DE69916925T2

DE69916925T2 - Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von positiv arbeitenden Druckplatten

Info

Publication number: DE69916925T2
Application number: DE69916925T
Authority: DE
Inventors: Eric Verschueren; Peter Geerts
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1998-04-15
Filing date: 1999-02-23
Publication date: 2005-04-28
Anticipated expiration: 2019-02-24
Also published as: DE69916925D1; JP2000131830A

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit einer IR-empfindlichen Deckschicht.
Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit einem besseren vertikalen Transport.
ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.
Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.
Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weit verbreitet eingesetzt.
Während der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.
Es sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung in den belichteten Bereichen löslich gemacht wird. Während der darauf folgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.
Die obenbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise ist zwar umständlich und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.
Es sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines fotografischen Films im obenbeschriebenen Verfahren verzichten zu können und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu reproduzierende Bild verkörpernden Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung. Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer Silberhalogenidschicht zu überziehen. Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer vollflächigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt. Solch ein Verfahren ist beispielsweise in JP-A 60-61 752 beschrieben, beinhaltet jedoch den Nachteil, dass eine komplexe Entwicklung und zugehörige Entwicklerflüssigkeiten benötigt werden.
In GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht oder eine Ruß enthaltende Schicht auf eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Diese Metallschicht wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren beinhaltet aber noch immer den Nachteil, dass die Bildmaske auf umständlichem Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden muss.
Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, dass sie vor Licht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit problematisch und weisen sie ein niedrigeres Auflösungsvermögen auf. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorstufen ab.
So beschreibt zum Beispiel Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem Infrarotlicht absorbierenden Pigment wie z. B. Ruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.
Die US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht – sichtbarem Licht – oder IR-Strahlung und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wässrig-alkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728, jedoch mit dem Unterschied, dass sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden, gegenüber Infrarotlaserlicht empfindlichen Bilderzeugungselements offenbart. Die IR-empfindliche Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
In EP-A 678 380 wird ferner ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht auf einen gekörnten Metallträger unter einer laserablatierbaren Oberflächenschicht angebracht wird. Bei bildmäßiger Belichtung wird die Oberflächenschicht zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert. Die Druckplatte wird anschließend mit einer Reinigungslösung verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch die hydrophile Oberflächenschicht freizulegen.
In EP-A 823 327 wird eine positive strahlungsempfindliche Zusammensetzung mit einem Unterschied in Löslichkeit in einem alkalischen Entwickler zwischen einem belichteten und nicht- belichteten Bereich offenbart, wobei die Zusammensetzung als den Unterschied in Löslichkeit bewirkende Komponenten (a) ein fotothermisches Umwandlungsmaterial und (b) eine hochmolekulare Verbindung enthält, deren Löslichkeit in einem alkalischen Entwickler vorwiegend durch eine andere Änderung als eine chemische Änderung änderbar ist.
In EP-A 830 941 wird ein wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial offenbart, das auf einem biegsamen Träger mit einer oleophilen Oberfläche (i) eine Aufzeichnungsschicht mit einer Licht in Wärme umwandelnden Substanz, die Strahlung in Wärme umzuwandeln vermag, und (ii) eine oleophobe Oberflächenschicht enthält, wobei die oleophobe Oberflächenschicht und die Aufzeichnungsschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch gekennzeichnet, dass der kinetische Reibungskoeffizient des Materials nicht mehr als 2,6 beträgt, wenn eine Seite des Materials über die andere Seite des Materials gleitet.
In FR-A 1 561 957 wird ein Verfahren zur Aufzeichnung oder Wiedergabe von Information offenbart, gekennzeichnet durch den Schritt, in dem ein gegenüber elektromagnetischer Strahlung empfindliches Aufzeichnungsmaterial informationsmäßig belichtet wird, wobei dieses Aufzeichnungsmaterial zumindest eine ein Bindemittel und eine im Bindemittel dispergierte Flüssigkeit und/oder feste Substanz enthaltende Aufzeichnungsschicht enthält, wobei die Flüssigkeit und/oder die feste Substanz hydrophober ist (sind) als das Bindemittel und bei Erwärmung zumindest zum Teil ein vereinbares Gemisch mit dem Bindemittel bildet (bilden), wobei die Lichtdurchlässigkeit des Gemisches im Vergleich zur Dispersion vor der Erwärmung zugenommen ist und wobei dieses Aufzeichnungsmaterial ferner eine Verbindung, die Licht in Wärme umzuwandeln vermag, enthält.
Aus EP-A 0 830 941 ist ein driografisches Druckplattenmaterial bekannt, enthaltend einen oleophilen Träger, eine gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Bildaufzeichnungsschicht und eine oleophobe Oberflächenschicht, deren kinetischer Reibungskoeffizient zwischen der Oberflächenschicht und der Rückseitenbeschichtung nicht mehr als 2,6 beträgt.
AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit einem breiten Entwicklungsspielraum bereitzustellen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit hohem Auflösungsvermögen bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit verbesserten Eigenschaften in Bezug auf den vertikalen Transport bereitzustellen.
Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.
KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar ist für einen alkalischen Entwickler, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht eine Verbindung enthält, die einen Anstieg des dynamischen Reibungskoeffizienten der Deckschicht auf einen Wert zwischen 0,40 und 0,80 bewirkt.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Die Deckschicht wird ebenfalls als zweite Schicht bezeichnet.
Der dynamische oder kinetische Reibungskoeffizient (μ_k) wird nach der Norm ASTM D1894 gemessen, wobei die wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien so angeordnet werden, dass die Vorderseite des Materials in Kontakt mit rostfreiem Stahl steht. Unter Vorderseite versteht sich die Seite des Materials, die, bezogen auf den biegsamen Träger, die Deckschicht Trägt.
Eine geeignete Verbindung zur Steigerung des dynamischen Reibungskoeffizienten zwischen 0,40 und 0,80 ist ein Polytetrafluorethylen-Polyethylen-Copolymer. Andere geeignete Verbindungen sind wasserunlösliche anorganische Verbindungen mit dreidimensionaler Struktur mit dreidimensional verzweigten Siloxanbindungen und an einer organischen Gruppe, z. B. einer Methylgruppe, gebundenen Siliciumatomen. Letztere Substanzen sind erhältlich unter dem Handelsnamen TOSPEARL^TM (eingetragenes Warenzeichen von Toshiba, Japan). Weitere geeignete Verbindungen sind Kieselerdeteilchen, hydrophobe Keramik, die vorzugsweise zusätzlichen Kieselerdeteilchen oder Orthosilikaten beigemischt wird, Bariumsulfat und Mattierungsteilchen aus Silikonen. Der mittlere Durchmesser der Teilchen liegt vorzugsweise zwischen 0,3 μm und 50 μm. Die Verbindungen werden vorzugsweise in einer Menge zwischen 10 und 800 mg/m², besonders bevorzugt zwischen 20 und 400 mg/m² verwendet.
In einer ersten Ausführungsform sind die erste Schicht und die Deckschicht unterschiedliche Schichten. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung lithografischer Druckplatten bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine gegenüber IR-Strahlung empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar ist für einen alkalischen Entwickler.
Die erfindungsgemäße Deckschicht enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein Bindeharz. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt aber wird der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Bevorzugt als IR-Farbstoffe werden IR-Cyaninfarbstoffe. Besonders nutzbare IR-Cyaninfarbstoffe sind Cyaninfarbstoffe mit zumindest zwei Säuregruppen, besonders bevorzugt zumindest zwei Sulfonsäuregruppen. Besonders bevorzugt werden Cyaninfarbstoffe mit zwei Indolenin- und zumindest zwei Sulfonsäuregruppen. Ganz besonders bevorzugt wird Verbindung I der folgenden Struktur:
Besonders nutzbare IR-absorbierende Pigmente sind Russ, Metallcarbide, Metallboride, Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch ohne den A-Bestandteil, z. B. WO_2,9. Es können gleichfalls leitfähige polymere Dispersionen benutzt werden, wie leitfähige polymere Dispersionen auf der Basis von Polypyrrol oder Polyanilin. Die erzielte lithografische Leistung und insbesondere die erzielte Auflagenfestigkeit hängen von der Wärmeempfindlichkeit des Bilderzeugungselements ab. In dieser Hinsicht hat es sich herausgestellt, dass mit Russ sehr gute und günstige Ergebnisse erzielbar sind.
Der Anteil der IR-absorbierenden Farbstoffe oder Pigmente liegt vorzugsweise zwischen 1 und 99 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 50 und 95 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht.
Die Deckschicht kann vorzugsweise als Bindemittel ein wasserunlösliches Polymer wie einen Celluloseester, ein Copolymer aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Silikonharze usw. enthalten. Bevorzugt als Bindemittel wird Nitrocelluloseharz.
Die Gesamtmenge der Deckschicht variiert vorzugsweise zwischen 0,05 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,1 und 2 g/m².
In der Deckschicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einer wässrig-alkalischen Lösung, in diesem Falle im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler, bewirkt.
In der vorliegenden Erfindung wird die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit während der bildmäßigen IR-Belichtung dermaßen erhöht, dass die bebilderten Teile während der Entwicklung entfernt werden, ohne die nicht-bebilderten Teile zu solubilisieren und/oder zu beschädigen.
Die Entwicklung mit der wässrig-alkalischen Lösung erfolgt vorzugsweise innerhalb eines Zeitraums zwischen 5 und 120 s.
Zwischen der Deckschicht und dem lithografischen Träger liegt in der vorliegenden Erfindung eine erste Schicht vor, die in einer wässrig-alkalischen Entwicklerlösung mit vorzugsweise einem pH zwischen 7,5 und 14 löslich ist. Diese erste Schicht liegt zwar vorzugsweise an der Deckschicht an, jedoch können andere Schichten zwischen die Deckschicht und die erste Schicht eingefügt werden. Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Bindemittel sind vorzugsweise hydrophobe Bindemittel wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. Novolak-Polymere, Hydroxystyrol-Einheiten enthaltende Polymere, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44 45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Bindemittel ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und eine partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Ferner ist diese in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist vorzugsweise wärmehärtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die erste Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt eine 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure, oder ein Benzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 20 : 80. Die Gesamtmenge der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Im Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung kann der lithografische Träger für alle Ausführungsformen ein eloxierter Aluminiumträger sein. Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Der eloxierte Aluminiumträger kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95°C, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise ferner ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei einer leicht erhöhten Temperatur zwischen etwa 30°C und 50°C erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, dass eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070, DE-A 44 23 140, DE-A 44 17 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 und US-P-4 458 005.
Nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält der lithografische Träger mit einer hydrophilen Oberfläche einen biegsamen Träger, wie z. B. einen Papierträger oder eine Kunststofffolie, der (die) für alle Ausführungsformen mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Bindemittel wird besonders bevorzugt.
Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere wie zum Beispiel Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere in Frage. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.
Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise zumindest 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.
Eine vernetzte hydrophile Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselerde benutzt werden. Die kolloidale Kieselerde kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselerde mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselerde zugesetzt werden, z. B. Kieselerde, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von wenigstens 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.
Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger kann zwischen 0,2 μm und 25 μm variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 μm und 10 μm.
Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.
Als biegsamer Träger eines lithografischen Trägers nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststofffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, eine substrierte Polyethylennaphthalatfolie, eine Celluloseacetatfolie, eine Polystyrolfolie, eine Polycarbonatfolie usw. Der Kunststofffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.
Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselerde, wie in EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselerde in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Ferner liegt das Verhältnis von Kieselerde zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselerde vorzugsweise wenigstens 300 m²/g, besonders bevorzugt wenigstens 500 m²/g.
In einer zweiten Ausführungsform sind die erste Schicht und die zweite Schicht ein und dieselbe Schicht. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine Deckschicht enthält, die gegenüber IR-Strahlung empfindlich ist, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar für einen alkalischen Entwickler ist.
Die IR-empfindliche Schicht der vorliegenden Erfindung enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Als geeignete IR-Farbstoffe und IR-Pigmente sind die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung genannten zu nennen.
Die IR-Farbstoffe sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 60 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 3 und 50 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, in der Deckschicht enthalten.
Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Polymere sind vorzugsweise hydrophobe und farbanziehende Polymere wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. carboxylsubstituierte Polymere usw. Besonders bevorzugt wird ein Phenolharz wie ein Hydroxystyrol-Einheiten enthaltendes Polymer oder ein Novolakpolymer. Ganz besonders bevorzugt wird ein Novolakpolymer. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44 45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist ferner durch Unlöslichkeit in Wasser und eine zumindest partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch eine zumindest partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Ferner ist diese IR-empfindliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist fernerhin vorzugsweise wärmehärtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die IR-empfindliche Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon, besonders bevorzugt Trihydroxybenzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 30 : 70. Die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
In der IR-empfindlichen Schicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der IR-empfindlichen Schicht im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler bewirkt.
Zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement bildmäßig belichtet und entwickelt.
Die erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung ist eine bildmäßige Abtastbelichtung unter Verwendung eines im Infrarotbereich (IR) und/oder nahen Infrarotbereich, d. h. im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl kurzer als langer Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 μs und 20 μs.
Nach der bildmäßigen Entwicklung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement durch Spülung mit einer. wässrig-alkalischen Lösung entwickelt. Als wässrig-alkalische Lösungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche, die zum Entwickeln herkömmlicher positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden, vorzugsweise SiO₂ als Silikate enthalten und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Somit werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit in der wässrig-alkalischen Lösung während der Belichtung erhöht ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten wird.
In der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten Entwicklers von größter Bedeutung.
Aus diesem Grund sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des Alkalis und das Verhältnis der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, dass nur unter Verwendung des Entwicklers mit obiger Zusammensetzung eine Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden Nachfülllösung niedrig ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden kann.
Die Entwickler und die Nachfülllösungen für den Entwickler, die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise wässrige Lösungen, die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M₂O enthalten, wobei der Entwickler SiO₂ und M₂O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5 und einem SiO₂-Verhältnis zwischen 0,5 und 5 Gew.-% enthält. Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler können gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche anderen alkalischen Mittel sind anorganische alkalische Mittel wie Ammoniumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniumhydroxid.
Von großer Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] im Entwickler, das in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und 1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten, während bei einem Molverhältnis von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich nicht völlig abgelöst oder entfernt werden kann. Darüber hinaus liegt das SiO₂-Verhältnis im Entwickler und in der Nachfülllösung vorzugsweise zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO₂-Verhältnisses ermöglicht es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten, sogar wenn über einen langen Zeitraum eine große Menge erfindungsgemäßer Druckplatten verarbeitet wird.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Entwickler eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO₂-Verhältnis zwischen 1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muss selbstverständlich eine Nachfülllösung benutzt werden, deren alkalische Stärke größer oder gleich der alkalischen Stärke des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden Nachfülllösung zu beschränken, ist es vorteilhaft, dass das Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] der Nachfülllösung kleiner oder gleich dem Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] des Entwicklers ist oder das SiO₂-Verhältnis hoch ist, wenn das Molverhältnis des Entwicklers dem Molverhältnis der Nachfülllösung gleich ist.
In den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfülllösungen können je nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser bei 20°C von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche organischen Lösungsmittel sind Carbonsäureester wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol, alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol, halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder kombiniert benutzt werden. Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel werden dem Entwickler oder der Nachfülllösung für den Entwickler in der Regel in einer Höchstmenge von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.
Es können ebenfalls Tenside in die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler und Nachfülllösungen eingebettet werden, um deren Entwicklungseigenschaften zu verbessern. Beispiele für solche Tenside sind u. a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol (C₈~C₂₂) wie Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81^TM (Warenzeichen von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze von Phosphorsäureestern mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat, Alkylarylsulfonsäuresalze wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat, Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat, Sulfonsäuresalze von Alkylamiden wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen Säureestern wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat. Diese Tenside können allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden Sulfonsäuresalze. Diese Tenside können in einer in der Regel nicht über 5 Gew.-%, vorzugsweise nicht über 3 Gew.-% hinauskommenden Menge verwendet werden.
Zur Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwickler und Nachfülllösungen können gleichzeitig die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.
Beispiele für solche Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A 58 75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A 58 190 952 (US-A 4 469 776) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH₃)₆]C₁₃, wie in JN-A 59 121 336 (US-A 4 606 995) beschrieben, ionisierbare Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, IIIa oder IIIb des Periodensystems, wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, anionische oder amfotere Tenside wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain, wie in JN-A 50 51 324 beschrieben, Tetramethyldecyndiol, wie in US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60 213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchlorid-Produkte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 (US-A 4 467 027) beschrieben, und alkalilösliche Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein und Thioglycolsäure, anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A 58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat, wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen, wie in JN-A 59 84 241 (US-A 4 500 625) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 010 beschrieben, und Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.
Im erfindungsgemäßen Entwicklungsverarbeitungsverfahren kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfülllösung für Entwickler benutzt werden. Beispiele für solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfülllösung mit zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der Menge der verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird, wie in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931) beschrieben, ein Verfahren, in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone gelöst wird, und die Nachfülllösung proportional zum nachgewiesenen Ausmaß der Herauslösung der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95 349 (US-A 4 537 496) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfülllösung durchzuführen, wie in GB-A 2 208 249 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Druckplatte kann ebenfalls in Form einer nahtlosen hülsenförmigen Druckplatte in einem Druckzyklus eingesetzt werden. Bei dieser Anwendung wird die Druckplatte mittels eines Lasers zu einer zylindrischen Form zusammengelötet. Diese zylindrische Druckplatte, deren Durchmesser dem Durchmesser der Drucktrommel gleich ist, wird auf die Drucktrommel geschoben, anstatt auf herkömmlichem Wege als in herkömmlicher Weise angefertigte Druckplatte auf der Druckpresse angeordnet zu werden. Genauere Angaben über hülsenförmige Druckplatten finden sich in "Grafisch Nieuws", Herausgeber Keesing, 15, 1995, Seite 4 bis 6.
Nach Entwicklung eines bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wässrig-alkalischen Lösung und Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte zum Verbessern der Dauerhaftigkeit noch bei einer Temperatur zwischen 200°C und 300°C über einen Zeitraum von 30 Sekunden bis 5 Minuten eingebrannt werden. Das Bilderzeugungselement kann ebenfalls einer vollflächigen Nachbelichtung mit UV-Strahlung unterzogen werden, um das Bild zu härten und somit die Auflagenhöhe der Druckplatte zu steigern.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.
VERGLEICHENDES BEISPIEL 1
Herstellung des lithografischen Trägers
Eine 0,30 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wässrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50°C entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35°C und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wässrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 μm zu erhalten.
Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wässrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60°C geätzt und anschließend 30 s bei 25°C mit entmineralisiertem Wasser gespült.
Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45°C, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wässrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m² Al₂O₃ enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, dann mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, anschließend zuerst mit einer Polyvinylphosphonsäure enthaltenden Lösung und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet, dann mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20°C gespült und getrocknet.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den obenbeschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM (vertrieben von Clariant, Deutschland) und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,734 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BEISPIEL 2
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 100 mg/m² Siliciumdioxid, chemisch angefertigtes AEROSIL^® 200, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
AEROSIL^® ist ein Handelsprodukt von Degussa, Deutschland.
BEISPIEL 3
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,735 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 200 mg/m² des mikronisierten, mit Poly(tetrafluorethylen) modifizierten Polyethylenwachses NEWKEM TF320^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
NEWKEM TF320^TM wird vertrieben von Croda Resins Ltd.
BEISPIEL 4
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 100 mg/m² Bariumsulfat, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
Als Bariumsulfat wird SPEZIALSORTE A1^TM von Merck verwendet.
BEISPIEL 5
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 9,2 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 82% ALNOVOL SPN452^TM, 11% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure und 7% Bariumsulfat.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 100 mg/m² Bariumsulfat, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BEISPIEL 6
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 100 mg/m² des feinteiligen Silikons TOSPEARL 105^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
TOSPEARL 105^TM ist ein feinteiliges Silikon mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 μm, das von Toshiba Silicone Co. Ltd. vertrieben wird.
BEISPIEL 7
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,012 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 55 mg/m² synthetisierte Keramik, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
Die synthetisierte Keramik ist Poly(methylmethacrylat-co-methylmethacrylattrimethoxysilan)
BEISPIEL 8
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,010 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 44 mg/m² derselben synthetisierten Keramik wie in Beispiel 7, 11 mg/m² AEROSIL^® 200, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BEISPIEL 9
Es wird der gleiche Träger wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,010 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Russ, 39 mg/m² derselben synthetisierten Keramik wie in Beispiel 7, 16 mg/m² Tetraethylorthosilikat, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM (vertrieben von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM (vertrieben von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
Als Tetraethylorthosilikat wird DYNASIL^TM von Hüls AG verwendet.
Messung des Reibungskoeffizienten des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Der dynamische Reibungskoeffizient der oben erwähnten Materialien auf rostfreiem Stahl wird nach ASTM D1894 gemessen.
Prüfung der Transporteigenschaften
In einer Experimentvorrichtung wird eine 740 mm × 640 mm-Platte über eine Länge von 2 m zu einer Lasertrommel geführt. Die Platte wird vertikal angeordnet und zwischen zwei Stahlgriffen geklemmt. Zwecks stabilen Transports werden Klemmen mit einer minimalen Länge von etwa 20 cm verwendet. Die Kontaktbreite zwischen diesen Klemmen und der Platte beträgt etwa 3 mm. Der Druck auf den Klemmen wird auf 4,5*10⁵ Pa eingestellt.
In vergleichendem Beispiel 1 gelangt die Platte nicht in korrekter Weise bis an die Endposition der Transportbahn.
Für die Belichtung der Platte ist ein manuelles Laden der Lasertrommel notwendig.
Belichtung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements Alle die obenerwähnten Materialien werden mit einem Creo 3244-T^TM-Außentrommel-Druckplattenbelichter bei 2400 dpi und den in nachstehender Tabelle angegebenen Leistungen bebildert.
Entwicklung des bildmäßig belichteten Elements
Nach Belichtung des fertigen Bilderzeugungselements wird das Element in einer wässrig-alkalischen Entwicklerlösung entwickelt. Diese Entwicklung erfolgt bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min. und einer Temperatur von 25°C in einem TECHNIGRAPH NPX-32^TM-Entwicklungsgerät, das mit OZASOL EP262A^TM (OZASOL EP262A^TM wird von Agfa vertrieben) und Wasser in der Spülzone und OZASOL RC795^TM-Gummi im Gummierbereich gefüllt ist. Alle die erhaltenen Druckplatten weisen ein intaktes Bild ohne Ätzfehler auf.

Claims

Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste, ein in einer wässrig-alkalischer Lösung lösliches Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar ist für einen alkalischen Entwickler, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht eine Verbindung enthält, die einen Anstieg des nach der Norm ASTM D1894 gemessenen dynamischen Reibungskoeffizienten der Deckschicht auf einen Wert zwischen 0,40 und 0,80 bewirkt.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung ein Polytetrafluorethylen-Polyethylen-Copolymer ist.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung eine Kieselerde ist.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung eine hydrophobe Keramik ist.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht ferner Kieselerdeteilchen enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht ferner ein Orthosilikat enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung Bariumsulfat ist.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil der Verbindung in der Deckschicht zwischen 10 und 800 mg/m² liegt.
Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte a) bildmäßige Belichtung mit IR-Strahlung eines wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements nach einem der Ansprüche 1 bis 8, und b) Entwicklung des bildmäßig belichteten wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements mit einem wässrig-alkalischen Entwickler, wobei die belichteten Bereiche der ersten Schicht und der Deckschicht, die ein und dieselbe Schicht sein können, gelöst und die nicht-belichteten Bereiche der ersten Schicht nicht gelöst werden.