DE919309C - Photoleitfaehiger Schirm fuer Kathodenstrahlroehren - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf photoleitfähige Schirmelektroden für Elektronenröhren und auf Verfahren zu ihrer Herstellung.

Fernsehkameraröhren unter Verwendung von photoleitfähigen Schirmen sind unter der Bezeichnung Vidicon bekannt und in einem Aufsatz im Maiheft 1950, S. 70ff., der Zeitschrift »Electronics Magazine« beschrieben.

Bei photoleitfähigen Materialien kommt es für ίο ihre Verwendung auf Schirmen von Vidiconröhren unter anderem auf die Empfindlichkeit, auf den Dunkelwiderstand, auf die Nachwirkung, auf die Lebensdauer und auf die Stromausbeute bei Belichtung an.

Die Empfindlichkeit betrifft die Frage, wie weit das Material bei Belichtung leitfähig wird. Dabei wird die Empfindlichkeit in Mikroampere des Videoausgangsstroms je Lumen der Schirmbelichtung gemessen.

Der Dunkelwiderstand bezieht sich auf diejenige Eigenschaft des photoleitfähigen Materials, durch welche das Material befähigt wird, eine elektrische Ladung an einer gegebenen Stelle zu speichern, ohne daß sich bei dunklem Schirm die Ladung zwischen der Vorderfläche und der Rückseite des Schirms ausgleicht. Von dem Dunkelwiderstand des Schirmmaterials hängt sein Dunkelstrom ab, d. h. derjenige Strom, welcher durch das Material zwischen zwei mit Spannung beschickten Elektroden hindurchfließt, solange der Schirm nicht belichtet ist.

Die Nachwirkung betrifft die Geschwindigkeit des Ansprechens des Schirms bei Belichtungsänderungen,

d. h. die Fähigkeit des Schirms, ein Signal, welches einen Schatten oder eine Lichtspur wiedergibt, in einer gegebenen Zeitspanne zu verlieren. Die Nachwirkungsprobleme werden dann wichtig, wenn ein farbiges Objekt vor einem dunklen Hintergrund ferngesehen werden soll.

Die Lebensdauer bezieht sich auf die zu erwartende Betriebsstundenzahl eines Schirms und auf seine Haltbarkeit bei der Handhabung usw. Die Stromausbeute bei Belichtung gibt die Größe des Belichtungsunterschiedes an, welche innerhalb gegebener Grenzen des Ausgangsstromes untergebracht werden kann.

Ein Zweck der Erfindung ist, einen photoleitfähigen ¹S Schirm für eine Elektronenröhre zu schaffen, der große Empfindlichkeit, hohen Dunkelwiderstand, geringe Nachwirkung, große Lebensdauer und einen großen Lichtaussteuerbereich für gegebene Stromgrenzen besitzt und ferner mechanisch stabil ist und eine dem menschlichen Auge besser nahekommende Spektralempfindlichkeit besitzt als die bisherigen Schirme.

Ferner bezieht sich die Erfindung auch auf Herstellungsverfahren für solche Schirme. Gemäß der Erfindung lassen sich diese und ähnliche Vorteile dadurch erreichen, daß ein lichtempfindlicher Schirm für eine Elektronenröhre mit einer Schicht von rotem Antimontrisulfid versehen wird, welche auf diesen Schirm aufgedampft wird. Von H.Miller und J. W. Strange sind in einer Arbeit .»Electrical Reproduction of Images by the Photo-conductive Effect« in der Zeitschrift .'.'Proceedings of the Physical Society«, 1938, Bd. 50, S. 374, Versuche mit verschiedenen photoleitfähigen Materialien beschrieben worden. Dort wurde die kristalline Form von rotem Antimontrisulfid auf chemischem Wege auf einer leitfähigen Fläche niedergeschlagen, und es wurde berichtet, daß bei schwachem rotem und infrarotem Licht ziemlich starke Signale aufgetreten seien.¹ Jedoch sind Schirme nach diesem Herstellungsverfahren für die praktische Benutzung ungeeignet.

Fig. ι ist ein Längsschnitt durch eine Einrichtung zur erfindungsgemäßen Herstellung photoleitfähiger Schirme für eine Kathodenstrahlröhre;

Fig. 2 ist eine schematische Aufsicht einer Kathodenstrahlaufnahmeröhre, deren Schirm während des Entgasungsvorganges in der erfindungsgemäßen Weise gekühlt wird;

Fig. 3 zeigt die Abhängigkeit des Signalstromes von der Belichtung bei einem photoleitfähigen Schirm, der gemäß der Erfindung hergestellt ist; Fig. 4 zeigt eine Aufsieht auf einen mit rotem

Antimontrisulfid überzogenen photoleitfähigen Schirm, der in hohem Vakuum hergestellt ist, und

Fig. 5 eine Aufsicht auf einen solchen, aber in ausgesprochen schlechtem Vakuum hergestellten Schirm.

Die Einrichtung in Fig. 1 zeigt ein demontierbares Vakuumgefäß 11, welches aus einer Glasglocke 13 besteht, die auf einer ebenen Grundplatte 15 ruht. Die Grundplatte 15 ist mit einer Einführung 17 versehen, durch welche ein Rohr 19, das an eine Pumpenanordnung 21 angeschlossen ist, hindurchläuft. Die Grundplatte 15 ist außerdem mit einer Mehrzahl von vakuumdichten elektrischen Klemmen 23, 23', 24, 24', 25, 25' versehen. Diese Klemmen ermöglichen die Einführung elektrischer Ströme in das Innere der Vakuumkammer 11.

Auf der Grundplatte 15 liegt innerhalb der Glasglocke 13 noch ein Körper 27 auf, auf dem der Röhrenkolben 29 ruht, auf dessen Stirnfläche 31 das photoleitfähige Material 33 aufgedampft wird. Das rote Antimontrisulfid, welches zur Herstellung der Schicht oder des Überzugs 33 verdampft werden soll, ist in einem Behälter 35 enthalten, der durch Aufwickeln eines Wolframdrahtes in konisch-spiraliger Form hergestellt und mit Aluminiumoxyd überzogen ist. Die Drahtenden werden zur Verbindung mit dem Außenraum der Evakuierungskammer an die Klemmen 25 und 25' auf der Grundplatte 15 angeschlossen. Mittels der Hülsen 37 aus Isoliermaterial wird ein Kurzschluß zwischen diesen Zuführungsdrähten und einer zylindrischen metallischen Abschirmung 39 verhindert, die während des Verdampfungsprozesses in den Röhrenkolben eingesetzt ist, um einen Niederschlag des photoleitfähigen Materials an anderen Stellen als der Stirnwand 31 zu verhindern. Eine zusätzliche Heizspule 41 ist an der Außenseite des Kolbens 29, und zwar nahe an der zu bedampfenden Stirnwand, angebracht. Der Speisestrom für diese Spule 41 fließt über die Klemmen 23 und 23'.

Antimontrisulfidschirme gemäß der Erfindung können entweder unmittelbar auf der gläsernen Stirnwand des Röhrenkolbens angebracht werden oder werden auf eine getrennte lichtdurchlässige Scheibe aufgedampft, wobei auf der Stirnwand oder der Scheibe vorher noch eine elektrisch leitfähige Schicht angebracht wird. Die Erfindung wird im folgenden für den Fall der Aufdampfung auf die Stirnwand des Röhrenkolbens beschrieben.

Zunächst erhält der Röhrenkolben 29 aus Glas einen transparenten, elektrisch leitfähigen Überzug 43 aus einem Material wie die Zinnverbindung, welche von der Pittsburg Plate Glass Company unter dem Handelsnamen NESA geliefert wird. Der Überzug 43 stellt eine elektrische Verbindung mit dem leitfähigen Ring 45 her, der durch die Wand des Kolbens hindurchläuft. Als ein weiterer vorbereitender Verfahrensschritt wird der Kolben 29 und die Teile, welche später einen Bestandteil der fertigen Röhre darstellen oder die zu ihrer Herstellung benutzt werden, zur Austreibung okkludierter Gase auf 450⁰ C erhitzt.

Nach dieser Vorerhitzung wird der Glaskolben 29 vertikal in der Evakuierungskammer n angebracht, liegt dabei auf dem Körper 27 auf, durch den die Leitung 19 hindurchtritt. Zwischen den Körper 27 und den Glaskolben 29 wird dabei noch ein metallischer Hilfsring 47 eingefügt, der die genaue Höhenlage der Stirnwand 31 innerhalb der Glasglocke 13 bestimmt und daher auch den Abstand zwischen dieser Stirnwand und dem Gefäß 35 für das zu verdampfende Antimontrisulfid. Durch geeignete Wahl der Dicke des Ringes 47 läßt sich der Abstand zwischen dem Gefäß 35 und der Stirnwand 31 ein-

stellen, so daß man Schirme von geeigneter Schichtdicke und gleichmäßiger Materialverteilung, die nicht abblättern, erhalten kann. Mit Abständen von etwa 32 mm zwischen der Stirnwand und dem Gefäß 35 haben sich gute Schirme ergeben.

Nachdem der Kolben 29 in die Glasglocke 13 eingebaut ist, wird die Kammer 11 evakuiert.

Sodann wird den Klemmen 23 und 23', an welche die Heizwicklung 41 angeschlossen ist, Strom zugeführt. Dieser Heizstrom bringt die Stirnwand 31 etwa auf 50⁰ C. Diese Vorheizung der gläsernen Stirnwand geschieht aus zwei Gründen. Der erste Grund ist der, daß durch die Heizung die Stirnwand gereinigt wird und der aufzudampfende Überzug fester an ihr haften kann. Der zweite Grund besteht darin, daß durch die Heizung ein Abblättern der Schicht wegen der Verschiedenheiten der Glasplatte 31 und des Antimontrisulfidüberzuges 33 hinsichtlich ihrer Expansion und Kontraktion verhindert wird. ao Bei geeigneter Vorheizung der Stirnwand 31 und bei sorgfältiger Kontrolle der Temperatur während der Verdampfung und während der Fertigstellung der Röhre kann man ungleiche Expansion und Kontraktionen und somit ein Abblättern der Schicht vermeiden. So hat es sich z. B. bewährt, die Stirnwand 31 vor der Aufdampfung auf etwa 50° C zu erhitzen und die Temperatur im Verlauf des Aufdampfprozesses nicht über 6o° C ansteigen zu lassen, um ein gutes Haften der aufgedampften Schicht auf der Stirnwand zu erhalten und ein nachträgliches Abblättern zu vermeiden. (Ein weiteres Hilfsmittel zur Verhinderung des Abblätterns ist die Vorerhitzung auf 450⁰ C, die oben bereits erwähnt wurde. Hierdurch wird eine feste Bindung zwischen dem aufgedampften Material und dem leitfähigen Film erreicht.)

Die Temperatur der Stirnwand und der zum Aufdampfen dienenden Bestandteile kann mittels eines Thermokreuzes 32, welches mittels eines Ringes 34 an den Kolben 29 am Stirnende angedrückt wird, gemessen werden. Die Zuführungsleitungen für das Thermokreuz 32 laufen über die Einführungsstellen 24 und 24' zu einem Temperaturmeßinstrument.

Nachdem die Glasplatte 31 auf eine Temperatur von 50° C gebracht ist, wird der Heizstrom für die Hilfsspule 41 abgestellt und den Klemmen 25 und 25' der Heizstrom für das Gefäß 35 zugeführt, so daß der Verdampfungsprozeß beginnt. Die Verdampfung wird so lange fortgesetzt, bis die Schicht 33 aus Antimontrisulfid, welches sich auf der Stirnwand 31 kondensiert, die geeignete Dicke angenommen hat.

Die Dicke dieser Schicht hängt von zwei Faktoren ab. Sie muß nämlich erstens dünn genug sein, um noch transparent zu bleiben, und zweitens dick genug, um Nachwirkungserscheinungen zu vermeiden.

Die Nachwirkung eines Schirms, die oben als die Geschwindigkeit des Ansprechens auf Belichtungsänderungen definiert ist, rührt von zwei verschiedenen Erscheinungen her. Es existiert nämlich einerseits eine für verschiedene photoleitfähige Materialien verschieden große Nachwirkung (Materialnachwirkung) und andererseits eine kapazitive Nachwirkung, welches auf die Kapazität jedes einzelnen Schirms zurückzuführen ist und eine Funktion der Schirmfläche, der Dicke und der Dielektrizitätskonstanten des Schirms nach der Formel

C =

0,0885 KA

ist, worin C die Kapazität in Mikromikrofarad bedeutet, K die Dielektrizitätskonstante des Schirmmaterials, A die Größe der Schirmfläche und d die Schirmdicke in Zentimeter.

Die kapazitive Nachwirkung wird durch zwei weitere Faktoren beeinflußt, welche mit der Kapazität des Schirms zusammenhängen. Diese sind die Menge der Ladung, welche auf dem Schirm ohne Belichtung gespeichert wird, und ferner der Grad, bis zu welchem diese Ladung durch den Schirm abfließt und sich bei Belichtung vermindert. Die auf dem Schirm gespeicherte Ladung hängt von der Stromdichte des Kathodenstrahls ab, der die Ladung erzeugt, und kann durch die Formel Q = IT ausgedrückt werden, in welcher Q die Ladung, I der Strom des abtastenden Kathodenstrahls und T die Dauer einer vollen Abtastung des Schirms, d. h. die Bilddauer ist. Wenn, wie in den bekannten Vidiconkameraröhren, der abtastende Elektronenstrahl einen Strom von annähernd 0,1 Mikroampere besitzt und die Bilddauer ^(,Sekunde beträgt, so ist die während einer Bilddauer gespeicherte Ladung ¹Z₃₀ · io~⁷ oder annähernd 3 · io~⁹ Coulomb. Wenn Licht auf den Schirm geworfen wird, wird dieser elektrisch leitfähig, und die abgetastete Oberfläche der photoleitfähigen Schicht nähert sich in ihrem Potential ungefähr um 1 Volt dem Potential der anderen Seite der photoleitfähigen Schicht an, die in Berührung mit dem leitfähigen Film steht.

Wenn der Elektronenstrahl das nächste Bild abtastet, wird das ursprünglich vorhandene Potential wiederhergestellt. Diese Wiederherstellung des ursprünglichen Potentials ruft einen Elektronenstrom durch den Ausgangswiderstand nach dem leitfähigen Film hervor und erzeugt daher ein Ausgangssignal. Wenn der abtastende Elektronenstrahl nicht genügend Strom führt, um die verlorengegangene Ladung zu ersetzen, oder wenn die Kapazität des Schirms den Ersatz dieser Ladung innerhalb einer Bildabtastdauer verhindert, entsteht im Ausgangskreis nach Verschwinden des Schirmlichtes noch während mehrerer Bildabtastungen ein Signal. Dieses erscheint als ein schattenhaftes Nachbild auf den Fernsehempfängern.

Wie oben erläutert, liefert der Elektronenstrahl in einem üblichen Vidicon ungefähr 3 · 10 ~~⁹ Coulomb elektrischer Ladung innerhalb der Bildabtastdauer von ¹I₃₀ Sekunde. Wenn man mit Q die Ladung in Coulomb, mit C die Kapazität in Farad und mit E die Spannung in Volt bezeichnet, so gilt Q = CE oder

C = ~. Wenn man in diese Gleichung die bereits oben angegebenen Werte einsetzt, so erhält man C = = 3 . _I0-⁹ Farad. Dies bedeutet, daß

ein ideal empfindlicher Schirm ohne sichtbare Nachwirkung eine Kapazität von etwa 3 · 10~⁹ Farad iss oder 3000 Mikromikrofarad besitzen würde.

Zur Umwandlung dieses Kapazitätswertes in die Bestimmungsgrößen des Schirms wird die schon

obenerwähnte Formel C = ——- benutzt.

dt Wenn C (gewünschte Kapazität in Mikromikrofarad) = 3000 Mikromikrofarad, K (Dielektrizitätskonstante von rotem Antimontrisulfid) = 10 und A (Fläche der photoleitfähigen Schicht) = 3 cm² (unter der Annahme eines Schirms von etwa 2 cm Durchmesser), so wird d {die Dicke des Dielektrikums, d. h. der photoleitfähigen Schicht)

0,0885 KA 0,0885 · 10 · 3

= 0,000885 cm.

C 3000

Diese mathematische Untersuchung liefert auch ein Verfahren zur theoretischen Bestimmung der optimalen Schirmdicke. Es haben sich jedoch Schirme von 0,00025^cm Dicke mit einer Kapazität von 4000 Mikromikrofarad für viele Zwecke bewährt. Die Dicke des Schirms kann nach verschiedenen Methoden gemessen werden. Eine rohe Annäherung gibt die Messung der Verdampfungsdauer. Dabei liefert eine Verdampfungsdauer von etwa ¹Z₂ Stunde einen Schirm von geeigneter Dicke. Ein anderes Verfahren zur Bestimmung der geeigneten Schirmdicke ist die Zählung der Interferenzringe während der Bildung der aufgedampften Schicht bei Belichtung durch monochromatisches Licht, z. B. mit einer Natriumlampe. Ferner kann man auch einen schon früher hergestellten Schirm von zufriedenstellender Dicke als Vergleichsobjekt benutzen und die Dichten mittels paralleler Lichtstrahlen vergleichen. Wenn während des Aufdampfprozesses der Schirm dieselbe optische Dichte wie der Vergleichsschirm angenommen hat, so wird der Aufdampfprozeß beendet.

Nachdem der Strom zu dem Verdampfergefäß 35 abgeschaltet ist, läßt man die ganze Anordnung auf Zimmertemperatur abkühlen. Dies dauert gewöhnlich V₄ bis ¹Z₂ Stunde. Dabei muß während des Abkühlungsprozesses noch mit einer nachträglichen Vergrößerung der Schirmdicke gerechnet werden. Da nämlich nach der Abschaltung des Heizstromes für das Verdampfergefäß 35 dieses sich nur langsam abkühlt, findet noch eine gewisse Aufdampfung von Schirmmaterial statt. Daher wird am besten der Strom vom Gefäß 35 schon kurz vor der Erreichung der gewünschten Dicke der Schicht 33 abgeschaltet. Es sei bemerkt, daß bei dem beschriebenen Herstellungsverfahren keine Zerstörung des Vakuums zwischen der anfänglichen Heizung der Stirnwand 31 und der nachfolgenden Aufdampfung der photoleitfähigen Schicht 33 stattfindet. Die Verdampfungstemperatur wird mit Hilfe eines stromabhängigen Widerstandes in der Speiseleitung des Gefäßes 35 beeinflußt.

Nachdem die Stirnwand 31 und die aufgedampfte Schicht 33 sieh nahezu auf Raumtemperatur abgekühlt haben, wird für die weitere Herstellung der Kolben 29 aus dem Vakuumgefäß entfernt. Es wird sodann eine Drahtnetzelektrode 49 in den Kolben eingesetzt und mit einem leitenden Ring 51 verschmolzen, der durch die Wand des Kolbens hindurchläuft (vgl. auch Fig. 2).

Anschließend wird der Elektronenstrahlerzeuger 53 in den Kolben eingesetzt und dieser darauf zum Abschmelzen auf eine Vakuumpumpe aufgesetzt. Während dieses Teils des Herstellungsverfahrens wird eine Hochfrequenzspule 55 über den Kolben gestülpt, so daß sie den Elektronenstrahlerzeuger 53 umschließt und die ganze Röhre während I¹Z₂ Stunden bei einer Temperatur von etwa 150 bis 175° C ausgeheizt. Dabei muß jedoch darauf geachtet werden, daß der photoleitfähige Film 33 aus rotem Antimontrisulfid keiner Temperatur von mehr als 225° C ausgesetzt wird, damit er sich nicht in das unerwünschte schwarze Antimontrisulfid umwandelt. Um die Stirnwand genügend zu kühlen und gleichzeitig den Elektronenstrahlerzeuger in einer für die Entgasung ausreichenden Weise zu heizen, wird der Schirm mittels eines Gebläses 57 angeblasen.

Es ist bisher noch nicht von der Höhe des Vakuums während des Verdampfungsprozesses die Rede gewesen, obwohl die Höhe des Vakuums eine wichtige Rolle spielt. Wenn ein hohes Vakuum entsprechend einem absoluten Druck von io~⁵ mm Quecksilber oder weniger benutzt wird, so erhält man Schirme mit glatter glänzender Oberfläche, wie in Fig. 4 dargestellt. Solche Schirme ergaben eine viel bessere Empfindlichkeit als die bisher benutzten bekannten Schirme. Empfindlichkeiten von mehreren tausend Mikroampere je Lumen sind beobachtet worden, und eine Empfindlichkeit von mehreren hundert Mikroampere je Lumen stellt den Normalfall dar. Diese Schirme zeigten eine Lebensdauer von mehreren tausend Stunden bei Temperaturen, die noch oberhalb der im normalen Fernsehkamerabetrieb auftretenden Werte lagen. Der Dunkelwiderstand und die Nachwirkung waren ebenfalls zufriedenstellend.

Wie in Fig. 3 dargestellt, zeigen diese Schirme auch eine annähernd nach einer Quadratwurzel verlaufende Abhängigkeit des Stromes von der Belichtung. Während ein Material mit einer linearen Abhängigkeit (Kurve A) nur wenig mehr als drei Einheiten der Lichtintensität innerhalb des Zehntel Mikroampere zwischen 0,15 und 0,25 Mikroampere verarbeiten kann, kann ein Schirm, der gemäß der Erfindung hergestellt ist (Kurve B), nicht weniger als sechzehn solche Einheiten verarbeiten. Praktisch bedeutet dies, daß die erfindungsgemäßen Schirme viel feinere Lichtabstufungen für die Fernsehübertragung liefern. Wenn jedoch das Vakuum schlecht ist und mit absoluten Drücken oberhalb 10- ^x mm Quecksilber gearbeitet wird, so zeigt die aufgedampfte Schicht 33 ganz andere physikalische und elektrische Eigenschäften, nämlich einen besseren Dunkelwiderstand und geringere Nachwirkung, als wenn dasselbe Material bei hohem Vakuum aufgedampft wird. Der Grad des Vakuums läßt sich, wie in Fig. 1 bei 60 dargestellt, mittels eines Vakuummeters 61 in einer Abzweigleitung 63 messen.

Ein roter Antimontrisulfidschirm, der in einem derartigen schlechten Vakuum hergestellt ist, zeigt eine matte. Oberfläche, wie in Fig. 5 dargestellt. Der Ausdruck matt soll veranschaulichen, daß der Schirm ein dunkles und rauchiges Aussehen hat,

Claims (10)

welches im starken Gegensatz zu der glatten und glänzenden Oberfläche steht, wie bei der Verdampfung desselben Materials in einem höheren Vakuum auftritt. Die bei schlechtem Vakuum erhaltene Oberfläche kann auch als schwammig zum Unterschied von der im hohen Vakuum erhaltenen harten Oberfläche bezeichnet werden. Die matte Oberfläche läßt sich leicht abreiben, d. h. sie kann von ihrer Unterlage abgewischt werden, ίο haftet aber immerhin noch so fest an der Unterlage, daß keine Schwierigkeiten bei der Handhabung oder bei der Benutzung auftreten. Obwohl diese matten Schirme dunkel aussehen, erzeugen sie keine Kornstruktur im fernübertragenen Bild, wenn man sie in einer Fernsehaufnahmeröhre verwendet. Eine weitere erstrebenswerte Eigenschaft von in schlechtem Vakuum hergestellten Schirmen ist, daß viel dickere Schichten ohne die Gefahr des Abblätterns erhalten werden können als bei den glänzenden Schirmen im Hochvakuum. Dies ist dann wichtig, wenn dicke Schirme gewünscht werden, um die kapazitive Nachwirkung zu vermeiden. Eine Zunahme des Dunkelwiderstandes um io2 und io3 gegenüber den glänzenden Schirmen aus rotem Antimontrisulfid hat sich bei den matten Schirmen beobachten lassen. Ferner zeigte sich auch, daß die matten Schirme auf plötzliche Lichtänderungen erheblich besser ansprachen, d. h. daß die Materialnachwirkung geringer war. Die Empfindlichkeit der matten Oberflächen ist etwas schlechter als die der glatten Schirme, reicht aber für die meisten Bedürfnisse beim Fernsehen völlig aus. Es sind auch Schirme bei verschieden hohem Vakuum von mehr als io~x mm Quecksilber absoluten Druckes mit sehr zufriedenstellenden Ergebnissen bei ι mm hergestellt worden. PaTENTAHSPRÜCHEs

1. Lichtempfindliches Element für Elektronenröhren, gekennzeichnet durch eine aufgedampfte Schicht aus rotem Antimontrisulfid.

2. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus rotem Antimontrisulfid sich in innigem Kontakt mit einem leitfähigen transparenten Überzug auf einer transparenten Unterlage befindet.

3. Element nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Antimontrisulfidschicht stärker ist als 2,54 · 10-⁴ cm.

4. Element nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Fläche und die Dicke dieser Schicht so bemessen sind, daß die Kapazität der Schicht weniger' als 4000 Mikromikrofarad beträgt.

5. Element nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht-

0,0885

dicke d nach der Formel d =

be-

messen ist, in der K die Dielektrizitätskonstante von rotem Antimontrisulfid ist, A die Fläche der Schicht in Quadratzentimeter und C die gewünschte Kapazität in Mikromikrofarad. .

6. Element nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht ein mattes oder schwammiges Aussehen hat.

7. Verfahren zur Herstellung eines Elementes nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch Aufdampfen einer Schicht aus rotem Antimontrisulfid unter Luftabschluß bei einem absoluten Druck von mehr als io-¹ mm Hg.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufdampfung bei einem absoluten Druck von etwa 1 mm Hg geschieht.

9. Verfahren zur Herstellung eines Elementes nach Anspruch 2, bei welchem das Element auf einem gläsernen Träger angebracht ist, der einen leitfähigen Überzug besitzt, gekennzeichnet durch Verbringung des überzogenen Glaskörpers in ein Vakuum, durch Heizung des Glaskörpers auf etwa 50⁰ C und durch Aufdampfung von rotem Antimontrisulfid, während der Glaskörper auf einer Temperatur von unter 6o° C gehalten wird.

10. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß das rote Antimontrisulfid in einem Gefäß in einem gewissen Abstand von der zu bedampfenden Fläche angebracht wird, daß die Umgebung unter Vakuum gesetzt wird und das Antimontrisulfidgefäß erhitzt wird, bis sich eine Schicht von der gewünschten Dicke auf der zu bedampfenden Fläche gebildet hat.

374ff.J

Zeitschrift »Electronics«, Mai-Heft 1950, S. 7off.

Angezogene Druckschriften:

Proceedings of the Physical Society, 1938, Bd. 50,

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

I $55S 10.