EP2553439A1 - Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent - Google Patents

Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent

Info

Publication number
EP2553439A1
EP2553439A1 EP11717302A EP11717302A EP2553439A1 EP 2553439 A1 EP2553439 A1 EP 2553439A1 EP 11717302 A EP11717302 A EP 11717302A EP 11717302 A EP11717302 A EP 11717302A EP 2553439 A1 EP2553439 A1 EP 2553439A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
substrate
image
pattern
camera
pixel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP11717302A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP2553439B1 (fr
Inventor
Michel Pichon
Franc Davenne
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Saint Gobain Glass France SAS
Original Assignee
Saint Gobain Glass France SAS
Compagnie de Saint Gobain SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saint Gobain Glass France SAS, Compagnie de Saint Gobain SA filed Critical Saint Gobain Glass France SAS
Priority to PL11717302T priority Critical patent/PL2553439T3/pl
Publication of EP2553439A1 publication Critical patent/EP2553439A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP2553439B1 publication Critical patent/EP2553439B1/fr
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896—Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels

Definitions

  • the invention relates to a device for analyzing the optical quality of a transparent substrate, in particular for detecting deforming optical defects present either on the surface of this substrate or in its mass.
  • optical defects of the transparent substrates are characterized by the optical deformations that they cause when these substrates are in a situation of use, such as, for example, automotive glazing, building glazing, plasma or LCD screens, etc.
  • the techniques usually used to detect and evaluate defects typically consist of:
  • the method of this US patent requires to know or to adapt the characteristics of the sight (its dimensions, its forms, its position) and the camera (number of pixels, distance to the sight, ...) to ensure a proper alignment of the pattern of the target with the pixels of the camera, which is restrictive, and rarely possible in an industrial environment (bad regularity of the sight, dilation of the sight in function of the variations of temperature in the day, vibrations of the ground, ).
  • US 6 208 412 proposes another method of measurement by observation in transmission of a one-dimensional test pattern.
  • the measuring device of this document uses a projector to generate a pattern by forming, on a large screen, always substantially greater than the dimensions of the glazing to be measured (typically 2 ⁇ 3 m), a time-varying unidirectional periodic pattern, as well as a matrix camera which visualizes the pattern through the glazing to be analyzed.
  • the test pattern should be gradual gray, ie it should not have high local contrasts.
  • This device described in the latter document if it can give satisfaction in the laboratory or on the edge of the production line for a sampling control, can not be used against a line control, on a ribbon scrolling continuously, in the framework of a control that must be exhaustive without the possibility of stopping the glass momentarily.
  • 6,208,412 and its measurement process are incompatible with a measurement on an industrial line, on a continuously moving continuous substrate, with the constraint of exhaustive control.
  • the applicant has thus set himself the task of designing a device for analyzing the optical quality of a transparent substrate, which does not have the drawbacks of the techniques mentioned above and makes it possible to detect and quantify the defects of this substrate in transmission, in an easy, precise, and repetitive manner by responding to all the constraints of an implementation on an industrial line for a control of the glass over its entire length, on a substrate in continuous scrolling or not, and by ensuring in particular the reduction of glass compliance costs on a production line.
  • This innovative device must also allow the use of measurement methods that lead to optimize the analysis time.
  • the subject of the invention is a device for analyzing a transparent surface of a substrate comprising a pattern formed on a support disposed opposite the surface of the substrate to be measured, a camera for taking at least one image of the target deformed by the measured substrate, a lighting system of the sight, and image processing and numerical analysis means which are connected to the camera, characterized in that the support is of oblong shape of small and large extensions, the pattern being monodirectional and consisting of a pattern that extends in the smallest extension of the support, the pattern being periodic transverse to the small extension, and that the camera is linear and positioned to acquire a linear image in transmission of the test pattern through the substrate according to the large extension of the support.
  • the device comprises one or more of the following characteristics, taken separately or in any technically possible combination:
  • the ratio between the large extension of the support and the small extension of the support is for example greater than or equal to 10, preferably greater than or equal to 20;
  • the pattern comprises at least one line which has, according to the small extension of the support, a width between 0.1 mm and 5 cm, preferably between 1 mm and 2 mm;
  • the pattern consists of an alternating succession of light and dark lines
  • the support of the test pattern consists of a panel backlit by the lighting system
  • the support is, at its face facing the glazing to be measured, translucent and diffusing such as a white plastic plate;
  • the lighting system is formed of a multitude of light-emitting diodes
  • the substrate is arranged between the test pattern and the camera for a measurement in transmission;
  • the support of the test pattern is movably mounted relative to the substrate perpendicular to the substrate running plane;
  • the device comprises a mechanical system for raising and lowering to move the support closer to and closer to the target relative to the substrate while maintaining a sufficient sharpness in the image of the pattern picked up by the camera;
  • the device comprises a memory on which programs adapted to:
  • linear camera to take a linear image in transmission of the illuminated target, the substrate or the target being displaced relative to each other in a single direction of travel parallel to the direction of the defects and to the lines of the test; • (1) to acquire the line of pixels of the linear image taken following the great extension of the sight, without moving the camera relative to the target;
  • the acquisition period of the lines is greater than the acquisition duration of each line, for example 0.1 seconds or more;
  • each line is displayed after each step (2) so that the reconstituted image of a portion of the substrate simulates a continuous scrolling effect which will correspond to the real-time display of a 2D mapping of the defects;
  • a linear camera comprises a single video sensor providing as output signal a single line of pixels.
  • the sensor comprises a single receiver composed of several juxtaposed sensitive elements respectively corresponding to the pixels of the output signal, the sensitive elements being aligned on a single line.
  • Linear cameras are space-saving and achieve fast acquisition.
  • the oblong shape of the support of the sight accompanied by the use of a linear camera makes it possible to reduce the area occupied by the sight and thus limit the location necessary for the device on a production line.
  • the size of the patterns of the test pattern and the position of the sight, the glass and the camera are of course to be adapted to each type of measurement, this device being able to adapt to the control of samples a few centimeters wide as to the control a glass ribbon several meters wide in permanent scrolling. In the latter case we will associate several camera-test systems to cover the entire width of the ribbon to be analyzed. For smaller substrates, the large extension of the support may correspond to the width of the substrate to be measured.
  • the ratio between the large extension of the support and the small extension of the support is for example greater than or equal to 10, preferably greater than or equal to 20.
  • the perceived deformations expressed in terms of optical magnification by a fixed observer placed on one side of the substrate observed in transmission vary with the distance separating the substrate from the pattern which acts as an optically speaking object.
  • the optical power is in a known manner defined as the inverse of the focal length of the equivalent optical lens which would, if it were positioned in place of the defect, give the same magnification as that perceived by the observer.
  • the pattern of the pattern consists of an alternating succession of light and dark lines, preferably strongly contrasting (for example white and black) and respectively of equal widths.
  • the width of the lines forming each pattern is in fact adapted to the measurement and width conditions of the defects.
  • the width of the lines can thus be between 0.1 mm and 10 mm, preferably between 1 mm and 2 mm.
  • the support panel of the test pattern may then not exceed 5 cm wide, which therefore greatly reduces the dimensions useful for implantation of the device of the invention compared to those existing.
  • the panel is, at its face facing the substrate to be measured, translucent and diffusing.
  • This is for example a white plastic plate. It can also be a transparent substrate on which the pattern is printed.
  • a second translucent plate associated with the illumination will ensure the bright background necessary for a backlight almost homogeneous of the test pattern although this homogeneity is not critical.
  • the lighting system is formed of a multitude of light-emitting diodes. This lighting can be judiciously modulated in intensity over time, for example, to increase the life or to adapt to the transmission of a more or less absorbent substrate.
  • the substrate is disposed between the test pattern and the camera.
  • the invention also relates to a method for analyzing a transparent or specular surface of a substrate using a device comprising a pattern formed on an oblong support of small and large extensions, a linear camera to take at least one image of the pattern deformed by the measured substrate, a target lighting system, and image processing and digital analysis means which are connected to the camera, the method comprising steps consists in :
  • the method also has one or more of the following characteristics, taken separately or according to any one of the technically possible combinations:
  • each line is displayed after each step (2) so that the reconstituted image of a portion of the substrate simulates a continuous scrolling effect which will correspond to the real-time display of a 2D mapping of the defects;
  • the substrate is a continuous glass ribbon; the acquisition period of the lines is greater than the acquisition duration of each line, for example 0.1 seconds or more.
  • the rate of shooting of each line will be slaved to the speed of relative movement of the substrate relative to the test pattern to prevent overlap, in the direction of scrolling, an image of a pixel line with the next.
  • the analysis will then concern only the defects of a passage time under the camera of the order of one second, the point defects, a passage of time typically of tenth of a second will be detected only randomly.
  • the device and method according to the invention it is possible to perform a fast and reliable control on a representative sample of lines regularly spaced from the substrate.
  • the entire substrate can thus be controlled quickly, even if the spaces between the lines are not.
  • it would be advantageous to multiply the device by placing one or more identical downstream devices, all of which are synchronized to analyze a different part of the substrate, i.e. the spaces between the lines analyzed by the other devices, all the devices preferably being synchronized on the same periodicity of image acquisition.
  • each line is done in a known manner. It is for example to extract local phases of the pixel line acquired using the linear camera and to deduce phase variations, to deduce the position of the defect but also to quantify by a measure deformation of the lines of the test pattern from which it is possible to provide, by means of an optical calculation model, a dimensioned quantity of the deformation or an optical power representative of the defect.
  • the digital phase extraction processing can be carried out thanks to the well-known method of Fourier transform. It appears that the method according to the invention leads to satisfactory results on industrial lines without modification thereof, for reduced costs and allows much faster control than in the prior art.
  • the device of the invention and the method of implementation can be applied to transparent substrates such as monolithic or laminated glazing, flat or curved, of any size for various uses (building, automobile, aeronautic, railway).
  • the device and the method can be advantageously applied to the flat glass ribbon on a float line. They can also be applied to flat glazing for building applications or special glazing for electronic applications (plasma or LCD screens, etc.) and other transparent substrates.
  • FIG. 1 shows a schematic sectional view of an analysis device according to the invention for a transmission measurement
  • FIG. 2 illustrates an example of a test pattern according to the invention
  • FIG. 3 illustrates a reconstituted image of the substrate showing at its center a defect.
  • the lighting system 4 may be a backlight system when the support panel 1 1 is translucent, such as a white plastic plate.
  • the lighting system 4 then consists of a multitude of electroluminescent diodes which are arranged at the rear of the translucent panel.
  • the lighting system 4 is formed of a light source arranged on the front of the test pattern, for example a spot oriented to illuminate the front face of the support panel of the test pattern.
  • the camera 3 is linear; it generates a frame of shots which, by digital processing, is stacked with the previous ones to form a global image in two dimensions of the moving substrate. Since the test pattern is of small dimensions relative to the substrate as we shall see, the substrate 2 or the test pattern is able to move in translation relative to one another to ensure the necessary number of shots over the entire picture. substrate.
  • the trigger frequency of the camera for each shot is slaved to the frame rate.
  • the camera is positioned at a distance d adapted to view all or a fraction of the extension of the substrate that is transverse to the direction of travel of the substrate or the test pattern. Thus, if scrolling is in a horizontal plane, the camera is arranged vertically.
  • the camera 3 could make an angle with respect to the vertical which would be adapted to the conditions of implantation on the industrial line.
  • the pattern 10 as shown in Figure 2, is formed on a support 11 of oblong shape. It is monodirectional and consists of a pattern 10a.
  • the test pattern according to the invention has a small extension of small size relative to the substrate to be measured.
  • the pattern extends over 5 cm by 1.0 m.
  • the pattern 10a of the pattern extends along the smallest extension of the support, being periodic transversely to the small extension, that is to say according to the large extension of the support.
  • Pattern 10a consists of an alternating succession of clearly contrasting dark and light lines.
  • the processing and calculation means 5 are connected to the camera to develop the mathematical treatments and analyzes that follow the successive shots.
  • FIG. 3 illustrates an image recorded by the camera, the image of the pattern being deformed by the presence of defects in one direction.
  • the implementation of the device consists in:
  • the intensity of the optical defects can be calculated. It is not necessary, with this method, to know the state of the previous line, nor that of the next one.
  • a pattern is a spatially periodic signal.
  • the mathematical analysis consists in a known way of characterizing this signal by its local phase modulo 2 ⁇ , at the level of a pixel of the camera, and one thus defines a two-dimensional mapping of the phases (corresponding to all the pixels) of the image in two dimensions seen by transmission, called map of the phases.
  • This method is commonly described in the literature. It breaks down as follows: acquisition of a linear image of the target deformed by the sample;
  • This image is a complex image comprising a real part R and an imaginary part I; calculation of the local phase at a pixel, modulo 2 ⁇ , of the image.
  • This phase is obtained by calculating, pixel by pixel, the value of arctg (I / R).
  • the step of calculating the modulo 2 ⁇ phase of the image performed for each pixel it is easy to deduce the map of the derivatives of the phase, also called map gradients.
  • This calculation of the phase gradient of the image is obtained by simple difference of the pixel to pixel phase, the phase jumps of 2 ⁇ being easily eliminated.
  • This calculation can be carried out after the acquisition of each of the lines or on a group of lines.
  • After deduction of the phase map of the complete image reconstructed from the series of linear images taken by the camera it is then possible to connect the value of the derivative of the phase in each point of the image to the optical power Pi of the defects of the glazing at the origin of these local phase variations using an optical calculation model which makes it possible to calculate the optical power Pi from the derivative of this phase.
  • the evaluation of the optical power and its comparison with a threshold value makes it possible to quantify the defect.
  • the derivative of the phases may rather be compared to a local calibration width which will provide a deformation width representative of the extent of the defect.
  • Quantification of the defect thus makes it possible to establish the optical quality of a substrate directly on the production line.
  • the method according to the invention for analyzing the substrate consists in: taking, with the aid of a linear camera, a series of linear images in transmission of a narrow single pattern on said substrate, without the necessity, such as in the prior art, a studied coupling of the test pattern with respect to the camera or the use of a projector and a large screen; extracting by digital processing of the local phases, calculating the derivative of these phases, and mathematically calculating the intensity profile of the defects (preferably according to a calculation of the optical power and its comparison with a threshold value);
  • the proposed measuring device allows control over the entire length of the substrates present on an industrial line, without sampling of the substrate, without stopping or slowing down of the substrate, without changing its position on the conveying system, without the use of a system of projection of successive patterns, without any constraint of optical or mechanical adjustment. It generates a reduced area of use compared to the dimensions of the sight which are much lower than existing ones; typically the support panel of the test pattern of the invention is 1 meter long by 5 cm wide.

Landscapes

  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

Ce dispositif d'analyse (1) d'une surface transparente d'un substrat (2) comporte une mire (10) disposée en regard de la surface du substrat à mesurer. La mire est formée sur un support (11) de petite et grande extensions. Une caméra (3) est prévue pour prendre au moins une image de la mire déformée par le substrat mesuré. Un système d'éclairage (4) de la mire et des moyens de traitement (5) de l'image et d'analyse numérique sont reliés à la caméra (3). Le support (11) est de forme oblongue, la mire est monodirectionnelle en étant constituée d'un motif (10) qui s'étend selon la plus petite extension du support. Le motif (10) est périodique transversalement à la petite extension, et la caméra est linéaire.

Description

PROCEDE ET DISPOSITIF D'ANALYSE DE LA QUALITE OPTIQUE D'UN
SUBSTRAT TRANSPARENT
L'invention concerne un dispositif d'analyse de la qualité optique d'un substrat transparent, permettant notamment la détection de défauts optiques déformants présents soit à ta surface de ce substrat, soit dans sa masse.
Les défauts optiques des substrats transparents sont caractérisés par les déformations optiques qu'ils provoquent lorsque ces substrats sont en situation d'utilisation, comme par exemple les vitrages automobiles, les vitrages bâtiment, les écrans plasma ou LCD, ...
La détection des défauts optiques de ces substrats en fin de chaîne de fabrication, si elle peut s'avérer efficace en termes de contrôle qualité, est souvent très coûteuse, car elle est réalisée sur un produit fini, prêt à l'expédition. Il est nettement préférable de détecter ces défauts le plus tôt possible, c'est-à-dire, lors du formage du substrat qui servira à la réalisation du produit fini. Ces substrats étant souvent produits à partir de procédés d'étirage ou d'extrusion sous forme de ruban continu, il faut disposer d'un outil de contrôle qui s'adapte à cet outil, sur ligne industrielle, sur ruban continu, pour un contrôle exhaustif et sans nécessité de modification de la ligne de production. Dans le cas d'un verTe float formé par étirage, des défauts provoquant des déformations optiques apparaissent dans une seule direction, parallèle aux bords de feuille, et correspondent à la signature du processus de formage. L'Intensité de ces défauts étant plus ou moins importante selon la qualité du formage.
Les techniques habituellement utilisées pour détecter et évaluer les défauts consistent typiquement :
- soit à observer les défauts visuellement par des techniques d'ombroscopie sur ligne consistant à éclairer la feuille à l'aide d'une source lumineuse ponctuelle et puissante et à recueillir, après transmission au travers du substrat, le flux lumineux sur un écran. L'analyse visuelle de cette image permet la plupart du temps de détecter les défauts présentant un fort gradient, c'est-à-dire des défauts étroits et intenses qui fournissent une image suffisamment contrastée pour être observable, sans fournir d'information précise sur l'intensité de ces défauts. Un prélèvement est alors nécessaire.
- soit à prélever régulièrement un échantillon de verre de grandes dimensions et à l'analyser visuellement hors ligne,
- soit à prélever des échantillons de petites dimensions qui peuvent être mesurés à l'aide de dispositifs de mesure adéquats.
Ces techniques de contrôle sont peu efficaces, non exhaustives, imprécises, impliquent beaucoup le personnel et nuisent notamment aux coûts de production. Elles sont peu performantes dans le cas de défauts de moyenne ou de faible intensité. Les intensités mesurées sont rarement vérifiables.
Il existe par ailleurs, dans le commerce, des techniques de contrôle de substrat transparent, qui permettent de détecter des défauts optiques par des mesures en transmission fondées sur l'observation de mires régulières au travers du substrat.
Le document US 6 509 967 décrit une méthode de détection de défauts optiques fondée sur l'analyse des déformations d'une mire à deux dimensions observée en transmission. En cas de défauts, l'image de la mire est déformée, et la déformation d'une multitude de points de l'image est mesurée pour en déduire, après étalonnage préalable, la puissance optique selon deux directions, dont les valeurs sont représentatives de la présence ou non et de l'importance desdits défauts. Ce document insiste sur la nécessité d'un couplage étudié de la mire par rapport à la caméra chargée de l'acquisition des images en transmission. Chaque ligne de la mire doit correspondre exactement à un nombre entier de lignes de pixels de la caméra.
Cependant, la méthode de ce brevet américain impose de connaître ou d'adapter les caractéristiques de la mire (ses dimensions, ses formes, sa position) et de la caméra (nombre de pixels, distance à la mire, ...) pour assurer un alignement idoine du motif de la mire avec les pixels de la caméra, ce qui est contraignant, et rarement possible en milieu industriel (mauvaise régularité de la mire, dilatation de la mire en fonction des variations de température dans la journée, vibrations du sol, ...).
Le document US 6 208 412 propose une autre méthode de mesure par observation en transmission d'une mire à une dimension. Le dispositif de mesure de ce document utilise un projecteur pour générer une mire en formant, sur un écran de grandes dimensions, toujours sensiblement supérieures aux dimensions du vitrage à mesurer (typiquement 2 x 3 m), un motif périodique unidirectionnel variable dans le temps, ainsi qu'une caméra matricielle qui visualise la mire au travers du vitrage à analyser. La mire doit être en niveaux de gris progressifs, c'est-à-dire qu'elle ne doit pas présenter de contrastes locaux élevés.
Ce dispositif décrit dans ce dernier document, s'il peut donner satisfaction en laboratoire ou en bord de ligne de production pour un contrôle par prélèvement, ne peut par contre pas être utilisé pour un contrôle sur ligne, sur un ruban défilant en continu, dans le cadre d'un contrôle qui se doit d'être exhaustif sans possibilité d'arrêter le verre momentanément.
L'intégration d'un projecteur et d'un écran de grandes dimensions sur une ligne industrielle est également rarement possible ou souhaitable, par manque de place. Par ailleurs, l'image produite par un projecteur est en général peu lumineuse. Il est alors indispensable de protéger l'écran de la lumière parasite ambiante en le capotant largement et en peignant même le sol en noir. Enfin, la méthode de mesure décrite est celle bien connue de « phase-shifting » qui consiste, avec l'arrêt du vitrage, à projeter successivement plusieurs mires, typiquement quatre, qui sont décalées dans l'espace, et à acquérir une image pour chaque position de mire. Cette série d'acquisitions est donc très consom matrice de temps et augmente d'autant plus le temps d'arrêt du vitrage. Ce mode de fonctionnement est incompatible avec une mesure sur un substrat en défilement permanent. Par conséquent, le dispositif décrit dans US 6 208 412 et son processus de mesure sont incompatibles avec une mesure sur ligne industrielle, sur un substrat continu en défilement permanent, avec comme contrainte un contrôle exhaustif. Le demandeur s'est ainsi donné pour mission la conception d'un dispositif d'analyse de la qualité optique d'un substrat transparent, qui ne présente pas les inconvénients des techniques précédemment citées et qui permet de détecter et de quantifier les défauts de ce substrat en transmission, de façon aisée, précise, et répétitive en répondant à toutes les contraintes d'une mise en œuvre sur une ligne industrielle pour un contrôle du verre sur l'ensemble de sa longueur, sur substrat en défilement continu ou non, et en assurant en particulier la réduction des coûts de contrôle de conformité du verre sur une ligne de production. Ce dispositif innovant doit permettre en outre d'utiliser des procédés de mesure qui conduisent à optimiser le temps d'analyse.
A cet effet, l'invention a pour objet un dispositif d'analyse d'une surface transparente d'un substrat comportant une mire formée sur un support disposé en regard de la surface du substrat à mesurer, une caméra pour prendre au moins une image de la mire déformée par le substrat mesuré, un système d'éclairage de la mire, et des moyens de traitement de l'image et d'analyse numérique qui sont reliés à la caméra, caractérisé en ce que le support est de forme oblongue de petite et grande extensions, la mire étant monodirectionnelle et constituée d'un motif qui s'étend selon la plus petite extension du support, le motif étant périodique transversalement à la petite extension, et en ce que la caméra est linéaire et positionnée pour acquérir une image linéaire en transmission de la mire à travers le substrat selon la grande extension du support. Suivant des modes particuliers de réalisation, le dispositif comporte l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles :
- le rapport entre la grande extension du support et la petite extension du support est par exemple supérieur ou égal à 10, de préférence supérieur ou égal à 20 ;
- le motif comprend au moins une ligne qui présente, selon la petite extension du support, une largeur comprise entre 0,1 mm et 5 cm, de préférence entre 1 mm et 2 mm ;
- le motif se compose d'une succession alternative de lignes claires et foncées ;
- le support de la mire est constitué d'un panneau rétro-éclairé par le système d'éclairage ;
- le support est, au niveau de sa face en regard du vitrage à mesurer, translucide et diffusant tel qu'une plaque de plastique blanc ;
- le système d'éclairage est formé d'une multitude de diodes électroluminescentes ;
- le substrat est disposé entre la mire et la caméra pour une mesure en transmission ;
- le support de la mire est montée mobile par rapport au substrat perpendiculairement au plan de défilement du substrat ;
- le dispositif comprend un système mécanique de monte et baisse pour éloigner et rapprocher le support de la mire par rapport au substrat tout en conservant une netteté suffisante à l'image de la mire captée par la caméra ;
- le dispositif comprend une mémoire sur laquelle sont enregistrés des programmes adaptés pour :
• prendre à l'aide de la caméra linéaire une image linéaire en transmission de la mire éclairée, le substrat ou la mire étant en déplacement l'un par rapport à l'autre selon un seul sens de défilement parallèle à la direction des défauts et aux lignes de la mire ; • (1 ) acquérir la ligne de pixels de l'image linéaire prise suivant la grande extension de la mire, sans déplacer la caméra par rapport à la mire ;
• (2) appliquer un traitement numérique à la ligne de pixels acquise pour calculer une grandeur représentative, pour chaque pixel, de l'effet du substrat sur la lumière transmise par le substrat, par exemple la puissance optique de chaque pixel ;
• (3) mémoriser les valeurs de cette grandeur pour chaque pixel de la ligne et afficher une image de la ligne de pixels dans laquelle la couleur de chaque pixel est représentative de cette grandeur ;
• répéter le cycle d'acquisition-traitement-affichage (1 )(2)(3) plusieurs fois de manière périodique et empiler les images des lignes de pixels afin de reconstituer l'image d'une partie du substrat ;
• analyser par traitement numérique l'image reconstituée pour en déduire la position des défauts et quantifier leur gravité.
- la période d'acquisition des lignes est supérieure à la durée d'acquisition de chaque ligne, par exemple de 0,1 seconde ou plus ;
- chaque ligne est affichée après chaque étape (2) pour que l'image reconstituée d'une partie du substrat simule un effet de défilement continu qui correspondra à l'affichage en temps réel d'une cartographie 2D des défauts ;
- le substrat est un ruban de verre continu. On rappelle qu'une caméra linéaire comprend un seul capteur vidéo fournissant en signal de sortie une seule ligne de pixels. Le capteur comprend un seul récepteur composé de plusieurs éléments sensibles juxtaposés correspondant respectivement aux pixels du signal de sortie, les éléments sensibles étant alignés sur une seule ligne. Les caméras linéaires sont peu encombrantes et réalisent une acquisition rapide.
La forme oblongue du support de la mire accompagnée de l'utilisation d'une caméra linéaire permet très avantageusement de réduire la zone occupée par la mire et de limiter ainsi l'emplacement nécessaire au dispositif sur une ligne de production.
La grandeur des motifs de la mire et la position de la mire, du verre et de la caméra sont bien entendu à adapter à chaque type de mesure, ce dispositif pouvant s'adapter au contrôle d'échantillons de quelques centimètres de large comme au contrôle d'un ruban de verre de plusieurs mètres de large en défilement permanent. Dans ce dernier cas on associera plusieurs systèmes caméra-mire pour couvrir la totalité de la largeur du ruban à analyser. Pour des substrats plus petits, la grande extension du support pourra correspondre à la largeur du substrat à mesurer.
Le rapport entre la grande extension du support et la petite extension du support est par exemple supérieur ou égal à 10, de préférence supérieur ou égal à 20.
On sait également que les déformations perçues exprimées en termes de grandissement optique par un observateur fixe placé d'un côté du substrat observé en transmission varient avec la distance séparant le substrat de la mire qui joue le rôle d'objet optiquement parlant. A noter que la puissance optique est de manière connue définie comme l'inverse de la distance focale de la lentille optique équivalente qui donnerait, si elle était positionnée à la place du défaut, le même grandissement que celui perçu par l'observateur. Ainsi pour adapter la sensibilité du dispositif, c'est-à-dire pour augmenter ou réduire l'effet déformant d'un défaut optique donné, on peut modifier la distance séparant la mire de ce défaut, donc du substrat. Cet effet peut être réalisé à l'aide d'un système mécanique de monte et baisse qui éloignera ou rapprochera la mire du substrat tout en conservant une netteté suffisante à l'image de la mire captée par la caméra. Notre dispositif n'exigeant pas une mise au point en profondeur très précise de la caméra sur la mire, on peut aisément doubler la sensibilité de ce dispositif en augmentant la distance mire substrat d'environ un facteur 2. Il est alors possible de reconfigurer rapidement, sans réaliser de nouveau réglages optiques, le dispositif afin qu'il s'adapte à une nouvelle gamme de défauts caractérisée par des puissances optiques différentes. Selon une caractéristique, le motif de la mire se compose d'une succession alternative de lignes claires et foncées, de préférence fortement contrastées (par exemple blanches et noires) et respectivement de largeurs égales. La largeur des lignes formant chaque motif est en fait adaptée aux conditions de mesures et de largeur des défauts. La largeur des lignes peut être ainsi entre 0,1 mm et 10 mm, de préférence entre 1 mm et 2 mm.
En outre, si le système d'éclairage est associé directement à la mire tel que par rétro-éclairage, le panneau support de la mire peut alors ne pas excéder 5 cm de large, ce qui réduit donc considérablement les dimensions utiles à l'implantation du dispositif de l'invention par rapport à ceux existant.
En tant que panneau retro-éclairé, le panneau est, au niveau de sa face en regard du substrat à mesurer, translucide et diffusant. Il s'agit par exemple d'une plaque de plastique blanc. Il peut aussi s'agir d'un substrat transparent sur lequel est imprimée la mire. Dans ce cas une seconde plaque translucide associée à l'éclairage assurera le fond lumineux nécessaire à un rétro-éclairage à peu près homogène de la mire bien que cette homogénéité ne soit pas critique. Avantageusement, et en particulier dans le cas d'un rétro-éclairage, le système d'éclairage est formé d'une multitude de diodes électroluminescentes. Cet éclairage peut-être judicieusement modulé en intensité dans le temps afin, par exemple, d'en augmenter la durée de vie ou pour l'adapter à la transmission d'un substrat plus ou moins absorbant.
Pour assurer une mesure en transmission, le substrat est disposé entre la mire et la caméra. L'invention a également trait à un procédé d'analyse d'une surface transparente ou spéculaire d'un substrat à l'aide d'un dispositif comportant une mire formée sur un support de forme oblongue de petite et grande extensions, une caméra linéaire pour prendre au moins une image de la mire déformée par le substrat mesuré, un système d'éclairage de la mire, et des moyens de traitement de l'image et d'analyse numérique qui sont reliés à la caméra, le procédé comprenant des étapes consistant à :
prendre à l'aide de la caméra linéaire une image linéaire en transmission de la mire éclairée, le substrat ou la mire étant en déplacement l'un par rapport à l'autre selon un seul sens de défilement parallèle à la direction des défauts et aux lignes de la mire ;
(1 ) acquérir la ligne de pixels de l'image linéaire prise suivant la grande extension de la mire, sans déplacer la caméra par rapport à la mire ;
(2) appliquer un traitement numérique à la ligne de pixels acquise pour calculer une grandeur représentative, pour chaque pixel, de l'effet du substrat sur la lumière transmise par le substrat, par exemple la puissance optique de chaque pixel ;
(3) mémoriser les valeurs de cette grandeur pour chaque pixel de la ligne et afficher une image de la ligne de pixels dans laquelle la couleur de chaque pixel est représentative de cette grandeur ;
répéter le cycle d'acquisition-traitement-affichage (1 )(2)(3) plusieurs fois de manière périodique et empiler les images des lignes de pixels afin de reconstituer l'image d'une partie du substrat;
analyser par traitement numérique l'image reconstituée pour en déduire la position des défauts et quantifier leur gravité.
Suivant des modes particuliers de réalisation, le procédé présente en outre l'un ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant l'une quelconque des combinaisons techniquement possibles :
- chaque ligne est affichée après chaque étape (2) pour que l'image reconstituée d'une partie du substrat simule un effet de défilement continu qui correspondra à l'affichage en temps réel d'une cartographie 2D des défauts ;
- le substrat est un ruban de verre continu ; - la période d'acquisition des lignes est supérieure à la durée d'acquisition de chaque ligne, par exemple de 0,1 seconde ou plus.
La cadence des prises de vue de chaque ligne sera asservie à la vitesse de déplacement relative du substrat par rapport à la mire pour empêcher tout recouvrement, dans le sens du défilement, d'une image d'une ligne de pixels avec la suivante. Pour un gain de temps, on pourra accepter que le temps d'acquisition d'une ligne soit plus court que son temps de traitement, ce qui aura pour effet de ne pas enregistrer une fraction connue du substrat.
L'analyse ne concernera alors que les défauts d'une durée de passage sous la caméra de l'ordre de la seconde, les défauts ponctuels, d'une durée de passage typiquement du dixième de seconde ne seront détectés que de manière aléatoire.
De cette façon, grâce au dispositif et au procédé selon l'invention, il est possible d'effecteur un contrôle rapide et fiable sur un échantillon représentatif de lignes régulièrement espacées du substrat. La totalité du substrat peut ainsi être contrôlée rapidement, même si les espaces entre les lignes ne le sont pas. S'il devait être nécessaire de contrôler également les espaces entre les lignes analysées, il serait avantageux de multiplier le dispositif en plaçant un ou plusieurs dispositifs identiques en aval, tous synchronisés pour analyser une partie différente du substrat, c'est-à-dire les espaces entre les lignes analysées par les autres dispositifs, tous les dispositifs étant de préférence synchronisés sur la même périodicité d'acquisition d'image.
Le traitement numérique de chaque ligne est effectué de manière connue. Il s'agit par exemple d'extraire des phases locales de la ligne de pixels acquise à l'aide de la caméra linéaire et d'en déduire des variations de phases , pour en déduire la position du défaut mais également les quantifier par une mesure de la déformation des lignes de la mire à partir de laquelle on peut fournir, grâce à un modèle optique de calcul, une grandeur dimensionnée de la déformation ou une puissance optique représentative du défaut. A noter que le traitement numérique d'extraction des phases peut être réalisé grâce à la méthode bien connue par ailleurs de transformée de Fourier. II apparaît que le procédé selon l'invention conduit à des résultats satisfaisants sur lignes industrielles sans modification de celles-ci, pour des coûts réduits et autorise un contrôle beaucoup plus rapide que dans l'art antérieur.
Le dispositif de l'invention et le procédé de mise en œuvre peuvent être appliqués à des substrats transparents tels que des vitrages monolithiques ou feuilletés, plans ou bombés, de toutes dimensions pour diverses utilisations (bâtiment, automobile, aéronautique, ferroviaire). En particulier le dispositif et le procédé peuvent être appliqués de façon avantageuse au ruban de verre plat sur ligne float. Ils peuvent également être appliqués à des vitrages plans destinés aux applications bâtiment ou aux vitrages spéciaux destinés aux applications électronique (écrans plasma ou LCD, ...) et à tout autre substrat transparent.
La présente invention est maintenant décrite à l'aide d'exemples uniquement illustratifs et nullement limitatifs de la portée de l'invention, et à partir des illustrations ci-jointes, dans lesquelles :
- la figure 1 représente une vue schématique en coupe d'un dispositif d'analyse selon l'invention pour une mesure en transmission ;
- la figure 2 illustre un exemple de mire selon l'invention ; et
- la figure 3 illustre une image reconstituée du substrat faisant apparaître en son centre un défaut.
Les figures 1 et 2 ne sont pas à l'échelle pour en faciliter la lecture. Le système d'éclairage 4 peut être un système de rétro-éclairage lorsque le panneau support 1 1 est translucide, tel qu'une plaque de plastique blanc. De préférence, le système d'éclairage 4 est alors constitué d'une multitude de diodes électroluminescentes qui sont disposées à l'arrière du panneau translucide.
En variante, lorsque le panneau support 1 1 est opaque, le système d'éclairage 4 est formé d'une source de lumière agencée sur le devant de la mire, par exemple un spot orienté pour éclairer la face avant du panneau support de la mire.
La caméra 3 est linéaire ; elle génère une trame de prises de vue qui, par traitement numérique, est empilée avec les précédentes pour former une image globale en deux dimensions du substrat en défilement. La mire étant de petites dimensions par rapport au substrat comme nous le verrons, le substrat 2 ou la mire est apte à défiler en translation l'un par rapport à l'autre pour assurer le nombre nécessaire de prises de vue sur l'ensemble du substrat. La fréquence de déclenchement de la caméra pour chaque prise de vue est asservie à la vitesse de défilement.
La caméra est positionnée à une distance d adaptée de manière à visualiser l'ensemble ou une fraction de l'extension du substrat qui est transversale à la direction de défilement du substrat ou de la mire. Ainsi, si le défilement se fait dans un plan horizontal, la caméra est agencée verticalement.
La caméra 3 pourrait faire un angle par rapport à la verticale qui serait adapté aux conditions d'implantation sur la ligne industrielle.
La mire 10, telle qu'illustrée sur la figure 2, est formée sur un support 1 1 de forme oblongue. Elle est monodirectionnelle et constituée d'un motif 10a.
La mire selon l'invention a une petite extension de faible dimension par rapport au substrat à mesurer. Par exemple pour mesurer un substrat continu de 0,80 m de large, la mire s'étend sur 5 cm par 1 ,0 m. Le motif 10a de la mire s'étend selon la plus petite extension du support, en étant périodique transversalement à la petite extension, c'est-à-dire selon la grande extension du support. Le motif 10a se compose d'une succession alternative de lignes claires et foncées nettement contrastées.
Les moyens de traitement et de calcul 5 sont connectés à la caméra pour élaborer les traitements et analyses mathématiques qui suivent les prises de vue successives.
La figure 3 illustre une image enregistrée par la caméra, l'image de la mire étant déformée par la présence de défauts dans une direction. La mise en oeuvre du dispositif consiste à :
- prendre à l'aide de la caméra une image linéaire en transmission de la mire éclairée, le substrat ou la mire étant en déplacement l'un par rapport à l'autre selon un seul sens de défilement parallèle à la direction des défauts et aux lignes de la mire,
(1 ) acquérir la ligne de pixels de l'image linéaire prise suivant la grande extension de la mire, sans déplacer la caméra par rapport à la mire,
(2) appliquer un traitement numérique à la ligne de pixels acquise pour calculer une grandeur représentative, pour chaque pixel, de l'effet du substrat sur la lumière transmise par le substrat, par exemple la puissance optique de chaque pixel,
- (3) afficher une image de la ligne de pixels dans laquelle la couleur de chaque pixel est représentative de la puissance optique du pixel,
répéter le cycle d'acquisition-traitement-affichage (1 )(2)(3) plusieurs fois de manière périodique et empiler les images des lignes de pixels afin de reconstituer l'image d'une partie du substrat en simulant un effet de défilement continu qui correspondra à l'affichage en temps réel d'une cartographie 2D des défauts ;
analyser par traitement numérique l'image reconstituée pour en déduire la position des défauts et quantifier leur gravité. L'acquisition d'une série de n lignes de pixels lors du défilement du substrat devant la mire permet de reconstituer, par simple empilement de lignes, une image unique en deux dimensions. Le demandeur met en évidence que ce type de mire est particulièrement intéressante de par son encombrement limité et des performances de détection de défaut sur ruban continu obtenues avec le dispositif.
On peut calculer pour chaque ligne acquise l'intensité des défauts optiques. Il n'est pas nécessaire, avec ce procédé, de connaître l'état de la ligne précédente, ni celui de la suivante.
Par contre, pour analyser la gravité d'un défaut il faut le voir dans sa totalité et donc utiliser une image constituée de nombreuses lignes (un défaut peut durer plusieurs minutes, voir plusieurs heures). Chaque ligne est donc « convertie » en puissance optique et la cartographie en 2D de cette puissance optique subit un traitement d'image pour analyser la gravité des défauts. En résumé, la ligne subit un traitement du signal, la cartographie un traitement d'image, ce qui est particulièrement avantageux. Le traitement d'image le plus simple est un simple seuillage.
Une mire est un signal spatialement périodique. L'analyse mathématique consiste de manière connue à caractériser ce signal par sa phase locale modulo 2π, au niveau d'un pixel de la caméra, et on définit ainsi une cartographie en deux dimensions des phases (correspondant à l'ensemble des pixels) de l'image en deux dimensions vues par transmission, appelée carte des phases.
Cette extraction de la carte de phases modulo 2π peut être obtenue selon la technique de l'analyse par transformée de Fourier suivante bien connue.
Cette méthode est couramment décrite dans la littérature. Elle se décompose ainsi : acquisition d'une image linéaire de la mire déformée par l'échantillon;
calcul de la transformée de Fourier de la ligne de pixels (transformée en une dimension) ; recherche automatique du pic caractéristique de la fréquence fondamentale fo de la mire ; filtrage passe-bande à l'aide d'un filtre passe-bande gaussien ou autre, de cette fréquence fondamentale fo. Ce filtrage a pour effet d'éliminer le fond continu de l'image de la mire et les harmoniques du signal de la mire; décalage du spectre filtré de fo afin de ramener le pic caractéristique de la mire image à la fréquence 0. Ce décalage fait disparaître la trame de la mire et ne fait subsister que les déformations de la mire ; calcul de la transformée de Fourier inverse de l'image, colonne par colonne de pixels. L'image obtenue fait apparaître les déformations seules. Cette image est une image complexe comprenant une partie réelle R et une partie imaginaire I; calcul de la phase locale au niveau d'un pixel, modulo 2π, de l'image. Cette phase est obtenue en calculant, pixel par pixel, la valeur de arctg(I / R) .
Une fois l'étape de calcul de la phase modulo 2π de l'image effectuée pour chaque pixel, on en déduit aisément la carte des dérivées de la phase, appelée encore carte des gradients. Ce calcul du gradient de phase de l'image est obtenu par simple différence de la phase pixel à pixel, les sauts de phase de 2π étant facilement éliminés. Ce calcul peut être mené après l'acquisition de chacune des lignes ou bien sur un groupe de lignes. Après déduction de la carte des phases de l'image complète reconstituée à partir de la série d'images linéaires prises par la caméra, il est alors possible de relier la valeur de la dérivée de la phase en chaque point de l'image à la puissance optique Pi des défauts du vitrage à l'origine de ces variations de phase locale à l'aide d'un modèle de calcul optique qui permet de calculer la puissance optique Pi à partir de la dérivée de cette phase. L'évaluation de la puissance optique et sa comparaison à une valeur de seuil permet de quantifier le défaut. En variante, la dérivée des phases pourra plutôt être comparée à une largeur locale d'étalonnage qui fournira une largeur de déformation représentative également de l'ampleur du défaut.
La quantification du défaut permet ainsi d'établir la qualité optique d'un substrat directement sur ligne de production.
Par conséquent, le procédé selon l'invention d'analyse du substrat consiste : à prendre à l'aide d'une caméra linéaire une série d'images linéaires en transmission d'une mire unique étroite sur ledit substrat, sans la nécessité, comme dans l'art antérieur, d'un couplage étudié de la mire par rapport à la caméra ou de l'utilisation d'un projecteur et d'un écran de grandes dimensions ; à extraire par traitement numérique des phases locales, à calculer la dérivée de ces phases, et déduire par calcul mathématique le profil en intensité des défauts (de préférence selon un calcul de la puissance optique et sa comparaison à une valeur de seuil) ;
à empiler verticalement ces profils sur un écran afin de reconstituer, ligne par ligne, une image de la cartographie des défauts du substrat ;
à procéder à une analyse de cette cartographie afin d'y détecter automatiquement la présence de défauts situés au-delà des limites tolérées en utilisant des techniques de traitement d'image classiques comme la détection de bords ou le seuillage dynamique.
Enfin, le dispositif de mesure proposé autorise un contrôle sur toute la longueur des substrats présents sur une ligne industrielle, sans prélèvement du substrat, sans arrêt ni ralentissement du substrat, sans modification de sa position sur le système de convoyage, sans utilisation d'un système de projection de mires successives, sans aucune contrainte de réglage optique ou mécanique. Il engendre une aire d'utilisation réduite par rapport à des dimensions de la mire qui sont bien inférieures à celles existantes ; typiquement le panneau support de la mire de l'invention est de 1 mètre de long par 5 cm de large.

Claims

REVENDICATIONS
1 . Dispositif d'analyse (1 ) d'une surface transparente d'un substrat (2) comportant une mire (10) formée sur un support (1 1 ) disposé en regard de la surface du substrat à mesurer, une caméra (3) pour prendre au moins une image de la mire déformée par le substrat mesuré, un système d'éclairage (4) de la mire, et des moyens de traitement (5) de l'image et d'analyse numérique qui sont reliés à la caméra (3), caractérisé en ce que le support (1 1 ) est de forme oblongue de petite et grande extensions, la mire étant monodirectionnelle et constituée d'un motif (10) qui s'étend selon la plus petite extension du support, le motif (10) étant périodique transversalement à la petite extension, et en ce que la caméra est linéaire et positionnée pour acquérir une image linéaire en transmission de la mire à travers le substrat selon la grande extension du support (1 1 ).
2. Dispositif (1 ) selon la revendication 1 , dans lequel le rapport entre la grande extension du support (1 1 ) et la petite extension du support (1 1 ) est par exemple supérieur ou égal à 10, de préférence supérieur ou égal à 20.
3. Dispositif (1 ) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le motif (10) comprend au moins une ligne qui présente, selon la petite extension du support
(1 1 ), une largeur comprise entre 0,1 mm et 5 cm, de préférence entre 1 mm et 2 mm.
4. Dispositif (1 ) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le motif se compose d'une succession alternative de lignes claires et foncées.
5. Dispositif (1 ) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le support (1 1 ) de la mire est constitué d'un panneau rétro-éclairé par le système d'éclairage (4).
6. Dispositif (1 ) selon la revendication 5, dans lequel le support (1 1 ) est, au niveau de sa face en regard du vitrage à mesurer, translucide et diffusant tel qu'une plaque de plastique blanc.
7. Dispositif (1 ) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat (2) est disposé entre la mire (10) et la caméra (3) pour une mesure en transmission.
8. Dispositif (1 ) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le support (1 1 ) de la mire (10) est montée mobile par rapport au substrat
(2) perpendiculairement au plan de défilement du substrat (2).
9. Dispositif (1 ) selon la revendication 8, comprenant un système mécanique de monte et baisse pour éloigner et rapprocher le support de la mire par rapport au substrat tout en conservant une netteté suffisante à l'image de la mire captée par la caméra.
10. Dispositif (1 ) selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant une mémoire sur laquelle sont enregistrés des programmes adaptés pour :
prendre à l'aide de la caméra linéaire une image linéaire en transmission de la mire éclairée, le substrat ou la mire étant en déplacement l'un par rapport à l'autre selon un seul sens de défilement parallèle à la direction des défauts et aux lignes de la mire ;
(1 ) acquérir la ligne de pixels de l'image linéaire prise suivant la grande extension de la mire, sans déplacer la caméra par rapport à la mire ;
- (2) appliquer un traitement numérique à la ligne de pixels acquise pour calculer une grandeur représentative, pour chaque pixel, de l'effet du substrat sur la lumière transmise par le substrat, par exemple la puissance optique de chaque pixel ;
(3) mémoriser les valeurs de cette grandeur pour chaque pixel de la ligne et afficher une image de la ligne de pixels dans laquelle la couleur de chaque pixel est représentative de cette grandeur ;
répéter le cycle d'acquisition-traitement-affichage (1 )(2)(3) plusieurs fois de manière périodique et empiler les images des lignes de pixels afin de reconstituer l'image d'une partie du substrat ;
- analyser par traitement numérique l'image reconstituée pour en déduire la position des défauts et quantifier leur gravité.
1 1 . Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que la période d'acquisition des lignes est supérieure à la durée d'acquisition de chaque ligne, par exemple de 0,1 seconde ou plus.
12. Procédé d'analyse d'une surface transparente ou spéculaire d'un substrat (2) à l'aide d'un dispositif comportant une mire (10) formée sur un support (1 1 ) de forme oblongue de petite et grande extensions, une caméra linéaire (3) pour prendre au moins une image de la mire déformée par le substrat mesuré, un système d'éclairage (4) de la mire, et des moyens de traitement (5) de l'image et d'analyse numérique qui sont reliés à la caméra (3), le procédé comprenant des étapes consistant à :
prendre à l'aide de la caméra linéaire une image linéaire en transmission de la mire éclairée, le substrat ou la mire étant en déplacement l'un par rapport à l'autre selon un seul sens de défilement parallèle à la direction des défauts et aux lignes de la mire ;
(1 ) acquérir la ligne de pixels de l'image linéaire prise suivant la grande extension de la mire, sans déplacer la caméra par rapport à la mire ;
(2) appliquer un traitement numérique à la ligne de pixels acquise pour calculer une grandeur représentative, pour chaque pixel, de l'effet du substrat sur la lumière transmise par le substrat, par exemple la puissance optique de chaque pixel ;
(3) mémoriser les valeurs de cette grandeur pour chaque pixel de la ligne et afficher une image de la ligne de pixels dans laquelle la couleur de chaque pixel est représentative de cette grandeur ;
répéter le cycle d'acquisition-traitement-affichage (1 )(2)(3) plusieurs fois de manière périodique et empiler les images des lignes de pixels afin de reconstituer l'image d'une partie du substrat ;
analyser par traitement numérique l'image reconstituée pour en déduire la position des défauts et quantifier leur gravité.
13. Procédé selon la revendication 12, dans lequel chaque ligne est affichée après chaque étape (2) pour que l'image reconstituée d'une partie du substrat simule un effet de défilement continu qui correspondra à l'affichage en temps réel d'une cartographie 2D des défauts.
14. Procédé selon la revendication 12 ou 13, dans lequel le substrat est un ruban de verre continu.
EP11717302.1A 2010-04-01 2011-03-28 Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent Active EP2553439B1 (fr)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL11717302T PL2553439T3 (pl) 2010-04-01 2011-03-28 Sposób i urządzenie do analizy właściwości optycznych przezroczystego substratu

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1052477A FR2958404B1 (fr) 2010-04-01 2010-04-01 Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent
PCT/FR2011/050675 WO2011121219A1 (fr) 2010-04-01 2011-03-28 Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2553439A1 true EP2553439A1 (fr) 2013-02-06
EP2553439B1 EP2553439B1 (fr) 2019-08-14

Family

ID=42666144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP11717302.1A Active EP2553439B1 (fr) 2010-04-01 2011-03-28 Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent

Country Status (13)

Country Link
US (1) US8736688B2 (fr)
EP (1) EP2553439B1 (fr)
JP (1) JP2013524192A (fr)
KR (2) KR20180018829A (fr)
CN (1) CN103097879B (fr)
BR (1) BR112012023274B1 (fr)
EA (1) EA026441B1 (fr)
ES (1) ES2751989T3 (fr)
FR (1) FR2958404B1 (fr)
MX (1) MX2012010900A (fr)
PL (1) PL2553439T3 (fr)
PT (1) PT2553439T (fr)
WO (1) WO2011121219A1 (fr)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011109793B4 (de) * 2011-08-08 2014-12-04 Grenzbach Maschinenbau Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur sicheren Detektion von Materialfehlern in transparenten Werkstoffen
FR2983583B1 (fr) * 2011-12-02 2013-11-15 Saint Gobain Dispositif d'analyse des defauts d'aspect d'un substrat transparent
US9007454B2 (en) * 2012-10-31 2015-04-14 The Aerospace Corporation Optimized illumination for imaging
CN103454287A (zh) * 2013-09-05 2013-12-18 深圳市维图视技术有限公司 一种玻璃管缺陷视觉检测方法及其装置
CN103472072A (zh) * 2013-09-09 2013-12-25 深圳市维图视技术有限公司 一种新的玻璃管缺陷视觉检测方法及其装置
CN105764860B (zh) 2013-11-25 2019-01-11 康宁股份有限公司 用于确定基本上圆柱形镜面反射表面的形状的方法
NL2014399A (en) * 2014-04-24 2015-11-02 Asml Holding Nv Compact two-sided reticle inspection system.
JP6559225B2 (ja) * 2014-08-08 2019-08-14 ヘレーウス クオーツ ノース アメリカ エルエルシーＨｅｒａｅｕｓ Ｑｕａｒｔｚ Ｎｏｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａ ＬＬＣ 光ファイバ母材の幾何学的特性を求めるための方法及び装置
US20160178535A1 (en) * 2014-12-17 2016-06-23 Xerox Corporation Inspection Device And Method
WO2018133945A1 (fr) * 2017-01-20 2018-07-26 Hp Indigo B.V. Identification de défauts linéaires
IT201700075428A1 (it) * 2017-07-05 2019-01-05 Antares Vision S R L Dispositivo di ispezione di contenitori particolarmente per il rilevamento di difetti lineari
KR102358582B1 (ko) * 2017-08-23 2022-02-04 삼성전자 주식회사 휴대 단말의 커버 글래스의 광학적 특성을 확인하는 검사 장치 및 커버 글래의 광학적 특성의 확인 방법
FR3085205B1 (fr) * 2018-08-22 2020-07-24 Livbag Sas Dispositif et methode de controle de verre de protection de soudeuse laser
EP3640630B1 (fr) * 2018-10-18 2026-03-11 Infineon Technologies AG Inspection de plaquettes intégrées
WO2020187994A1 (fr) * 2019-03-19 2020-09-24 Central Glass Co., Ltd. Motif optique pour système d'acquisition d'informations
CN111107257A (zh) * 2020-01-20 2020-05-05 成都德图福思科技有限公司 针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法
EP3875893A1 (fr) * 2020-03-02 2021-09-08 Trifid Automation, s.r.o. Procédé et dispositif de mesure sans contact d'objets géométriques
FR3151094B1 (fr) * 2023-07-10 2025-07-18 Sas Woodoo Procede d’evaluation de la clarte d’un materiau, notamment non-homogene

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61176839A (ja) * 1985-01-31 1986-08-08 Kanebo Ltd 透明または半透明の板状体の欠点検査装置
US5175601A (en) * 1991-10-15 1992-12-29 Electro-Optical Information Systems High-speed 3-D surface measurement surface inspection and reverse-CAD system
JP2795595B2 (ja) * 1992-06-26 1998-09-10 セントラル硝子株式会社 透明板状体の欠点検出方法
JPH10111252A (ja) * 1996-10-02 1998-04-28 Asahi Glass Co Ltd ガラス板の欠点検出装置
US6509967B1 (en) 1996-10-18 2003-01-21 Innomess Gelsellschaft Fur Messtechnik Mbh Method for detecting optical errors in large surface panels
US6208412B1 (en) 1999-06-14 2001-03-27 Visteon Global Technologies, Inc. Method and apparatus for determining optical quality
JP4633245B2 (ja) * 2000-11-06 2011-02-16 住友化学株式会社 表面検査装置及び表面検査方法
DE10301941B4 (de) * 2003-01-20 2005-11-17 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Kamera und Verfahren zur optischen Aufnahme eines Schirms
KR100615576B1 (ko) * 2003-02-06 2006-08-25 주식회사 고영테크놀러지 3차원형상 측정장치
US7369253B2 (en) * 2004-10-13 2008-05-06 Akrometrix, Llc Systems and methods for measuring sample surface flatness of continuously moving samples
US20060092276A1 (en) * 2004-10-28 2006-05-04 Ariglio James A Inspection system and method for identifying surface and body defects in a glass sheet
FR2898969B1 (fr) * 2006-03-24 2008-10-24 Peugeot Citroen Automobiles Sa Procede et installation de controle de la qualite de pieces
US8736677B2 (en) * 2008-08-07 2014-05-27 Kde Corporation Inspection system
NL2003263A (en) * 2008-08-20 2010-03-10 Asml Holding Nv Particle detection on an object surface.
FR2936605B1 (fr) 2008-10-01 2014-10-31 Saint Gobain Dispositif d'analyse de la surface d'un substrat
CN101592621A (zh) * 2009-05-18 2009-12-02 济南佳美视觉技术有限公司 一种使用折射栅格光源检验玻璃瓶表面缺陷及内部缺陷的自动光学检验设备

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See references of WO2011121219A1 *

Also Published As

Publication number Publication date
BR112012023274B1 (pt) 2020-05-26
WO2011121219A1 (fr) 2011-10-06
PT2553439T (pt) 2019-11-22
US8736688B2 (en) 2014-05-27
EA201290998A1 (ru) 2013-03-29
FR2958404A1 (fr) 2011-10-07
EA026441B1 (ru) 2017-04-28
KR20180018829A (ko) 2018-02-21
EP2553439B1 (fr) 2019-08-14
KR20130014528A (ko) 2013-02-07
ES2751989T3 (es) 2020-04-02
US20130010175A1 (en) 2013-01-10
CN103097879A (zh) 2013-05-08
FR2958404B1 (fr) 2012-04-27
BR112012023274A2 (pt) 2016-05-17
PL2553439T3 (pl) 2020-02-28
CN103097879B (zh) 2017-01-18
MX2012010900A (es) 2012-11-06
JP2013524192A (ja) 2013-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2553439B1 (fr) Procede et dispositif d'analyse de la qualite optique d'un substrat transparent
FR2936605A1 (fr) Dispositif d'analyse de la surface d'un substrat
CA1312377C (fr) Procede pour la determination de la qualite optique du verre plat ou de produits en verre plat
EP3097407B1 (fr) Procédé et dispositif pour la détection notamment de défauts refractants
EP2834594B1 (fr) Méthode et dispositif de mesure de planéité d'un produit métallique
FR3067111B1 (fr) Dispositifs optiques pour l'analyse qualite d'un vitrage.
FR2983583A1 (fr) Dispositif d'analyse des defauts d'aspect d'un substrat transparent
WO2011048306A1 (fr) Procede d'analyse de la qualite d'un vitrage
EP1771714B1 (fr) Procédé d'inspection d'un composant optique de l'industrie ophtalmique
FR3132352A1 (fr) Procédés et systèmes opto-informatiques d’inspection en lumière traversante d’un récipient en verre
EP0484237A1 (fr) Procédé et dispositif de mesure de la qualité optique d'un vitrage
EP2616764A1 (fr) Dispositif et procédé de mesure de la forme d'un miroir ou d'une surface speculaire
EP3080592A1 (fr) Procede et dispositif d'analyse de la surface d'un substrat
FR3138697A1 (fr) Procédé de caractérisation de la qualité optique d’une zone donnée d'un vitrage de véhicule
FR3088724A1 (fr) Dispositif de detection optique des defauts d’un materiau en feuille, muni de deux tetes de detection
FR2914746A1 (fr) Dispositif de mesure du deplacement d'une surface, application a la mesure de la regression de la surface d'un materiau combustible optiquement transparent qui est en feu

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20120910

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

17Q First examination report despatched

Effective date: 20180523

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: G01N 21/958 20060101AFI20190313BHEP

Ipc: G01N 21/896 20060101ALI20190313BHEP

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20190402

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1167626

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20190815

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: FRENCH

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 602011061247

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: RO

Ref legal event code: EPE

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: TRGR

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: FP

REG Reference to a national code

Ref country code: PT

Ref legal event code: SC4A

Ref document number: 2553439

Country of ref document: PT

Date of ref document: 20191122

Kind code of ref document: T

Free format text: AVAILABILITY OF NATIONAL TRANSLATION

Effective date: 20191113

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG4D

REG Reference to a national code

Ref country code: SK

Ref legal event code: T3

Ref document number: E 32467

Country of ref document: SK

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191114

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191114

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MK05

Ref document number: 1167626

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20190814

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191115

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191214

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2751989

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

Effective date: 20200402

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20200224

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 602011061247

Country of ref document: DE

RAP2 Party data changed (patent owner data changed or rights of a patent transferred)

Owner name: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG2D Information on lapse in contracting state deleted

Ref country code: IS

26N No opposition filed

Effective date: 20200603

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200331

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200328

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200331

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: TR

Payment date: 20220328

Year of fee payment: 12

Ref country code: SK

Payment date: 20220215

Year of fee payment: 12

Ref country code: SE

Payment date: 20220210

Year of fee payment: 12

Ref country code: RO

Payment date: 20220301

Year of fee payment: 12

Ref country code: PT

Payment date: 20220328

Year of fee payment: 12

Ref country code: PL

Payment date: 20220221

Year of fee payment: 12

Ref country code: NL

Payment date: 20220215

Year of fee payment: 12

Ref country code: LU

Payment date: 20220314

Year of fee payment: 12

Ref country code: IT

Payment date: 20220210

Year of fee payment: 12

Ref country code: CZ

Payment date: 20220317

Year of fee payment: 12

Ref country code: BE

Payment date: 20220221

Year of fee payment: 12

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190814

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Payment date: 20220405

Year of fee payment: 12

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: EUG

REG Reference to a national code

Ref country code: SK

Ref legal event code: MM4A

Ref document number: E 32467

Country of ref document: SK

Effective date: 20230328

Ref country code: NL

Ref legal event code: MM

Effective date: 20230401

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230928

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MM

Effective date: 20230331

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230401

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230329

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230331

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20240130

Year of fee payment: 14

Ref country code: GB

Payment date: 20240208

Year of fee payment: 14

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FD2A

Effective date: 20240508

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20240322

Year of fee payment: 14

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230329

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230329

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230328

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 602011061247

Country of ref document: DE

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20250328

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20251001

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20250328

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20250331