EP1629530A1 - Elektronisches bauteil sowie halbleiterwafer und bauteilträger zur herstellung des bauteils - Google Patents

Elektronisches bauteil sowie halbleiterwafer und bauteilträger zur herstellung des bauteils

Info

Publication number
EP1629530A1
EP1629530A1 EP04738559A EP04738559A EP1629530A1 EP 1629530 A1 EP1629530 A1 EP 1629530A1 EP 04738559 A EP04738559 A EP 04738559A EP 04738559 A EP04738559 A EP 04738559A EP 1629530 A1 EP1629530 A1 EP 1629530A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
magnetic layer
component
chip
carrier
positions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP04738559A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Simon Jerebic
Horst Theuss
Jens Pohl
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Publication of EP1629530A1 publication Critical patent/EP1629530A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/71Means for bonding not being attached to, or not being formed on, the surface to be connected
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/482Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
    • H01L23/4827Materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/562Protection against mechanical damage
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/564Details not otherwise provided for, e.g. protection against moisture
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/0401Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04026Bonding areas specifically adapted for layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/27Manufacturing methods
    • H01L2224/274Manufacturing methods by blanket deposition of the material of the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/27Manufacturing methods
    • H01L2224/278Post-treatment of the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29155Nickel [Ni] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29157Cobalt [Co] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/2916Iron [Fe] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29186Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2224/29187Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/757Means for aligning
    • H01L2224/75733Magnetic holding means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8312Aligning
    • H01L2224/83121Active alignment, i.e. by apparatus steering, e.g. optical alignment using marks or sensors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8312Aligning
    • H01L2224/83143Passive alignment, i.e. self alignment, e.g. using surface energy, chemical reactions, thermal equilibrium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83193Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/839Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector with the layer connector not providing any mechanical bonding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/94Batch processes at wafer-level, i.e. with connecting carried out on a wafer comprising a plurality of undiced individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/9512Aligning the plurality of semiconductor or solid-state bodies
    • H01L2224/95143Passive alignment, i.e. self alignment, e.g. using surface energy, chemical reactions, thermal equilibrium
    • H01L2224/95144Magnetic alignment, i.e. using permanent magnetic parts in the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/27Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L24/80 - H01L24/90
    • H01L24/92Specific sequence of method steps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/94Batch processes at wafer-level, i.e. with connecting carried out on a wafer comprising a plurality of undiced individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0101Neon [Ne]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01027Cobalt [Co]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01028Nickel [Ni]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01052Tellurium [Te]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01064Gadolinium [Gd]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01084Polonium [Po]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/011Groups of the periodic table
    • H01L2924/01105Rare earth metals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3512Cracking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3512Cracking
    • H01L2924/35121Peeling or delaminating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/4902Electromagnet, transformer or inductor
    • Y10T29/49021Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
    • Y10T29/49032Fabricating head structure or component thereof
    • Y10T29/49036Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
    • Y10T29/49043Depositing magnetic layer or coating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/53Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/53039Means to assemble or disassemble with control means energized in response to activator stimulated by condition sensor
    • Y10T29/53061Responsive to work or work-related machine element
    • Y10T29/53083Responsive to work or work-related machine element including means to apply magnetic force directly to position or hold work
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/53Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53165Magnetic memory device
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/53Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53196Means to apply magnetic force directly to position or hold work part

Definitions

  • the invention relates to electronic components, as well as a semiconductor wafer and a component carrier for producing such components, which have a semiconductor chip with an integrated circuit and with a chip backside, which is mounted on a chip carrier.
  • microcracks or microcracks form up to a mechanical delamination of the semiconductor chip from the chip carrier.
  • the formation of microcracks or microcolumns creates areas in which moisture accumulates and stores so that malfunctioning of the electronic component can occur.
  • the object of the invention is to provide an electronic component in which voltage peaks between the semiconductor chip and the chip carrier are degradable, without electronic malfunction of the electronic component occur.
  • the electronic component has a semiconductor chip with an integrated circuit Chip top and with a chip back on.
  • This semiconductor chip is arranged on a carrier top side of a chip carrier, which has a carrier back side.
  • the chip back side and the carrier top side each have a magnetic layer and at least one of the two layers is permanently magnetic.
  • the permanent magnetic state is achieved by appropriate magnetization of hard magnetic materials. During the magnetization, different polarities, different layer regions can be achieved simultaneously by aligning the Weis domains in the hard magnetic material.
  • the layer remains magnetic and can be fixed by a permanent magnetic layer.
  • the two superimposed layers on the back of the chip and on the upper side of the carrier can be moved laterally despite the magnetic transversal fixation. This ensures that at different thermal expansion of the semiconductor chip and chip carrier no voltage spikes occur in the electronic component, since the component top can move laterally with respect to the chip back under thermal stress and yet maintained an intense thermal contact between the chip back and carrier top, so that malfunction avoided become.
  • the magnetic layer material used can be ferromagnetic materials and / or ferrimagnetic materials.
  • ferromagnetic materials iron, nickel, cobalt and / or gadolinium can be contained as a rare earth in the magnetic layer, while used as ferrimagnetic materials oxide ceramics.
  • the ferrimagnetic Materials are especially intended for the formation of permanent magnetic layers.
  • both the magnetic layer on the chip back side and the magnetic layer on the carrier top side are permanently magnetic.
  • the permanent magnetic layers have structures which are aligned radially symmetrically, for example, radially toward a point of symmetry and have an alternating polarity.
  • Such a structuring and polarization of the permanent magnetic layers has the advantage that when a semiconductor chip with a correspondingly structured magnetic layer on its rear side is placed on a chip carrier with a correspondingly structured permanent magnetic layer with corresponding polarity reversal on its carrier top side, the semiconductor chip is automatically placed on the chip carrier centered and positioned.
  • the production outlay can thus be reduced, especially as micro-manipulation of the semiconductor chips can be dispensed with.
  • a further aspect of the invention relates to a semiconductor chip wafer for producing a plurality of semiconductor chips, wherein the semiconductor wafer has semiconductor chip positions arranged in rows and columns. On its wafer top side, the semiconductor chip is integrated in the semiconductor chip positions
  • This magnetic layer can be permanently magnetic and, in particular, this permanent magnetic layer can be structured in each of the semiconductor chip positions in such a way that regions of different polarity are present radially symmetrically and / or concentrically.
  • Such a semiconductor wafer has the advantage that it produces a multiplicity of electronic semiconductor chips by separation along parting lines of the semiconductor chip positions arranged in rows and columns, which are suitable for application to a correspondingly prepared semiconductor chip carrier having a magnetic layer and / or with a permanent magnetic layer are.
  • the semiconductor wafer with its structures on the semiconductor chip back side has the advantage that a magnetic layer is already present for many semiconductor chips at the same time.
  • a further aspect of the invention relates to a component carrier which has component positions arranged in rows and columns, the component positions having chip carriers with chip carrier top sides and chip carrier back sides.
  • the chip carrier tops can have magnetic layers and / or permanent magnetic structures with regions of different polarity in a radially symmetrical and / or concentric arrangement.
  • Such a component carrier has the advantage that it can be equipped with appropriately prepared semiconductor chips, and although these semiconductor chips are fixed transversely by the magnetic attraction, but can move laterally relative to the chip carrier under thermal stress.
  • a radially symmetrical and / or concentric arrangement of regions of permanent magnetic layers has the advantage that the semiconductor chip remains centered on the chip carrier despite its thermal expansion of the chip carrier and the semiconductor chip with its center on the chip carrier.
  • a method for producing a semiconductor wafer having a plurality of semiconductor chip positions for a plurality of electronic components has the following method steps. First, a semiconductor wafer is provided with semiconductor chip positions arranged in rows and columns and with a wafer top side and with a wafer backside. Subsequently, a magnetic layer is applied to the back of the wafer. This magnetic layer can additionally be patterned in the semiconductor chip positions, so that it has radially symmetric and / or concentric regions. Subsequently, these areas can be magnetized differently, so that different poled permanent magnetic areas arise. Such a structuring in the semiconductor chip positions is only necessary if, after the semiconductor wafer has been separated into individual semiconductor chips, these are to be applied self-centering to a corresponding chip carrier.
  • a method for producing a component carrier with a plurality of component positions for a plurality of electronic components has the following method steps. First, a component carrier blank with component positions arranged in rows and columns of a component carrier top side and a component carrier rear side is provided.
  • This component carrier blank may comprise a non-magnetic copper or copper alloy plate. But it can also have a copper-clad circuit board.
  • a magnetic layer is applied to the component carrier top side. If this component carrier is prepared for semiconductor chips which already have permanent-magnetic layers on their rear sides, it is sufficient to apply only one magnetic layer to the component carrier. However, then there is no automatic centering of the semiconductor chip on the chip carrier. It must rather be positioned with a micromanipulator of the semiconductor chip on the component carrier.
  • the magnetic layer on the component carrier top side is first patterned and then the structured magnetic layer is magnetized into differently poled permanent magnetic regions.
  • radially symmetric and / or coaxially aligned regions can be provided in order to ensure automatic positioning and centering of semiconductor chips on the component carrier.
  • This method has the advantage that electronic components are formed which are not disturbed even when the semiconductor chips are displaced relative to the carrier material due to thermal stress electrical contact with the carrier material, since a lateral displacement between the magnetic layers is possible at any time, without the contact pressure between the magnetic layers to reduce or increase the contact resistance. This creates an electronic component whose functionality is not impaired by thermal loads.
  • Chip carrier currently the technique of gluing or soldering is used. This compound is rigid in all directions, with the result that the adhesive force between the carrier and chips abruptly as soon as a critical stress in the material is exceeded. It creates a gap in which moisture can accumulate, which leads to failure of the component. Furthermore, even the adhesives between the semiconductor chip and the chip carrier tend to absorb moisture, which may affect the functionality of an electronic component.
  • connection is realized which permits a lateral displacement of the connection partners of semiconductor chip and chip carrier, without the transverse connection force decreasing.
  • the chip carrier of the component carrier serves as a mounting surface for a rear side of the semiconductor chip coated with a magnetic layer. Only one of the two contact partners must be permanently magnetic, ie actively generate a magnetic field. It is therefore sufficient if each of the other partner is magnetizable.
  • both components are bonded together. the fixed.
  • By fine structuring of the magnetic regions, self-centering of the semiconductor chip on the chip carrier can also be achieved.
  • FIG. 1 shows a basic cross section through a semiconductor chip 1 on a semiconductor chip carrier 4.
  • the semiconductor chip 1 has a chip top side with an integrated circuit whose contact surfaces 9 are connected via bonding connections 10 to external contacts (not shown) of the electronic component.
  • a chip back 3 has a magnetic layer 7.
  • the semiconductor chip 1 is arranged on a chip carrier 4, which in turn has a rear side 6 and an upper side 5.
  • a permanent magnetic layer 8 is arranged, which is magnetized such that the magnetic layer 7 is attracted to the chip back side 3 of the semiconductor chip 1 by the permanent magnetic layer 8 and fixed on the carrier top side 5 of the chip carrier 4.
  • both magnetic layers 7 and 8 have structured permanent magnetic regions and these are structured radially symmetrically or concentrically, the semiconductor chip 1 is automatically aligned, centered and fixed on the chip carrier 4 in a predetermined manner.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein elektronisches Bauteil sowie einen Halbleiterwafer und einen Bauteilträger zur Herstellung des Bauteils. Das elektronische Bauteil weist dazu einen Halbleiterchip (1) mit einer eine integrierte Schaltung aufweisenden Chipoberseite (2) und einer Chiprückseite (3) auf, wobei die Chiprückseite (3) eine magnetische Schicht (7) hat. Außerdem weist ein Chipträger an seiner Trägeroberseite (5) ebenfalls eine magnetische Schicht (8) auf. Mindestens eine der beiden Schichten (7, 8) ist permanentmagnetisch, so dass der Halbleiterchip auf dem Chipträger (5) magnetisch fixiert ist.

Description

Beschreibung
Elektronisches Bauteil sowie Halbleiterwafer und Bauteilträger zur Herstellung des Bauteils
Die Erfindung betrifft elektronische Bauteile, sowie einen Halbleiterwafer und einen Bauteilträger zur Herstellung derartiger Bauteile, die einen Halbleiterchip mit einer integrierten Schaltung und mit einer Chiprückseite, die auf einem Chipträger montiert ist, aufweisen.
Durch die Montage des Halbleiterchips auf dem Chipträger sind Halbleiterchip und Chipträger über Lotverbindungen oder Klebeverbindungen starr in allen drei Raumrichtungen aufeinander fixiert. Bei thermischer Belastung kann diese starre mechanische Verbindung reißen. Dabei bilden sich Mikrorisse oder Mi- krospalte bis hin zu einer mechanischen Delamination des Halbleiterchips von dem Chipträger. Durch die Bildung von Mi- krorissen oder Mikrospalten bilden sich Bereiche, in denen sich Feuchte ansammelt und Speichert, so daß Fehlfunktionen des elektronischen Bauteils auftreten können.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein elektronisches Bauteil anzugeben, bei dem Spannungsspitzen zwischen Halbleiterchip und Chipträger abbaubar sind, ohne dass elektronische Fehlfunktionen des elektronischen Bauteils auftreten.
Diese Aufgabe wird mit dem Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
Erfindungsgemäß weist das elektronische Bauteil einen Halbleiterchip mit einer eine integrierte Schaltung aufweisende Chipoberseite und mit einer Chiprückseite auf. Dieser Halbleiterchip ist auf einer Trägeroberseite eines Chipträgers angeordnet, der eine Trägerrückseite aufweist. Die Chiprückseite und die Trägeroberseite weisen jeweils eine magnetische Schicht auf und mindestens eine der beiden Schichten ist permanentmagnetisch. Der permanentmagnetische Zustand wird durch entsprechende Magnetisierung hartmagnetischer Werkstoffe erreicht. Bei der Magnetisierung können gleichzeitig unterschiedliche Polungen, unterschiedliche Schichtbereiche durch Ausrichten der Weisschen-Bezirke in dem hartmagnetischen Material erreicht werden.
Solange ein permanentmagnetischer Zustand nicht erreicht ist, bleibt die Schicht magnetisch und kann von einer permanentma- gnetischen Schicht fixiert werden. Die beiden aufeinander liegenden Schichten auf der Chiprückseite und auf der Trägeroberseite können trotz der magnetischen transversalen Fixierung lateral verschoben werden. Dadurch wird gewährleistet, dass bei unterschiedlicher thermischer Ausdehnung von Halbleiterchip und Chipträger keine Spannungsspitzen im elektronischen Bauteil auftreten, da sich die Bauteiloberseite gegenüber der Chiprückseite bei thermischer Belastung lateral verschieben kann und dennoch ein intensiver thermischer Kontakt zwischen Chiprückseite und Trägeroberseite erhalten bleibt, so dass Fehlfunktionen vermieden werden.
Als magnetisches Schichtmaterial können ferromagnetische Werkstoffe und/oder ferrimagnetische Werkstoffe eingesetzt werden. Als ferromagnetische Werkstoffe können Eisen, Nickel, Kobalt und/oder Gadolinium als seltenes Erd in der magnetischen Schicht enthalten sein, während als ferrimagnetische Werkstoffe Oxidkeramiken eingesetzt werden. Die ferrimagneti- sehen Werkstoffe sind insbesondere für die Ausbildung von permanentmagnetischen Schichten vorgesehen.
In einer Ausführungsform der Erfindung sind sowohl die magne- tische Schicht auf der Chiprückseite als auch die magnetische Schicht auf der Trägeroberseite permanentmagnetisch. Dabei weisen die permanentmagnetischen Schichten Strukturen auf, die radialsymmetrisch beispielsweise strahlenförmig auf einen Symmetriepunkt hin ausgerichtet sind und eine abwechselnde Polarität aufweisen.
Eine derartige Strukturierung und Polarisierung der permanentmagnetischen Schichten hat den Vorteil, dass beim Aufsetzen eines Halbleiterchips mit einer entsprechend strukturier- ten magnetischen Schicht auf seiner Rückseite auf einen Chipträger mit entsprechend strukturierter permanentmagnetischer Schicht mit entsprechender Gegenpolung auf seiner Trägeroberseite der Halbleiterchip automatisch beim Aufsetzen auf den Chipträger zentriert und positioniert wird. Beim Bestücken eines Bauteilträgers, der mehrere Chipträger aufweist, kann somit der Fertigungsaufwand vermindert wird, zumal eine Mi- kromanipulation der Halbleiterchips entfallen kann.
Weiterhin ist es möglich, dass die permanentmagnetischen Strukturen auf der Trägeroberseite und der Halbleiterchiprückseite konzentrisch angeordnet sind und eine abwechselnde Polarität aufweisen. Eine konzentrische Anordnung beispielsweise von Ringsegmenten hat im Prinzip die gleiche Wirkung wie eine radialsymmetrische Anordnung von strahlenförmigen Bereichen, indem der Halbleiterchip automatisch auf der Trägeroberseite mit einer entsprechenden konzentrischen Struktur fixiert wird. Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft einen Halbleiter- chipwafer zur Herstellung mehrerer Halbleiterchips, wobei der Halbleiterwafer in Zeilen und Spalten angeordnete Halbleiterchippositionen aufweist. Auf seiner Waferoberseite weist der Halbleiterchip in den Halbleiterchippositionen integrierte
Schaltungen auf. Auf der gegenüberliegenden Seite, der Wafer- rückseite, weist der Halbleiterwafer eine' magnetische Schicht auf. Diese magnetische Schicht kann permanentmagnetisch sein und insbesondere kann diese permanentmagnetische Schicht in jeder der Halbleiterchippositionen derart strukturiert sein, dass Bereiche unterschiedlicher Polung radialsymmetrisch und/oder konzentrisch vorhanden sind.
Ein derartiger Halbleiterwafer hat den Vorteil, dass aus ihm eine Vielzahl von elektronischen Halbleiterchips durch Trennung entlang von Trennfugen der in Zeilen und Spalten angeordneten Halbleiterchippositionen entstehen, die für ein Aufbringen auf einen entsprechend präparierten Halbleiterchipträger mit magnetischer Schicht und/oder mit permanentmagne- tischer Schicht geeignet sind. Somit hat der Halbleiterwafer mit seinen Strukturen auf der Halbleiterchiprückseite den Vorteil, dass bereits für viele Halbleiterchips gleichzeitig eine magnetische Schicht vorhanden ist.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft einen Bauteilträger, der in Zeilen und Spalten angeordnete Bauteilpositionen aufweist, wobei die Bauteilpositionen Chipträger mit Chipträgeroberseiten und Chipträgerrückseiten aufweisen. Dabei können die Chipträgeroberseiten magnetische Schichten aufweisen und/oder permanentmagnetische Strukturen mit Bereichen unterschiedlicher Polarität in radialsymmetrischer und/oder konzentrischer Anordnung besitzen. Ein derartiger Bauteilträger hat den Vorteil, dass er mit entsprechend präparierten Halbleiterchips bestückt werden kann, und diese Halbleiterchips zwar transversal durch die magnetische Anziehung fixiert sind, jedoch sich lateral ge- genüber dem Chipträger bei thermischer Belastung verschieben können. Dabei hat eine radialsymmetrische und/oder konzentrische Anordnung von Bereichen von permanentmagnetischen Schichten den Vorteil, dass der Halbleiterchip auf dem Chipträger trotz unterschiedlicher thermischer Ausdehnung von Chipträger und Halbleiterchip mit seinem Zentrum auf dem Chipträger zentriert bleibt.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterwafers mit mehreren Halbleiterchippositionen für mehrere elektronische Bau- teile weist die nachfolgenden Verfahrensschritte auf. Zunächst wird ein Halbleiterwafer mit in Zeilen und Spalten angeordneten Halbleiterchippositionen und mit einer Waferober- seite und mit einer Waferrückseite bereitgestellt. Anschließend wird auf die Waferrückseite eine magnetische Schicht aufgebracht. Diese magnetische Schicht kann in den Halbleiterchippositionen zusätzlich strukturiert werden, so dass sie radialsymmetrische und/oder konzentrische Bereiche aufweist. Anschließend können diese Bereiche unterschiedlich magneti- siert werden, so dass unterschiedlich gepolte permanentmagne- tische Bereiche entstehen. Eine derartige Strukturierung in den Halbleiterchippositionen ist nur dann erforderlich, wenn nach dem Auftrennen des Halbleiterwafers in einzelne Halbleiterchips diese selbstzentrierend auf einen entsprechenden Chipträger aufzubringen sind. Im Prinzip reicht es, die Halb- leiterwaferrückseite mit einer magnetischen Schicht aus fer- romagnetischen oder ferrimagnetischen Werkstoffen ohne jede Strukturierung zu beschichten. Ein Verfahren zur Herstellung eines Bauteilträgers mit mehreren Bauteilpositionen für mehrere elektronische Bauteile weist die nachfolgenden Verfahrensschritte auf. Zunächst wird ein Bauteilträgerrohling mit in Zeilen und Spalten angeordne- ten Bauteilpositionen einer Bauteilträgeroberseite und einer Bauteilträgerrückseite bereitgestellt. Dieser Bauteilträgerrohling kann eine nicht magnetische Kupfer- oder Kupferlegierungsplatte aufweisen. Er kann aber auch eine kupferkaschierte Leiterplatte aufweisen. Auf diesen Bauteilträgerrohling wird eine magnetische Schicht auf die Bauteilträgeroberseite aufgebracht. Wird dieser Bauteilträger für Halbleiterchips vorbereitet, die bereits permanentmagnetische Schichten auf ihren Rückseiten aufweisen, so reicht es, auf den Bauteilträger lediglich eine magnetische Schicht aufzubringen. Jedoch ist dann eine automatische Zentrierung des Halbleiterchips auf dem Chipträger nicht gegeben. Es muss vielmehr mit einem Mikromanipulator der Halbleiterchip auf dem Bauteilträger positioniert werden.
Um eine automatische Zentrierung zu erreichen, wird die magnetische Schicht auf der Bauteilträgeroberseite zunächst strukturiert und anschließend wird die strukturierte magnetische Schicht in unterschiedlich gepolte permanentmagnetische Bereiche magnetisiert . Bei der Strukturierung und/oder bei der Magnetisierung können radialsymmetrische und/oder koaxial ausgerichtete Bereiche vorgesehen werden, um eine automatische Positionierung und Zentrierung von Halbleiterchips auf dem Bauteilträger zu gewährleisten.
Zur Herstellung eines elektronischen Bauteils mit Hilfe eines nach den obigen Aspekten präparierten, vorbereiteten und zur Verfügung stehenden Halbleiterwafers ist dieser lediglich in einzelne Halbleiterchips zu trennen. Anschließend können die Halbleiterchips auf einen entsprechend bereitgestellten Bauteilträger aufgebracht werden, wobei je nach Präparation der magnetischen Schichten auf der Rückseite der Halbleiterchips und der Bauteilträgeroberseite eine automatische Zentrierung der Halbleiterchips erfolgt oder eine Ausrichtung und Justage mittels eines Mikro anipulators erforderlich wird.
Nach dem Fixieren der Halbleiterchips auf entsprechenden Chipträgeroberseiten des Bauteilträgers kann ein Verdrahten der Halbleiterchips mit entsprechenden Außenkontaktstrukturen des Bauteilträgers und ein Verpacken der Halbleiterchips in den Bauteilpositionen des Bauteilträgers zu elektronischen Bauteilen erfolgen, so dass als abschließender Verfahrensschritt zur Herstellung von elektronischen Bauteilen der Bau- teilträger lediglich noch in einzelne elektronische Bauteile aufzutrennen ist.
Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass elektronische Bauteile entstehen, die selbst bei Verschiebungen der Halbleiterchips gegenüber dem Trägermaterial durch thermische Belastungen ein elektrischer Kontakt zum Trägermaterial nicht gestört wird, da eine Lateralverschiebung zwischen den magnetischen Schichten jederzeit möglich ist, ohne den Anpressdruck zwischen den magnetischen Schichten zu vermindern oder den Kontaktwider- stand zu erhöhen. Somit entsteht ein elektronisches Bauteil, dessen Funktionalität durch thermische Belastungen nicht beeinträchtigt wird.
Zusammenfassend ist festzustellen, dass zum Verbinden des Halbleiterchips in einem elektronischen Bauteil mit einem
Chipträger gegenwärtig die Technik des Klebens oder des Lötens verwendet wird. Diese Verbindung ist in allen Richtungen starr, was zur Folge hat, dass die Haftkraft zwischen Träger und Chip schlagartig nachlässt, sobald eine kritische Spannung im Material überschritten wird. Es entsteht ein Spalt, in dem sich Feuchte ansammeln kann, was zum Ausfall des Bauteils führt. Ferner neigen selbst die Klebstoffe zwischen Halbleiterchip und Chipträger zur Aufnahme von Feuchtigkeit, was die Funktionalität eines elektronischen Bauteils beeinträchtigen kann.
Bisher wurde deshalb versucht, die Stabilität dieser starren Verbindung in allen drei Raumrichtungen zwischen Träger und Chip zu erhöhen, damit derartige Risse nicht auftreten. Jedoch kann die prinzipielle Anfälligkeit gegen Mikrorisse bei derartigen elektronischen Bauteilen mit einem Halbleiterchip, der Starr auf einem Chipträger fixiert ist, nicht ausge- schlössen werden.
Mit der vorliegenden Erfindung wird eine Verbindung realisiert, die eine Lateralverschiebung der Verbindungspartner aus Halbleiterchip und Chipträger zulässt, ohne dass die transversale Verbindungskraft nachlässt. Somit wird aufgrund der vorliegenden Erfindung eine hohe Haftkraft zwischen beiden Verbindungspartnern auch aufrecht erhalten, selbst wenn sich die Verbindungspartner gegeneinander lateral verschieben. Dabei dient der Chipträger des Bauteilträgers als Monta- gefläche für eine mit einer magnetischen Schicht beschichteten Rückseite des Halbleiterchips. Lediglich einer der beiden Kontaktpartner muss dabei permanentmagnetisch sein, also ein Magnetfeld aktiv erzeugen. Es genügt somit, wenn jeweils der andere Partner magnetisierbar ist.
Wird der Halbleiterchip mit einer derartigen magnetischen Schicht in Kontakt zu einem Chipträger mit permanentmagnetischer Schicht gebracht, so werden beide Komponenten aufeinan- der fixiert. Durch Feinstrukturierung der Magnetbereiche kann auch eine Selbstzentrierung des Halbleiterchips auf dem Chipträger erreicht werden.
Die Erfindung wird nun anhand der beiliegenden Figur 1 näher erläutert .
Figur 1 zeigt einen prinzipiellen Querschnitt durch einen Halbleiterchip 1 auf einem Halbleiterchipträger 4. Der Halb- leiterchip 1 hat eine Chipoberseite mit einer integrierten Schaltung, deren Kontaktflächen 9 über Bondverbindungen 10 mit nicht gezeigten Außenkontakten des elektronischen Bauteils verbunden sind. Eine Chiprückseite 3 weist eine magnetische Schicht 7 auf. Der Halbleiterchip 1 ist auf einem Chipträger 4 angeordnet, der seinerseits eine Rückseite 6 und eine Oberseite 5 aufweist. Auf der Oberseite 5 des Chipträgers 4 ist eine permanentmagnetische Schicht 8 angeordnet, welche derart magnetisiert ist, dass die magnetische Schicht 7 auf der Chiprückseite 3 des Halbleiterchips 1 von der per- manentmagnetischen Schicht 8 angezogen und auf der Trägeroberseite 5 des Chipträgers 4 fixiert wird.
Wenn beide magnetischen Schichten 7 und 8 strukturierte permanentmagnetische Bereiche aufweisen und diese radialsymme- trisch oder konzentrisch strukturiert sind, so wird der Halbleiterchip 1 automatisch auf dem Chipträger 4 in vorbestimmter Weise ausgerichtet, zentriert und fixiert.

Claims

Patentansprüche
1. Elektronisches Bauteil das folgende Merkmale aufweist: einen Halbleiterchip (1) mit einer eine integrierte Schaltung aufweisenden Chipoberseite (2) und mit einer Chiprückseite (3) einen Chipträger (4) mit einer den Halbleiterchip (1) tragenden Trägeroberseite (5) und mit einer Trägerrückseite (6), und wobei die Chiprückseite (3) und die Trägeroberseite (5) jeweils eine magnetische Schicht (7,8) aufweisen und mindestens eine der beiden Schichten (7,8) permanentmagnetisch ist.
2. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die magnetische Schicht (7) auf der Chiprückseite (3) und die magnetische Schicht (8) auf der Trägeroberseite (5) permanentmagnetische Strukturen aufweisen, die radi- alsymmetrisch angeordnet sind und eine abwechselnde Polarität aufweisen.
3. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die magnetische Schicht (7) auf der Chiprückseite (3) und die magnetische Schicht (8) auf der Trägeroberseite (5) permanentmagnetische Strukturen aufweisen, die konzentrisch angeordnet sind und eine abwechselnde Polarität aufweisen.
Halbleiterwafer, der folgende Merkmale aufweist: in Zeilen und Spalten angeordnete Halbleiterchippositionen, eine Waferoberseite mit integrierten Schaltungen in den Halbleiterchippositionen, eine Waferrückseite mit einer magnetischen Schicht.
5. Halbleiterwafer nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die magnetische Schicht permanentmagnetisch ist.
6. Halbleiterwafer nach Anspruch 4 oder Anspruch 5, dadurch gekennzeich et, dass die magnetische Schicht in den Halbleiterchippositionen strukturiert ist, wobei Bereiche unterschiedlicher Polung radialsymmetrisch und/oder konzentrisch angeordnet sind.
7. Bauteilträger, der in Zeilen und Spalten angeordnete Bauteilpositionen aufweist, wobei die Bauteilpositionen Chipträger mit Chipträgeroberseiten und Chipträgerrückseiten aufweisen, und wobei die Chipträgeroberseiten ei- ne magnetische Schicht aufweisen, und wobei die magnetische Schicht eine permanentmagnetische Struktur aufweist.
8. Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterwafers mit mehreren Halbleiterchippositionen für mehrere elektronischen Bauteile, wobei das Verfahren folgende Verfahrensschritte aufweist:
Bereitstellen eines Halbleiterwafers mit in Zeilen und Spalten angeordneten Halbleiterchippositionen und mit einer Waferoberseite und einer Waferrück- seite,
Aufbringen einer magnetischen Schicht auf die Wa- ferrückseite, Strukturieren der magnetischen Schicht in den Halbleiterchippositionen,
Magnetisieren der strukturierten magnetischen Schicht in unterschiedlich gepolte permanentmagne- tische Bereiche.
9. Verfahren zur Herstellung eines Bauteilträgers mit mehreren Bauteilpositionen für mehrere elektronischen Bauteile, wobei das Verfahren folgende Verfahrensschritte aufweist:
Bereitstellen eines Bauteilträgerohlings mit in Zeilen und Spalten angeordneten Bauteilpositionen, einer Bauteilträgeroberseite und einer Bauteilträgeroberseite - Aufbringen einer magnetischen Schicht auf die Bau- teilträgerrückseite,
Strukturieren der magnetischen Schicht in den Bauteilpositionen, Magnetisieren der strukturierten magnetischen Schicht in unterschiedlich gepolte permanentmagnetische Bereiche.
10. Verfahren zur Herstellung von elektronischen Bauteilen mit Halbleiterchips, - Bereitstellen eines Halbleiterwafers nach Anspruch 8,
Auftrennen des Halbleiterwafers in einzelne Halbleiterchips, Bereitstellen eines Bauteilträgers nach Anspruch 9 - Aufbringen der Halbleiterchips (1) mit ihren magnetischen Schichten (7) ihrer Rückseiten (3) auf die permanentmagnetische Schicht (8) der Trägeroberseite (5) in den Bauteilpositionen, Verdrahten der Halbleiterchips (1) mit entsprechenden Außenkontaktstrukturen und Verpacken der Halbleiterchips (1) in den Bauteilpositionen zu elektronischen Bauteilen, - Auftrennen der Bauteilpositionen des Bauteilträgers in einzelne elektronische Bauteile.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die magnetische Schicht in den Halbleiterchippositionen und/oder auf dem Bauteilträger in den Bauteilpositionen strukturiert wird und die strukturierte magnetische Schicht in unterschiedlich gepolte permanentmagnetische Bereiche magnetisiert wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die magnetische Schicht in den Bauteilpositionen strukturiert wird und die strukturierte magnetische Schicht in unterschiedlich gepolte permanentmagnetische Bereiche magnetisiert wird.
EP04738559A 2003-06-04 2004-05-26 Elektronisches bauteil sowie halbleiterwafer und bauteilträger zur herstellung des bauteils Withdrawn EP1629530A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10325541A DE10325541A1 (de) 2003-06-04 2003-06-04 Elektronisches Bauteil, sowie Halbleiterwafer und Bauteilträger zur Herstellung des Bauteils
PCT/DE2004/001090 WO2004109792A1 (de) 2003-06-04 2004-05-26 Elektronisches bauteil sowie halbleiterwafer und bauteilträger zur herstellung des bauteils

Publications (1)

Publication Number Publication Date
EP1629530A1 true EP1629530A1 (de) 2006-03-01

Family

ID=33494855

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP04738559A Withdrawn EP1629530A1 (de) 2003-06-04 2004-05-26 Elektronisches bauteil sowie halbleiterwafer und bauteilträger zur herstellung des bauteils

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7397111B2 (de)
EP (1) EP1629530A1 (de)
DE (1) DE10325541A1 (de)
WO (1) WO2004109792A1 (de)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005022780B4 (de) * 2005-05-12 2017-12-28 Infineon Technologies Ag Halbleiterchips für Tag-Anwendungen und Verfahren zur Packung von Halbleiterchips
US7687923B2 (en) * 2007-08-08 2010-03-30 Advanced Chip Engineering Technology Inc. Semiconductor device package having a back side protective scheme
US8559139B2 (en) 2007-12-14 2013-10-15 Intel Mobile Communications GmbH Sensor module and method for manufacturing a sensor module
US8080993B2 (en) * 2008-03-27 2011-12-20 Infineon Technologies Ag Sensor module with mold encapsulation for applying a bias magnetic field
US8119427B1 (en) * 2011-01-06 2012-02-21 Chi Mei Lighting Technology Corporation Light emitting diode die-bonding with magnetic field
CN102683541A (zh) * 2011-03-11 2012-09-19 新世纪光电股份有限公司 以磁力固晶的发光二极管封装组件
KR101829395B1 (ko) * 2011-09-01 2018-02-20 삼성전자주식회사 표시장치
CN103730438A (zh) * 2013-11-26 2014-04-16 三星半导体(中国)研究开发有限公司 芯片封装件及其制造方法
US20170170087A1 (en) 2015-12-14 2017-06-15 Intel Corporation Electronic package that includes multiple supports
CN115121508A (zh) * 2022-07-19 2022-09-30 深圳市诺泰芯装备有限公司 一种转塔式高温分选设备及方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1143516A2 (de) * 2000-04-04 2001-10-10 Tokin Corporation Elektromagnetischer Geräuschunterdrücker, Halbleiterbaustein mit einem solchen Elektromagnetischen Geräuschunterdrücker, und Verfahren zur Herstellung
JP2002057433A (ja) * 2000-08-08 2002-02-22 Rohm Co Ltd チップ型電子部品及びこれを用いた実装構造

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3612955A (en) 1969-01-21 1971-10-12 Bell Telephone Labor Inc Circuit board containing magnetic means for positioning devices
US3963489A (en) * 1975-04-30 1976-06-15 Western Electric Company, Inc. Method of precisely aligning pattern-defining masks
JPS5996741A (ja) * 1982-11-25 1984-06-04 Nec Home Electronics Ltd 半導体装置の製造方法
JPS60140158A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Sony Corp 回転検出装置
JPS63208226A (ja) * 1987-02-25 1988-08-29 Hitachi Ltd マルチチツプモジユ−ルの製造方法
JPH04211998A (ja) * 1990-02-14 1992-08-03 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置製造装置
CA2092371C (en) * 1993-03-24 1999-06-29 Boris L. Livshits Integrated circuit packaging
DE19528062C2 (de) * 1995-07-31 1998-04-09 Gerd Kohler Lösbare elektrische Verbindung
US6759248B2 (en) * 2001-09-28 2004-07-06 Motorola, Inc. Semiconductor wafer identification
DE10344756A1 (de) 2003-09-25 2005-05-12 Micronas Gmbh Verfahren und Schaltungsanordnung zum Entscheiden eines Symbols im komplexen Phasenraum eines Quadraturmodulationsverfahrens

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1143516A2 (de) * 2000-04-04 2001-10-10 Tokin Corporation Elektromagnetischer Geräuschunterdrücker, Halbleiterbaustein mit einem solchen Elektromagnetischen Geräuschunterdrücker, und Verfahren zur Herstellung
JP2002057433A (ja) * 2000-08-08 2002-02-22 Rohm Co Ltd チップ型電子部品及びこれを用いた実装構造

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of WO2004109792A1 *

Also Published As

Publication number Publication date
US7397111B2 (en) 2008-07-08
US20060131712A1 (en) 2006-06-22
WO2004109792A1 (de) 2004-12-16
DE10325541A1 (de) 2005-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69533336T2 (de) Testkarte und ihre anwendung
DE10157280B4 (de) Verfahren zum Anschließen von Schaltungseinheiten
EP2973671B1 (de) Verfahren zum herstellen eines elektronischen bauteils
DE102008045735B4 (de) Gestapelte Halbleiterchips
DE102008052029A1 (de) Halbleitermodul mit Schaltbauteilen und Treiberelektronik
DE10110203B4 (de) Elektronisches Bauteil mit gestapelten Halbleiterchips und Verfahren zu seiner Herstellung
EP3081056A1 (de) Verfahren zum einbetten einer komponente in eine leiterplatte
WO2004015770A1 (de) Mehrlagiger schaltungsträger und herstellung desselben
WO2003071596A2 (de) Elektronisches bauteil mit klebstoffschicht und verfahren zur herstellung desselben
DE102008050063B4 (de) Chipinduktionsspule und verfahren zum herstellen einer halbleiterchipinduktionsspule
WO2004109792A1 (de) Elektronisches bauteil sowie halbleiterwafer und bauteilträger zur herstellung des bauteils
WO2004003991A2 (de) Elektronisches bauteil mit einer gehäusepackung
WO1996002042A1 (de) Trägerelement zum einbau in chipkarten oder anderen datenträgerkarten
EP1425765B1 (de) Magnetisches bauelement
DE102007050433A1 (de) Halbleitermodul und Verfahren zum Herstellen eines Halbleitermoduls
DE10233641A1 (de) Verfahren zur Verbindung einer integrierten Schaltung mit einem Substrat und entsprechende Schaltungsanordnung
DE102007002807B4 (de) Chipanordnung
DE19528062C2 (de) Lösbare elektrische Verbindung
EP1116420B1 (de) Leiterplatte zur verwendung bei der prüfung von elektrischen bauteilen
DE102004030813A1 (de) Verfahren zur Verbindung einer integrierten Schaltung mit einem Substrat und entsprechende Schaltungsanordnung
DE102006028719B4 (de) Halbleiterbauteil mit Halbleiterchipstapel und Verbindungselementen sowie Verfahren zur Herstellung des Halbleiterbauteils
WO2008058782A1 (de) Elektronische schaltungsanordnung mit mindestens einer flexiblen gedruckten schaltung und verfahren zu deren verbindung mit einer zweiten schaltung
DE102019207341A1 (de) Elektronikbaugruppe und Elektronikanordnung
WO2000014799A1 (de) Halbleiterbauelement im chip-format und verfahren zu seiner herstellung
DE102020201295A1 (de) Verfahren zur Herstellung von modularen, eingebetteten Bauelementen für miniaturisierte Systeme

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20051121

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): DE

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
RBV Designated contracting states (corrected)

Designated state(s): DE

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: INFINEON TECHNOLOGIES AG

17Q First examination report despatched

Effective date: 20161125

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: H01L 23/482 20060101AFI20180307BHEP

Ipc: H01L 23/00 20060101ALI20180307BHEP

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20180430

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE APPLICATION IS DEEMED TO BE WITHDRAWN

18D Application deemed to be withdrawn

Effective date: 20180911