DK117649B - Fremgangsmåde og apparat til regulerbar opvarmning af et målmateriale i et højvakuumelektronstråleapparat. - Google Patents

Fremgangsmåde og apparat til regulerbar opvarmning af et målmateriale i et højvakuumelektronstråleapparat.

Info

Publication number
DK117649B
DK117649B DK299966AA DK299966A DK117649B DK 117649 B DK117649 B DK 117649B DK 299966A A DK299966A A DK 299966AA DK 299966 A DK299966 A DK 299966A DK 117649 B DK117649 B DK 117649B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
electron beam
high vacuum
target material
vacuum electron
controllably heating
Prior art date
Application number
DK299966AA
Other languages
Danish (da)
English (en)
Inventor
R Fisk
Original Assignee
Libbey Owens Ford Glass Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Libbey Owens Ford Glass Co filed Critical Libbey Owens Ford Glass Co
Publication of DK117649B publication Critical patent/DK117649B/da

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
DK299966AA 1965-06-11 1966-06-10 Fremgangsmåde og apparat til regulerbar opvarmning af et målmateriale i et højvakuumelektronstråleapparat. DK117649B (da)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US463190A US3394217A (en) 1965-06-11 1965-06-11 Method and apparatus for controlling plural electron beams

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK117649B true DK117649B (da) 1970-05-19

Family

ID=23839207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK299966AA DK117649B (da) 1965-06-11 1966-06-10 Fremgangsmåde og apparat til regulerbar opvarmning af et målmateriale i et højvakuumelektronstråleapparat.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US3394217A (xx)
AT (1) AT278187B (xx)
BE (1) BE681839A (xx)
CH (1) CH452731A (xx)
DE (1) DE1565881B2 (xx)
DK (1) DK117649B (xx)
GB (1) GB1141594A (xx)
LU (1) LU51261A1 (xx)
NL (1) NL6608065A (xx)
NO (1) NO117547B (xx)
SE (1) SE346196B (xx)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3475542A (en) * 1967-09-13 1969-10-28 Air Reduction Apparatus for heating a target in an electron beam furnace
US3535428A (en) * 1968-07-17 1970-10-20 Air Reduction Apparatus for producing and directing an electron beam
FR2244014B1 (xx) * 1973-09-17 1976-10-08 Bosch Gmbh Robert
IT1037702B (it) * 1975-04-29 1979-11-20 Varian Associates Apparecchiatura di rescaldamento e o di evaporazione a fascio elettronico
US3999097A (en) * 1975-06-30 1976-12-21 International Business Machines Corporation Ion implantation apparatus utilizing multiple aperture source plate and single aperture accel-decel system
SU782571A1 (ru) * 1976-05-12 1983-09-23 Институт ядерной физики СО АН СССР Способ радиационной обработки изделий круглого сечени
DD204947A1 (de) * 1982-04-20 1983-12-14 Manfred Neumann Einrichtung zum elektronenstrahlbedampfen breiter baender
US5136171A (en) * 1990-03-02 1992-08-04 Varian Associates, Inc. Charge neutralization apparatus for ion implantation system
DE69111758T2 (de) * 1990-03-02 1995-12-07 Varian Associates Gerät zur aufladungsneutralisierung in einem ionenimplantierungssystem.
JP3275166B2 (ja) * 1997-02-28 2002-04-15 住友重機械工業株式会社 プラズマビームの偏り修正機構を備えた真空成膜装置
US6476340B1 (en) 1999-04-14 2002-11-05 The Boc Group, Inc. Electron beam gun with grounded shield to prevent arc-down and gas bleed to protect the filament

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3046936A (en) * 1958-06-04 1962-07-31 Nat Res Corp Improvement in vacuum coating apparatus comprising an ion trap for the electron gun thereof
US3105275A (en) * 1960-05-27 1963-10-01 Stauffer Chemical Co Electron-beam furnace with double-coil magnetic beam guidance
FR1374335A (fr) * 1962-12-13 1964-10-09 Electronique & Physique Dispositif pour fabriquer une lame en matériau à grande pureté

Also Published As

Publication number Publication date
SE346196B (xx) 1972-06-26
CH452731A (de) 1968-03-15
LU51261A1 (xx) 1966-08-16
AT278187B (de) 1970-01-26
DE1565881B2 (de) 1971-01-21
DE1565881A1 (de) 1970-03-19
US3394217A (en) 1968-07-23
NO117547B (xx) 1969-08-25
GB1141594A (en) 1969-01-29
BE681839A (xx) 1966-10-31
NL6608065A (xx) 1966-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK128824B (da) Fremgangsmåde ved pådampning af materiale på en bærer i et vakuumkammer, og apparat til udøvelse af fremgangsmåden.
DK131396B (da) Apparat til opvarmning og kalcinering af pulverformet materiale.
DK126297B (da) Fremgangsmåde til fremstilling af fiberstave og apparat til udøvelse af fremgangsmåden.
DK146449C (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af bulket og kruset multifilamentgarn
DK132548B (da) Fremgangsmåde og apparat til bøjning af glasplader.
DK116706B (da) Apparat til presning og aflæsning af affald.
DK117649B (da) Fremgangsmåde og apparat til regulerbar opvarmning af et målmateriale i et højvakuumelektronstråleapparat.
DK122700B (da) Fremgangsmåde til opvarmning af et smelteligt materiale ved elektronbombardement og elektronstråleovn til brug ved udøvelse af fremgangsmåden.
DK126603B (da) Fremgangsmåde og apparat til fastgørelse af rørledninger.
DK130797B (da) Fremgangsmåde til påføring af en belægning under vakuum på fladeformet materiale ved katodisk fordampning af et materiale og apparat til brug ved udøvelse af fremgangsmåden.
DK111507B (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af planglas i båndform.
DK131338B (da) Fremgangsmåde og apparat til oparbejdning af mineralske materialer, som kan blødgøres ved hjælp af varme.
DK135876B (da) Fremgangsmåde og apparat til frembringelse af en afbrydelse i en lynlås-bane.
DK120654B (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af planglas.
DK131062B (da) Apparat til afkøling af et i et ovnsystem brændt materiale.
DK135893B (da) Fremgangsmåde til fremstilling af konstruktionsmaterialer og apparat til udøvelse af fremgangsmåden.
DK108033C (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af planglas.
DK123815B (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af planglas.
DK121259B (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af hullegemer af termoplastisk materiale ved blæsning.
DK122444B (da) Fremgangsmåde og apparat til udligning af længdeændringer i materialebaner.
DK119892B (da) Fremgangsmåde til brænding af keramiske materialer i en tunnelovn og tunnelovn til anvendelse ved fremgangsmåden.
DK127585B (da) Fremgangsmåde til fremstilling af en formet genstand ud fra et fibrøst materiale og et partikelformet fast bindemiddel samt apparat til udøvelse af fremgangsmåden.
DK115001B (da) Fremgangsmåde og apparat til udglødning af en glasplade.
DK130665B (da) Fremgangsmåde og apparat til bestemmelse af pulveriseret, fast materiales finhed.
DK114749B (da) Apparat til omlæsning af granuleret materiale.