EP3092531B1 - Procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre - Google Patents
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- EP3092531B1 EP3092531B1 EP15700185.0A EP15700185A EP3092531B1 EP 3092531 B1 EP3092531 B1 EP 3092531B1 EP 15700185 A EP15700185 A EP 15700185A EP 3092531 B1 EP3092531 B1 EP 3092531B1
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 12
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 12
- 230000005012 migration Effects 0.000 claims description 10
- 238000013508 migration Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 4
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 claims description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 claims description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 229910017109 AlON Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 claims 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 32
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 2
- 206010030924 Optic ischaemic neuropathy Diseases 0.000 description 1
- 241000135309 Processus Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- -1 des ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010002 mechanical finishing Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011176 pooling Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B39/00—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses
- G04B39/02—Sealing crystals or glasses
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/06—Devices for shaping or setting watch glasses
Definitions
- the present invention relates to a method for attaching an upper and/or lower crystal to a watch case, more precisely to a bezel or to a bezel middle part of a watch case.
- the present invention aims to provide a method for attaching a crystal to a watch case without using a gasket or glue while ensuring a tight and resistant attachment.
- the subject of the present invention is a method for attaching a crystal to a watch case which is distinguished by the characteristics listed in claim 1.
- the specificity and the object of the present invention is to produce a gas-tight and liquid-tight assembly without welding, without solder and without organic compound (glue).
- Several preparations of the surfaces are necessary and illustrated in the appended drawing which illustrates schematically and by way of example, the successive steps of an execution of the method of fixing a crystal on a watch case according to the invention.
- the present method makes it possible to fix a watch crystal which can typically be made of mineral glass, sapphire or other transparent or translucent ceramics with or without anti-reflective coating on part or all of the surface, to a bezel or carrure bezel of a watch case by the anodic bonding technique.
- the zone of the watch case on which the crystal is fixed is typically made of stainless steel, platinum or gold, or comprises the various alloys associated with these materials.
- the aforementioned materials can be coated with rhodium or any other material used for the manufacture of watch cases or jewelry or jewelry products.
- the anodic bonding process is used in the general field of microtechnology, more particularly in the biomedical, aerospace and electronics sectors, where connections are made between materials compatible from the point of view of thermal expansion coefficients close to the anodic assembly technology.
- anode assemblies is mainly used for thin and flat films and layers, in particular such as metal, glass and silicon wafers.
- the assembly proposed by the present invention is carried out by means of intermediate layers, this with the aim of consolidating the bond, increasing the speed of diffusion and allowing assembly for a greater range of materials. and more massive parts, subjected to high stresses and having to resist shocks.
- This fixing method is applied to mechanical components subjected to high mechanical stresses, in particular between a watch crystal on a steel, gold or platinum watch case in particular.
- the method for attaching a watch crystal to a watch case according to the invention consists in producing a permanent and sealed anode assembly between the case and the crystal by the use of surface treatment on the areas of the crystal and/ or the box coming into contact allowing the migration of ions and electrons.
- An electrode is connected to the crystal and a counter-electrode is connected to the watch case and then a voltage of between 1kV and 15kV is applied to improve the intimate contact between the partners and to bring kinetic energy assisted by the electric field to the charged particles For allow them to diffuse and create new ionic or covalent metallic bonds.
- the crystal and/or the watch case Prior to their placement, are provided in the areas coming into contact with a semiconductor or insulating element promoting migration, such as glass or silicon.
- a semiconductor or insulating element promoting migration such as glass or silicon.
- the process is carried out at low temperature ensuring that none of the materials in the system, watch case, glass or intervening layers, leave their solid phase.
- the electrodes are adapted to the geometry of the contact surface.
- the geometry of the electrode is considered in three dimensions, the part in contact with the sapphire is without edges and without tip, typically of curved shape.
- a surface functionalization by ion implantation makes it possible to improve the phenomena of diffusion by the contribution of element in the matrix and by the disturbance of the crystal lattice or of the stoichiometry.
- a surface functionalization by UV exposure makes it possible to improve the phenomena of diffusion by the disturbance of the crystal lattice or of the stoichiometry resulting from the supply of energy in the matrix.
- a surface treatment allowing a structural modification of the substrates typically comprising heat, activation plasma, etching plasma or sonochemical treatments can be used to facilitate the diffusion phenomena.
- the assembly described is carried out by anodic bonding only, no element is fused, even partially. This differentiates the assembly obtained in a significant way from assemblies obtained by laser or ultrasonic welding.
- the assembly described makes it possible to produce metal-to-metal, metal-to-non-metal and non-metal-to-non-metal connections.
- the intermediate semiconductor element can be attached by a separate piece or deposited by physical or chemical means (PVD, PE-CVD, Sol-gel, electroplating).
- the thin intermediate layers considered have a non-constant stoichiometry.
- the degree of nitriding or carburizing oxidation varies with layer thickness.
- the thin layer of the bezel may also contain its natural or forced passivation layer.
- a masking layer is deposited on the glass in order to mask the contact zone.
- This layer may consist of metallic elements and alloys of at least one of the following elements: Ti, Fe, Al, Cr, V, Pt, Ta, W, Ga, Sn, Zn, Au and Ag.
- watch case also includes the other components of the casing such as the back and the middle.
- a watch case is considered to be all the components enabling the movement to be enclosed in a watertight manner.
- the crystal considered consists of at least one of the following elements: aluminum oxide such as sapphire, spinel, spinel AION, aluminum oxynitride, yttria, YAG (Yttrium Aluminum Garnet) and Nd :YAG or silicon oxide such as mineral glass or pyrex.
- aluminum oxide such as sapphire, spinel, spinel AION, aluminum oxynitride, yttria, YAG (Yttrium Aluminum Garnet) and Nd :YAG or silicon oxide such as mineral glass or pyrex.
- the temperature of the partners, watchcase and crystal, during the bonding process is below 380°C, and preferably below 250°C.
- the temperature may vary during assembly, for example from 120°C to 250°C.
- the rate of extension of the anode link is for example greater than 1 mm 2 /minute.
- the surface roughness of the bezel is obtained by mechanical machining or fine stamping with the addition of chemical electropolishing.
- step No. 2 ie polishing the upper face of the bezel, can be omitted.
- bezel can be replaced by a middle bezel or any other part of the watch case on which the crystal must be fixed.
- An alternative consists of using an added glass material between the crystal and the caseband coated according to the figure 1 .
- the intermediate layer is deposited on the upper face of the bezel by the physical or chemical technology mentioned above and the composition of the matrix of this intermediate layer typically consists of TixOy, Si x O y , Si x N y , Al x O y or mixtures of oxides containing light metal atoms / ions such as Li, Na, K, Ca, Be, or halogens favoring ion migration.
- the addition of a thin metallic layer is possible before the deposition of the intermediate layer in order to better guarantee the shine and the visual metallic aspect under the transparent glass. This can by its choice increase the adhesion between the intermediate layer, the transition between the materials can even be done gradually.
- the anode assembly is carried out under a voltage of less than 15 kV.
- the anode assembly will take place at a temperature below 250°C.
- the determination of the nature of the intermediate layer or layers requires the qualification of the materials to be assembled, typically its physico-chemical composition, the mechanical properties, the surface condition, in order to optimize the characteristics of the deposit which will serve as the first intermediate layer. This is qualified by the following factors: adhesion with the raw materials, types of defects and gaps allowing the diffusion of ions and migration, electronegativity of the ions contained within the intermediate layer(s), concentration of ions and gaps, orientation of these same gaps.
- the layer or layers can contain alkaline, alkaline-earth and halogenated materials because of their ease of migration and the size of their atoms.
- the intermediate layer(s) will define the quality of the bond, its mechanical properties and sealing, but also its aesthetic properties. To understand the importance of this or these intermediate layers and to differentiate an assembly according to the present invention from conventional welding or brazing techniques where there is no question of the use of an electric field, it is a question of understanding the specific atomic transfers during the anode assembly process.
- any charged particle placed under the influence of a uniform electric field moves at a speed proportional to this field, the proportionality factor being called the electric mobility of the particle.
- This migration will take place from the anode towards the cathode for the positively charged particles, in the opposite direction for the negatively charged particles.
- a potential difference is observed between the partners, which generates a plating between the partners induced under the effect of electrostatic forces. If this plating is insufficient, the application of a mechanical load to force contact between the partners is considered.
- the electric field increases the diffusion process, assembly speeds are reduced on the order of minutes, encouraging increased throughput and better reproducibility.
- Transport phenomena Properties relating to electric currents and displacements of charge carriers under the influence of applied forces are called transport phenomena.
- transport phenomena mobility, whether for example vacancies, impurities, charge carriers (the materials are differentiated by the Debye length of the majority carriers and their behavior is described in particular by the continuity equation ) as well as diffusion (based on Fick's laws) are the key mechanisms of anodic assembly.
- the parameters that most influence the mobility of the charge carriers are the temperature and the volume number of impurities.
- the defects can be distinguished impurities and gaps.
- the choice of the intermediate layer or layers strongly depends on the "properties" of the charge carriers.
- the chemical composition of the layer(s) is naturally important since the transport phenomena depend on the characteristics of the atomic bonds.
- the bonds created during the anodic assembly process are mostly covalent type bonds. These strong bonds are established by the pooling of a pair of electrons from each of the charge carriers.
- PVD deposition method is preferred, but an intermediate layer (mono or multilayer) can be deposited by another physical or chemical deposition process.
- the temperature and the voltage applied as well as the contact time are closely linked and complementary since they control the electrostatic force necessary for the chemical reaction between the parts to be assembled.
- the voltage will not go beyond 15 kV, and the temperature will not exceed 250°C.
- the gap between the parts to be assembled has a significant effect on the magnitude of the electrostatic force, which implies that the quality of the bond formed by anodic assembly also depends on the surface condition.
- electrochemical polishing is used.
- the deposit of a layer mimicking the material of the bezel is deposited on the ice before the deposition of the functional layer. Such a deposit is selective, masking the assembly zone, with an aesthetic function.
- This selectivity is obtained by masking technique, typically by lithography, stamping, selective etching or by adhesion promotion.
- optical rendering color surface appearance
- the optical rendering, color surface appearance is obtained by adapting the layers, in particular by their thickness, their composition and their pre-treatments.
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Description
- La présente invention se rapporte à un procédé de fixation d'une glace supérieure et/ou inférieure sur une boîte de montre, plus précisément sur une lunette ou sur une carrure lunette d'une boîte de montre.
- On connaît par le document
CH 678680 A - De plus, des techniques classiques de soudage d'une glace sur un boîtier de montre sont connues des documents
EP 0066538 A1 etEP 0127078 A1 . - La présente invention vise à proposer un procédé permettant de fixer une glace sur une boîte de montre sans utiliser de joint ou de colle tout en assurant une fixation étanche et résistante.
- La présente invention a pour objet un procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre qui se distingue par les caractéristiques énumérées à la revendication 1.
- La spécificité et le but de la présente invention est de produire un assemblage étanche aux gaz et aux liquides sans soudure, sans brasure et sans composé organique (colle). Plusieurs préparations des surfaces sont nécessaires et illustrées au dessin annexé qui illustre schématiquement et à titre d'exemple, les étapes successives d'une exécution du procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre selon l'invention.
- Le présent procédé permet de fixer une glace de montre pouvant être typiquement en verre minéral, saphir ou autres céramiques transparente ou translucide avec ou sans revêtement antireflets sur une partie ou la totalité de la surface, à une lunette ou carrurelunette d'une boîte de montre par la technique de l'assemblage anodique (anodic bonding). La zone de la boîte de montre sur laquelle est fixée la glace est typiquement en acier inoxydable, en platine ou en or, ou comprend les différents alliages associés à ces matériaux. Les matériaux précités peuvent indifféremment être revêtus de rhodium ou toute autre matière utilisée pour la fabrication de boîtes de montres ou de produits de bijouterie ou de joaillerie.
- Le procédé d'assemblage anodique (anodic bonding) est utilisé dans le domaine général de la microtechnique, plus particulièrement dans les secteurs biomédicaux, aérospatiaux et en électronique, où l'on réalise des liaisons entre des matériaux compatibles d'un point de vue de coefficients de dilatation thermique proche avec la technologie d'assemblage par anodique.
- Dans ces domaines, notamment en microélectronique et les domaines voisins, l'utilisation d'assemblages anodiques est surtout utilisée pour les films et couches minces et plates notamment comme des wafers de métal, de verre et de silicium.
- Par le même principe de limitation des contraintes, des assemblages anodiques de petites tailles et de faible masse ou des éléments non soumis à des forces mécaniques externes, ont été décrits dans le secteur horloger dans le document
JP 08166469A JP 05080163A - Contrairement à ces réalisations, l'assemblage proposé par la présente invention se réalise par le biais de couches intermédiaires, ceci dans l'objectif de consolider le lien, augmenter la vitesse de diffusion et de permettre l'assemblage pour une plus grande gamme de matériaux et des pièces plus massives, soumises à de fortes contraintes et devant résister aux chocs.
- Le présent procédé de fixation est appliqué à des composants mécaniques soumis à des contraintes mécaniques élevées, en particulier entre une glace de montre sur une boîte de montre en acier, or ou platine notamment.
- Le procédé de fixation d'une glace de montre sur une boîte de montre selon l'invention consiste à réaliser un assemblage anodique permanent et étanche entre la boîte et la glace par l'utilisation de traitement de surface sur les zones de la glace et/ou de la boîte entrant en contact permettant la migration des ions et des électrons.
- Une électrode est connectée à la glace et une contre-électrode est connectée à la boîte de montre puis on applique une tension comprise entre 1kV et 15kV pour améliorer le contact intime entre les partenaires et amener une énergie cinétique assistée par le champ électrique aux particules chargées pour leur permettre de diffuser et de créer de nouvelles liaisons métalliques ioniques ou covalentes.
- Préalablement à leur mise en place, la glace et/ou la boîte de montre sont munies dans les zones entrant en contact d'un élément semi-conducteur ou isolant favorisant la migration tel que des verres ou du silicium.
- Le processus s'effectue à basse température garantissant qu'aucun des matériaux du système, boîte de montre, glace ou couches intermédiaires, ne quitte sa phase solide.
- La spécificité de la couche déposée sur la glace tient dans l'évolution chimique et structurelle, la partie en contact avec le substrat est de nature purement métallique et au fur et à mesure de sa croissance son degré d'oxydation évolue de manière progressive pour se terminer en surface avec un état d'oxydation complet TiO2.
- De préférence, les électrodes sont adaptées à la géométrie de la surface de contact. La géométrie de l'électrode est considérée en trois dimensions, la partie en contact avec le saphir est sans arrêtes et sans pointe, typiquement de forme incurvée.
- Une fonctionnalisation de surface par implantation ionique permet d'améliorer les phénomènes de diffusion par l'apport d'élément dans la matrice et par la perturbation du réseau cristallin ou de la stoechiométrie.
- Une fonctionnalisation de surface par exposition UV permet d'améliorer les phénomènes de diffusion par la perturbation du réseau cristallin ou de la stoechiométrie résultant de l'apport d'énergie dans la matrice.
- Un traitement de surface permettant une modification structurelle des substrats comprenant typiquement des traitements thermique, plasma d'activation, plasma de décapage ou sonochimique peut être utilisé pour faciliter les phénomènes de diffusion.
- L'assemblage décrit est effectué par anodic bonding uniquement, aucun élément n'est mis en fusion, même partiellement. Ceci différencie l'assemblage obtenu d'une manière importante des assemblages obtenus par soudures laser ou ultrasons.
- L'assemblage décrit permet de réaliser des liaisons métal sur métal, métal sur non-métal et non métal sur non métal.
- L'élément semi-conducteur intermédiaire peut être rapporté par une pièce séparée ou déposé par voie physique ou chimique (PVD, PE-CVD, Sol-gel, galvanoplastie).
- Les couches intermédiaires minces considérées possèdent une stoechiométrie non constante. Le degré d'oxydation de nitruration ou de cémentation varie avec l'épaisseur de la couche.
- La couche mince de la lunette peut également contenir sa couche de passivation naturelle ou forcée.
- Une couche de masquage est déposée sur la glace afin de masquer la zone de contact. Cette couche peut être constituée d'éléments métalliques et des alliages d'au moins un des éléments suivants : Ti, Fe, AI, Cr, V, Pt, Ta, W, Ga, Sn, Zn, Au et Ag.
- Le terme boîte de montre comprend également les autres composants de l'habillage tel que le fond et la carrure. Est considéré comme boîte de montre tous les composants permettant d'enfermer le mouvement de manière étanche.
- La glace considérée est constituée d'au moins un des éléments suivants: d'oxyde d'aluminium comme le saphir, de spinelle, AION spinelle d'oxynitride d'aluminium, d'yttria, d'YAG (Yttrium Aluminium Garnet) et Nd:YAG ou d'oxyde de silicium comme le verre minéral ou le pyrex.
- La température des partenaires, boîte de montre et glace, lors du processus de liaison est inférieure à 380°C, et de préférence inférieure à 250°C. La température peut varier pendant l'assemblage, par exemple de 120°C à 250°C.
- La vitesse d'extension du lien anodique est par exemple supérieure à 1mm2/minute.
- La rugosité de surface de la lunette est obtenue par un usinage mécanique ou un étampage fin additionné d'un électro polissage chimique.
- Le dessin annexé illustre schématiquement et à titre d'exemple l'assemblage anodique selon l'invention.
- La
figure 1 est un schéma des partenaires, boîte et glace, et des couches intermédiaires. - La
figure 2 illustre les étapes d'une forme d'exécution particulière du procédé. - Le procédé de fixation d'une glace de montre sur une boîte de montre comporte, dans une forme d'exécution préférée, les étapes suivantes (voir
figure 2 du dessin) : - 1. On choisit une pièce d'une boîte de montre devant recevoir la glace, par exemple la lunette;
- 2. La rugosité de la face en contact avec la lunette est obtenue par des étapes d'étampage et/ou d'usinage puis la surface est terminée par polissage mécanique et/ou électrochimique;
- 3. Par des procédés physique ou chimique principalement CVD, PVD, Sol-Gel, ALD, galvanoplastie on développe une ou plusieurs couches intermédiaires, stoechiométrique ou non sur la zone de la surface effectuant le lien anodique de la lunette de la boîte de montre. La composition de cette ou ces couches intermédiaires dépend de la matière de la lunette.
Alternativement ou de manière complémentaire, un processus similaire peut être effectué sur la zone de la glace venant en contact avec la boîte de montre. - 4. On positionne la glace sur la face supérieure de la lunette à une température inférieure à 250°C.
- 5. La glace est connectée à une électrode et la lunette est connectée à une contre électrode, puis on élève la tension, de préférence une tension DC, à une valeur comprise en 1kV et 15kV, ce qui lie les partenaires de manière anodique. Plus particulièrement, la tension produit un champ électrique qui engendre une migration des ions entre la glace et la boîte de montre.
- Dans une variante du procédé de fixation de la glace de montre sur une lunette d'une boîte de montre on peut supprimer l'étape N° 2 soit le polissage de la face supérieure de la lunette.
- Bien évidemment la lunette peut être remplacée par une carrure lunette ou toute autre partie de la boîte de montre sur laquelle la glace doit être fixée.
- Une alternative consiste en l'utilisation d'un matériau rapporté en verre entre la glace et la carrure revêtues selon la
figure 1 . - Dans une forme d'exécution particulière du procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre on dépose la couche intermédiaire sur la face supérieure de la lunette par la technologie physique ou chimique évoquée précédemment et la composition de la matrice de cette couche intermédiaire est typiquement constituée de TixOy, SixOy, SixNy, de AlxOy ou des mélanges d'oxydes contenant des atomes / ions de métaux légers tels que Li, Na, K, Ca, Be, ou halogènes favorisant la migration des ions.
- Pour un souci d'esthétisme, l'addition d'une couche mince métallique est possible avant la déposition de la couche intermédiaire afin de mieux garantir l'éclat et l'aspect métallique visuel sous la glace transparente. Celle-ci peut de par son choix augmenter l'adhésion entre la couche intermédiaire, la transition entre les matériaux pouvant même se faire de manière graduelle.
- Dans une forme d'exécution particulière du procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre l'assemblage anodique s'effectue sous une tension inférieure à 15kV.
- Dans une forme d'exécution particulière du procédé, l'assemblage anodique s'effectuera sous une température inférieure à 250°C.
- La détermination de la nature de la ou des couches intermédiaires nécessite la qualification des matériaux à assembler typiquement sa composition physico-chimique, les propriétés mécaniques, l'état de surface, afin d'optimiser les caractéristiques du dépôt qui servira de première couche intermédiaire. Celle-ci étant qualifiée par les facteurs suivants: adhérence avec les matières premières, types de défauts et lacunes permettant la diffusion des ions et la migration, électronégativité des ions contenus au sein de la ou des couches intermédiaires, concentration en ions et en lacunes, orientation de ces mêmes lacunes. Au vu de l'ensemble des particularités que l'interface doit posséder, la ou les couches peuvent contenir des matériaux alcalins, alcalino-terreux et halogénés en raison de leurs facilités à migrer et de la taille de leurs atomes.
- La ou les couches intermédiaires définiront la qualité du lien, ses propriétés mécaniques et l'étanchéité mais également ses propriétés esthétiques. Pour saisir l'importance de cette ou ces couches intermédiaires et pour différencier un assemblage selon la présente invention des techniques de soudure ou de brasure conventionnelles où il n'est pas question d'utilisation d'un champ électrique, il s'agit de comprendre les transferts atomiques spécifiques lors du processus de l'assemblage anodique.
- Toute particule chargée placée sous l'influence d'un champ électrique uniforme se déplace à une vitesse proportionnelle à ce champ, le facteur de proportionnalité étant appelé la mobilité électrique de la particule. Cette migration va s'effectuer de l'anode vers la cathode pour les particules chargées positivement, dans le sens opposé pour les particules chargées négativement. Sous l'effet de la migration des ions, on observe une différence de potentiel entre les partenaires, ce qui engendre un plaquage entre les partenaires induit sous l'effet de forces électrostatiques. Si ce plaquage est insuffisant, l'application d'une charge mécanique pour forcer le contact entre les partenaires est envisagée. Le champ électrique augmente le processus de diffusion, les vitesses d'assemblages sont réduites de l'ordre de quelques minutes, ce qui encourage un rendement accru et une meilleure reproductibilité.
- La perturbation de l'équilibre thermodynamique influence les populations de porteurs de charge localisés au sein des pièces à assembler et de la couche intermédiaire. Les origines des perturbations peuvent être:
- les inhomogénéités de dopage, d'impuretés, de défauts structuraux et les déformations locales (principalement au voisinage de surface), des contacts et des jonctions
- les forces de champ électrique
- les gradients de température.
- Lorsque le champ électrique ainsi que la température sont interrompues, les porteurs de charges tendent vers un état d'équilibre correspondant à des régimes permanents définis par des conditions initiales et aux bords, selon des mécanismes typiques :
- la diffusion des porteurs dans des gradients de concentration
- le déplacement des porteurs dans des champs électriques internes
- la génération et la recombinaison de porteurs qui peuvent être intrinsèques ou faire intervenir des centres de recombinaison et des pièges.
- Les propriétés relatives aux courants électriques et aux déplacements de porteurs de charge sous l'influence de forces appliquées sont appelées phénomènes de transport. Parmi les phénomènes de transport, la mobilité, qu'elle soit par exemple des lacunes, des impuretés, des porteurs de charges (les matériaux sont différentiés par la longueur de Debye des porteurs majoritaires et leur comportement est notamment décrit par l'équation de continuité) ainsi que la diffusion (basée sur les lois de Fick) sont les mécanismes clés d'assemblage anodique.
- Les paramètres qui influencent le plus la mobilité des porteurs de charge sont la température et le nombre volumique d'impuretés. Parmi les défauts on peut distinguer les impuretés et les lacunes. Il s'agit de ces mêmes lacunes, défauts de Schottky ou de Frenkel entre autres qui facilitent la diffusion des porteurs de charges et qui définissent l'énergie nécessaire à leur diffusion. De plus déplacer une lacune à travers un cristal demande beaucoup moins de travail que de contraindre un ion à se déplacer à travers un réseau d'ion dense d'un cristal. La conduction ionique dépend du mouvement des lacunes. Les impuretés qui contribuent à la densité de porteurs de charge sont appelées « donneurs » si elles apportent des électrons supplémentaires et « accepteurs » si elles apportent des trous supplémentaires. A noter que la vitesse du phénomène de l'assemblage anodique dépend de la quantité de défauts et de la température notamment.
- Le choix de la ou des couches intermédiaires dépend fortement des « propriétés » des porteurs de charge. La composition chimique de la ou des couches est naturellement importante puisque les phénomènes de transport dépendent des caractéristiques des liaisons atomiques. Les liaisons créées lors du processus d'assemblage anodique sont des liaisons de type covalentes majoritairement. Ces liaisons fortes s'établissent par la mise en commun d'une paire d'électrons issus de chacun des porteurs de charges.
- Il faut donc prendre en compte les mécanismes permettant l'assemblage anodique ainsi que la nature des pièces à assembler pour déterminer la constitution de la ou des couches intermédiaires. La méthode de déposition PVD est privilégiée, mais une couche intermédiaire (mono ou multicouche) peut être déposée par un autre procédé de déposition physique ou chimique.
- La température et la tension appliquée ainsi que le temps de contact sont étroitement liés et complémentaires puisqu'ils contrôlent la force électrostatique nécessaire pour la réaction chimique entre les pièces à assembler. Ainsi, de préférence, la tension n'ira pas au-delà de 15 kV, et la température ne dépasse pas les 250°C.
- D'autres paramètres ont leurs importances telles que l'épaisseur des pièces à assembler ainsi que l'épaisseur de la zone de déplétion. Les limitations d'épaisseurs dépendent des tolérances au plan des lunettes et des glaces et sont comprises entre 10-10000 angströms.
- Il est à noter que l'écart entre les pièces à assembler a un effet significatif sur la grandeur de la force électrostatique, ce qui implique que la qualité de la liaison formée par assemblage anodique dépend aussi de l'état de surface. Ainsi des processus de finition mécaniques de la surface de contact additionnée, en fonction de la matière, de polissage électrochimique est utilisé.
- Quelle que soit la pièce sur laquelle le dépôt est effectué, des complications d'ordre esthétique sont évitées par la couleur intrinsèque des couches et de l'assemblage des couches, le cas échéant le dépôt de couche mimant la matière de la lunette est déposé sur la glace avant le dépôt de couche fonctionnelle. Un tel dépôt est sélectif, masquant la zone d'assemblage, avec une fonction esthétique.
- Cette sélectivité est obtenue par technique de masquage, typiquement par lithographie, stamping, décapage sélectif ou par promotion d'adhérence.
- Le rendu optique, couleur aspect de surface, est obtenu par une adaptation des couches, notamment par leur épaisseur, leur composition et leurs prétraitements.
Claims (13)
- Procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre selon lequel :on appose, par traitement de surface, sur une zone de la surface de la glace destinée à entrer en contact avec une zone correspondante de la boîte de montre et/ou sur ladite zone correspondante de la boîte de montre au moins une couche intermédiaire mince permettant la migration des ions et/ou des électrons ;on applique ces zones de la boîte de montre et de la glace l'une contre l'autre ;caractérisé en ce qu'on effectue également les étapes suivantes :on chauffe l'ensemble boîte de montre-glace à une température de chauffage suffisamment basse pour garantir qu'aucun matériau du système ne quitte sa phase solide ;on connecte la glace à une électrode et la boîte de montre à une contre-électrode ; eton applique entre cette électrode etcette contre-électrode une tension accélérant la diffusion des particules chargées entre la glace et la boîte de montre et créant ainsi de nouvelles liaisons métalliques, ioniques ou covalentes.
- Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que la tension est une tension DC entre 1kV et 15kV.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la température de chauffage n'excède pas 250°C et/ou qu'elle varie entre 120°C et 250°C.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, selon lequel, avant d'appliquer lesdites zones de la boîte de montre et de la glace l'une contre l'autre, on dispose une couche d'un élément semi-conducteur ou isolant favorisant la migration tel que des verres, des siliciums entre ladite zone de la glace et ladite zone de la boîte de montre.
- Procédé selon la revendication 4, caractérisé par le fait que l'élément semi-conducteur ou isolant est rapporté par une pièce séparée ou déposé par voie physique ou chimique (PVD, PE-CVD, Sol-gel, galvanoplastie).
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que ladite au moins une couche intermédiaire comprend une couche apposée sur la glace et présentant une évolution chimique et structurelle, la partie en contact avec la glace étant de nature purement métallique et au fur et à mesure de sa croissance, son degré d'oxydation évolue de manière progressive pour se terminer en surface avec un état d'oxydation complet TiO2.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que chaque électrode a une géométrie adaptée à la surface avec laquelle elle est en contact.
- Procédé selon la revendication 7, caractérisé par le fait que la géométrie de l'électrode en contact avec la glace est de forme incurvée, exempte de pointes.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que ladite au moins une couche intermédiaire possède une stoechiométrie non constante, le degré d'oxydation de nitruration ou de cémentation variant avec l'épaisseur de la couche.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que ladite au moins une couche intermédiaire comprend une couche mince apposée sur la boîte et contenant une couche de passivation naturelle ou forcée.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que ladite au moins une couche intermédiaire comprend une couche de masquage déposée sur la glace afin de masquer sa zone de contact, cette couche étant constituée d'éléments métalliques et des alliages d'au moins un des éléments suivants : Ti, Fe, AI, Cr, V, Pt, Ta, W, Ga, Sn, Zn, Au et Ag.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la glace est constituée d'au moins un des éléments suivants: d'oxyde d'aluminium comme le saphir, de spinelle, AION spinelle d'oxynitride d'aluminium, d'yttria, d'YAG (Yttrium Aluminium Garnet) et Nd:YAG ou d'oxyde de silicium comme le verre minéral ou le pyrex.
- Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la rugosité de surface de la boîte est obtenue par un usinage mécanique ou un étampage fin additionné d'un électro polissage chimique.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH102014 | 2014-01-07 | ||
PCT/EP2015/050085 WO2015104252A2 (fr) | 2014-01-07 | 2015-01-06 | Procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EP3092531A2 EP3092531A2 (fr) | 2016-11-16 |
EP3092531B1 true EP3092531B1 (fr) | 2023-06-28 |
Family
ID=49958120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EP15700185.0A Active EP3092531B1 (fr) | 2014-01-07 | 2015-01-06 | Procédé de fixation d'une glace sur une boîte de montre |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3092531B1 (fr) |
JP (1) | JP6518264B2 (fr) |
CN (1) | CN105960611B (fr) |
WO (1) | WO2015104252A2 (fr) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH711295B1 (fr) * | 2015-07-06 | 2019-11-29 | Cartier Int Ag | Procédé de fixation par assemblage anodique. |
WO2017006219A1 (fr) * | 2015-07-06 | 2017-01-12 | Cartier International Ag | Procédé de fixation par assemblage anodique |
EP3550383B1 (fr) * | 2016-11-29 | 2024-05-15 | Kyocera Corporation | Boîtier de montre |
CN107065496B (zh) * | 2017-04-15 | 2019-09-17 | 伯恩光学(惠州)有限公司 | 手表镜片 |
CH714459B1 (fr) * | 2017-12-19 | 2024-06-14 | Guenat Sa Montres Valgine | Glace de montre. |
CH716104A1 (fr) * | 2019-04-18 | 2020-10-30 | Sy&Se Sa | Procédé d'amélioration de l'adhérence d'une couche sur un substrat. |
CN110204223A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-09-06 | 厦门祐尼三的新材料科技有限公司 | 一种夹层玻璃及其制备方法 |
CN114953643A (zh) * | 2022-06-15 | 2022-08-30 | Oppo广东移动通信有限公司 | 终端及其壳体组件以及壳体组件的键合方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH649435GA3 (fr) * | 1981-05-22 | 1985-05-31 | ||
CH652270GA3 (fr) * | 1983-05-19 | 1985-11-15 | ||
CH678680GA3 (en) * | 1990-02-20 | 1991-10-31 | Watch glass mounting - has a deposited metal layer between decorative layer and solder to prevent visible effects of soldering | |
JPH08166469A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-06-25 | Citizen Watch Co Ltd | 時計用文字板およびその製造方法 |
US6823693B1 (en) * | 1998-03-06 | 2004-11-30 | Micron Technology, Inc. | Anodic bonding |
EP2260168A1 (fr) * | 2008-04-02 | 2010-12-15 | EMPA Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt | Objet composite et procede permettant de produire cet objet |
JP5529463B2 (ja) * | 2009-08-25 | 2014-06-25 | セイコーインスツル株式会社 | パッケージの製造方法および圧電振動子の製造方法 |
-
2015
- 2015-01-06 WO PCT/EP2015/050085 patent/WO2015104252A2/fr active Application Filing
- 2015-01-06 JP JP2016562067A patent/JP6518264B2/ja active Active
- 2015-01-06 EP EP15700185.0A patent/EP3092531B1/fr active Active
- 2015-01-06 CN CN201580003923.5A patent/CN105960611B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105960611B (zh) | 2019-11-05 |
EP3092531A2 (fr) | 2016-11-16 |
WO2015104252A2 (fr) | 2015-07-16 |
WO2015104252A3 (fr) | 2015-12-23 |
CN105960611A (zh) | 2016-09-21 |
JP6518264B2 (ja) | 2019-05-22 |
JP2017501425A (ja) | 2017-01-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
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17P | Request for examination filed |
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AK | Designated contracting states |
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AX | Request for extension of the european patent |
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DAX | Request for extension of the european patent (deleted) | ||
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
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17Q | First examination report despatched |
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STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
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|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: DE Ref legal event code: R079 Ref document number: 602015084320 Country of ref document: DE Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G04B0039020000 Ipc: G04D0003060000 Ref country code: DE Ref legal event code: R079 Ipc: G04D0003060000 |
|
GRAP | Despatch of communication of intention to grant a patent |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1 |
|
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED |
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INTG | Intention to grant announced |
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GRAS | Grant fee paid |
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GRAA | (expected) grant |
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REG | Reference to a national code |
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PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
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REG | Reference to a national code |
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PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
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PLBE | No opposition filed within time limit |
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