EP1456831B1 - Panneau de visualisation d'image en forme d'une matrice de cellules electroluminescentes shuntees et avec effet memoire obtenu parmi un element photosensible - Google Patents

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EP1456831B1
EP1456831B1 EP02805375A EP02805375A EP1456831B1 EP 1456831 B1 EP1456831 B1 EP 1456831B1 EP 02805375 A EP02805375 A EP 02805375A EP 02805375 A EP02805375 A EP 02805375A EP 1456831 B1 EP1456831 B1 EP 1456831B1
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EP
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cell
panel
electroluminescent
layer
resistance
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Jean-Paul Dagois
Christophe Fery
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Definitions

  • the panels of this type also comprise a substrate 10, at the rear (as in the figure) or at the front of the panel, to support all the previously described layers; it is usually a glass plate or polymer material.
  • the photoconductive layer 12 is intended to provide the cells of the panel a memory effect which will be described later.
  • the electrodes of the front layer 18, the rear layer 11 and the intermediate layer 14 are adapted in a manner known per se to be able to control and maintain the emission of the cells of the panel, independently of each other; for this purpose, the electrodes of the front layer 18 are for example arranged in Y lines and the electrodes of the rear layer 11 are then arranged in X columns, generally orthogonal to the lines; the electrodes may also have the opposite configuration: front layer electrodes in columns and inline back layer electrodes; the cells of the panel are located at the intersections of the Y-line electrodes and the X column electrodes, and are therefore arranged in a matrix.
  • the electrodes of the different layers are fed so as to circulate an electric current through the cells of the panel corresponding to the light spots of said image; the electric current flowing between an electrode X and a Y electrode for supplying a cell positioned at the intersection of these electrodes, passes through the electroluminescent layer 16 situated at this intersection; the cell thus excited by this current then emits light 19 towards the front face of the panel; the emission of all the excited cells of the panel forms the image to be displayed.
  • the electroluminescent layer 16 when organic, generally breaks down into three sub-layers: a central electroluminescent sub-layer 160 interposed between a sub-layer 162 for transporting holes and an underlayer 161 for transporting electrons .
  • ITO mixed tin and indium oxide
  • PDOT polyethylenedioxythiophene
  • the intermediate electrode layer 14 must be sufficiently transparent to allow adequate optical coupling between the electroluminescent layer 16 and the photoconductive layer 12, because this optical coupling is necessary for the operation of the panel and, in particular, for obtaining the effect memory described below.
  • the electrode front layer 18 may itself comprise several sub-layers, including an interface sub-layer with the organic electroluminescent layer 16 intended to improve the injection of holes (anode case) or electrons (cathode case).
  • the photoconductive layer 16 may for example be of amorphous silicon, or of cadmium sulphide.
  • the memory effect obtained is based on a loop operation, as shown in FIG. figure 2 : as long as an electroluminescent element E EL of a cell emits light 19, a part 19 'of which, by optical coupling, reaches the photoconductive element E PC of this same cell, the switch formed by this element E PC is closed, and as long as this switch is closed, the electroluminescent element E EL is supplied with current between a terminal A in contact with an electrode of the front layer 18 and a terminal B in contact with an electrode of the rear layer 11; the electroluminescent element E EL therefore emits light 19, a portion 19 'excites the photoconductive element E PC .
  • This loop operation therefore relies on an adequate optical coupling between the electroluminescent layer 16 and the photoconductive layer 12; if the display panel has a specific optical coupling layer, it may be for example an opaque insulating layer pierced transparent apertures adapted and positioned in front of each electroluminescent element E EL , that is to say of each pixel or sub-pixel of the panel; in the absence of a specific coupling layer, it is also possible to use, as coupling means, transparent openings made in the intermediate layer of electrodes 14; other optical coupling means are possible, which are known to those skilled in the art and will not be described here in detail.
  • This supposed memory effect is intended to facilitate the control of the pixels and sub-pixels of the panel to display images and, in particular, to be able to use a method in which, successively for each line of the panel, one goes through an addressing phase intended to turn on the cells to be lit in this line, then by a holding phase intended to keep the cells of this line in the state where the previous phase of addressing put them or left.
  • each line of the panel is successively scanned to put each cell of the scanned line in the desired state, on or off; after scanning a given line, all the cells of this line are maintained or fed in the same way so that only the cells put in the lit state of this line emit light while sweeping or that we address other lines; thus, preferably, during the phases of maintaining a line, the addressing phases of other lines take place.
  • the duration of the holding phases makes it possible to modulate the luminance of the cells of the panel and, in particular, to generate the gray levels necessary for the visualization of an image.
  • the addressing phase is therefore a selective phase; on the contrary, the holding phase is not selective, which makes it possible to apply the same voltage to all the cells and considerably simplifies control of the panel.
  • the photoconductive erasing element in parallel with the electroluminescent element has a resistance varying between a low R-ON value when it is excited by an erase illumination and a low R-OFF value when it is not enlightened; according to this document, this erasure photoconductor element is used to turn off the corresponding cells that would be switched on and in the holding phase; the control method of the panel thus comprises cell erasure phases, during which these cells are illuminated by erasure illumination.
  • an erasure phase which usually ends a holding phase, it is obviously necessary for each cell that is lit in the ON state to be erased, and whose erasure photoconductive element is excited, the resistance R-ON is lower than the resistance R ON-EL that the electroluminescent element E EL has in the lit state, so that it can be considered that the intensity of the electric current passing through this cell still in the ON state essentially passes through the erasure photoconductive element, and not by the electroluminescent element E EL , since it is precisely a question of extinguishing it.
  • the erasure photoconductive elements have a resistance R-OFF and the elements E electroluminescent EL panel are either in the off state and exhibit resistance R OFF-EL, either the on state and exhibit a resistance R ON-EL; nothing is said in this document about the value of R-OFF compared to the value of R OFF-EL , so that the person skilled in the art can not learn anything about the effective and efficient shunt function that would have or not the photoconductive erasure elements in the non-excited state with respect to the electroluminescent elements in the off state.
  • the display panel forms a set of cells C n, p capable of emitting light and fed by lines of electrodes Y n , Y n + 1 of the front layer 18 connected to points A corresponding to a terminal electroluminescent element E EL and the electrode columns X p , X p + 1 of the rear layer 11 connected to points B corresponding to a photoconductive element terminal E PC .
  • the three chronograms Y n , Y n + 1 , X p indicate the voltages applied to the row electrodes Y n , Y n + 1 and the column electrode X p to obtain these sequences.
  • the bottom of the figure 3 indicates the potential values at terminals A, B ( figure 2 ) cells C n, p , C n + 1, p and the state turned on ("ON") or off ("OFF") of these cells.
  • the value of the voltage V off that can be applied to the column electrodes such as X p must be chosen so that the voltage Va-Voff applied across a cell is not sufficient. to turn it on, so that Va-Voff ⁇ V T and that the voltage Vs-Voff does not affect the on or off state of the cell, so that V s.EL ⁇ Vs-Voff.
  • the object of the invention is to overcome the absence or insufficiency of memory effect.
  • shunt element Since the resistance of the shunt elements does not depend on the illumination, the use as shunts of erasing photoconductive elements as described in the document "IBM Technical Disclosure Bulletin,” Vol.24, No. 5, pp.2307-2310 previously cited is completely excluded; here is meant here by shunt element a conventional resistance made with a non-photoconductive material and having a resistance that does not vary substantially depending on the illumination.
  • the electroluminescent layer (s) of the panel are organic.
  • panels of the same type as those described in the document US 4035774 IBM previously cited which comprise a rear electroluminescent layer for emitting light adapted to the activation or excitation of the photoconductive cells and a front electroluminescent layer for emitting the light necessary for the visualization of the images; the photoconductive layer is interposed between the two electroluminescent layers and is optically coupled only or mainly with the rear electroluminescent layer; each cell here comprises two electroluminescent elements, one rear, the other front, and a photoconductor element inserted; the extreme terminals of the series formed by these three elements are connected to a rear electrode, the other to a front electrode.
  • the equivalent electrical diagram of any cell of the panel is shown in FIG. figure 9 ;
  • the references E PC , E EL refer to the photoconductive element and to the electroluminescent element of this cell, respectively, as in FIG. figure 2 previously described;
  • this cell comprises in in addition to a shunt element E S.EL , of constant resistance independent of illumination R S.EL , connected in parallel to the electroluminescent element E EL .
  • the resistance R S.EL must be greater than the resistance R ON-EL exhibited by the electroluminescent element E EL in the on state, so that it can be considered that, when the cell is in the ON state, the intensity of the electric current flowing through it essentially passes through the electroluminescent element E EL ; R is therefore preferably R SEL > R ON-EL ; the ohmic losses in the shunt element are thus limited when the cells are switched on; to further limit losses, it is preferable that R S.EL > 2 x R ON-EL .
  • this characteristic further distinguishes the shunt element according to the invention from the erasure photoconductive element of the panel described in the document "IBM Technical Disclosure Bulletin,” Vol.24, No. 5, pp.2307-2310 previously cited; indeed, since the resistance R S.EL of this shunt element is greater than the internal resistance R ON-EL that the electroluminescent element E EL has in the lit state, it is in no way susceptible to shunt effectively the corresponding electroluminescent element E EL when lit; it should be noted that, in the opposite case, the shunt element according to the invention would extinguish or erase the corresponding electroluminescent element, which would be absolutely contrary to the aim pursued by the invention.
  • the resistance R S.EL should be lower, preferably much lower, than the internal resistance R OFF-EL that the electroluminescent element E EL has in the off state, so that the it can be considered that, when the cell is in OFF OFF state, the intensity of the electric current flowing through it essentially passes through the shunt element E S.EL ; we therefore R SEL ⁇ R OFF-EL , preferably R SEL ⁇ 1 ⁇ 2 R OFF-EL ; in other words, the shunt element according to the invention is "on” when the electroluminescent element E EL is in the off state, while the erasure photoconductive element described in the document "IBM - Technical Disclosure Bulletin” previously cited is adapted to be capable of becoming “on” when the electroluminescent element E EL is in the on state.
  • R OFF-EL > R ON-EL , which allows to advantageously combine the two conditions stated above: R S.EL > R ON-EL and R S.EL ⁇ R OFF-EL .
  • the resistance R S.EL of the shunt element E S.EL of the electroluminescent element E EL of this cell is less than or equal to the resistance R OFF -PC of the corresponding photoconductive element E PC when it is not in the excited state and is lower than the resistance R OFF-EL of the corresponding electroluminescent element E EL when it is off, which generally supposes than R OFF-EL > R OFF-PC .
  • the resistance R S.EL of the shunt element E S.EL of the electroluminescent element E EL of this cell is strictly less than the resistance R OFF-PC of the corresponding photoconductive element E PC when is not in the excited state, or even less than or equal to half of this resistance.
  • the shunt element E S.EL of the electroluminescent element according to the invention, it can be seen, as is illustrated in more detail in the example below, that the panel is now equipped with a memory effect. actually exploitable by a conventional control method as previously described, and that the evolution of the intensity I of the current in each cell of the panel shows a hysteresis and a holding zone (see figure 4 and 10 ) of voltage values in which, the cell having been previously lit, it remains on.
  • the panel according to the invention also comprises, for each cell, a shunt element disposed in parallel with the photoconductive element of said cell.
  • this additional shunt facilitates the de-excitation of the elements photoconductors and advantageously makes it possible to reduce the switching times of the cells of the panel.
  • FIG. figure 15 The equivalent electrical diagram of any cell of the panel according to this other advantageous embodiment of the invention is shown in FIG. figure 15 ;
  • the references E PC , E EL refer respectively to the photoconductive element and to the electroluminescent element of this cell; this cell comprises here not only a shunt element E S.EL , resistance R S.EL , connected in parallel to the electroluminescent element E EL , but also a shunt element E S.PC , resistance R S.PC , connected in parallel to the photoconductive element E PC.
  • R OFF-PC be the resistance of the photoconductive element E PC to the non-excited state OFF; the resistance R S.PC must be chosen much lower than the internal resistance R OFF-PC that the photoconductive element E PC has in the off state, so that it can be considered that, when the cell is at when the state is OFF, the intensity of the electric current flowing through it essentially passes through the shunt element E S.PC ; therefore, we have R SPSP ⁇ R OFF-PC , preferably R SPS ⁇ R OFF-PC .
  • the resistance R S.PC of the shunt element E S.PC of the photoconductive element E PC of this cell is greater than or equal to the resistance R S Of the shunt element E S.EL of the electroluminescent element E EL of this same cell.
  • R.sub.PCS / R.sup.SEL ⁇ 2 there is R.sub.PCS / R.sup.SEL ⁇ 2, and even more preferably R.S.PC / R.sup.SEL ⁇ 3.
  • the panel according to the invention comprises, at each cell, a conductive element at each interface between the at least one electroluminescent layer and the photoconductive layer for electrically connecting in series the corresponding electroluminescent and photoconductive elements and the conductive elements.
  • different cells are electrically isolated from each other.
  • the conductive elements between the same electroluminescent layer and the same photoconductive layer form a single conducting layer which is of course discontinuous so that the conductive elements of the different cells are electrically isolated from each other; in the case of a panel of the type described in the document US 4035774 already cited comprising two electroluminescent layers, so there are two interface conductive layers.
  • each shunt element of the electroluminescent element is connected to the same electrode of the front network and to the same conductive element of the intermediate layer as the electroluminescent element E EL qu he shunts; where appropriate, each shunt element of the photoconductive element is connected to the same electrode of the back network and to the same conductive element of the intermediate layer as the photoconductive element E PC that it shunts; shunt element means any shunting means: several examples will be given later.
  • the panel according to the invention comprises means for controlling the cells for displaying images, suitable for implementing a method in which, successively for each line of cells of the panel, a selective addressing phase is used. intended to turn on the cells to be lit in this line, then by a non-selective holding phase intended to keep the cells of this line in the state where the previous phase of addressing put them or left.
  • this shunt layer 21 is not photoconductive so that the resistance of the corresponding shunt elements does not depend on the illumination.
  • the shunt layer has discontinuities on the periphery of the barriers of a cell, so that, for example, only the barriers on one side of each cell are covered with this layer. shunt; on the other hand, it is obviously essential that this shunt layer 21 electrically contacts the photoconductive layer 12 and the transparent electrode of the layer 18.
  • this electrical contact can be provided indirectly via the electrodes of the intermediate layer 14.
  • V T (1+ R OFF-PC / R S.EL ) V S.EL.
  • a homogeneous aluminum layer is deposited by cathodic sputtering or by vacuum evaporation ("PVD"), then the layer obtained is etched so as to form a parallel electrode array. or column electrodes X p , X p + 1 : the opaque back layer of electrodes 11 is thus obtained.
  • a homogeneous layer of photoconductive material 12 is then deposited: for example amorphous silicon by plasma-enhanced chemical vapor deposition ("PECVD” or Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). , or one organic photoconductive material by chemical vapor deposition (“CVD”) or spin coating ("spin-coating" in English).
  • PECVD plasma-enhanced chemical vapor deposition
  • CVD chemical vapor deposition
  • spin-coating spin-coating
  • the optical coupling layer 13 is then applied, comprising, for each future electroluminescent cell C n, p , a coupling element 25 formed of an opaque aluminum layer portion pierced at its center with an opening 26 intended to leave passing light to the photoconductive layer 12 is carried out by depositing a homogeneous layer of aluminum 25 and then etching optical coupling openings 26, positioned in the center of the future cells of the panel and etching areas defining the future barriers 20 intended to partition the panel into cells.
  • a thin and conductive layer 14 of mixed tin-indium oxide (“ITO") is used, intended to form intermediate connection electrodes between the photoconductive elements of the photoconductive layer. and the electroluminescent elements of each cell. This layer is then etched, always to define the areas on which the barriers 20 will be placed.
  • ITO mixed tin-indium oxide
  • the two-dimensional network of barriers 20 for partitioning the panel into electroluminescent cells C n, p and electrically isolating the shunt elements E S.EL of each cell is formed: for this purpose, a homogeneous layer of organic spin-coating resin, then this layer is etched to form the two-dimensional barrier network 20.
  • the material for "shunt” according to the invention is deposited in a homogeneous solid layer over the entire active surface of the panel; this layer matches the reliefs that the surface of the panel presents at this stage of the process; the shunt elements E S.EL according to the invention are then obtained by full-plate anisotropic etching so as to leave a shunt layer of thickness equal to the initial thickness of the deposit only on the walls of the barriers 20; by locating in the figure, the etching therefore operates only in the vertical direction and removes only the horizontal parts of the shunt layer; the shunt layer 21 and the shunt elements E S.EL according to the invention are then obtained for each cell; for example the material of "Shunting” may be titanium nitride (TiN) obtained by chemical vapor deposition ("CVD"); the anisotropic etching can be done in a "high density” plasma etching chamber using a suitable chemistry known in itself.
  • TiN titanium nitride
  • CVD chemical vapor deposition
  • the organic layers 161, 160, 162 intended to form the electroluminescent elements E EL of the electroluminescent layer 16 are then deposited; these organic layers 161, 160, 162 are known per se and are not described here in detail; other variants may be envisaged without departing from the invention, in particular the use of inorganic electroluminescent materials.
  • the transparent conductive layer 18 is then deposited so as to form electrode lines Y n , Y n + 1 : preferably this layer includes the cathode and a layer of ITO. It is necessary that the deposition conditions are such that the slice of the shunt elements E S.EL of each cell is covered by this transparent layer 18. An image display panel according to the invention is thus obtained.
  • the shunt function according to the invention is provided by a doping of the electroluminescent organic multilayer 16 adapted to create parallel channels of non-recombinant transport of charges through this layer.
  • the present invention is applicable to any type of electroluminescent matrix panels, whether using organic electroluminescent materials or inorganic electroluminescent materials.

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Description

  • L'invention concerne un panneau de visualisation d'images formé d'une matrice de cellules électroluminescente, comprenant, en référence à la figure 1 :
    • une couche électroluminescente 16 susceptible d'émettre de la lumière vers l'avant dudit panneau (flèches 19 d'émission de lumière),
    • à l'avant de cette couche, une couche avant transparente d'électrodes 18,
    • à l'arrière de cette couche, une couche photoconductrice 12, elle-même intercalée entre une couche arrière opaque d'électrodes 11 et une couche intermédiaire d'électrodes 14 au contact de la couche électroluminescente 16,
    • des moyens de couplage optique entre ladite couche électroluminescente 16 et ladite couche photoconductrice 12, qui peuvent par exemple être formés par une couche de couplage spécifique 13 (comme sur la figure) ou formés dans la couche intermédiaire d'électrodes 14.
  • Les panneaux de ce type comportent également un substrat 10, à l'arrière (comme sur la figure) ou à l'avant du panneau, pour supporter l'ensemble des couches précédemment décrites ; il s'agit en général d'une plaque de verre ou de matériau polymère.
  • La couche photoconductrice 12 est destinée à apporter aux cellules du panneau un effet mémoire qui sera décrit ultérieurement.
  • Les électrodes de la couche avant 18, de la couche arrière 11 et de la couche intermédiaire 14 sont adaptées d'une manière connue en elle-même pour pouvoir commander et maintenir l'émission des cellules du panneau, indépendamment les unes des autres ; à cet effet, les électrodes de la couche avant 18 sont par exemple disposées en lignes Y et les électrodes de la couche arrière 11 sont alors disposées en colonnes X, généralement orthogonales aux lignes ; les électrodes peuvent également avoir la configuration inverse : électrodes de couche avant en colonnes et électrodes de couche arrière en ligne ; les cellules du panneau sont situées aux intersections des électrodes lignes Y et des électrodes colonnes X, et sont donc disposées en matrice.
  • Pour visualiser sur un tel panneau des images partitionnées en une matrice de points lumineux, on alimente les électrodes des différentes couches de manière à faire circuler un courant électrique au travers des cellules du panneau correspondant aux points lumineux de ladite image ; le courant électrique qui circule entre une électrode X et une électrode Y pour alimenter une cellule positionnée à l'intersection de ces électrodes, traverse la couche électroluminescente 16 située à cette intersection ; la cellule ainsi excitée par ce courant émet alors de la lumière 19 vers la face avant du panneau ; l'émission de l'ensemble des cellules excitées du panneau forme l'image à visualiser.
  • Les documents US 4035774 - IBM, US 4808880 - CENT, US 6188175 B1 - CDT décrivent des panneaux de ce type.
  • La couche électroluminescente 16, lorsqu'elle est organique, se décompose en général en trois sous-couches : une sous-couche centrale 160 électroluminescente intercalée entre une sous-couche 162 de transport de trous et une sous-couche 161 de transport d'électrons.
  • Les électrodes de la couche avant d'électrodes 18, au contact de la sous-couche 162 de transport de trous, servent alors d'anodes ; cette couche d'électrodes 18 doit être transparente, au moins partiellement, pour laisser passer vers l'avant du panneau la lumière émise par la couche électroluminescente 16 ; les électrodes de cette couche sont généralement elles-mêmes transparentes et réalisées en oxyde mixte d'étain et d'indium (« ITO »), ou en polymère conducteur comme du polyéthylènedioxythiophène (« PDOT »).
  • La couche intermédiaire d'électrodes 14 doit être suffisamment transparente pour permettre un couplage optique adéquat entre la couche électroluminescente 16 et la couche photoconductrice 12, car ce couplage optique est nécessaire au fonctionnement du panneau et, notamment, à l'obtention de l'effet mémoire décrit ci-après.
  • Les documents cités ci-dessus divulguent également des configurations où, à l'inverse de ce qui vient d'être décrit, d'une part, les électrodes de la couche intermédiaire d'électrodes 14 et la sous-couche 161 servent respectivement à l'injection et au transport des trous dans la sous-couche électroluminescente 160, d'autre part, les électrodes de la couche avant d'électrodes 18 et la sous-couche 162 servent respectivement à l'injection et au transport des électrons dans la sous-couche électroluminescente 160.
  • Selon une autre variante, la couche avant d'électrodes 18 peut elle-même comporter plusieurs sous-couches, dont une sous-couche d'interface avec la couche organique électroluminescente 16 destinée à améliorer l'injection de trous (cas anode) ou d'électrons (cas cathode).
  • La couche photoconductrice 16 peut être par exemple en silicium amorphe, ou en sulfure de cadmium.
  • Dans les panneaux de visualisation de ce type, le rôle de la couche photoconductrice 12 est d'apporter un effet « mémoire » aux cellules du panneau ; en se reportant à la figure 2, chaque cellule du panneau peut être représentée par deux éléments en série :
    • un élément électroluminescent EEL englobant une zone de couche électroluminescente 16, et,
    • un élément photoconducteur EPC englobant une zone de couche photoconductrice 12 au regard de cette même zone de couche électroluminescente 16.
  • L'effet mémoire que l'on obtient reposerait sur un fonctionnement en boucle, tel que représenté à la figure 2 : tant qu'un élément électroluminescent EEL d'une cellule émet de la lumière 19 dont une partie 19' parvient, par couplage optique, à l'élément photoconducteur EPC de cette même cellule, l'interrupteur formé par cet élément EPC est fermé, et tant que cet interrupteur est fermé, l'élément électroluminescent EEL est alimenté en courant entre une borne A au contact d'une électrode de la couche avant 18 et une borne B au contact d'une électrode de la couche arrière 11 ; l'élément électroluminescent EEL émet donc de la lumière 19 dont une partie 19' excite l'élément photoconducteur EPC.
  • Ce fonctionnement en boucle repose donc sur un couplage optique adéquat entre la couche électroluminescente 16 et la couche photoconductrice 12 ; si le panneau de visualisation comporte une couche spécifique de couplage optique, il peut s'agir par exemple d'une couche isolante opaque percée d'ouvertures transparentes adaptées et positionnées en face de chaque élément électroluminescent EEL, c'est à dire de chaque pixel ou sous-pixel du panneau ; en l'absence de couche spécifique de couplage, on peut également utiliser, comme moyen de couplage, des ouvertures transparentes pratiquées dans la couche intermédiaire d'électrodes 14 ; d'autres moyens de couplage optique sont envisageables, qui sont connus de l'homme du métier et ne seront pas décrits ici en détail.
  • Cet effet mémoire supposé est destiné à faciliter la commande des pixels et sous-pixels du panneau pour visualiser des images et, notamment, à pouvoir utiliser un procédé dans lequel, successivement pour chaque ligne du panneau, on passe par une phase d'adressage destinée à allumer les cellules à allumer dans cette ligne, puis par une phase de maintien destinée à maintenir les cellules de cette ligne dans l'état où la phase précédente d'adressage les a mises ou laissées.
  • En pratique, on balaye successivement chaque ligne du panneau pour mettre chaque cellule de la ligne balayée dans l'état souhaité, allumé ou éteint ; après balayage d'un ligne donnée, on maintient ou on alimente de la même façon l'ensemble des cellules de cette ligne pour que seulement les cellules mises à l'état allumé de cette ligne émettent de la lumière pendant que l'on balaye ou que l'on adresse d'autres lignes ; ainsi, de préférence, pendant les phases de maintien d'une ligne, se déroulent les phases d'adressage d'autres lignes.
  • En pratique, la durée des phases de maintien permet de moduler la luminance des cellules du panneau et, notamment, de générer les niveaux de gris nécessaires à la visualisation d'une image.
  • La mise en oeuvre d'un tel procédé de commande des cellules du panneau passe généralement par :
    • lors des phases d'adressage, l'application, uniquement aux bornes A, B des cellules à allumer, d'une tension d'allumage Va ;
    • lors des phases de maintien, l'application aux bornes A, B de toutes les cellules d'une tension de maintien Vs , qui doit être suffisamment élevée pour que les cellules préalablement allumées restent allumées, et suffisamment faible pour ne pas risquer d'allumer les cellules préalablement non allumées.
  • La phase d'adressage est donc une phase sélective ; la phase de maintien n'est au contraire pas sélective, ce qui permet d'appliquer la même tension à toutes les cellules et simplifie considérablement la commande du panneau.
  • Le document « IBM Technical Disclosure Bulletin », Vol.24, n°5, pp.2307-2310, intitulé « Erasable memory storage Display », décrit un panneau de visualisation dont chaque cellule comprend :
    • un élément inorganique électroluminescent Zel et un élément photoconducteur LPC branchés en série comme dans les panneaux de visualisation du type précité,
    • en outre, un élément photoconducteur d'effacement, référencé EPC dans ce document, branché en parallèle sur ledit élément électroluminescent.
  • L'élément photoconducteur d'effacement en parallèle avec l'élément électroluminescent présente une résistance variant entre une valeur faible R-ON lorsqu'il est excité par un éclairement d'effacement et une valeur faible R-OFF lorsqu'il n'est pas éclairé; selon ce document, cet élément photoconducteur d'effacement sert à faire passer à l'état éteint les cellules correspondantes qui seraient allumées et en phase de maintien ; le procédé de pilotage du panneau comprend donc des phases d'effacement de cellules, lors desquelles on éclaire ces cellules par un éclairement d'effacement.
  • Lors d'une phase d'effacement, qui termine généralement une phase de maintien, il convient évidemment que, au niveau de chaque cellule qui est allumée à l'état ON, qui est à effacer, et dont l'élément photoconducteur d'effacement est excité, la résistance R-ON soit inférieure à la résistance RON-EL que présente l'élément électroluminescent EEL à l'état allumé, de manière à ce que l'on puisse considérer que l'intensité du courant électrique qui traverse cette cellule encore à l'état ON passe essentiellement par l'élément photoconducteur d'effacement, et non pas par l'élément électroluminescent EEL, puisqu'il s'agit précisément de l'éteindre.
  • En dehors des phases d'effacement, les éléments photoconducteurs d'effacement présentent une résistance R-OFF et les éléments électroluminescents EEL du panneau sont soit à l'état éteint et présentent résistance ROFF-EL, soit à l'état allumé et présentent une résistance RON-EL ; rien n'est dit dans ce document sur la valeur de R-OFF par rapport à la valeur de ROFF-EL, de sorte que l'homme du métier ne peut tirer aucun enseignement sur la fonction effective et efficace de shunt qu'auraient ou non les éléments photoconducteurs d'effacement à l'état non excité vis à vis des éléments électroluminescents à l'état éteint.
  • Ainsi, ce document se borne à décrire des moyens susceptibles de shunter efficacement des éléments électroluminescents à l'état allumé pour les effacer, alors que l'invention, comme on le verra ci-après, propose, dans un tout autre but, des moyens pour shunter les éléments électroluminescents à l'état éteint.
  • On va maintenant décrire plus précisément l'effet mémoire lorsqu'on applique un procédé de commande de ce type à un panneau électroluminescent à effet mémoire du type qui vient d'être décrit, dans le cas où les zones de la couche d'électrodes intermédiaires 14 propres à chaque élément électroluminescent EEL sont isolées électriquement les unes des autres, de sorte que le potentiel électrique au point commun C de l'élément électroluminescent EEL et de l'élément photoconducteur EPC est flottant.
  • Toujours en référence à la figure 2, le panneau de visualisation forme un ensemble de cellules Cn,p susceptibles d'émettre de la lumière et alimentée par des lignes d'électrodes Yn, Yn+1 de la couche avant 18 reliées à des points A correspondant à une borne d'élément électroluminescent EEL et des colonnes d'électrodes Xp, Xp+1 de la couche arrière 11 reliées à des points B correspondant à une borne d'élément photoconducteur EPC.
  • La figure 3 illustre, selon ce mode de commande classique :
    • pour une cellule Cn,p , une séquence d'adressage de cette ligne au temps t1, avec allumage de cette cellule qui reste allumée pour t>t1,
    • pour une cellule de la ligne suivante Cn+1,p , une séquence d'adressage de cette ligne au temps t2, sans allumage de celle cellule qui reste éteinte pour t>t2.
  • Les trois chronogrammes Yn, Yn+1, Xp indiquent les tensions appliquées aux électrodes lignes Yn, Yn+1 et à l'électrode colonne Xp pour obtenir ces séquences.
  • Le bas de la figure 3 indique les valeurs de potentiels aux bornes A, B (figure 2) des cellules Cn,p, Cn+1,p et l'état allumé (« ON ») ou éteint (« OFF ») de ces cellules.
  • Pour obtenir l'état ON ou OFF indiqué au bas de cette figure, il faut donc que, en appliquant aux bornes A, B d'une cellule telle que représentée à la figure 2 :
    • un potentiel Va à une cellule à l'état OFF, cette cellule bascule à l'état ON;
    • un potentiel Vs ou (Vs-Voff) à une cellule à l'état ON, cette cellule reste à l'état ON ;
    • un potentiel (Va-Voff) ou Vs à une cellule à l'état OFF, cette cellule reste à l'état OFF ;
  • La figure 4 reprend ces différentes valeurs de potentiel en les situant par rapport :
    • à la tension seuil VS.EL aux bornes AC de la diode électroluminescente EEL de la cellule (figure 2), en deçà laquelle cette diode s'éteint et au delà de laquelle elle s'allume ; la caractéristique typique d'une telle diode EEL est représentée à la figure 5 (intensité lumineuse émise -en lumen - en fonction de la tension appliquée - en Volt) ;
    • à la tension VT aux bornes AB d'une cellule au delà de laquelle une cellule éteinte à l'état OFF s'allume et passe à l'état ON.
  • Pour obtenir l'effet mémoire recherché, la valeur de la tension Voff susceptible d'être appliquée aux électrodes colonnes comme Xp doit être choisie de manière à ce que la tension Va-Voff appliquée aux bornes d'une cellule ne soit pas suffisante pour l'allumer, donc que Va-Voff < VT et à ce que la tension Vs-Voff n'affecte pas l'état allumé ou éteint de la cellule, donc que Vs.EL < Vs-Voff.
  • Comme l'illustre la figure 4, pour un bon fonctionnement du panneau, il convient donc qu'une cellule Cn,p à laquelle on a appliqué une tension Va > VT continue d'émettre une quantité de lumière importante même si la tension appliquée à ses bornes décroît jusqu'à la valeur Vs-Voff, qui reste supérieure à VS.EL ; pour ce type de fonctionnement, il est nécessaire que la cellule, c'est à dire que l'élément électroluminescent EEL et l'élément photoconducteur EPC branchés en série présentent une hystérésis importante.
  • La caractéristique typique d'un élément photoconducteur EPC d'une cellule Cn,p du panneau est représentée à la figure 6 (intensité électrique -en Ampère - en fonction de l'éclairement - en lumen - lorsque cet élément EPC est soumis à une tension de 10 V) ; compte tenu des caractéristiques déjà citées (figure 5) de l'élément électroluminescent EEL, il est maintenant possible de représenter les caractéristiques globales courant-tension de l'ensemble de ces éléments EEL et EPC en série formant une cellule Cn,p du panneau : voir la figure 7, qui illustre, lorsqu'on applique une tension croissante de 0 à 20 V puis décroissante de 20 à 0 V aux bornes AB d'une cellule :
    • la tension V Eel aux bornes AC de l'élément électroluminescent de la cellule ;
    • la tension V Epc aux bornes CB de l'élément photoconducteur de la cellule ;
    • l'intensité I du courant circulant dans cette cellule.
  • On constate qu'au cours d'un cycle de croissance jusqu'à l'allumage (intensité élevée) puis de décroissance jusqu'à l'extinction, l'évolution de l'intensité I du courant dans cette cellule ne manifeste aucune hystérésis, ce qui montre qu'il n'existe en réalité aucune zone de maintien (voir figure 4) de valeurs de tensions dans laquelle, la cellule ayant été préalablement allumée, celle-ci reste allumée ; on n'obtient donc pas l'effet mémoire précédemment décrit.
  • L'invention a pour but de pallier l'absence ou l'insuffisance d'effet mémoire.
  • A cet effet, l'invention a pour objet un panneau de visualisation d'images comprenant une matrice de cellules électroluminescentes à effet mémoire, susceptibles d'émettre de la lumière vers l'avant dudit panneau, comprenant :
    • un réseau avant d'électrodes et un réseau arrière d'électrodes, les électrodes du réseau avant croisant les électrodes du réseau arrière au niveau de chacune desdites cellules,
    • au moins une couche électroluminescente formant, pour chaque cellule, au moins un élément électroluminescent,
    • une couche photoconductrice pour obtenir ledit effet mémoire, formant, pour chaque cellule, un élément photoconducteur,
    l'au moins un élément électroluminescent et l'élément photoconducteur de chaque cellule étant reliés électriquement en série et les deux bornes extrêmes de ladite série étant reliées l'une à une électrode dudit réseau avant et l'autre à une électrode dudit réseau arrière,
    • des moyens de couplage optique, au niveau de chaque cellule, entre au moins une couche électroluminescente du panneau et ladite couche photoconductrice ,
    caractérisé en ce qu'il comprend, pour chaque cellule, un élément de shunt disposé en parallèle de l'au moins un élément électroluminescent de la dite cellule et dont la résistance ne dépend pas de l'éclairement.
  • Comme la résistance des éléments de shunt ne dépend pas de l'éclairement, l'utilisation comme shunts d'éléments photoconducteurs d'effacement tels que décrits dans le document « IBM Technical Disclosure Bulletin », Vol.24, n°5, pp.2307-2310 précédemment cité est tout à fait exclue ; on entend donc ici par élément de shunt une résistance classique réalisée à l'aide d'un matériau non photoconducteur et présentant une résistance qui ne varie pas sensiblement en fonction de l'éclairement.
  • De préférence, la ou les couches électroluminescentes du panneau sont organiques.
  • L'invention s'applique également aux panneaux du même type que ceux décrits dans le document US 4035774 - IBM précédemment cité qui comprennent une couche électroluminescente arrière pour émettre la lumière adaptée à l'activation ou l'excitation des cellules photoconductrices et une couche électroluminescente avant pour émettre la lumière nécessaire à la visualisation des images ; la couche photoconductrice est intercalée entre les deux couches électroluminescentes et est optiquement couplée uniquement ou principalement avec la couche électroluminescente arrière ; chaque cellule comprend ici deux éléments électroluminescents, l'un arrière, l'autre avant, et un élément photoconducteurs intercalé ; les bornes extrêmes de la série formée par ces trois éléments sont connectées l'une à une électrode arrière, l'autre à une électrode avant.
  • Dans le cas, le plus fréquent, où le panneau ne comprend qu'une seule couche organique électroluminescente, l'invention a pour objet un panneau de visualisation d'images comprenant une matrice de cellules électroluminescentes à effet mémoire, susceptibles d'émettre de la lumière vers l'avant dudit panneau, comprenant :
    • un réseau avant d'électrodes et un réseau arrière d'électrodes, les électrodes du réseau avant croisant les électrodes du réseau arrière au niveau de chacune desdites cellules,
    • une couche organique électroluminescente formant, pour chaque cellule, un élément électroluminescent dont une borne est reliée à une électrode dudit réseau avant,
    • une couche photoconductrice pour obtenir ledit effet mémoire, formant, pour chaque cellule, un élément photoconducteur dont une borne est reliée à une électrode dudit réseau arrière,
    • des moyens pour relier électriquement au même potentiel, au niveau de chaque cellule, l'autre borne de l'élément électroluminescent et l'autre borne de l'élément photoconducteur,
    • des moyens de couplage optique entre ledit élément électroluminescent de chaque cellule et ledit élément photoconducteur de cette même cellule,
    caractérisé en ce qu'il comprend, pour chaque cellule, un élément de shunt disposé en parallèle de l'élément électroluminescent de la dite cellule et dont la résistance ne dépend pas de l'éclairement.
  • Selon ce mode de réalisation le plus fréquent de l'invention, le schéma électrique équivalent d'une cellule quelconque du panneau est représenté à la figure 9 ; les références EPC, EEL renvoient respectivement à l'élément photoconducteur et à l'élément électroluminescent de cette cellule, comme sur la figure 2 précédemment décrite ; selon l'invention, cette cellule comporte en outre un élément de shunt ES.EL, de résistance constante et indépendante de l'éclairement RS.EL, branché en parallèle sur l'élément électroluminescent EEL.
  • Nous allons maintenant déterminer quelle valeur il importe de donner à la résistance RS.EL de l'élément de shunt ES.EL pour tirer le meilleur parti de l'invention.
  • En premier lieu, il convient évidemment que la résistance RS.EL soit supérieure à la résistance RON-EL que présente l'élément électroluminescent EEL à l'état allumé, de manière à ce que l'on puisse considérer que, lorsque la cellule est à l'état allumé ON, l'intensité du courant électrique qui la traverse passe essentiellement par l'élément électroluminescent EEL ; on a donc de préférence RS.EL > RON-EL ; on limite ainsi les pertes ohmiques dans l'élément de shunt lorsque les cellules sont allumées ; pour limiter encore davantage les pertes, il est préférable que RS.EL > 2 x RON-EL.
  • A noter que cette caractéristique distingue encore davantage l'élément de shunt selon l'invention de l'élément photoconducteur d'effacement du panneau décrit dans le document « IBM Technical Disclosure Bulletin », Vol.24, n°5, pp.2307-2310 précédemment cité ; en effet, puisque la résistance RS.EL de cet élément de shunt est supérieure à la résistance interne RON-EL que présente l'élément électroluminescent EEL à l'état allumé, il n'est susceptible en aucun cas de shunter efficacement l'élément électroluminescent correspondant EEL lorsqu'il est allumé ; à noter que, dans le cas contraire, l'élément de shunt selon l'invention éteindrait ou effacerait l'élément électroluminescent correspondant, ce qui serait absolument contraire au but poursuivi par l'invention.
  • En résumé, le document « IBM Technical Disclosure Bulletin », Vol.24, n°5, pp.2307-2310 précédemment cité décrit des moyens pour shunter les éléments électroluminescents à l'état allumé, alors que l'invention propose des moyens pour shunter les éléments électroluminescents à l'état éteint.
  • En second lieu, il convient que la résistance RS.EL soit inférieure, de préférence très inférieure, à la résistance interne ROFF-EL que présente l'élément électroluminescent EEL à l'état éteint, de manière à ce que l'on puisse considérer que, lorsque la cellule est à l'état éteint OFF, l'intensité du courant électrique qui la traverse passe essentiellement par l'élément de shunt ES.EL ; on a donc RS.EL < ROFF-EL , de préférence RS.EL < ½ ROFF-EL ; autrement dit, l'élément de shunt selon l'invention est « passant » lorsque l'élément électroluminescent EEL est à l'état éteint, alors que l'élément photoconducteur d'effacement décrit dans le document « IBM - Technical Disclosure Bulletin » précédemment cité est adapté pour être susceptible de devenir « passant » lorsque l'élément électroluminescent EEL est à l'état allumé.
  • A noter qu'on a généralement ROFF-EL > RON-EL, ce qui permet de combiner avantageusement les deux conditions énoncées ci-dessus : RS.EL > RON-EL et RS.EL < ROFF-EL.
  • Soit ROFF-PC la résistance de l'élément photoconducteur EPC à l'état non excité OFF ; dans les conditions de commande d'un panneau précédemment décrites en référence aux figures 3 et 4, soit, conformément à la définition déjà donnée, VT la tension aux bornes AB de cette cellule au delà de laquelle cette cellule éteinte (à l'état OFF) s'allume et passe à l'état ON ; alors, pour une tension VT - ε très légèrement inférieure à la tension d'allumage VT (ε très petit), la tension VEel aux bornes de l'élément électroluminescent EEL est très proche de la tension de seuil précédemment définie VS.EL, de sorte que : VEel = VS.EL - ε' (ε' très petit) ; si VPC est la tension aux bornes de l'élément photoconducteur EPC, on a alors VT - ε = VPC + VS.EL - ε' ; par ailleurs, si I est l'intensité du courant parcourant la cellule, si l'on considère que tout ce courant passe par l'élément de shunt ES.EL et non pas par l'élément électroluminescent EEL parce que la cellule est éteinte, on a : V T - ε = V PC + V S . EL - εʹ = R OFF - PC + R S . EL x I
    Figure imgb0001
    V Eel = V S . EL - εʹ = R S . EL x I
    Figure imgb0002
  • De ces deux équations, on déduit : VT - ε = (1+ ROFF/RS.EL) (VS.EL - ε'), soit, en simplifiant : VT = (1 + ROFF-PC/RS.EL) VS.EL ou (VT/VS.EL)= (1 + ROFF-PC/RS.EL).
  • En considérant le schéma des tensions de commande du panneau de la figure 4, la largeur de la « zone de maintien » correspond à VT-VS.EL ; en pratique, pour bénéficier d'une « zone de maintien » suffisamment large pour pouvoir piloter facilement le panneau de visualisation, il convient que la différence VT-VS.EL soit supérieure ou égale à 8 ou 9 Volt ; dans le cas où, par exemple, la tension de seuil de déclenchement de la diode électroluminescente vaut VS.EL = 9 V , il convient donc que (VT/VS.EL) ≥ 2, c'est à dire (ROFF-PC/RS.EL) ≥ 1 ou RS.EL ROFF-PC ; dans le but de limiter les pertes, la technique des diodes électroluminescentes pour visualisation d'images s'oriente vers l'abaissement des tensions de seuil de déclenchement en deçà de la valeur de 9 Volt, ce qui implique que, pour que la largeur de la « zone de maintien » reste supérieure à 8 ou 9 volts, le ratio (VT/VS.EL) soit strictement supérieur à 2, voire égal ou supérieur à 3 et le ratio (ROFF-PC/RS.EL) soit strictement supérieur à 1, voire égal ou supérieur à 2.
  • Ainsi, de préférence, pour chaque cellule du panneau selon l'invention, la résistance RS.EL de l'élément de shunt ES.EL de l'élément électroluminescent EEL de cette cellule est inférieure ou égale à la résistance ROFF-PC de l'élément photoconducteur correspondant EPC lorsqu'il n'est pas à l'état excité et est inférieure à la résistance ROFF-EL de l'élément électroluminescent correspondant EEL lorsqu'il est éteint, ce qui suppose généralement que ROFF-EL > ROFF-PC.
  • De préférence, la résistance RS.EL de l'élément de shunt ES.EL de l'élément électroluminescent EEL de cette cellule est strictement inférieure à la résistance ROFF-PC de l'élément photoconducteur correspondant EPC lorsqu'il n'est pas à l'état excité, voire inférieure ou égale à la moitié de cette résistance.
  • Grâce à l'élément de shunt ES.EL de l'élément électroluminescent selon l'invention, on constate, comme l'illustre de manière plus détaillée l'exemple ci-après, que le panneau est maintenant doté d'un effet mémoire réellement exploitable par un procédé de commande classique tel que précédemment décrit, et que l'évolution de l'intensité I du courant dans chaque cellule du panneau manifeste une hystérésis et une zone de maintien (voir figure 4 et 10) de valeurs de tensions dans laquelle, la cellule ayant été préalablement allumée, celle-ci reste allumée.
  • Selon un autre mode de réalisation avantageux de l'invention, le panneau selon l'invention comprend également, pour chaque cellule, un élément de shunt disposé en parallèle de l'élément photoconducteur de la dite cellule.
  • On parvient ainsi à diminuer sensiblement la consommation d'énergie du panneau ; en outre, ce shunt additionnel facilite la désexcitation des éléments photoconducteurs et permet avantageusement de diminuer les durées de commutation des cellules du panneau.
  • Le schéma électrique équivalent d'une cellule quelconque du panneau selon cet autre mode de réalisation avantageux de l'invention est représenté à la figure 15 ; les références EPC, EEL renvoient respectivement à l'élément photoconducteur et à l'élément électroluminescent de cette cellule ; cette cellule comporte ici non seulement un élément de shunt ES.EL, de résistance RS.EL, branché en parallèle sur l'élément électroluminescent EEL, mais également un élément de shunt ES.PC, de résistance RS.PC, branché en parallèle sur l'élément photoconducteur EPC.
  • Soit ROFF-PC la résistance de l'élément photoconducteur EPC à l'état non excité OFF ; la résistance RS.PC doit être choisie très inférieure à la résistance interne ROFF-PC que présente l'élément photoconducteur EPC à l'état éteint, de manière à ce que l'on puisse considérer que, lorsque la cellule est à l'état éteint OFF, l'intensité du courant électrique qui la traverse passe essentiellement par l'élément de shunt ES.PC ; on a donc RS.PC < ROFF-PC, de préférence RS.PC < ½ ROFF-PC.
  • Dans les conditions de commande d'un panneau (précédemment décrites en référence aux figures 3 et 4), soit, conformément à la définition déjà donnée, VT la tension aux bornes AB de cette cellule au delà de laquelle cette cellule éteinte (à l'état OFF) s'allume et passe à l'état ON ; alors, pour une tension VT - ε très légèrement inférieure à la tension d'allumage VT (ε très petit), la tension VEel aux bornes de l'élément électroluminescent EEL est très proche de la tension de seuil précédemment définie VS.EL, de sorte que : VEel = VS.EL - ε' (ε' très petit) ; si VEpc est la tension aux bornes de l'élément photoconducteur EPC, on a alors VT - ε = VEpc + VS.EL - ε' ; par ailleurs, si I est l'intensité du courant parcourant la cellule, si l'on considère que tout ce courant passe par les éléments de shunt ES.PC et ES.EL, et non pas par l'élément photoconducteur EPC et l'élément électroluminescent EEL parce que la cellule est éteinte, on a : V T - ε = V Epc + V S . EL - εʹ = R S . PC + R S . EL x I
    Figure imgb0003
    V Eel = V S . EL - εʹ = R S . EL x I
    Figure imgb0004
  • De ces deux équations, on déduit : VT - ε = (1 + RS.PC/RS.EL) (VS.EL - ε'), soit, en simplifiant : VT = (1 + RS.PC/RS.EL) VS.EL ou (VT/VS.EL)= (1 + RS.PC/RS.EL).
  • En considérant le schéma des tensions de commande du panneau de la figure 4, la largeur de la « zone de maintien » correspond à VT-VS.EL ; en pratique, pour bénéficier d'une « zone de maintien » suffisamment large pour pouvoir piloter facilement le panneau de visualisation, il convient que la différence VT-VS.EL soit supérieure ou égale à 8 ou 9 Volt ; dans le cas où, par exemple, la tension de seuil de déclenchement de la diode électroluminescente vaut VS.EL = 9 V , il convient donc que (VT/VS.EL) ≥ 2, c'est à dire (RS.PC/RS.EL) ≥ 1 ou RS.EL ≤ RS.PC ; dans le but de limiter les pertes, la technique des diodes électroluminescentes pour visualisation d'images s'oriente vers l'abaissement des tensions de seuil de déclenchement en deçà de la valeur de 9 Volt, ce qui implique que, pour que la largeur de la « zone de maintien » reste supérieure à 8 ou 9 volts, le ratio (VT/VS.EL) soit strictement supérieur à 2, voire égal ou supérieur à 3 et le ratio (RS.PC/RS.EL) soit strictement supérieur à 1, voire égal ou supérieur à 2.
  • Ainsi, de préférence, pour chaque cellule du panneau selon l'invention, la résistance RS.PC de l'élément de shunt ES.PC de l'élément photoconducteur EPC de cette cellule est supérieur ou égale à la résistance RS.EL de l'élément de shunt ES.EL de l'élément électroluminescent EEL de cette même cellule.
  • De préférence, on a RS.PC / RS.EL ≥ 2, et même, encore mieux, RS.PC /RS.EL ≥ 3.
  • De préférence, le panneau selon l'invention comprend, au niveau de chaque cellule, un élément conducteur à chaque interface entre l'au moins une couche électroluminescente et la couche photoconductrice pour relier électriquement en série les éléments électroluminescent et photoconducteur correspondants et les éléments conducteurs de différentes cellules sont isolés électriquement les uns des autres.
  • De préférence, les éléments conducteurs entre la même couche électroluminescente la même couche photoconductrice forment une même couche conductrice qui est évidemment discontinue pour que les éléments conducteurs des différentes cellules soient isolés électriquement les uns des autres ; dans le cas d'un panneau du type décrit dans le document US 4035774 déjà cité comprenant deux couches électroluminescentes, on a donc deux couches conductrices d'interface.
  • Dans le cas plus fréquent d'un panneau à une seule couche électroluminescente, chaque élément de shunt de l'élément électroluminescent est reliée à la même électrode du réseau avant et au même élément conducteur de la couche intermédiaire que l'élément électroluminescent EEL qu'il shunte ; le cas échéant, chaque élément de shunt de l'élément photoconducteur est reliée à la même électrode du réseau arrière et au même élément conducteur de la couche intermédiaire que l'élément photoconducteur EPC qu'il shunte ; on entend par élément de shunt tout moyen de shuntage : plusieurs exemples seront donnés ultérieurement.
  • Avantageusement, le panneau selon l'invention comprend des moyens de commande des cellules pour la visualisation d'images, adaptés pour mettre en oeuvre un procédé dans lequel, successivement pour chaque ligne de cellules du panneau, on passe par une phase sélective d'adressage destinée à allumer les cellules à allumer dans cette ligne, puis par une phase non-sélective de maintien destinée à maintenir les cellules de cette ligne dans l'état où la phase précédente d'adressage les a mises ou laissées.
  • D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront dans la description d'un mode de réalisation préférentiel, donnée à titre non limitatif et faite en référence aux dessins annexés, dans lesquels :
    • la figure 1 est un schéma en coupe d'une cellule d'un panneau électroluminescent à couche photoconductrice de l'art antérieur,
    • la figure 2 illustre le schéma équivalent électrique de la cellule de la figure 1,
    • la figure 3 donne trois chronogrammes des tensions appliquées à deux électrodes de ligne et à une électrode de colonne d'un panneau matriciel électroluminescent à effet mémoire, lorsqu'on utilise un procédé classique de commande de panneau adapté pour tirer parti de l'effet mémoire des cellules de ce panneau,
    • la figure 4 illustre le positionnement des différentes tensions appliquées aux électrodes d'un panneau lors de l'application d'un procédé de commande de la figure 3,
    • les figures 5 et 6 représentent les caractéristiques typiques respectivement d'un élément électroluminescent EEL et d'un élément photoconducteur EPC d'une cellule d'un panneau telle que représentée aux figures 1 et 2 ;
    • la figure 7 illustre, selon l'art antérieur, la répartition des tensions VE-el et VE-pc respectivement aux bornes de l'élément électroluminescent EEL et de l'élément photoconducteur EPC d'une cellule d'un panneau telle que représentée aux figures 1 et 2, lorsqu'on applique aux bornes AB de cette cellule un cycle de tension croissante (0 à 20 V), puis décroissante (20 à 0 V) ; cette figure illustre également l'évolution de l'intensité du courant circulant dans cette cellule ;
    • la figure 8 est un schéma en coupe d'une cellule d'un panneau électroluminescent à couche photoconductrice selon un mode de réalisation de l'invention,
    • la figure 9 illustre le schéma équivalent électrique de la cellule de la figure 8,
    • la figure 10 illustre, selon l'invention, la répartition des tensions VE-el et VE-pc respectivement aux bornes de l'élément électroluminescent EEL et de l'élément photoconducteur EPC d'une cellule d'un panneau telle que représentée aux figures 8 et 9, lorsqu'on applique aux bornes AB de cette cellule un cycle de tension croissante (0 à 20 V), puis décroissante (20 à 0 V) ; cette figure illustre également l'évolution de l'intensité du courant circulant dans cette cellule ;
    • les figures 11 et 12 sont des coupes d'un premier mode de réalisation d'un panneau selon l'invention, respectivement selon la direction des électrodes lignes et selon la direction des électrodes colonnes, destinées à illustrer un procédé de fabrication de ce panneau ;
    • les figures 13 et 14 sont des coupes d'un second mode de réalisation d'un panneau selon l'invention, respectivement selon la direction des électrodes lignes et selon la direction des électrodes colonnes, destinées à illustrer une variante du procédé de fabrication de ce panneau illustré aux figures 11 et 12.
    • la figure 15 illustre le schéma équivalent électrique d'une cellule selon un autre mode de réalisation avantageux de l'invention.
  • Les figures représentant des chronogrammes ne prennent pas en compte d'échelle de valeurs afin de mieux faire apparaître certains détails qui n'apparaîtraient pas clairement si les proportions avaient été respectées.
  • Afin de simplifier la description et de faire apparaître les différences et avantages que présente l'invention par rapport à l'état antérieur de la technique, on utilise des références identiques pour les éléments qui assurent les mêmes fonctions.
  • On va maintenant décrire un panneau selon un mode général de réalisation de l'invention, c'est à dire comportant des éléments de shunt uniquement des éléments électroluminescents ; on va également décrire un procédé de fabrication de ce panneau.
  • En référence à la figure 8, chaque cellule du panneau selon l'invention comprend, outre les éléments du panneau déjà décrit en référence à la figure 1 qui présentent ici les mêmes références :
    • des barrières 20 entourant la zone de couche électroluminescente 16 et la zone de couche intermédiaire d'électrodes 14 de cette cellule, dont la base s'appuie sur la couche photoconductrice 12, et dont le sommet parvient au moins à hauteur de la couche avant transparente d'électrodes 18 ;
    • un couche de shunt 21 appliquée sur le versant de ces barrières de manière à mettre en contact électrique la couche photoconductrice 12 et l'électrode transparente de la couche 18 ; cette couche de shunt 21 forme l'élément de shunt ES.EL selon l'invention ; la résistance RS.EL de cet élément de shunt ES.EL est proportionnelle à la largeur de la couche 21 (qui s'étend dans le sens de la hauteur des barrières) et inversement proportionnelle à son épaisseur ; le dimensionnement de cette couche de shunt, notamment son épaisseur, le matériau de cette couche de shunt 21 sont choisis de manière à ce que, au niveau de chaque cellule, la résistance RS.EL de cet élément de shunt ES.EL qu'il forme soit :
    • d'une part inférieure ou égale à la résistance ROFF-PC de l'élément photoconducteur EPC correspondant à la zone de couche électroluminescente 16 de cette cellule, lorsqu'elle n'est pas à l'état excité ;
    • d'autre part, inférieure à la résistance ROFF-EL de l'élément électroluminescent EEL qu'il shunte, correspondant à la zone de couche photoconductrice12 de cette cellule, lorsqu'elle n'est pas à l'état excité ;
  • Enfin, le matériau de cette couche de shunt 21 n'est pas photoconducteur de sorte que la résistance des éléments de shunt correspondant ne dépend pas de l'éclairement.
  • Les barrières 20 forment alors un réseau bidimensionnel de délimitation des cellules du panneau ; le dimensionnement de ces barrières, notamment leur hauteur, le matériau de ces barrières sont choisis de manière à ce que, au niveau de chaque cellule, la résistance électrique de ces barrières, mesurée entre leur base et leur sommet, soit largement supérieure à celle RS.EL de l'élément de shunt ES.EL de cette cellule ; ainsi, ces barrières isolent électriquement les cellules du panneau les une des autres ; ainsi,
    • les éléments de shunt ES.EL sont isolés les uns des autres,
    • les zones de la couche d'électrodes intermédiaires 14, propres à chaque cellule, sont isolées électriquement les unes des autres, de sorte que le potentiel électrique au point commun de l'élément électroluminescent EEL et de l'élément photoconducteur EPC de cette cellule est flottant.
  • Selon une variante de l'invention non représentée, la couche de shunt présente des discontinuités sur le pourtour des barrières d'une cellule, de sorte que, par exemple, seules les barrières d'un seul côté de chaque cellule sont recouvertes de cette couche de shunt ; par contre, il est évidemment essentiel que cette couche de shunt 21 mette en contact électrique la couche photoconductrice 12 et l'électrode transparente de la couche 18.
  • Selon une variante non représentée, ce contact électrique peut être assuré indirectement par l'intermédiaire les électrodes de la couche intermédiaire 14.
  • En se reportant à la figure 9, chaque cellule du panneau peut être représentée par les éléments suivants :
    • un élément électroluminescent EEL englobant une zone de couche électroluminescente 16, et,
    • en série avec l'élément électroluminescent EEL, un élément photoconducteur EPC englobant une zone de couche photoconductrice 12 au regard de cette même zone de couche électroluminescente 16.
    • en parallèle avec l'élément électroluminescent EEL, un élément de shunt ES.EL, formé par la couche de shunt 21 de cette cellule.
  • Sur la base des caractéristiques électriques typiques précédemment décrites en référence aux figures 5 et 6 de l'élément électroluminescent EEL et de l'élément photoconducteur EPC, et en choisissant RS.EL = 25 kΩ environ égal à 1/4 ROFF-PC (avec ROFF-PC = 100 kΩ environ), on examine les caractéristiques globales courant-tension de cette cellule selon l'invention : voir la figure 10, qui illustre, lorsqu'on applique une tension croissante de 0 à 20 V puis décroissante de 20 à 0 V aux bornes AB d'une cellule :
    • la tension V Eel aux bornes AC de l'élément électroluminescent EEL de la cellule et de l'élément de shunt ES.EL ;
    • la tension V Epc aux bornes CB de l'élément photoconducteur EPC de la cellule ;
    • l'intensité I du courant circulant dans l'élément électroluminescent EEL .
  • On constate qu'au cours d'un cycle de croissance jusqu'à l'allumage (intensité élevée) puis de décroissance jusqu'à l'extinction, l'évolution de l'intensité I du courant dans cette cellule manifeste une hystérésis importante, grâce à l'adjonction de l'élément de shunt ES.EL selon l'invention.
  • Il est alors possible d'utiliser, pour la commande des cellules du panneau et la visualisation d'images, un procédé dans lequel, successivement pour chaque ligne du panneau, on passe par une phase sélective d'adressage destinée à allumer les cellules à allumer dans cette ligne, puis par une phase non-sélective de maintien destinée à maintenir les cellules de cette ligne dans l'état où la phase précédente d'adressage les a mis ou laissés.
  • En reprenant les définitions précédentes de Va, VS, Voff en référence aux figures 3 et 4, pour appliquer ce procédé de commande :
    • il suffit de choisir Va (tension d'allumage de la cellule) supérieur ou égal à la tension VT ; la tension VT est celle qui, appliquée aux bornes d'une cellule éteinte à l'état OFF, provoque son allumage et son passage à l'état ON ; la valeur de VT est reportée à la figure 10 ;
    • il suffit de choisir VS (tension de maintien de la cellule) et Voff tels que la valeur (VS -Voff) soit supérieure ou égale à la tension VS.EL ; la tension VS.EL est celle qui appliquée aux bornes d'un élément électroluminescent EEL, provoque son allumage (V>VS.EL) ou son extinction (V<VS.EL) ; la valeur de VS.EL est également reportée sur la figure 10.
  • Comme expliqué précédemment, on a en outre VT = (1+ ROFF-PC/RS.EL) VS.EL.
  • Contrairement à l'art antérieur, on constate qu'il existe une zone de maintien (voir figure 4 et 10) de valeurs de tensions dans laquelle, la cellule du panneau ayant été préalablement allumée, celle-ci reste allumée ; grâce à l'élément de shunt ES.EL propre à l'invention, on obtient donc l'effet mémoire précédemment décrit pour toutes les cellules du panneau.
  • Pour fabriquer les panneaux électroluminescent de visualisation selon l'invention, on utilise des méthodes de dépôt et de gravure de couches classiques pour l'homme du métier de ce type de panneaux ; on va maintenant décrire un procédé de fabrication d'un tel panneau en référence aux figures 11 et 12 qui sont des coupes du panneau respectivement selon la direction des électrodes lignes et selon la direction des électrodes colonnes.
  • Sur un substrat 10 formé par exemple par une plaque de verre, on dépose une couche homogène d'aluminium par pulvérisation cathodique ou par évaporation sous vide (« PVD ») puis on grave la couche obtenue de manière à former un réseau d'électrodes parallèles ou électrodes de colonnes Xp, Xp+1 : on obtient ainsi la couche arrière opaque d'électrodes 11.
  • Sur cette couche d'électrodes de colonne 11, on dépose ensuite une couche homogène de matériau photoconducteur 12 : par exemple du silicium amorphe par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (« PECVD », ou Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en langue anglaise), ou un matériau photoconducteur organique par dépôt chimique en phase vapeur (« CVD ») ou dépôt par centrifugation (« spin-coating » en langue anglaise).
  • On applique ensuite la couche de couplage optique 13, comprenant, pour chaque future cellule électroluminescentes Cn,p, un élément de couplage 25 formée d'une portion de couche opaque d'aluminium percée en son centre d'une ouverture 26 destinée à laisser passer de la lumière vers la couche photoconductrice 12 : on procède par dépôt d'une couche homogène d'aluminium 25 puis gravure des ouvertures 26 de couplage optique, positionnées au centre des futures cellules du panneau ainsi que gravure des zones définissant les futures barrières 20 destinées à partitionner le panneau en cellules.
  • On applique ensuite, par pulvérisation cathodique sous vide, une couche mince et conductrice 14 d'oxyde mixte d'étain et d'indium (« ITO »), destinée à former des électrodes intermédiaires de connexion entre les éléments photoconducteurs de la couche photoconductrice 12 et les éléments électroluminescents de chaque cellule. Cette couche est ensuite gravée, toujours pour définir les zones sur lesquelles les barrières 20 seront posées.
  • Puis on forme le réseau bidimensionnel de barrières 20 destinées à partitionner le panneau en cellules électroluminescentes Cn,p et à isoler électriquement les éléments de shunt ES.EL de chaque cellule : à cet effet, on dépose d'abord une couche homogène de résine organique de barrière par centrifugation (« spin-coating » en langue anglaise), puis on grave cette couche de manière à former le réseau bidimensionnel de barrières 20.
  • Ensuite le matériau servant au « shuntage » selon l'invention est déposé en une couche pleine homogène sur toute la surface active du panneau ; cette couche épouse les reliefs que présente la surface du panneau à cette étape du procédé ; les éléments de shunt ES.EL selon l'invention sont ensuite obtenus par gravure anisotrope pleine plaque de manière à ne laisser une couche de shuntage d'épaisseur égale à l'épaisseur initiale du dépôt que sur les parois des barrières 20 ; en se repérant sur la figure, la gravure n'opère donc que dans le sens vertical et n'enlève que les parties horizontales de la couche de shuntage ; on obtient alors la couche de shuntage 21 et les éléments de shunt ES.EL selon l'invention pour chaque cellule ; par exemple le matériau de « shuntage » peut être du nitrure de titane (TiN) obtenu par dépôt chimique en phase vapeur (« CVD ») ; la gravure anisotrope peut être faite dans une enceinte de gravure plasma « haute densité » en utilisant une chimie adaptée connue en elle-même. Pour une cellule de 500x500 µm2, il faudrait entre 2 nm et 100 nm d'épaisseur de nitrure de titane (TiN - matériau dont la résistivité est ajustable de 2.10-4 Ω.cm à 10-2 Ω.cm) pour obtenir une résistance de shunt RS.EL autour de 5kΩ, susceptible d'apporter le fonctionnement en mode bi-stable à effet mémoire selon l'invention.
  • En se référant à la figure 12, perpendiculairement aux électrodes colonnes Xp, Xp+1 et entre les futures cellules, on peut alors monter, sur les barrières 20, un réseau de séparateurs 20' perpendiculaires aux électrodes colonnes Xp, Xp+1 : à cet effet, on dépose d'abord une couche homogène de résine organique de barrière par centrifugation (« spin-coating » en langue anglaise), puis on grave cette couche de manière à former le réseau de séparateurs 20'. ; la hauteur des séparateurs, c'est à dire l'épaisseur de la couche déposée, doit être largement supérieure à l'épaisseur des couches encore à déposer dans les phases ultérieures du procédé, comme illustré sur la figure 12.
  • Entre les barrières 20 revêtues de la couche de shunt 21 selon l'invention, on dépose ensuite les couches organiques 161, 160, 162 destinées à former les éléments électroluminescents EEL de la couche électroluminescente 16 ; ces couches organiques 161, 160, 162 sont connues en elles-mêmes et ne sont pas décrites ici en détail ; d'autres variantes peuvent être envisagées sans se départir de l'invention, notamment l'utilisation de matériaux électroluminescents minéraux.
  • Entre les barrières sur-élevées 20' perpendiculaires aux électrodes de colonnes Xp, Xp+1, on dépose ensuite la couche conductrice transparente 18 de manière à former des lignes d'électrodes Yn, Yn+1 : de préférence, cette couche comprend la cathode et une couche d'ITO. Il faut que les conditions de dépôt soient telles que la tranche des éléments de shunt ES.EL de chaque cellule soit recouverte par cette couche transparente 18. On obtient ainsi un panneau de visualisation d'images selon l'invention.
  • En référence aux figures 13 et 14, on va maintenant décrire une variante de procédé de fabrication du panneau selon l'invention ; le procédé reste le même que le procédé précédemment décrit, à la différence près qu'on va utiliser la couche superficielle des versants des barrières 20 comme élément de shunt ES.EL selon l'invention, à la place de la couche de shunt 21 ; à cet effet, on va doper les barrières en surface pour en rendre la couche superficielle plus conductrice ; ce procédé est avantageux car il permet d'éviter de déposer une couche de shunt spécifique ; étant données les dimensions usuelles des barrières (de l'ordre de 1 µm d'épaisseur pour 40µm de largeur), la fuite générée par le dopage superficiel des barrières sera suffisante pour obtenir l'effet de shunt souhaité entre les électrodes aux bornes des éléments électroluminescents EEL au sein de chaque cellule ; le dopage conducteur des barrières n'étant que superficiel, on conserve la même isolation électrique que précédemment entre les cellules du panneau.
  • Selon une troisième variante, la fonction de shunt selon l'invention est assurée par un dopage de la multicouche organique électroluminescente 16 adapté pour créer des canaux parallèles de transport non recombinatoire de charges au travers de cette couche.
  • L'homme du métier déduira directement de la description détaillée ci-dessus et de ses connaissances générales les éléments nécessaires pour la réalisation d'un panneau selon un mode préférentiel de réalisation de l'invention, c'est à dire comportant des éléments de shunt à la fois au niveau des éléments électroluminescents et des éléments photoconducteurs, sur la base de la description générale de ce mode de réalisation faite en tête de ce document.
  • La présente invention s'applique à tout type de panneaux matriciels électroluminescents, qu'ils utilisent des matériaux électroluminescents organiques ou des matériaux électroluminescents inorganiques.

Claims (12)

  1. Panneau de visualisation d'images comprenant une matrice de cellules électroluminescentes à effet mémoire (1), susceptibles d'émettre de la lumière vers l'avant dudit panneau, comprenant :
    - un réseau avant d'électrodes (18) et un réseau arrière d'électrodes (11), les électrodes du réseau avant croisant les électrodes du réseau arrière au niveau de chacune desdites cellules (1),
    - au moins une couche électroluminescente (16) formant, pour chaque cellule (1), au moins un élément électroluminescent (EEL),
    - une couche photoconductrice (12) pour obtenir ledit effet mémoire, formant, pour chaque cellule (1), un élément photoconducteur EPC,
    l'au moins un élément électroluminescent (EEL) et l'élément photoconducteur (EPC) de chaque cellule étant reliés électriquement en série et les deux bornes extrêmes de ladite série étant reliées l'une à une électrode dudit réseau avant (18) et l'autre à une électrode dudit réseau arrière (11),
    - des moyens de couplage optique, au niveau de chaque cellule, entre ladite au moins une couche électroluminescente (16) du panneau et ladite couche photoconductrice (12), ledit panneau comprenant, pour chaque cellule (1), un élément de shunt (ES.EL) (21) disposé en parallèle de l'au moins un élément électroluminescent (EEL) de la dite cellule,
    caracterisé en ce que
    la résistance dudit élément de shunt ne dépend pas de l'éclairement.
  2. Panneau selon la revendication 1 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, la résistance (RS.EL) de l'élément de shunt (ES.EL) de l'au moins un élément électroluminescent (EEL) de cette cellule est supérieure à la résistance (RON-EL) que présente l'élément électroluminescent (EEL) à l'état allumé
  3. Panneau selon l'une quelconque des revendications 1 à 2 caractérisé en ce que l'au moins une couche électroluminescente (16) est organique.
  4. Panneau selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, la résistance (RS.EL) de l'élément de shunt (ES.EL) de l'au moins un élément électroluminescent (EEL) de cette cellule est inférieure ou égale à la résistance (ROFF-PC) de l'élément photoconducteur correspondant (EPC) lorsqu'il n'est pas à l'état excité et est inférieure à la résistance (ROFF-EL) de l'au moins un élément électroluminescent correspondant (EEL) lorsqu'il est éteint.
  5. Panneau selon la revendication 4 caractérisé en ce que la résistance (RS.EL) de l'élément de shunt (ES.EL) de l'au moins un élément électroluminescent (EEL) de cette cellule est strictement inférieure à la résistance (ROFF-PC) de l'élément photoconducteur correspondant (EPC) lorsqu'il n'est pas à l'état excité.
  6. Panneau selon la revendication 5 caractérisé en ce que la résistance (RS.EL) de l'élément de shunt (ES.EL) de l'au moins un élément électroluminescent (EEL) de cette cellule est inférieure ou égale à la moitié de la résistance (ROFF-PC) de l'élément photoconducteur correspondant (EPC) lorsqu'il n'est pas à l'état excité.
  7. Panneau selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend également, pour chaque cellule (1), un élément de shunt (ES.PC) (22) disposé en parallèle de l'élément photoconducteur (EPC) de la dite cellule.
  8. Panneau selon la revendication 7 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, la résistance (RS.PC) de l'élément de shunt (ES.PC) de l'élément photoconducteur (EPC) de cette cellule :
    - est inférieure ou égale à la résistance (ROFF-PC) de cet élément photoconducteur (EPC) lorsqu'il n'est pas à l'état excité,
    - et est supérieure ou égale à la résistance (RS.EL) de l'élément de shunt (ES.EL) de l'au moins un élément électroluminescent (EEL) de cette même cellule.
  9. Panneau selon la revendication 8 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, on a RS.PC / RS.EL ≥ 2, RS.PC étant la résistance de l'élément de shunt de l'élément photoconducteur de cette cellule et RS.EL étant la résistance de l'élément de shunt de l'au moins un élément électroluminescent de cette même cellule.
  10. Panneau selon la revendication 9 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, on a RS.PC / RS.EL ≥ 3.
  11. Panneau selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend, au niveau de chaque cellule, un élément conducteur à chaque interface entre l'au moins une couche électroluminescente et la couche photoconductrice pour relier électriquement en série les éléments électroluminescent et photoconducteur correspondant et en ce que lesdits éléments conducteurs de différentes cellules (1, 1') sont isolés électriquement les uns des autres.
  12. Panneau selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend des moyens de commande des cellules pour la visualisation d'images, adaptés pour mettre en oeuvre un procédé dans lequel, successivement pour chaque ligne de cellules du panneau, on passe par une phase sélective d'adressage destinée à allumer les cellules à allumer dans cette ligne, puis par une phase non-sélective de maintien destinée à maintenir les cellules de cette ligne dans l'état où la phase précédente d'adressage les a mises ou laissées.
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