EP0344513A3 - Procédé de fabrication d'une plaque de commande pour un appareil de lithographie - Google Patents
Procédé de fabrication d'une plaque de commande pour un appareil de lithographie Download PDFInfo
- Publication number
- EP0344513A3 EP0344513A3 EP19890108867 EP89108867A EP0344513A3 EP 0344513 A3 EP0344513 A3 EP 0344513A3 EP 19890108867 EP19890108867 EP 19890108867 EP 89108867 A EP89108867 A EP 89108867A EP 0344513 A3 EP0344513 A3 EP 0344513A3
- Authority
- EP
- European Patent Office
- Prior art keywords
- manufacture
- semiconductor body
- lithography apparatus
- deflection elements
- steering plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1477—Scanning means electrostatic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3818535 | 1988-05-31 | ||
DE3818535 | 1988-05-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EP0344513A2 EP0344513A2 (fr) | 1989-12-06 |
EP0344513A3 true EP0344513A3 (fr) | 1991-01-16 |
Family
ID=6355537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EP19890108867 Withdrawn EP0344513A3 (fr) | 1988-05-31 | 1989-05-17 | Procédé de fabrication d'une plaque de commande pour un appareil de lithographie |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4994336A (fr) |
EP (1) | EP0344513A3 (fr) |
JP (1) | JPH0237655A (fr) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5354695A (en) * | 1992-04-08 | 1994-10-11 | Leedy Glenn J | Membrane dielectric isolation IC fabrication |
US5160846A (en) * | 1990-10-03 | 1992-11-03 | Eaton Corporation | Method and apparatus for reducing tilt angle variations in an ion implanter |
KR970002681B1 (ko) * | 1990-10-03 | 1997-03-08 | 이턴 코오포레이숀 | 이온비임주입시스템과 그방법 및 이온비임을 편향시키는 정전렌즈 |
JP2555775B2 (ja) * | 1990-11-28 | 1996-11-20 | 富士通株式会社 | 荷電粒子ビーム偏向装置およびその製造方法 |
US6714625B1 (en) * | 1992-04-08 | 2004-03-30 | Elm Technology Corporation | Lithography device for semiconductor circuit pattern generation |
EP0791459B1 (fr) * | 1996-02-22 | 2002-05-22 | Seiko Epson Corporation | Tête d'enregistrement à jet d'encre, appareil d'enregistrement à jet d'encre utilisant cette tête et procédé de fabrication d'une tête d'enregistrement à jet d'encre |
US5915167A (en) * | 1997-04-04 | 1999-06-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure memory |
US6551857B2 (en) * | 1997-04-04 | 2003-04-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure integrated circuits |
FR2762713A1 (fr) * | 1997-04-25 | 1998-10-30 | Commissariat Energie Atomique | Microdispositif pour generer un champ multipolaire, en particulier pour filtrer ou devier ou focaliser des particules chargees |
US7402897B2 (en) * | 2002-08-08 | 2008-07-22 | Elm Technology Corporation | Vertical system integration |
JP2004134388A (ja) * | 2002-08-13 | 2004-04-30 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | 粒子光学装置、電子顕微鏡システムおよび電子リソグラフィーシステム |
US6953938B2 (en) * | 2002-10-03 | 2005-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Deflector, method of manufacturing deflector, and charged particle beam exposure apparatus |
CN1326191C (zh) * | 2004-06-04 | 2007-07-11 | 复旦大学 | 用印刷电路板构建的离子阱质量分析仪 |
EP1764132A1 (fr) * | 2005-09-16 | 2007-03-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Procédé et dispositif pour la configuration d'une trajectoire de faisceau d'un système de thérapie par faisceau de particules |
US8151596B2 (en) * | 2006-12-29 | 2012-04-10 | Whirlpool Corporation | Sensor system for a refrigerator dispenser |
US8813794B2 (en) | 2007-04-27 | 2014-08-26 | Whirpoll Corporation | Hands free, controlled autofill for a dispenser |
US7673661B2 (en) | 2007-04-27 | 2010-03-09 | Whirlpool Corporation | Sensor system for a refrigerator dispenser |
JP6211435B2 (ja) | 2014-02-26 | 2017-10-11 | 株式会社アドバンテスト | 半導体装置の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0191439A1 (fr) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Diaphragme à structure linéaire multitrous et électrodes d'occultation pour la production d'une pluralité de sondes par faisceaux corpusculaires individuellement occultables pour appareil de lithographie |
EP0221657A1 (fr) * | 1985-09-27 | 1987-05-13 | AT&T Corp. | Lithographie par faisceau de particules chargées |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2922416A1 (de) * | 1979-06-01 | 1980-12-11 | Ibm Deutschland | Schattenwurfmaske zum strukturieren von oberflaechenbereichen und verfahren zu ihrer herstellung |
EP0048291B1 (fr) * | 1980-09-19 | 1985-07-03 | Ibm Deutschland Gmbh | Structure comprenant un corps de silicium présentant une ouverture le traversant de part en part et procédé de fabrication |
EP0078336B1 (fr) * | 1981-10-30 | 1988-02-03 | Ibm Deutschland Gmbh | Masque projetant l'ombre pour l'implantation d'ions et pour la lithographie par rayons d'ions |
JPS6081750A (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-09 | Nec Corp | アパ−チヤ絞りとその製造方法 |
JPS6119040A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Nec Corp | アパ−チヤ絞りの製造方法 |
DE3504714A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Lithografiegeraet zur erzeugung von mikrostrukturen |
ATA331285A (de) * | 1985-11-13 | 1988-11-15 | Ims Ionen Mikrofab Syst | Verfahren zur herstellung einer transmissionsmaske |
-
1989
- 1989-05-17 EP EP19890108867 patent/EP0344513A3/fr not_active Withdrawn
- 1989-05-17 US US07/353,063 patent/US4994336A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-29 JP JP1137321A patent/JPH0237655A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0191439A1 (fr) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Diaphragme à structure linéaire multitrous et électrodes d'occultation pour la production d'une pluralité de sondes par faisceaux corpusculaires individuellement occultables pour appareil de lithographie |
EP0221657A1 (fr) * | 1985-09-27 | 1987-05-13 | AT&T Corp. | Lithographie par faisceau de particules chargées |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 10, no. 168 (E-411)(2224) 14 Juni 1986, & JP-A-61 019 040 (NIPPON DENKI K.K.) 27 Januar 1986, * |
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 9, no. 219 (M-410)(1942) 06 September 1985, & JP-A-60 081 750 (NIPPON DENKI K.K.) 09 Mai 1985, * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4994336A (en) | 1991-02-19 |
JPH0237655A (ja) | 1990-02-07 |
EP0344513A2 (fr) | 1989-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0344513A3 (fr) | Procédé de fabrication d'une plaque de commande pour un appareil de lithographie | |
BE887877A (fr) | Dispositif de direction pour remorques a cygne, a essieux multiples | |
DE2721720A1 (de) | Praezisions-messwandler fuer positionsmessungen | |
DE68927822D1 (de) | Oberflächenmodifizierte, sphärische feine Partikel auf der Basis von Polymethylsilsesquioxanen und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE69007132D1 (de) | Lenkvorrichtung für die Hinterräder eines Fahrzeuges. | |
DE68909948D1 (de) | Verfahren und vorrichtung für die bremsanpassung zwischen zugfahrzeug und sattelauflieger. | |
DE3587688D1 (de) | Antiblockier-Bremsgerät für Fahrzeuge. | |
DE3534002C1 (de) | Ultraschall Winkelpruefkopf mit mindestens zwei Ultraschallwandlern | |
EP0756447A3 (fr) | Circuit de commande pour véhicule | |
DE19738358B4 (de) | Beschleunigungssensor | |
EP0340796A3 (fr) | Dispositif pour réduire les courants d'air dans la partie avant des véhicules | |
EP0261153A1 (fr) | Capteur d'acceleration. | |
FR2534532B1 (fr) | Dispositif d'attelage de remorque notamment pour voitures de tourisme | |
IT8224961A0 (it) | Apparecchiatura per il controllodella velocita' delle ruote diveicoli che si muovono su due rotaie. | |
DE3741246A1 (de) | Vorrichtung zum anzeigen eines fahrzustandes | |
DE4129964A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer elektrisch leitenden befestigung einer integrierten schaltung auf einer gedruckten schaltung | |
FR2564407B1 (fr) | Chassis pour vehicule d'intervention, en particulier voiture de pompiers | |
DE4329120A1 (de) | Lenkrad für Kraftfahrzeuge | |
EP0403792A3 (fr) | Installation de freinage actionnée par fluide sous pression pour véhicules | |
WO2001000453A1 (fr) | Dispositif permettant la connexion electrique d'une pluralite de capteurs disposes sur un mat de capteurs qui peut de preference etre integre a un siege de vehicule | |
DE3315266A1 (de) | Halbleiter-drucksensor | |
DE102015206299B4 (de) | Über Leiterplatte auf Leadframe verschaltete Sensorschaltung | |
DE3727854C2 (fr) | ||
ES517493A0 (es) | Dispositivo de maniobra de la barra de direccion de vehiculos automoviles. | |
DE1690255B2 (de) | Auf einem Trägerplättchen aufgebrachte Schaltung mit in Dickfilmtechnik hergestellten Leitungsbahnen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: A2 Designated state(s): DE FR GB NL |
|
PUAL | Search report despatched |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009013 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: A3 Designated state(s): DE FR GB NL |
|
17P | Request for examination filed |
Effective date: 19901205 |
|
17Q | First examination report despatched |
Effective date: 19930825 |
|
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
Free format text: STATUS: THE APPLICATION IS DEEMED TO BE WITHDRAWN |
|
18D | Application deemed to be withdrawn |
Effective date: 19931201 |