    • B81C2203/0785—Transfer and j oin technology, i.e. forming the electronic processing unit and the micromechanical structure on separate substrates and joining the substrates
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    • B81C2203/0792—Forming interconnections between the electronic processing unit and the micromechanical structure

Definitions

  • micromirror arrays or micromirror actuators
  • devices with movable micromirrors arranged in a matrix so-called micromirror arrays or micromirror actuators
  • micromirror arrays are known, for example, from the documents DE 10 2013 208 446 A1, EP 0 877 272 A1 and WO 2010/049076 A2. Disclosures regarding suitable actuator devices for displacing the individual mirrors of a micromirror array, the micromirrors, are shown, for example, in DE 10 2013 206 529 Al, DE 10 2013 206 531 Al and DE 10 2015 204 874 Al.
  • a microelectromechanical device an illumination optics comprising such a microelectromechanical device as well as an illumination system and a projection exposure system, each with a corresponding illumination optics, as well as a method for producing a microelectromechanical device according to the invention are proposed.
  • a microelectromechanical device comprising a carrier substrate with a substrate surface and several ME MS modules is proposed (MEMS: microelectromechanical system).
  • each of the several MEMS modules comprises one, preferably exactly one, ASIC layer with an ASIC layer front side and an ASIC layer back side opposite this ASIC layer front side, a base plate with a base plate front side and a base plate back side opposite this base plate front side and several microelectromechanical components with a component back.
  • the microelectromechanical components do not have to be identical in structure and/or function, although this can be the case.
  • the base plate is arranged on the front of the ASIC layer and the back of the base plate is materially connected to the front of the ASIC layer via electrical contacts. A material connection using soldering or preferably sintering or eutectic bonding is particularly suitable for this.
  • Silver sintering paste for example, can be used as the sintering material.
  • the several microelectromechanical components are further arranged on the front of the base plate and their component backs are connected to the front of the base plate.
  • the electrical contacts between the base plate and the ASIC layer are at least partially, preferably all, covered by at least one protective frame arranged between the base plate and the ASIC layer, which can also be electrically conductive.
  • An implementation with several protective frames in a MEMS module is conceivable, in which case each of these protective frames comprises a different part of the electrical contacts between the base plate and the ASIC layer, but preferably there is only exactly one protective frame per MEMS module .
  • continuity of an ASIC layer means that all elements of the ASIC layer are mechanically connected to one another via the layer itself. Such a mechanical connection via the ASIC layer between two elements can take place through the elements themselves and/or through other elements of the layer, such as ASICs, wiring carriers, suitable connecting elements, filling materials and/or joining materials. In the case of a non-continuous ASIC layer, this layer has elements such as ASICS and/or interposers that are not mechanically connected to one another via the layer itself. The ASIC layer therefore has a gap. Electrical connections can be continued using the electrical contacts between the ASIC layer and the base plate.
  • the carrier substrate serves overall as a component carrier and can include electrical connections, for example plated-through holes for passing electrical signals through from one surface of the carrier substrate to another surface of the carrier substrate.
  • electrical connections for example plated-through holes for passing electrical signals through from one surface of the carrier substrate to another surface of the carrier substrate.
  • the carrier substrate can, for example, consist essentially of a ceramic, for example an AhOs-based ceramic.
  • Such a microelectromechanical device consequently divides its plurality of microelectromechanical components into individual groups, each of which includes several microelectromechanical components and are referred to as MEMS modules in the context of this invention.
  • the multiple MEMS modules can, for example, each have exactly 2, 3, 4, 5, 6, 9, 12, 16, 20, 25, 30, 36, 42, 49, 56, 64, 72 or 81 of the multiple microelectromechanical components, whereby other numbers > 2 are also conceivable.
  • the multiple microelectromechanical components can, for example, be arranged in a rectangular grid consisting of columns and rows, for example consisting of two columns and two rows, two columns and three rows, three columns and three rows, three columns and four rows, four columns and four rows, four columns and five rows, five columns and five rows, five columns and six rows, six columns and six rows, six columns and seven rows, seven columns and seven rows, seven columns and eight rows, eight columns and eight rows, eight columns , and nine rows or nine columns and nine rows.
  • microelectromechanical devices according to the invention are in turn connected to form a higher-level unit, for example in order to cover larger areas than is practicable with a single microelectromechanical device according to the invention.
  • the protective frames arranged according to the invention between the base plates and the ASIC layers ensure that no damage can occur in the areas surrounded by the protective frames.
  • the structures of the ASICs located in these areas and the electrical contacts are protected from damage and contamination, as can occur during the production of a microelectromechanical device according to the invention and also during later operation.
  • the protective frames serve to isolate you from the environment.
  • the mechanical cohesion between ASIC layers and base plates is also increased.
  • the protective frames of the MEMS modules are preferably designed in such a way that, in particular, temperature-related deformations of the MEMS modules are reduced.
  • each of the several microelectromechanical components of each of the several MEMS modules has a substantially rectangular, preferably square or a substantially hexagonal base area.
  • Essentially rectangular or hexagonal base area smaller deviations from a rectangular or hexagonal base area are conceivable, for example through rounded corners and/or indentations or bulges.
  • it can also include several such micromirror arrays according to the invention, for example in order to implement a larger overall micromirror array with an arrangement of this large number of micromirror arrays, which makes it possible to redirect incident light beams with a larger beam diameter.
  • Figure 1 shows a schematic representation of a part of an exemplary microelectromechanical device according to the invention in a side view
  • Figure 3 shows in schematic form as a flow chart a method according to the invention for producing a microelectromechanical device.
  • FIG. 1 shows a schematic representation of a part of an exemplary microelectromechanical device 110 according to the invention, a micromirror array, from the side.
  • two MEMS modules 120 (left MEMS module: 120a, right MEMS module: 120b) are arranged on the substrate surface 100a of a carrier substrate 100, each of which includes several microelectromechanical components 130, four of which are shown in FIG .
  • the microelectromechanical components 130 are micromirrors. These each include a mirror element 134, which in turn has a reflection surface 136 for reflecting light. These mirror elements 134 can be moved by displacement devices 132.
  • the microelectromechanical components 130 are arranged on the front side 160a of a base plate 160.
  • This base plate front side 160a is connected to the back sides 130b of the microelectromechanical components 130.
  • two base plates 160 are visible, on which the four visible microelectromechanical components 130 are located.
  • the microelectromechanical components 130 are connected to the ASICs of the respective ASIC layer 140 via electrical contacts 144.
  • the ASICs of the ASIC layers 140 can in turn be connected to further electronics (not shown) via electrical contacts 146, which can be arranged on the carrier substrate 100, for example.
  • silicon vias (TSV, through-silicon via) 142 can also exist in the ASIC layers 140, which can be used, for example, to produce electrical connections between such further electronics on the carrier substrate 100 and the microelectromechanical components 130.
  • Such vias 142 can also be used, for example, using interposers can also be part of the ASIC layers 140, or can be implemented using the dies of the ASICs.
  • FIG. 2 shows a schematic representation of a MEMS module 220 of a second exemplary microelectromechanical device 210 according to the invention in a side view in an upper partial figure and a schematic view of a sectional plane A to illustrate the arrangement of a protective frame 295 in the MEMS module 220 in a lower partial figure.
  • the MEMS module 220 shown here also has four microelectromechanical components 230 that are visible in the side view of the upper part of the figure.
  • the MEMS module 220 shown has, as can be seen from the lower part of the figure, 16 microelectromechanical components 230, each with one Displacement device 232 for displacing mirror elements 234 with reflection surfaces.
  • electrical contacts 244a, 244b, 244c, 244d which are partial continuations of electrical connections such as vias 142 in the ASIC layer 240. At least some of these electrical contacts 244a, 244b, 244c, 244d are surrounded by a protective frame 295. Preferably and as shown in Figure 2, all electrical contacts 244a, 244b, 244c, 244d are located within the area defined by the protective frame 295.

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Abstract

Mikroelektromechanische Vorrichtung (110) umfassend ein Trägersubstrat (100) mit einer Substratoberfläche (100a) und mehrere MEMS-Module (120), wobei jedes Modul eine ASIC-Schicht (140) mit ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) und ASIC-Schicht-Rückseite (140b), eine Grundplatte (160) mit Grundplattenvorderseite (160a) und Grundplattenrückseite (160b) und mehrere mikroelektromechanische Bauelemente (130) mit einer Bauelementrückseite (130b) umfasst. Die Grundplatte (160) ist auf der ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) angeordnet und die Grundplattenrückseite (160b) mit der ASIC-Schicht-Vorderseite über elektrische Kontakte (144) stoffschlüssig verbunden. Die Bauelemente (130) sind auf der Grundplattenvorderseite (160a) angeordnet und deren Bauelementrückseiten (130b) mit der Grundplattenvorderseite verbunden. Die Kontakte (144) sind teilweise durch einen zwischen Grundplatte (160) und ASIC-Schicht (140) angeordneten Schutzrahmen (195) umfasst. Die ASIC-Schicht (140) weist ein ASIC zum Ansteuern der Bauelemente (130) auf, wobei das ASIC mit den Bauelementen unter Benutzung eines Teils der Kontakte (144) elektrisch verbunden ist. Die Module (120) sind auf der Substratoberfläche (100a) angeordnet und die ASIC-Schicht-Rückseiten (140b) der Module mit der Substratoberfläche verbunden.

Description

Beschreibung
Titel
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der mikroelektromechanischen Vorrichtungen, insbesondere der Mikrospiegel-Arrays und betrifft eine mikroelektromechanische Vorrichtung, eine Beleuchtungsoptik, ein Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage, eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zur Herstellung einer mikroelektromechanischen Vorrichtung.
Stand der Technik
Der Einsatz von Vorrichtungen mit matrixförmig angeordneten verlagerbaren Mikrospiegeln, sogenannte Mikrospiegel-Arrays oder Mikrospiegelaktoren, erfolgt heutzutage in einer Vielzahl von Vorrichtungen, beispielsweise in Smartphones, Projektoren, Head-up-Displays, Barcodelesern, Maskenbelichtern in der Halbleiterfertigung und Mikroskopen. Entsprechende Mikrospiegel-Arrays sind beispielsweise aus den Schriften DE 10 2013 208 446 Al, EP 0 877 272 Al und WO 2010/049076 A2 bekannt. Offenbarungen bezüglich geeigneter Aktuator- Einrichtungen zur Verlagerung der Einzelspiegel eines Mikrospiegel-Arrays, der Mikrospiegel, zeigen beispielsweise die DE 10 2013 206 529 Al, die DE 10 2013 206 531 Al und die DE 10 2015 204 874 Al.
Offenbarung der Erfindung
Erfindungsgemäß werden eine mikroelektromechanische Vorrichtung, eine Beleuchtungsoptik umfassend eine solche mikroelektromechanische Vorrichtung sowie ein Beleuchtungssystem und eine Projektionsbelichtungsanlage, jeweils mit einer entsprechenden Beleuchtungsoptik, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung vorgeschlagen. Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung wird eine mikroelektromechanische Vorrichtung umfassend ein Trägersubstrat mit einer Substratoberfläche und mehrere ME MS- Mod ule vorgeschlagen (MEMS: microelectromechanical system). Hierbei umfasst jedes der mehreren MEMS-Module eine, vorzugsweise genau eine ASIC-Schicht mit einer ASIC-Schicht-Vorderseite und einer dieser ASIC-Schicht-Vorderseite gegenüberliegenden ASIC-Schicht-Rückseite, eine Grundplatte mit einer Grundplattenvorderseite und einer dieser Grundplattenvorderseite gegenüberliegenden Grundplattenrückseite und mehrere mikroelektromechanische Bauelemente mit einer Bauelementrückseite. Die mikroelektromechanischen Bauelemente müssen nicht identisch von ihrem Aufbau und/oder ihrer Funktion sein, dies kann allerdings der Fall sein. Die Grundplatte ist auf der ASIC-Schicht-Vorderseite angeordnet und die Grundplattenrückseite mit der ASIC-Schicht-Vorderseite über elektrische Kontakte stoffschlüssig verbunden. Hierfür kommt insbesondere eine stoffschlüssige Verbindung mittels Löten oder vorzugsweise Sintern oder eutektischem Bonden in Frage. Als Sintermaterial kann beispielsweise Silbersinterpaste eingesetzt werden. Die mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente sind weiterhin auf der Grundplattenvorderseite angeordnet und deren Bauelementrückseiten mit der Grundplattenvorderseite verbunden. Hierbei sind die elektrischen Kontakte zwischen Grundplatte und ASIC-Schicht zumindest teilweise, vorzugsweise alle durch mindestens einen zwischen Grundplatte und ASIC-Schicht angeordneten Schutzrahmen umfasst, der ebenfalls elektrisch leitfähig sein kann. Hierbei ist eine Umsetzung mit mehreren Schutzrahmen in einem MEMS-Modul denkbar, wobei in so einem Fall jeder dieser Schutzrahmen einen anderen Teil der elektrischen Kontakte zwischen Grundplatte und ASIC-Schicht umfasst, vorzugsweise handelt es sich aber nur um genau einen Schutzrahmen je MEMS-Modul. Die ASIC-Schicht jedes der MEMS-Module weist ein oder mehrere ASICs (application-specific integrated circuit) zum Ansteuern der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente auf, wobei das eine oder die mehreren ASICs mit den mikroelektromechanischen Bauelementen unter Benutzung zumindest eines Teils der elektrischen Kontakte elektrisch verbunden sind, wobei die elektrischen Kontakte typischerweise in den Grundplatten zu den mikroelektromechanischen Bauelemente mittels elektrischer Verbindungen, beispielsweise Durchkontaktierungen, weitergeführt sind. Beispielsweise kann zur Herstellung von elektrischen Verbindungen zwischen einer auf dem Trägersubstrat befindlichen weiteren Elektronik und den mikroelektromechanischen Bauelementen die ASIC-Schicht neben ASICs optional auch Verdrahtungsträger (Interposer) und/oder weitere Elemente umfassen. Eine ASIC-Schicht eines MEMS-Moduls kann eine durchgängige ASIC-Schicht oder eine nicht durchgängige ASIC-Schicht sein. Der Begriff der Durchgängigkeit einer ASIC-Schicht meint, dass alle Elemente der ASIC-Schicht über die Schicht selbst mechanisch miteinander verbunden sind. Eine solche mechanische Verbindung über die ASIC-Schicht zwischen zwei Elementen kann durch die Elemente selbst und/oder durch andere Elemente der Schicht, wie beispielsweise ASICs, Verdrahtungsträger, geeignete Verbindungselemente, Füllmaterialien und/oder Fügematerialien, erfolgen. Im Fall einer nicht durchgängigen ASIC-Schicht weist diese Schicht Elemente wie beispielsweise ASICS und/oder Interposer auf, die nicht über die Schicht selbst mechanisch miteinander verbunden sind. Die ASIC-Schicht weist folglich eine Lücke auf. Elektrische Verbindungen können mittels der elektrischen Kontakte zwischen ASIC-Schicht und Grundplatte weitergeführt werden. Als Interposer kommen insbesondere siliziumbasierte Interposer mit elektrischen Verbindungen, beispielsweise Silizium-Durchkontaktierungen (TSV, through-silicon via) wie beispielsweise kupferbasierte Durchkontaktierungen (Cu vias), in Frage. Die mehreren ME MS- Module sind auf der Substratoberfläche des Trägersubstrats angeordnet und die ASIC-Schicht-Rückseiten der mehreren MEMS-Module mit der Substratoberfläche verbunden. Auch diese Verbindung ist typischerweise stoffschlüssig ausgeführt und erfolgt vorzugsweise durch Sintern. Bei der weiteren Elektronik auf dem Trägersubstrat kann es sich beispielsweise um weitere ASICs zur Ansteuerung der gesamten elektromechanischen Vorrichtung, um passive Bauelemente und/oder Verbindungselemente (wie Stecker, Kabel), beispielsweise zum Herstellen einer elektrischen Verbindung zu externen Steuergeräten wie einer Recheneinheit sowie zur Stromversorgung handeln. Das Trägersubstrat dient insgesamt als Bauteilträger und kann elektrische Verbindungen, beispielsweise Durchkontaktierungen zur Durchleitung von elektrischen Signalen von einer Oberfläche des Trägersubstrats zu einer anderen Oberfläche des Trägersubstrats umfassen. So kann es beispielsweise vorteilhaft sein, die weitere Elektronik auf einer Substratoberfläche des Trägersubstrats anzuordnen, die der Substratoberfläche mit den MEMS-Modulen gegenüberliegt. Das Trägersubstrat kann beispielsweise im Wesentlichen aus einer Keramik, beispielsweise einer AhOs-basierten Keramik, bestehen. Eine solche mikroelektromechanische Vorrichtung gliedert folglich ihre Mehrzahl an mikroelektromechanischen Bauelementen in einzelne Gruppen, die jeweils mehrere mikroelektromechanische Bauelemente umfassen und im Rahmen dieser Erfindung als MEMS-Module bezeichnet werden. Die mehreren MEMS- Module können beispielsweise jeweils genau 2, 3, 4, 5, 6, 9, 12, 16, 20, 25, 30, 36, 42, 49, 56, 64, 72 oder 81 der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente aufweisen, wobei auch andere Anzahlen > 2 denkbar sind. Die mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente können beispielsweise in einem rechteckigen Raster bestehend aus Spalten und Reihen angeordnet sein, beispielsweise bestehend zwei Spalten und zwei Reihen, zwei Spalten und drei Reihen, drei Spalten und drei Reihen, drei Spalten und vier Reihen, vier Spalten und vier Reihen, vier Spalten und fünf Reihen, fünf Spalten und fünf Reihen, fünf Spalten und sechs Reihen, sechs Spalten und sechs Reihen, sechs Spalten und sieben Reihen, sieben Spalten und sieben Reihen, sieben Spalten und acht Reihen, acht Spalten und acht Reihen, acht Spalten, und neun Reihen oder neun Spalten und neun Reihen. Alternativ ist beispielsweise ein sechseckiges Raster denkbar. Eine erfindungsgemäße elektromechanische Vorrichtung kann beispielsweise genau 2, 3, 4, 5, 6, 9, 12, 16, 20, 25, 30, 36, 42, 49, 56, 64, 72 oder 81 MEMS-Module umfassen, wobei auch andere Anzahlen > 2 denkbar sind. Auch die MEMS-Module können in einem rechteckigen Raster bestehend aus Spaten und Reihen angeordnet sein, beispielsweise bestehend zwei Spalten und zwei Reihen, zwei Spalten und drei Reihen, drei Spalten und drei Reihen, drei Spalten und vier Reihen, vier Spalten und vier Reihen, vier Spalten und fünf Reihen, fünf Spalten und fünf Reihen, fünf Spalten und sechs Reihen, sechs Spalten und sechs Reihen, sechs Spalten und sieben Reihen, sieben Spalten und sieben Reihen, sieben Spalten und acht Reihen, acht Spalten und acht Reihen, acht Spalten, und neun Reihen oder neun Spalten und neun Reihen. Auch hier ist alternativ beispielsweise ein sechseckiges Raster denkbar.
Ein vorteilhafter Aspekt einer so gegliederten mikroelektromechanischen Vorrichtung ist, dass durch die Gliederung in MEMS-Module eine Reduzierung der Komplexität und Fehleranfälligkeit des Aufbaus erreicht wird. Es wurde festgestellt, dass mehrere MEMS-Module mit einer reduzierten Anzahl von mikroelektromechanischen Bauelementen im Produktionsprozess einfacher zu handhaben sind als eine einzelne Einheit mit derselben Gesamtzahl von mikroelektromechanischen Bauelementen. Insbesondere kann durch einen erfindungsgemäßen Ansatz die Ausbeute des Produktionsprozesses deutlich gesteigert werden, da bei der Produktion gezielt die ME MS- Module ausgewählt werden können, die ausschließlich voll funktionsfähige mikroelektromechanische Bauelemente beinhalten. Weiterhin ist vorstellbar, dass eine Vielzahl solcher erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtungen wiederum zu einer übergeordneten Einheit verbunden werden, beispielsweise um größere Flächen abzudecken als mit einer einzelnen erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung praktikabel. Die erfindungsgemäß zwischen den Grundplatten und den ASIC-Schichten angeordneten Schutzrahmen sorgen dafür, dass in den durch die Schutzrahmen umgebenden Bereichen keine Beschädigungen auftreten können. Insbesondere werden so die in diesen Bereichen liegenden Strukturen der ASICs und die elektrischen Kontakte vor Schäden und Verunreinigungen geschützt, wie sie bei der Herstellung einer erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung und auch im späteren Betrieb auftreten können. Die Schutzrahmen dienen also zur Abkapselung von der Umwelt. Gleichzeitig wird auch der mechanische Zusammenhalt zwischen ASIC-Schichten und Grundplatten erhöht.
Vorzugsweise sind die Schutzrahmen der MEMS-Module so ausgeführt, dass insbesondere temperaturbedingte Verformungen der MEMS-Module reduziert werden.
Die Schutzrahmen sind weiterhin vorzugsweise so gestaltet, dass sie die gesamte ASIC-Schicht-Oberseite und die gesamte Grundplattenunterseite umfassen oder selbst bedecken. Die Schutzrahmen erstrecken sich folglich vorzugsweise entlang der Ränder der ASIC-Schicht-Oberseite und der Grundplattenunterseite. Bevorzugt steht dabei ein Schutzrahmen eines MEMS- Moduls nicht über die Grundplatte seitlich hinaus, um eine möglichst dichte Anordnung der MEMS-Module auf einem Trägersubstrat, also einen hohen Füllfaktor, zu ermöglichen. Ebenfalls zur Ermöglichung eines hohen Füllfaktors steht vorzugsweise auch die ASIC-Schicht eines MEMS-Moduls nicht seitlich über die Grundplatte hinaus. Die ASIC-Schicht eines MEMS-Moduls besitzt folglich vorzugsweise zur Grundplatte identische oder geringere Abmessungen. Ein besonders wichtige Ausführungsform der Erfindung ist der Einsatz mit Mikrospiegeln als mikroelektromechanische Bauelemente. Die mikroelektromechanische Vorrichtung kann also insbesondere ein Mikrospiegel- Array sein. In einem solchen Fall umfasst jedes der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente ein Spiegelelement mit einer Reflexionsfläche zur Reflexion von Licht und eine Verlagerungseinrichtung zum Verlagern des Spiegelelements des jeweiligen mikroelektromechanischen Bauelements, wobei das eine oder die mehreren ASICs zum Ansteuern der Verlagerungseinrichtungen ausgebildet sind. Hierbei meint ein Verlagern eine Bewegung im Hinblick auf zumindest einen Freiheitsgrad. Ein Verlagern kann sowohl lineare Bewegungen als auch Drehungen umfassen. Das Spiegelelement kann insbesondere ein Bragg-Spiegel sein oder seinen solchen umfassen. Bei den Verlagerungseinrichtungen kann es sich beispielsweise um elektrostatische Aktuatoren, beispielsweise mit Kammelektroden, handeln. In Frage kommen beispielsweise Aktuatoren wie in den Dokumenten DE 10 2013 206 529 Al, DE 10 213 206531 Al und DE 10 2015 204874 Al beschrieben.
Weiterhin ist es besonders vorteilhaft, wenn jedes der mehreren mikroelektromechanisches Bauelemente von jedem der mehreren MEMS- Module eine im Wesentlichen rechteckige, vorzugsweise quadratische oder eine im Wesentlichen sechseckige Grundfläche besitzt. Im Wesentlichen rechteckige beziehungsweise sechseckige Grundfläche, dass kleinere Abweichungen von einer rechteckigen beziehungsweise sechseckigen Grundfläche denkbar sind, beispielsweise durch abgerundete Ecken und/oder Ein- oder Ausbuchtungen.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist der mindestens eine Schutzrahmen von jedem der mehreren MEMS-Module ein Teil der stoffschlüssigen Verbindung der Grundplattenrückseite mit der ASIC-Schicht- Vorderseite in dem jeweiligen der mehreren MEMS-Module. Dies ermöglicht es, die Schutzrahmen einer erfindungsgemäßen Vorrichtung besonders einfach in einem Produktionsprozess zu realisieren.
Um die MEMS-Module während des Produktionsprozesses auf der Substratoberfläche platzieren, also greifen, bewegen und/oder positionieren zu können, beispielsweise mittels einer geeigneten Maschine, müssen die MEMS- Module ergriffen werden können, ohne diese zu beschädigen. Hierzu können die MEMS-Module jeweils einen das MEMS-Modul seitlich begrenzenden Rahmen umfassen, an dem ein MEMS-Modul ergriffen und anschließend bewegt und/oder positioniert werden kann. Dieser Rahmen kann mit einem Schutzrahmen des jeweiligen MEMS-Moduls identisch sein, ist dies bevorzugt aber nicht.
Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung wird eine Beleuchtungsoptik für eine mikroelektromechanische Vorrichtung zur Führung von Beleuchtungsstrahlung zu einem Objektfeld vorgeschlagen, die mindestens eine erfindungsgemäße mikroelektromechanische Vorrichtung umfasst, wobei jedes der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente ein Spiegelelement mit einer Reflexionsfläche und eine Verlagerungseinrichtung zum Verlagern des Spiegelelements des jeweiligen mikroelektromechanisches Bauelements umfasst, wobei das eine oder die mehreren ASICs zum Ansteuern der Verlagerungseinrichtungen ausgebildet sind. Eine erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik setzt also eine erfindungsgemäße mikroelektromechanische Vorrichtung als Mikrospiegel-Array ein. Sie kann insbesondere auch mehrere solcher erfindungsgemäßer Mikrospiegel-Arrays umfassen, beispielsweise, um mit einer Anordnung dieser Vielzahl von Mikrospiegel-Arrays einen größeren Gesamt- Mikrospiegel- Array umzusetzen mit dem es ermöglicht wird, einfallende Lichtstrahlen mit einem größeren Strahldurchmesser umzulenken.
Es wird gemäß einem dritten Aspekt auch ein Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen, das eine erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik und eine Strahlungsquelle, insbesondere eine EUV- Strahlungsquelle, umfasst.
Gemäß einem vierten Aspekt wird eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie vorgeschlagen, die eine erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik und eine Projektionsoptik zur Projizierung eines in einem Objektfeld angeordneten Retikels in ein Bildfeld umfasst.
Eine erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik, ein erfindungsgemäßes Beleuchtungssystem und eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage können Teil einer EUV-Lithographie-Anlage sein. Für solche sind verstellbare optische Pfade bis zu einer Fotomaske (auch als Retikel bezeichnet) vorteilhaft, die durch ein Mikrospiegel-Array als erfindungsgemäße mikroelektromechanische Vorrichtung im optischen Pfad verwirklicht werden kann. Die Reflexionsflächen der Spiegelelemente können mit einer Bragg- Beschichtung versehen sein, die die Zentralwellenlängen des zur Belichtung eingesetzten Lichts besonders gut reflektiert.
Für weitere Details bezüglich eines möglichen allgemeinen Aufbaus einer entsprechenden Projektionsbelichtungsanlage und einer zugehörigen Beleuchtungsoptik und eines zugehörigen Beleuchtungssystems sei auf die DE 10 2015 204 874 Al und die DE 10 2016 213 026 Al verwiesen, die hiermit vollständig als Bestandteil der vorliegenden Anmeldung in diese integriert sind.
Gemäß einem fünften Aspekt der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer mikroelektromechanischen Vorrichtung, vorzugsweise gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung, umfassend ein Trägersubstrat und mehrere ME MS -Mod ule vorgesehen. Jedes der MEMS-Module umfasst eine, vorzugsweise genau eine ASIC-Schicht mit einem oder mehreren ASIC (und optional auch anderen Elementen wie einem oder mehreren Interposern) und einer ASIC-Schicht- Vorderseite und einer ASIC-Schicht-Rückseite, eine Grundplatte mit einer Grundplattenvorderseite und einer Grundplattenrückseite und mehrere mikroelektromechanische Bauelemente umfasst, wobei die Grundplatte auf der ASIC-Schicht-Vorderseite angeordnet und die Grundplattenrückseite mit der ASIC-Schicht-Vorderseite verbunden ist. Die ASICs-Schichten der MEMS- Module können als durchgängige ASIC-Schichten oder als nicht durchgängige ASIC-Schichten ausgebildet sein. Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren erfolgt ein Bereitstellen eines ME MS-Substrats mit Strukturen für die mikroelektromechanischen Bauelemente und die Grundplatten der mehreren MEMS-Module. Das bereitgestellte MEMS-Substrat umfasst folglich Strukturen für die mikroelektromechanischen Bauelemente und für die Grundplatten der mehreren MEMS-Module. Ein solches Substrat liegt typischerweise in der Form eines Wafers vor (MEMS-Wafer) und kann beispielsweise mittels eines Verfahrens wie in der DE10 2015 206 996 Al beschrieben hergestellt werden. Ebenso erfolgt ein Bereitstellen eines AS IC-Substrats mit Strukturen für die ASIC-Schichten der mikroelektromechanischen Vorrichtung, ebenfalls typischerweise in Form eines Wafers (ASIC-Wafer). Aus diesen beiden Substraten wird ein gekoppeltes Substrat, typischerweise in Form eines gekoppelten Wafers, durch Verbinden (im Fall von Wafern: Waferbonden), insbesondere stoffschlüssigem Verbinden (beispielsweise Löten, Sintern, beispielsweise mit einer Silbersinterpaste, oder eutektischem Bonden), hergestellt, wobei für jedes der mehreren MEMS-Modul mehrere zugeordnete elektrische Kontakte und mindestens ein, vorzugsweise genau ein zugeordneter Schutzrahmen zwischen MEMS-Substrat und ASIC-Substrat ausgebildet werden, so dass für jedes MEMS-Modul der dem MEMS-Modul mindestens eine zugeordnete Schutzrahmen die dem MEMS-Modul zugeordneten elektrischen Kontakte zumindest teilweise, vorzugsweise alle umfasst. Anschließend wird dieses gekoppelte Substrat entlang vorgegebener Trennlinien, beispielsweise entlang einer Gitterstruktur, vereinzelt um die mehreren ME MS- Module zu erhalten, beispielsweise mittels Sägen durch eine Säge oder Schneidens durch einen Laserstrahl. Eine Vereinzelung kann auch unter Verwendung eines Ätzverfahrens wie reaktivem lonentiefätzen (DRIE, deep reactive ion etching) erfolgen. Die Schutzrahmen schützen in diesem Verfahrensschritt den Bereich der Kontakte vor Verunreinigungen und eventuellen Schäden sowie die dort liegenden Strukturen der jeweiligen ASIC-Schicht. Außerdem sorgen die Schutzrahmen für einen verbesserten Zusammenhalt des gekoppelten Substrats vor und während des Vereinzelns sowie nach der Vereinzelung der MEMS- Module.
Weiterhin wird ein Trägersubstrat bereitgestellt, auf dem gegebenenfalls bereits weitere Elektronik und/oder andere Komponenten angebracht sein kann. Die mehreren MEMS-Module werden auf einer Substratoberfläche des Trägersubstrats platziert. Anschließend erfolgt ein stoffschlüssiges Verbinden, beispielsweise mittels Löten oder Sintern, beispielsweise mit einer Silbersinterpaste, der ASIC-Schicht-Rückseiten der mehreren MEMS-Module mit der Substratoberfläche. Vorzugsweise erfolgt vor dem Herstellen des gekoppelten Substrats ein Testen der mikroelektromechanischen Strukturen des MEMS-Substrats und/oder ein Testen der Strukturen des ASIC-Substrats um die Funktionsfähigkeit sicherzustellen. Vorzugsweise kann zur Sicherstellung der Funktionsfähigkeit auch ein Testen der MEMS-Module nach dem Herstellen des gekoppelten Substrats und/oder der gesamten fertiggestellten mikroelektromechanischen Vorrichtung nach dem stoffschlüssigen Verbinden der ASIC-Schicht-Rückseiten der mehreren MEMS-Module mit der Substratoberfläche erfolgen.
Vorteile der Erfindung
Die Erfindung bietet einen Ansatz für mikroelektromechanische Vorrichtungen wie beispielsweise Mikrospiegel-Arrays, die eine Mehrzahl von mikroelektromechanischen Bauelemente umfassen, die auf demselben Trägersubstrat angeordnet sind.
Durch die erfindungsgemäße Gliederung der mikroelektromechanischen Bauelemente in einzelne kleinere Einheiten (MEMS-Module) kann insbesondere die Ausbeute des Produktionsprozesses deutlich gesteigert werden, da bei der Produktion die einzelnen MEMS-Module gezielt getestet und anschließend die ausgewählt werden können, die ausschließlich voll funktionsfähige mikroelektromechanische Bauelemente beinhalten. Weiterhin wird durch den Einsatz von Schutzrahmen zur Umfassung wichtiger Bereiche der MEMS-Module einschließlich relevanter elektrischer Kontakte ein Schutz vor Beschädigungen und Verunreinigungen erreicht werden, insbesondere im Verlauf des erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens während der für die Fertigung der MEMS-Module erforderlichen Vereinzelung und bei dem Einsatz des MEMS- Moduls in einer aggressiven Umgebung. Solche Schutzrahmen erhöhen weiterhin auch die mechanische Stabilität der Verbindung zwischen MEMS- Substrat und ASIC-Substrat.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der Zeichnungen und der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert.
Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Darstellung eines Teils einer beispielhaften erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung in einer Seitenansicht;
Figur 2 eine schematische Darstellung eines MEMS-Moduls einer zweiten beispielhaften erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung in einer Seitenansicht sowie eine schematische Ansicht zur Verdeutlichung der Anordnung eines Schutzrahmens; und
Figur 3 in schematischer Form als Flussdiagramm ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung einer mikroelektromechanischen Vorrichtung.
Ausführungsformen der Erfindung
In der nachfolgenden Beschreibung der Ausführungsformen der Erfindung werden gleiche oder ähnliche Elemente mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet, wobei auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente in Einzelfällen verzichtet wird. Die Figuren stellen den Gegenstand der Erfindung nur schematisch dar.
Figur 1 zeigt eine schematische Darstellung eines Teils einer beispielhaften erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung 110, eines Mikrospiegel-Arrays, von der Seite. Auf der Substratoberfläche 100a eines Trägersubstrat 100 sind im dargestellten Beispiel zwei MEMS-Module 120 (linkes MEMS-Modul: 120a, rechtes MEMS-Modul: 120b) angeordnet, die jeweils mehrere mikroelektromechanische Bauelemente 130 umfassen, wovon in der Figur 1 jeweils vier dargestellt sind. Bei den mikroelektromechanischen Bauelementen 130 handelt es sich im gezeigten Fall um Mikrospiegel. Diese umfassen jeweils ein Spiegelelement 134, das wiederum über eine Reflexionsfläche 136 zur Reflexion von Licht verfügt. Diese Spiegelelemente 134 können durch Verlagerungseinrichtungen 132 bewegt werden. Zum Ansteuern der Verlagerungseinrichtungen 132 dienen ASICs, die in Form von Dies unterhalb der Verlagerungseinrichtungen 132 in ASIC-Schichten 140 angeordnet sind und ebenfalls Teil des jeweiligen MEMS-Moduls 120 sind. Weitere Elektronik, zum Beispiel ebenfalls zur Steuerung der Verlagerungseinrichtungen 132, beispielsweise in Form weiterer ASICs, kann beispielsweise auf der Rückseite 100b des Trägersubstrats 100 angeordnet sein (nicht dargestellt).
Innerhalb eines MEMS-Moduls 120 sind die mikroelektromechanischen Bauelemente 130 auf der Vorderseite 160a einer Grundplatte 160 angeordnet. Hierbei ist diese Grundplattenvorderseite 160a mit den Rückseiten 130b der mikroelektromechanischen Bauelemente 130 verbunden. In dem dargestellten Beispiel sind zwei Grundplatten 160 sichtbar, auf denen sich die jeweils vier sichtbaren mikroelektromechanischen Bauelemente 130 befinden. Die mikroelektromechanischen Bauelemente 130 sind über elektrische Kontakte 144 mit den ASICs der jeweiligen ASIC-Schicht 140 verbunden. Die ASICs der ASIC- Schichten 140 wiederum können über elektrische Kontakte 146 mit weiterer Elektronik (nicht dargestellt) verbunden sein, die beispielsweise auf dem Trägersubstrat 100 angeordnet sein kann. Auch können beispielsweise Silizium- Durchkontaktierungen (TSV, through-silicon via) 142 in den ASIC-Schichten 140 existieren, die beispielsweise zur Herstellung von elektrischen Verbindungen zwischen einer solchen weiteren Elektronik auf dem Trägersubstrat 100 und den mikroelektromechanischen Bauelementen 130 dienen können. Solche Durchkontaktierungen 142 können beispielsweise auch mittels Interposer, die ebenfalls Teil der ASIC-Schichten 140 sein können, oder mittels der Dies der ASICs umgesetzt sein.
Weiterhin ist in der Figur 1 für jedes der zwei gezeigten MEMS-Module 120 ein Schutzrahmen 195 sichtbar, der den Bereich zwischen den Grundplatten 160 und der ASIC-Schicht 140 und damit auch die elektrischen Kontakte 144 (elektrische Kontakte zwischen ASICs und Grundplatte sowie elektrische Kontakte als Weiterführungen von Durchkontaktierungen 142) vor Beschädigungen schützt. Weiterhin kann optional jeweils ein weiterer Rahmen 170 Teil der MEMS-Module 120 sein, der die MEMS-Module 120 seitlich begrenzt und mittels dessen die MEMS-Module 120 auf dem Trägersubstrat 100 platziert werden können, ohne Beschädigungen der MEMS-Module 120 und insbesondere deren mikroelektromechanischer Bauelemente 130 zu riskieren beziehungsweise vor Eintrag von Partikeln schützt.
Figur 2 zeigt eine schematische Darstellung eines MEMS-Moduls 220 einer zweiten beispielhaften erfindungsgemäßen mikroelektromechanischen Vorrichtung 210 in einer Seitenansicht in einer oberen Teilfigur sowie eine schematische Ansicht einer Schnittebene A zur Verdeutlichung der Anordnung eines Schutzrahmens 295 im MEMS-Modul 220 in einer unteren Teilfigur. Wie in der Figur 1 besitzt auch das hier dargestellte MEMS-Modul 220 vier in der Seitenansicht der oberen Teilfigur sichtbare mikroelektromechanische Bauelemente 230. Insgesamt verfügt das dargestellte MEMS-Modul 220, wie aus der unteren Teilfigur hervorgeht, über 16 mikroelektromechanische Bauelemente 230 mit je einer Verlagerungseinrichtung 232 zum Verlagern von Spiegelelementen 234 mit Reflexionsflächen. Zwischen einer ASIC-Schicht 240 und der Grundplatte 260 befinden sich elektrische Kontakte 244a, 244b, 244c, 244d, die teilweise Fortführungen von elektrischen Verbindungen wie Durchkontaktierungen 142 in der ASIC-Schicht 240 sind. Zumindest teilweise sind diese elektrischen Kontakte 244a, 244b, 244c, 244d umfasst von einem Schutzrahmen 295. Bevorzugt und wie in Figur 2 gezeigt befinden sich alle elektrischen Kontakte 244a, 244b, 244c, 244d innerhalb des vom Schutzrahmen 295 definierten Bereichs. Das gesamte MEMS-Modul 220 ist auf einem Trägersubstrat 200, beispielsweise im Wesentlichen bestehend aus einer Keramik, angeordnet, wobei die ASIC-Schicht-Rückseite 240b der ASIC-Schicht 240 mit der Substratoberfläche 200a des Trägersubstrats 200 beispielsweise stoffschlüssig verbunden ist. Die Schnittebene A, die in der Höhe der elektrischen Kontakte 244a, 244b, 244c, 244d liegt, ist in der unteren Teilfigur in einer Draufsicht dargestellt. Erkennbar ist, dass das beispielhafte MEMS-Modul 220 aus vier mal vier mikroelektromechanischen Bauelementen 230 besteht, denen jeweils 25 elektrische Kontakte 244a, 244b, 244c, 244d zugeordnet sind.
Figur 3 schließlich zeigt in schematischer Form als Flussdiagramm ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung einer mikroelektromechanischen Vorrichtung 110, 210 umfassend ein Trägersubstrat 100, 200 und mehrere ME MS -Mod ule 120, 220, wobei jedes der MEMS-Module 120, 220 eine ASIC- Schicht 140, 240 umfassend ein oder mehrere ASICs mit einer ASIC-Schicht- Vorderseite 140a, 240a und einer ASIC-Schicht-Rückseite 140b, 240b, eine Grundplatte 160, 260 mit einer Grundplattenvorderseite 160a und einer Grundplattenrückseite 160b und mehrere mikroelektromechanische Bauelemente 130, 230 umfasst, wobei die Grundplatte 160, 260 auf der ASIC-Schicht- Vorderseite 140a angeordnet und die Grundplattenrückseite 160b mit der ASIC- Schicht-Vorderseite 140a verbunden ist. Hierbei erfolgt ein Bereitstellen 310 eines ME MS-Substrats mit Strukturen für die mikroelektromechanischen Bauelemente 130, 230 und die Grundplatten 160, 260 der mehreren MEMS- Module 120, 220. Ebenso erfolgt ein Bereitstellen 320 eines ASIC-Substrats mit Strukturen für die ASIC-Schichten 140, 240 der mehreren MEMS-Module 120, 220. Aus diesen wird ein gekoppeltes Substrat durch stoffschlüssiges Verbinden, beispielsweise Löten, Sintern oder eutektischem Bonden, hergestellt, wobei für jedes der mehreren MEMS-Modul 120, 220 mehrere zugeordnete elektrische Kontakte 144 zwischen MEMS-Substrat und ASIC-Substrat ausgebildet werden. Anschließend wird dieses gekoppelten Substrats entlang vorgegebener Trennlinien wie beispielsweise einer Gitterstruktur vereinzelt, um die mehreren MEMS-Module 120, 220 zu erhalten. Weiterhin wird ein Trägersubstrat 100, 200 bereitgestellt, auf dem gegebenenfalls weitere Elektronik angebracht sein kann. Die mehreren MEMS-Module 120, 220 werden auf der Substratoberfläche 100a, 200a des Trägersubstrats 100, 200 platziert. Schließlich werden die ASIC- Schicht- Rückseiten 140b der mehreren MEMS-Module 120, 220 stoffschlüssig in Schritt 370 mit der Substratoberfläche 100a, 200a verbunden.
Vorzugsweise erfolgt vor dem Herstellen des gekoppelten Substrats ein Testen
315 der mikroelektromechanischen Strukturen des ME MS-Substrats und/oder ein Testen 325 der Strukturen des AS IC- Substrats um die Funktionsfähigkeit sicherzustellen. Zusätzlich oder alternativ kann zur Sicherstellung der Funktionsfähigkeit auch ein Testen 345 der ME MS- Module 120, 220 nach dem Herstellen des gekoppelten Substrats und/oder ein Testen 375 der gesamten fertiggestellten mikroelektromechanischen Vorrichtung 110, 210 nach dem stoffschlüssigen Verbinden der ASIC-Schicht-Rückseiten 140b der mehreren MEMS-Module 120, 220 mit der Substratoberfläche 100a erfolgen.
Die Erfindung ist nicht auf die hier beschriebenen Ausführungsbeispiele und die darin hervorgehobenen Aspekte beschränkt. Vielmehr ist innerhalb des durch die
Ansprüche angegebenen Bereichs eine Vielzahl von Abwandlungen möglich, die im Rahmen fachmännischen Handelns liegen.

Claims

Ansprüche
1. Mikroelektromechanische Vorrichtung (110, 210) umfassend ein Trägersubstrat (100, 200) mit einer Substratoberfläche (100a, 200a) und mehrere MEMS-Module (120, 220), wobei jedes der mehreren MEMS-Module (120, 220) eine ASIC-Schicht (140) mit einer ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) und einer ASIC- Schicht- Rückseite (140b), eine Grundplatte (160, 260) mit einer Grundplattenvorderseite (160a) und einer Grundplattenrückseite (160b) und mehrere mikroelektromechanische Bauelemente (130, 230) mit einer Bauelementrückseite (130b) umfasst, wobei die Grundplatte (160, 260) auf der ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) angeordnet und die Grundplattenrückseite (160b) mit der ASIC- Schicht-Vorderseite (140a) über elektrische Kontakte (144, 244a, 244b, 244c, 244d) stoffschlüssig verbunden ist und die mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente (130, 230) auf der Grundplattenvorderseite (160a) angeordnet und deren Bauelementrückseiten (130b) mit der Grundplattenvorderseite (160a) verbunden sind, wobei die elektrischen Kontakte (144, 244a, 244b, 244c, 244d) zumindest teilweise durch mindestens einen zwischen Grundplatte (160, 260) und ASIC-Schicht (140) angeordneten Schutzrahmen (195, 295) umfasst sind, wobei die ASIC-Schicht (140) ein oder mehrere ASICs zum Ansteuern der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente (130, 230) aufweist, wobei das eine oder die mehreren ASICs mit den mikroelektromechanischen Bauelementen (130, 230) unter Benutzung zumindest eines Teils der elektrischen Kontakte (144, 244a, 244b, 244c, 244d) elektrisch verbunden sind, wobei die mehreren MEMS-Module (120, 220) auf der Substratoberfläche (100a, 200a) angeordnet sind und die ASIC-Schicht- Rückseiten (140b) der mehreren MEMS-Module (120, 220) mit der Substratoberfläche (100a, 200a) verbunden sind. Mikroelektromechanische Vorrichtung (110, 210) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente (130, 230) ein Spiegelelement (134, 234) mit einer Reflexionsfläche (136) und eine Verlagerungseinrichtung (132) zum Verlagern des Spiegelelements (134, 234) des jeweiligen mikroelektromechanischen Bauelements (130, 230) umfasst, wobei das eine oder die mehreren ASICs zum Ansteuern der Verlagerungseinrichtungen (132) ausgebildet sind. Mikroelektromechanische Vorrichtung (110, 210) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der mehreren MEMS-Module (120, 220) genau 2, 3, 4, 6, 9, 12, 16, 20, 25, 30, 36, 42, 49, 56, 64, 72 oder 81 der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente (130, 230) aufweist. Mikroelektromechanische Vorrichtung (110, 210,) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der mehreren mikroelektromechanischen Bauelemente (130, 230) von jedem der mehreren MEMS-Module (120, 220) eine im Wesentlichen rechteckige, vorzugsweise quadratische oder eine im Wesentlichen sechseckige Grundfläche aufweist. Mikroelektromechanische Vorrichtung (110, 210) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Schutzrahmen (195, 295) von jedem der mehreren MEMS-Module (120, 220) ein Teil der stoffschlüssigen Verbindung der Grundplattenrückseite (160b) mit der ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) in dem jeweiligen der mehreren MEMS-Module (120, 220) ist. Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage zur Führung von Beleuchtungsstrahlung zu einem Objektfeld umfassend eine oder mehrere mikroelektromechanische Vorrichtungen (110, 210) nach Anspruch 2 und vorzugsweise einem der Ansprüche 3 bis 5. Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine Beleuchtungsoptik nach Anspruch 6 und eine Strahlungsquelle, vorzugsweise eine EUV-Strahlungsquelle. Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie umfassend eine Beleuchtungsoptik nach Anspruch 6 und eine Projektionsoptik zur Projizierung eines in einem Objektfeld angeordneten Retikels in ein Bildfeld. Verfahren zur Herstellung einer mikroelektromechanischen Vorrichtung (110, 210) vorzugsweise nach einem der Ansprüche 1 bis 5, umfassend ein Trägersubstrat (100, 200) und mehrere MEMS-Module (120, 220), wobei jedes der MEMS-Module (120, 220) eine ASIC-Schicht (140) umfassend ein oder mehrere ASICs mit einer ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) und einer ASIC-Schicht-Rückseite (140b), eine Grundplatte (160, 260) mit einer Grundplattenvorderseite (160a) und einer Grundplattenrückseite (160b) und mehrere mikroelektromechanische Bauelemente (130, 230) umfasst, wobei die Grundplatte (160, 260) auf der ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) angeordnet und die Grundplattenrückseite (160b) mit der ASIC-Schicht-Vorderseite (140a) verbunden ist, umfassend die folgenden Schritte: a. Bereitstellen (310) eines ME MS-Substrats mit Strukturen für die mikroelektromechanischen Bauelemente (130, 230) und für die Grundplatten (160, 260) der mehreren MEMS-Module (120, 220); b. Bereitstellen (320) eines AS IC- Substrats mit Strukturen für die ASIC- Schichten (140) der mehreren MEMS-Module (120, 220); c. Herstellen (330) eines gekoppelten Substrats durch stoffschlüssiges Verbinden des ME MS-Substrats mit dem AS IC- Substrat, wobei für jedes der mehreren MEMS-Modul (120, 220) mehrere zugeordnete elektrische Kontakte (144, 244a, 244b, 244c, 244d) und mindestens ein zugeordneter Schutzrahmen (195, 295) zwischen MEMS-Substrat und ASIC-Substrat ausgebildet werden, so dass für jedes MEMS- Modul (120, 220) der dem MEMS-Modul (120, 220) mindestens eine zugeordnete Schutzrahmen (195, 295) die dem MEMS-Modul (120, 220) zugeordneten elektrischen Kontakte (144, 244a, 244b, 244c, 244d) zumindest teilweise umfasst; d. Vereinzeln (340) des gekoppelten Substrats entlang vorgegebener Trennlinien zum Erhalt der mehreren MEMS-Module (120, 220); e. Bereitstellen (350) des Trägersubstrats (100, 200); f. Platzieren (360) der mehreren ME MS- Module (120) auf einer Substratoberfläche (100a, 200a) des Trägersubstrats (100, 200); und g. stoffschlüssiges Verbinden (370) der ASIC-Schicht-Rückseiten (140b) der mehreren MEMS-Module (120, 220) mit der Substratoberfläche (100a, 200a). Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass
• vor dem Herstellen (330) des gekoppelten Substrats ein Testen (315) der Strukturen des ME MS-Substrats und/oder ein Testen (325) der Strukturen des AS IC- Substrats erfolgt; und/oder
• nach dem Herstellen (330) des gekoppelten Substrats ein Testen (345) der MEMS-Module (120, 220) erfolgt; und/oder
• nach dem stoffschlüssigen Verbinden (370) der ASIC-Schicht-
Rückseiten (140b) der mehreren MEMS-Module (120, 220) mit der Substratoberfläche (100a, 200a) ein Testen (375) der hergestellten mikroelektromechanischen Vorrichtung (110, 210) erfolgt.
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