EP0065281A2 - Abtastverfahren und Abtastblende zum Unterdrücken von Moiré bei der Abtastung gerasterter Vorlagen - Google Patents

Abtastverfahren und Abtastblende zum Unterdrücken von Moiré bei der Abtastung gerasterter Vorlagen Download PDF

Info

Publication number
EP0065281A2
EP0065281A2 EP82104177A EP82104177A EP0065281A2 EP 0065281 A2 EP0065281 A2 EP 0065281A2 EP 82104177 A EP82104177 A EP 82104177A EP 82104177 A EP82104177 A EP 82104177A EP 0065281 A2 EP0065281 A2 EP 0065281A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
grid
template
scanning
area
aperture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP82104177A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0065281B1 (de
EP0065281A3 (en
Inventor
Eggert Jung
Heinrich Wadle
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dr Ing Rudolf Hell GmbH
Original Assignee
Dr Ing Rudolf Hell GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dr Ing Rudolf Hell GmbH filed Critical Dr Ing Rudolf Hell GmbH
Priority to AT82104177T priority Critical patent/ATE58986T1/de
Publication of EP0065281A2 publication Critical patent/EP0065281A2/de
Publication of EP0065281A3 publication Critical patent/EP0065281A3/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0065281B1 publication Critical patent/EP0065281B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/40Picture signal circuits
    • H04N1/40075Descreening, i.e. converting a halftone signal into a corresponding continuous-tone signal; Rescreening, i.e. combined descreening and halftoning
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/024Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
    • H04N1/028Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
    • H04N1/029Heads optically focused on only one picture element at a time

Definitions

  • the invention relates to the field of reproduction technology, the scanning starting from already rastered originals for later reproduction, in particular to the field of printing technology.
  • the size of the spot shown is not large against the raster width of a rastered template, the repetition frequency of the raster points passing the scanning optics during scanning usually appears in the output signal of the light receiver. This unwanted frequency interferes with the frequency that is added to the brightness signal to rasterize the recording.
  • the object of the present invention is to achieve this based on specifying a scanning method and an aperture that allow an image rastered in any raster angle and in any raster configuration to be used as a template in reproduction technology, without the rerecording, even if it is not rasterized, in a different raster width, a different raster angle or another grid configuration there is neither disturbing moire nor unacceptable loss of sharpness.
  • the task is solved, as described below, by choosing a scanning diaphragm suitable in shape and size, which is oriented in a suitable manner to the raster of the original.
  • the optical density profile of the individual halftone dots can then be described by a function ch (x, y). If you consider this function over a surface with constant tone value, it is periodic. You have the period A in the X direction and the period B in the Y direction (see Figure 1), wherein the coordinates X and Y can also be skewed.
  • the scanning spot defined by an aperture can be a rectangle (with oblique coordinates a parallelogram) with the edges nx A and mx B, where n and m are natural numbers and can be parallel to the axes of the coordinate system be aligned.
  • panels can also be permitted whose boundaries are not straight and whose opening need not be a coherent surface.
  • Figure 1 shows a template grid that is scanned with the method just described. It can generally be represented by a two-dimensional grid describe from individual grid meshes, in the center of which are the centers of the grid points.
  • a grid can be constructed from elementary cells, the term elementary cell being defined as follows: the area of an elementary cell corresponds to the area of one or more grid meshes of the template grid.
  • the elementary cells can be any contiguous or non-contiguous, identical areas, the entirety of which completely covers the grid network of the template and without overlap, each individual element cell being oriented such that the relative position of the elementary cell to the grid mesh is the same over the entire template grid network.
  • FIG. 1 shows such a template grid network N with the grid spacings A, B and the grid points RP.
  • a grid mesh RM and an elementary cell EZ are drawn into this grid network by means of stronger lines.
  • the elementary cell EZ is selected so that it coincides with the grid mesh RM.
  • Figure 2 shows two further examples of unit cells.
  • the unit cell EZ 2 has the shape of a rectangle and extends over two neighboring meshes.
  • the EZ 3 unit cell is a square that is inclined at 45 ° to the grid direction and, like the EZ 2, consists of four half grid meshes.
  • Figure 3 shows another form of unit cells.
  • the EZ 4 unit cell provides an example of a non-linearly delimited, but contiguous form. As can be seen, in its entirety it also covers the entire grid network by definition.
  • FIG. 4 shows an example of an elementary cell EZ 5 with a non-contiguous area.
  • Other unit cells with a non-contiguous area are also possible as long as they meet the aforementioned definition criteria.
  • the shape and size of the actual scanning diaphragm is derived from such elementary cells.
  • the imaging scale of which is generally not 1: 1 the dimensions of the diaphragm do not necessarily have the actual size of the unit cell.
  • the actual aperture is a similar image of the unit cell, which corresponds to the imaging scale.
  • FIGS. 5 to 12 show different successive phases of an original scan, the simple square diaphragm and unit cell arrangement from FIG. 1 being used as a basis for better understanding.
  • a diaphragm BL is moved in the direction of an arrow PF relative to the original. It is easy to see that in the individual darge phases of this movement, the ratio of black and white areas, assuming the same grid point size, is independent of the position of the aperture within the hidden area. The spatial frequency of the original grid is thus eliminated from the scanning signal. As the illustrations show, this applies even if the relative movement of the screen and template takes place at any angle A to the template grid, as the dashed line in FIGS. 6-12 indicates.
  • the relative movement between the original and the scanning element normally arises from the fact that the original is clamped onto a rotating drum and the scanning element moves past the drum continuously or stepwise in the axial direction.
  • the scanning is done either in the form of a helix with a small slope or with parallel circumferential lines. (The latter is also the case with flatbed scanners). Is z. If, for example, the template has a rectangular image rastered at 30 °, which is spanned with its edges in the circumferential direction on the drum, the scanning results in a relative movement, as shown in FIGS. 5-12.
  • the aperture can capture the template overlapping or with gaps.
  • finer resolution is achieved, which, for. B. is important if the recording is to take place in an approximately equally fine or finer screen, but under different screen angles than the template.
  • the reverse case is advantageous (time saving) when recording in a coarser grid.
  • such a scanning aperture can be produced in the usual way, for example by punching, etching, spark eroding, perforating by means of high-energy rays from metallic panes or by appropriate partial vapor deposition of transparent material with opaque precipitation. It is also possible to give light guides an appropriate cross section.
  • the invention is predominantly used in reproduction technology for optoelectronic scanning, it can also be used in cases in which a screened original is scanned approximately line by line, the recording on a light-sensitive medium directly by means of the light reflected from the original a corresponding optical device for imaging (for example lens systems and / or optical fibers) takes place via the diaphragm according to the invention.
  • a corresponding optical device for imaging for example lens systems and / or optical fibers
  • a preferred area of application is, for example, in printing technology if Creation of the printing form is based on rastered templates. It often happens that the original template is no longer accessible, but only an already rasterized print or rasterized color separations are available.

Landscapes

  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Picture Signal Circuits (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)
  • Tires In General (AREA)
  • Transceivers (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Paper (AREA)

Abstract

Abtastverfahren für bereits gerasterte Vorlagen in der Reproduktionstechnik unter Verwendung einer speziellen Blende zur Vermeidung von Moiréeffekten bei der Wiederaufzeichnung.

Description

    Technisches Gebiet
  • Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Reproduktionstechnik, wobei bei der Abtastung von bereits gerasterten Vorlagen für die spätere Reproduktion ausgegangen wird, insbesondere auf das Gebiet der Drucktechnik.
  • Stand der Technik
  • Bei der elektronenoptischen Abtastung von gerasterten Vorlagen auf Scannern und Graviergeräten entsteht das Problem, daß durch Überlagerung des Vorlagenrasters einerseits und des bei der Aufzeichnung in der Maschine zugesetzten Rasters andererseits ein störendes Moire entsteht. Bei der Abtastung wird jeweils aus einer gleichmäßig beleuchteten Vorlagenstelle mittels einer Blende ein kleiner Bildpunkt auf der sensitiven Fläche eines elektronischen Lichtempfängers abgebildet, der das elektronische Signal für die Weiterverarbeitung und schließlich die Aufzeichnung erzeugt.
  • Ist die Größe des abgebildeten Flecks nicht groß gegen die Rasterweite einer gerasterten Vorlage, so erscheint im Ausgangssignal des Lichtempfängers in der Regel die Folgefrequenz der an der Abtastoptik bei der Abtastung vorbeilaufenden Rasterpunkte. Diese unerwünschte Frequenz interferiert mit der Frequenz, die dem Helligkeitssignal zur Aufrasterung der Aufzeichnung zugesetzt wird.
  • Aus der deutschen Patentanmeldung P 30 10 880 ist ein Verfahren zur Vermeidung von Moire in dem genannten Falle bekannt, das-die Rasterstruktur der Vorlage und damit die unerwünschte Frequenz im Bildsignal dadurch verhindert, daß die abtastende Optik um einen gewissen Betrag unscharf gestellt wird. Um den dabei auftretenden Schärfeverlust zu vermeiden, wird bei dieser Patentanmeldung mit Hilfe einer elektronischen Unscharfmaskierung der Schärfeverlust mindestens zum Teil wieder kompensiert.
  • Es ist aus dem Handbuch, Agfa-Gevaert, Grafisches Material, Halbtonfotografie, 12, 1969, Seiten 132 - 137 ein Verfahren bekannt, bei dem durch Beugung an Blenden die Vorlage entrastert wird. Dieses Verfahren weicht aber von der vorliegenden Erfindung ab, da dort die verwendeten Blenden zur gleichzeitigen Abbildung der gesamten Vorlage ausgelegt und benutzt werden. Die dort beschriebenen Blenden sind nicht geeignet für die punkt- und zeilenweise Abtastung einer Vorlage, wie dies in elektronischen Reproduktionsgeräten geschieht.
  • Aufgabenstellung
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Abtastverfahren und eine Blende anzugeben, die es gestatten, ein im beliebigen Rasterwinkel und in beliebiger Rasterkonfiguration aufgerastertes Bild als Vorlage in der Reproduktionstechnik zu benutzen, ohne daß bei der Wiederaufzeichnung selbst wenn diese ungerastert, in einer anderen Rasterweite, einem anderen Rasterwinkel oder einer anderen Rasterkonfiguration erfolgt weder störendes Moire noch unzulässiger Schärfeverlust auftritt.
  • Die Erfindung erreicht dies durch die in den Ansprüchen 1 - 3 genannten Merkmale.
  • Die Erfindung wird im folgenden anhand der Figuren 1 - 12 näher beschrieben.
  • Es zeigen:
    • Figur 1 Rastermasche und Elementarzelle im Vorlagenraster,
    • Figur 2; 3; 4 Beispiele für Elementarzellen und
    • Figur 5 bis 12 verschiedene Phasen des Abtastvorgangs.
  • Im Prinzip wird die Aufgabe, wie im folgenden beschrieben, durch Wahl einer in Form und Größe geeigneten Abtastblende, die zum Raster der Vorlage in geeigneter Weise orientiert ist, gelöst.
  • Zugrundegelegt sei ein periodisches Vorlagenraster, bei dem beliebige Maschenweiten und beliebige Winkelungen zugelassen sind. Der optische Dichteverlauf der einzelnen Rasterpunke läßt sich dann durch eine Funktion ch (x, y) beschreiben. Betrachtet man diese Funktion über eine Fläche mit gleichbleibendem Tonwert, so ist sie periodisch. Sie habe die Periode A in X-Richtung und die Periode B in Y-Richtung (siehe Figur 1), wobei die Koordinaten X und Y auch schiefwinklig sein können. Um die Rasterperiode aus dem Abtastsignal zu eliminieren, kann der durch eine Blende definierte Abtastfleck ein Rechteck (bei schiefwinkligen Koordinaten ein Parallelogramm) mit den Kanten n x A und m x B sein, wobei n und m natürliche Zahlen sind und kann parallel zu den Achsen des Koordinatensystems ausgerichtet sein.
  • Eine weitere Möglichkeit besteht z. B. darin, das Rechteck bzw. Parallelogramm so zu wählen, daß die Diagonalen die Länge n x 2A und m x 2B haben und ebenfalls parallel zu den Achsen (X, Y) ausgerichtet sind. Wählt man im ersten Beispiel n = 1 und m = 1, so erhält man einen Abtastfleck, der eine moirefreie Abtastung in einem beliebigen Raster mit optimaler Bildschärfe erlaubt. Es können, wie unten gezeigt, auch Blenden zugelassen werden, deren Begrenzung nicht geradlinig ist und deren Öffnung keine zusammenhängende Fläche zu sein braucht.
  • Bei der Ausrichtung der Blende zu den Achsen können sogar Winkelfehler zugelassen werden, wobei noch in den meisten Anwendungsfällen zufriedenstellende Resultate erzielt werden.
  • Figur 1 zeigt ein Vorlagenraster, das mit dem eben beschriebenen Verfahren abgetastet wird. Es läßt sich allgemein durch ein zweidimensionales Gitter aus einzelnen Rastermaschen beschreiben, in deren Mittelpunkten die Mittelpunkte der Rasterpunkte liegen. Ein solches Rastergitter läßt sich aus Elementarzellen aufbauen, wobei sich der Begriff Elementarzelle folgendermaßen definieren läßt: Die Fläche einer Elementarzelle entspricht der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters. Die Elementarzellen können beliebige zusammenhängende oder nicht zusammenhängende gleiche Flächen sein, deren Gesamtheit das Rasternetz der Vorlage lückenlos und ohne Überlappung überdeckt, wobei jede einzelne Elementarzelle so orientiert ist, daß die relative Lage der Elementarzelle zur Rastermasche über das gesamte Vorlagenrasternetz gleich ist.
  • In Figur 1 ist, wie bereits erwähnt, ein solches Vorlagenrasternetz N mit den Rasterabständen A, B und den Rasterpunkten RP dargestellt. In dieses Rasternetz sind durch stärkere Linien hervorgehoben eine Rastermasche RM und eine Elementarzelle EZ eingezeichnet. Wie aus diesem speziellen Beispiel ersichtlich, ist hier die Elementarzelle EZ so gewählt, daß sie sich mit der Rastermasche RM deckt.
  • Figur 2 zeigt zwei weitere Beispiele für Elementarzellen. Die Elementarzelle EZ2 hat die Form eines Rechtecks und erstreckt sich über zwei benach barte Maschen. Die Elementarzelle EZ3 ist ein Quadrat, das um 45° gegen die Rasterrichtung geneigt ist und besteht ebenso wie EZ2 aus vier halben Rastermaschen.
  • Figur 3 zeigt eine andere Form von Elementarzellen. Die Elementarzelle EZ4 gibt ein Beispiel für eine nicht geradlinig begrenzte, aber zusammenhängende Form. Wie ersichtlich, überdeckt sie in ihrer Gesamtheit ebenfalls das ganze Rasternetz definitionsgemäß.
  • Figur 4 zeigt ein Beispiel für eine Elementarzelle EZ5 mit nicht zusammenhängender Fläche. Es sind auch andere Elementarzellen mit nicht zusammenhängender Fläche möglich, soweit sie die vorgenannten Definitionskriterien erfüllen.
  • Aus solchen Elementarzellen wird die Form und Größe der eigentlichen Abtastblende hergeleitet.
  • Weil bei elektronenoptischer Bildabtastung die Rastermasche über ein optisches System auf den Lichtempfänger abgebildet wird, dessen Abbildungsmaßstab in der Regel nicht 1:1 ist, hat die Blende in ihren Abmessungen nicht unbedingt die tatsächliche Größe der Elementarzelle. Die tatsächliche Blendenöffnung ist ein ähnliches Abbild der Elementarzelle, das dem Abbildungsmaßstab entspricht.
  • Die Figuren 5 - 12 zeigen verschiedene aufeinanderfolgende Phasen einer Vorlagenabtastung, wobei zum besseren Verständnis die einfache quadratische Blenden- und Elementarzellenanordnung aus Figur 1 zugrundegelegt wurde. In diesem Beispiel wird, ausgehend von Figur 5, eine Blende BL entlang der Richtung eines Pfeils PF relativ zur Vorlage bewegt. Man erkennt leicht, daß in den einzelnen dargestellten Phasen dieser Bewegung das Verhältnis schwarzer und weißer Flächenanteile, gleiche Rasterpunktgröße vorausgesetzt, innerhalb des ausgeblendeten Bereichs unabhängig von der Position der Blende ist. Die Ortsfrequenz des Vorlagenrasters ist damit aus dem Abtastsignal eliminiert. Das gilt, wie die Abbildungen zeigen, selbst dann, wenn die Relativbewegung von Blende und Vorlage in einem beliebigen Winkel A zum Vorlagenraster erfolgt, wie die gestrichelte Linie in den Figuren 6 - 12 andeutet.
  • In modernen elektronischen Reproduktionsgeräten entsteht die Relativbewegung zwischen Vorlage und Abtastorgan normalerweise dadurch, daß die Vorlage auf eine rotierende Trommel aufgespannt ist und sich das Abtastorgan kontinuierlich oder schrittweise in axialer Richtung an der Trommel vorbeibewegt. Die Abtastung erfolgt dadurch entweder in Form einer Helix mit kleiner Steigung oder mit parallelen Umfangslinien. (Letzteres ist auch bei Flachbettabtastern der Fall). Ist z. B. die Vorlage ein rechteckiges unter 30° gerastertes Bild, das mit seinen Kanten in Umfangsrichtung auf der Trommel aufgespannt ist, so ergibt sich bei der Abtastung eine Relativbewegung, wie in Figuren 5 - 12 dargestellt.
  • Beim Abtastvorgang ist es von Bedeutung, daß die Blende entsprechend der Elementarzelle, von der sie abgeleitet ist, zum Vorlagenraster ausgerichtet ist, wobei es, wie die Praxis zeigt, nicht auf große Genauigkeit ankommt.
  • Die Blende darf bei der Abtastung im Gegensatz zu der oben definierten Elementarzelle die Vorlage überlappend oder auch mit Zwischenräumen erfassen. Im ersteren Falle wird feinere Auflösung erreicht, was z. B. von Bedeutung ist, wenn die Aufzeichnung in einem etwa gleich feinen oder feinerem Raster, aber unter anderem Rasterwinkel als die Vorlage erfolgen soll. Der umgekehrte Fall ist vorteilhaft (Zeitersparnis), wenn in gröberem Raster aufgezeichnet werden soll.
  • Grundsätzlich kann eine solche Abtastblende in der üblichen Art, etwa durch Stanzen, Ätzen, Funkenerodieren, Perforieren mittels Hochenergiestrahlen von metallischen Scheiben oder durch entsprechende Teilbedampfung von durchsichtigem Material mit lichtundurchlässigem Niederschlag hergestellt werden. Ebenfalls ist es möglich, Lichtleitern einen entsprechenden Querschnitt zu geben.
  • Die Erfindung findet zwar in der Reproduktionstechnik vorwiegend Anwendung bei der optoelektronischen Abtastung, jedoch kann sie ebenso in solchen Fällen eingesetzt werden, bei denen eine gerasterte Vorlage etwa zeilenweise abgetastet wird, wobei die Aufzeichnung auf ein lichtempfindliches Medium direkt durch das von der Vorlage reflektierte Licht über eine entsprechende optische Einrichtung zur Abbildung (z. B. Linsensysteme und/oder Lichtleitfasern) über die erfindungsgemäße Blende erfolgt.
  • Ein bevorzugtes Anwendungsgebiet ist beispielsweise in der Drucktechnik gegeben, wenn zur Erstellung der Druckform von gerasterten Vorlagen ausgegangen wird. Es tritt häufig der Fall ein, daß die Originalvorlage nicht mehr im Zugriff ist, sondern nur noch ein bereits gerasterter Druck oder gerasterte Farbauszüge verfügbar sind.
  • Ein bedeutender Anwendungsfall liegt in der heute vielfach praktizierten sogenannten Offset-Tiefdruck-Conversion, wie sie in der DE-AS 28 05 874 beschrieben ist.

Claims (3)

1) Abtastverfahren zur Vermeidung von Moire in der Reproduktionstechnik, insbesondere bei optoelektronischer'Bildabtastung, wobei von einer bereits gerasterten Vorlage ausgegangen wird, dadurch gekennzeichnet, daß
a) zur Abtastung eine Blende verwendet wird, deren Öffnung einer Elementarzelle entspricht, wobei die Fläche der Elementarzelle der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters entspricht und eine beliebig begrenzte zusammenhängende oder nicht zusammenhängende Fläche ist und das Rasternetz der Vorlage durch die Elementarzellen lückenlos und ohne Überlappung überdeckt wird und wobei die einzelne Elementarzelle so orientiert ist, daß die relative Lage zwischen Elementarzelle und Rastermasche über das ganze Vorlagenraster gleich ist.
b) die Blende bei der Abtastung etwa parallel zur Ausrichtung der Elementarzellen im Vorlagenraster, wie sie bei der Aufspannung der Vorlage für die Abtastung gegeben ist, ausgerichtet ist und
c) daß die Vorlage durch eine beliebige Relativbewegung zwischen Blende und Vorlage abgetastet wird.
2) Blende zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Öffnung der Blende einer Elementarzelle entspricht, wobei die Fläche der Elementarzelle der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters entspricht und eine beliebig begrenzte zusammenhängende Fläche ist und das Rasternetz der Vorlage durch die Elementarzellen lückenlos und ohne Überlappung überdeckt wird und wobei die einzelne Elementarzelle so orientiert ist, daß die relative Lage zwischen Elementarzelle und Rastermasche über das ganze Vorlagenraster gleich ist.
3) Blende zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Öffnung der Blende einer Elementarzelle entspricht, wobei die Fläche der Elementarzelle der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters entspricht und eine beliebige begrenzte nicht zusammenhängende Fläche ist und das Rasternetz der Vorlage durch die Elementarzellen lückenlos und ohne Überlappung überdeckt wird und wobei die einzelne Elementarzelle so orientiert ist, daß die relative Lage zwischen Elementarzelle und Rastermasche über das ganze Vorlagenraster gleich ist.
EP82104177A 1981-05-20 1982-05-13 Abtastverfahren und Abtastblende zum Unterdrücken von Moiré bei der Abtastung gerasterter Vorlagen Expired - Lifetime EP0065281B1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT82104177T ATE58986T1 (de) 1981-05-20 1982-05-13 Abtastverfahren und abtastblende zum unterdruecken von moire bei der abtastung gerasterter vorlagen.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3120030 1981-05-20
DE3120030 1981-05-20

Publications (3)

Publication Number Publication Date
EP0065281A2 true EP0065281A2 (de) 1982-11-24
EP0065281A3 EP0065281A3 (en) 1986-03-19
EP0065281B1 EP0065281B1 (de) 1990-12-05

Family

ID=6132776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP82104177A Expired - Lifetime EP0065281B1 (de) 1981-05-20 1982-05-13 Abtastverfahren und Abtastblende zum Unterdrücken von Moiré bei der Abtastung gerasterter Vorlagen

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4516175A (de)
EP (1) EP0065281B1 (de)
JP (1) JPS57201232A (de)
AT (1) ATE58986T1 (de)
BR (1) BR8202982A (de)
CA (1) CA1193310A (de)
DE (1) DE3280270D1 (de)
FI (1) FI821777A0 (de)
SU (1) SU1367870A3 (de)
YU (1) YU104182A (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0206401A1 (de) * 1985-06-27 1986-12-30 Océ-Nederland B.V. Verfahren zum Vergrössern/Verkleinern eines Halbtonbildes
EP0207548A1 (de) * 1985-06-27 1987-01-07 Océ-Nederland B.V. Verfahren zur Rekonstruktion eines Grautonbildes aus einem Halbtonbild
EP0238034A2 (de) * 1986-03-17 1987-09-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Verfahren zur Umsetzung der Bildelementdichte für Grautonbilder

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6043970A (ja) * 1983-08-22 1985-03-08 Kyodo Printing Co Ltd 網点信号処理装置
US4795602A (en) * 1986-03-19 1989-01-03 Pretchel David A Two pin shunt and molding method
US4930020A (en) * 1986-12-29 1990-05-29 Martin James F Facsimile transmission of photographic images
DE3761072D1 (de) * 1987-01-24 1990-01-04 Hell Rudolf Dr Ing Gmbh Blendenanordnung zur optoelektronischen abtastung von vorlagen.
US4955824A (en) * 1987-04-14 1990-09-11 Pretchel David A Two pin shunt
US4926267A (en) * 1989-05-26 1990-05-15 Nynex Corporation Reproduction of halftone original with reduced moire
IL98004A (en) * 1991-04-30 1997-02-18 Scitex Corp Ltd Apparatus and method for descreening
US5515182A (en) * 1992-08-31 1996-05-07 Howtek, Inc. Rotary scanner
US6320680B1 (en) * 1998-06-18 2001-11-20 Digimarc Corporation Stochastic scanning documents to change moire effects
US8014024B2 (en) * 2005-03-02 2011-09-06 Xerox Corporation Gray balance for a printing system of multiple marking engines
US8203768B2 (en) * 2005-06-30 2012-06-19 Xerox Corporaiton Method and system for processing scanned patches for use in imaging device calibration
US8259369B2 (en) 2005-06-30 2012-09-04 Xerox Corporation Color characterization or calibration targets with noise-dependent patch size or number
US7719716B2 (en) * 2005-11-04 2010-05-18 Xerox Corporation Scanner characterization for printer calibration
US8711435B2 (en) * 2005-11-04 2014-04-29 Xerox Corporation Method for correcting integrating cavity effect for calibration and/or characterization targets
US7826090B2 (en) * 2005-12-21 2010-11-02 Xerox Corporation Method and apparatus for multiple printer calibration using compromise aim
US8102564B2 (en) * 2005-12-22 2012-01-24 Xerox Corporation Method and system for color correction using both spatial correction and printer calibration techniques
EP2009977A3 (de) * 2007-05-09 2011-04-27 FUJIFILM Corporation Elektromagnetische Abschirmschicht und optischer Filter

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3115545A (en) * 1962-09-18 1963-12-24 Radames K H Gebel Grain spacing to light intensity translator for photographic enlargements

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3775559A (en) * 1970-11-12 1973-11-27 Xerox Corp Aperture designs for facsimile scanning apparatus
JPS5597963A (en) * 1979-01-20 1980-07-25 Canon Inc Image forming device
US4336558A (en) * 1980-04-23 1982-06-22 American Hoechst Corp. Imaging system and method with reduced moire interference

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3115545A (en) * 1962-09-18 1963-12-24 Radames K H Gebel Grain spacing to light intensity translator for photographic enlargements

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0206401A1 (de) * 1985-06-27 1986-12-30 Océ-Nederland B.V. Verfahren zum Vergrössern/Verkleinern eines Halbtonbildes
EP0207548A1 (de) * 1985-06-27 1987-01-07 Océ-Nederland B.V. Verfahren zur Rekonstruktion eines Grautonbildes aus einem Halbtonbild
EP0238034A2 (de) * 1986-03-17 1987-09-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Verfahren zur Umsetzung der Bildelementdichte für Grautonbilder
EP0238034A3 (en) * 1986-03-17 1990-02-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Pixel-density conversion technique for continuous-tone image

Also Published As

Publication number Publication date
FI821777A0 (fi) 1982-05-19
SU1367870A3 (ru) 1988-01-15
EP0065281B1 (de) 1990-12-05
US4516175A (en) 1985-05-07
JPS57201232A (en) 1982-12-09
JPH0251172B2 (de) 1990-11-06
EP0065281A3 (en) 1986-03-19
ATE58986T1 (de) 1990-12-15
BR8202982A (pt) 1983-05-03
DE3280270D1 (de) 1991-01-17
YU104182A (en) 1985-06-30
CA1193310A (en) 1985-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0065281B1 (de) Abtastverfahren und Abtastblende zum Unterdrücken von Moiré bei der Abtastung gerasterter Vorlagen
DE69231866T2 (de) Rasterungssystem und Farbreproduktionsverfahren beim Offsetdruck
DE3390498C2 (de) Verfahren zum Abtasten von Rastervorlagen zur Gewinnung von Signalen f}r die Tiefdruckgravur
EP0097724B1 (de) Abtastverfahren und Abtasteinrichtung
DE2621057A1 (de) Vorrichtung zum herstellen einer raster-reproduktion
EP0098319B1 (de) Verfahren und Anordnung zur Kontraststeigerung
DE69809627T2 (de) Strahlenabbildungssystem mit mehrfacher Lichtfleckgrösse und Verfahren
DE69322914T2 (de) Rasterfilter sowie Erzeugungsvorrichtung und -verfahren dafür
DE3501691C2 (de)
EP0276337B1 (de) Blendenanordnung zur optoelektronischen Abtastung von Vorlagen
DE938351C (de) Verfahren zur Herstellung gerasterter Druckformen durch lichtelektrische UEbertragung von Bildvorlagen
DE2627247C2 (de) Scanner zur Aufzeichnung von Halbtonrasterpunkten, die aus linienförmig belichteten Bereichen aufgebaut sind
DE10022225B4 (de) Mehrstufen-Rasterung mit Rastern beliebiger Rasterweiten und Rasterwinkel
DE3521682A1 (de) Verfahren zum abtasten und aufzeichnen von bildern
DE3217752C2 (de) Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der Reproduktionstechnik
CH674585A5 (de)
DE1572868A1 (de) Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen
EP0990343A2 (de) Verfahren zur digitalen rasterung von halbtonbildern mit rastern beliebiger rasterweiten und rasterwinkel
DE4303081C2 (de) Verfahren und Einrichtung zur Belichtungs-Kalibrierung von Aufzeichnungsgeräten
EP0036548B1 (de) Verfahren zum Gravieren von Druckformen
DE102004008074A1 (de) Verfahren und Testform zum Abgleichen der Belichtungsköpfe in einem Belichter für Druckvorlagen
DE19706160A1 (de) Verfahren zur Abtastung von gerasterten Bildvorlagen
EP0305327A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von photographischen Bildern von transparenten Vorlagen
DE2147398A1 (de) Vorrichtung zum Reproduzieren graphischen Materials
EP0753960B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Grautonschablone

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT NL SE

PUAL Search report despatched

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009013

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LI NL SE

17P Request for examination filed

Effective date: 19860212

17Q First examination report despatched

Effective date: 19870626

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LI NL SE

REF Corresponds to:

Ref document number: 58986

Country of ref document: AT

Date of ref document: 19901215

Kind code of ref document: T

ET Fr: translation filed
REF Corresponds to:

Ref document number: 3280270

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19910117

ITF It: translation for a ep patent filed
GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)
PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Payment date: 19910417

Year of fee payment: 10

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Effective date: 19910514

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Payment date: 19920409

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 19920415

Year of fee payment: 11

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: TP

Ref country code: FR

Ref legal event code: CA

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 19920527

Year of fee payment: 11

ITTA It: last paid annual fee
PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Effective date: 19920531

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 19920531

Year of fee payment: 11

BERE Be: lapsed

Owner name: LINOTYPE-HELL A.G.

Effective date: 19920531

BECN Be: change of holder's name

Effective date: 19920422

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Effective date: 19930513

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Effective date: 19930531

Ref country code: CH

Effective date: 19930531

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: 732E

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Effective date: 19931201

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee
PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Effective date: 19940131

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

EUG Se: european patent has lapsed

Ref document number: 82104177.9

Effective date: 19911209

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: 732E

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20000427

Year of fee payment: 19

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20000605

Year of fee payment: 19

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20010513

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20010513

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20020301