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TECHNISCHES
GEBIET DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein zur Herstellung einer lithografischen
Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement mit einer IR-empfindlichen Deckschicht.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein zur Herstellung
einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement
mit einem besseren vertikalen Transport.
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ALLGEMEINER
STAND DER TECHNIK
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Lithografischer
Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten
Oberflächen her
erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen
und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden.
Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche,
die farbabstoßenden
Bereiche die Hintergrundbereiche.
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Im
Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in
den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten
Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder
fette Farben anziehend gemacht.
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Bei
der Herstellung üblicher
lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten
oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser
aufweist oder solche Affinität
durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht
mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen.
Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung
eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen,
dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer
Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden
weit verbreitet eingesetzt.
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Während der
bildmäßigen Belichtung
der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche
unlöslich
und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird
anschließend
mit einer geeigneten Flüssigkeit
entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene
Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.
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Es
sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche
Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung
in den belichteten Bereichen löslich
gemacht wird. Während
der darauf folgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche
entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht
ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.
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Die
obenbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung
der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in
einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen
Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise
ist zwar umständlich
und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen
Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.
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Es
sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines
fotografischen Films im obenbeschriebenen Verfahren verzichten zu
können
und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu
reproduzierende Bild verkörpernden
Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen
Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung.
Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer
Silberhalogenidschicht zu überziehen.
Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels
eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht
entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild
erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer
vollflächigen
Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung
wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt.
Solch ein Verfahren ist beispielsweise in JP-A 60-61 752 beschrieben,
beinhaltet jedoch den Nachteil, dass eine komplexe Entwicklung und
zugehörige
Entwicklerflüssigkeiten
benötigt
werden.
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In
GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht
oder eine Ruß enthaltende Schicht
auf eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Diese Metallschicht
wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen
Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht
wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung
unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche
Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren
beinhaltet aber noch immer den Nachteil, dass die Bildmaske auf
umständlichem
Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt
werden muss.
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Andererseits
gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten
Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich
als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur
Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen
Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, dass
sie vor Licht geschützt
werden müssen.
Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit
problematisch und weisen sie ein niedrigeres Auflösungsvermögen auf.
Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen
Druckplattenvorstufen ab.
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So
beschreibt zum Beispiel Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992,
ein wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile
Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem Infrarotlicht
absorbierenden Pigment wie z. B. Ruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit
einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren
Teilchen bildmäßig, wodurch
die Oberfläche
des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung
farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt
die hohe Beschädigungsanfälligkeit
der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei
Ausübung
eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann
die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen
Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach
einen beschränkten
lithografischen Druckspielraum aufweisen.
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Die
US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen
Zusammensetzung, die ein alkalilösliches
Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator
enthält. Nach
bildmäßiger Bestrahlung
dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht – sichtbarem Licht – oder IR-Strahlung
und einer anschließenden
Entwicklungsstufe mit einer wässrig-alkalischen
Flüssigkeit
wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten.
Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses
Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind
schwach.
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Die
EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht,
die gegenüber
UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend
als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz,
ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und
eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse
einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements
erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
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Die
US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728, jedoch
mit dem Unterschied, dass sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden,
gegenüber
Infrarotlaserlicht empfindlichen Bilderzeugungselements offenbart.
Die IR-empfindliche Schicht enthält
ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung
absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung
und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen
Druckplatte sind schwach.
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In
EP-A 678 380 wird ferner ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht
auf einen gekörnten Metallträger unter
einer laserablatierbaren Oberflächenschicht
angebracht wird. Bei bildmäßiger Belichtung wird
die Oberflächenschicht
zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert.
Die Druckplatte wird anschließend
mit einer Reinigungslösung
verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch
die hydrophile Oberflächenschicht
freizulegen.
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In
EP-A 823 327 wird eine positive strahlungsempfindliche Zusammensetzung
mit einem Unterschied in Löslichkeit
in einem alkalischen Entwickler zwischen einem belichteten und nicht- belichteten Bereich
offenbart, wobei die Zusammensetzung als den Unterschied in Löslichkeit
bewirkende Komponenten (a) ein fotothermisches Umwandlungsmaterial
und (b) eine hochmolekulare Verbindung enthält, deren Löslichkeit in einem alkalischen
Entwickler vorwiegend durch eine andere Änderung als eine chemische Änderung änderbar ist.
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In
EP-A 830 941 wird ein wärmeempfindliches
Aufzeichnungsmaterial offenbart, das auf einem biegsamen Träger mit
einer oleophilen Oberfläche
(i) eine Aufzeichnungsschicht mit einer Licht in Wärme umwandelnden
Substanz, die Strahlung in Wärme
umzuwandeln vermag, und (ii) eine oleophobe Oberflächenschicht enthält, wobei
die oleophobe Oberflächenschicht
und die Aufzeichnungsschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch
gekennzeichnet, dass der kinetische Reibungskoeffizient des Materials
nicht mehr als 2,6 beträgt,
wenn eine Seite des Materials über
die andere Seite des Materials gleitet.
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In
FR-A 1 561 957 wird ein Verfahren zur Aufzeichnung oder Wiedergabe
von Information offenbart, gekennzeichnet durch den Schritt, in
dem ein gegenüber
elektromagnetischer Strahlung empfindliches Aufzeichnungsmaterial
informationsmäßig belichtet
wird, wobei dieses Aufzeichnungsmaterial zumindest eine ein Bindemittel
und eine im Bindemittel dispergierte Flüssigkeit und/oder feste Substanz
enthaltende Aufzeichnungsschicht enthält, wobei die Flüssigkeit
und/oder die feste Substanz hydrophober ist (sind) als das Bindemittel
und bei Erwärmung
zumindest zum Teil ein vereinbares Gemisch mit dem Bindemittel bildet
(bilden), wobei die Lichtdurchlässigkeit
des Gemisches im Vergleich zur Dispersion vor der Erwärmung zugenommen
ist und wobei dieses Aufzeichnungsmaterial ferner eine Verbindung,
die Licht in Wärme
umzuwandeln vermag, enthält.
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Aus
EP-A 0 830 941 ist ein driografisches Druckplattenmaterial bekannt,
enthaltend einen oleophilen Träger,
eine gegenüber
Infrarotstrahlung empfindliche Bildaufzeichnungsschicht und eine
oleophobe Oberflächenschicht,
deren kinetischer Reibungskoeffizient zwischen der Oberflächenschicht
und der Rückseitenbeschichtung
nicht mehr als 2,6 beträgt.
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AUFGABEN DER
VORLIEGENDEN ERFINDUNG
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen
Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement mit einem breiten Entwicklungsspielraum bereitzustellen.
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen
Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement mit hohem Auflösungsvermögen bereitzustellen.
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Eine
weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung
einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement
mit verbesserten Eigenschaften in Bezug auf den vertikalen Transport
bereitzustellen.
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Weitere
Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden
Beschreibung ersichtlich.
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KURZE DARSTELLUNG
DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
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Gelöst werden
die erfindungsgemäßen Aufgaben
durch ein wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte,
das auf einem lithografischen Träger
mit einer hydrophilen Oberfläche
eine erste, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches
Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen
Trägers
wie die erste Schicht eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, die
undurchdringbar ist für
einen alkalischen Entwickler, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein
und dieselbe Schicht sein können,
dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht eine Verbindung enthält, die
einen Anstieg des dynamischen Reibungskoeffizienten der Deckschicht
auf einen Wert zwischen 0,40 und 0,80 bewirkt.
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AUSFÜHRLICHE
BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
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Die
Deckschicht wird ebenfalls als zweite Schicht bezeichnet.
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Der
dynamische oder kinetische Reibungskoeffizient (μk) wird
nach der Norm ASTM D1894 gemessen, wobei die wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien
so angeordnet werden, dass die Vorderseite des Materials in Kontakt
mit rostfreiem Stahl steht. Unter Vorderseite versteht sich die
Seite des Materials, die, bezogen auf den biegsamen Träger, die
Deckschicht Trägt.
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Eine
geeignete Verbindung zur Steigerung des dynamischen Reibungskoeffizienten
zwischen 0,40 und 0,80 ist ein Polytetrafluorethylen-Polyethylen-Copolymer.
Andere geeignete Verbindungen sind wasserunlösliche anorganische Verbindungen
mit dreidimensionaler Struktur mit dreidimensional verzweigten Siloxanbindungen
und an einer organischen Gruppe, z. B. einer Methylgruppe, gebundenen
Siliciumatomen. Letztere Substanzen sind erhältlich unter dem Handelsnamen
TOSPEARLTM (eingetragenes Warenzeichen von
Toshiba, Japan). Weitere geeignete Verbindungen sind Kieselerdeteilchen,
hydrophobe Keramik, die vorzugsweise zusätzlichen Kieselerdeteilchen
oder Orthosilikaten beigemischt wird, Bariumsulfat und Mattierungsteilchen aus
Silikonen. Der mittlere Durchmesser der Teilchen liegt vorzugsweise
zwischen 0,3 μm
und 50 μm.
Die Verbindungen werden vorzugsweise in einer Menge zwischen 10
und 800 mg/m2, besonders bevorzugt zwischen 20
und 400 mg/m2 verwendet.
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In
einer ersten Ausführungsform
sind die erste Schicht und die Deckschicht unterschiedliche Schichten.
In dieser Ausführungsform
wird ein wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement zur Herstellung lithografischer Druckplatten
bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste,
ein in einer wässrig-alkalischen
Lösung
lösliches
Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen
Trägers
wie die erste Schicht eine gegenüber
IR-Strahlung empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar ist
für einen
alkalischen Entwickler.
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Die
erfindungsgemäße Deckschicht
enthält
einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein Bindeharz. Es kann
zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden,
bevorzugt aber wird der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder
IR-Pigments. Bevorzugt als IR-Farbstoffe werden IR-Cyaninfarbstoffe.
Besonders nutzbare IR-Cyaninfarbstoffe sind Cyaninfarbstoffe mit
zumindest zwei Säuregruppen,
besonders bevorzugt zumindest zwei Sulfonsäuregruppen. Besonders bevorzugt
werden Cyaninfarbstoffe mit zwei Indolenin- und zumindest zwei Sulfonsäuregruppen.
Ganz besonders bevorzugt wird Verbindung I der folgenden Struktur:
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Besonders
nutzbare IR-absorbierende Pigmente sind Russ, Metallcarbide, Metallboride,
Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur
und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch
ohne den A-Bestandteil, z. B. WO2,9. Es
können
gleichfalls leitfähige
polymere Dispersionen benutzt werden, wie leitfähige polymere Dispersionen
auf der Basis von Polypyrrol oder Polyanilin. Die erzielte lithografische
Leistung und insbesondere die erzielte Auflagenfestigkeit hängen von
der Wärmeempfindlichkeit
des Bilderzeugungselements ab. In dieser Hinsicht hat es sich herausgestellt,
dass mit Russ sehr gute und günstige Ergebnisse
erzielbar sind.
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Der
Anteil der IR-absorbierenden Farbstoffe oder Pigmente liegt vorzugsweise
zwischen 1 und 99 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 50
und 95 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen
Deckschicht.
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Die
Deckschicht kann vorzugsweise als Bindemittel ein wasserunlösliches
Polymer wie einen Celluloseester, ein Copolymer aus Vinylidenchlorid
und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Silikonharze usw.
enthalten. Bevorzugt als Bindemittel wird Nitrocelluloseharz.
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Die
Gesamtmenge der Deckschicht variiert vorzugsweise zwischen 0,05
und 10 g/m2, besonders bevorzugt zwischen
0,1 und 2 g/m2.
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In
der Deckschicht wird während
der bildmäßigen Belichtung
ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit
der Deckschicht in einer wässrig-alkalischen
Lösung,
in diesem Falle im erfindungsgemäßen alkalischen
Entwickler, bewirkt.
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In
der vorliegenden Erfindung wird die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit
während
der bildmäßigen IR-Belichtung
dermaßen
erhöht,
dass die bebilderten Teile während
der Entwicklung entfernt werden, ohne die nicht-bebilderten Teile
zu solubilisieren und/oder zu beschädigen.
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Die
Entwicklung mit der wässrig-alkalischen
Lösung
erfolgt vorzugsweise innerhalb eines Zeitraums zwischen 5 und 120
s.
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Zwischen
der Deckschicht und dem lithografischen Träger liegt in der vorliegenden
Erfindung eine erste Schicht vor, die in einer wässrig-alkalischen Entwicklerlösung mit
vorzugsweise einem pH zwischen 7,5 und 14 löslich ist. Diese erste Schicht
liegt zwar vorzugsweise an der Deckschicht an, jedoch können andere Schichten
zwischen die Deckschicht und die erste Schicht eingefügt werden.
Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Bindemittel sind vorzugsweise
hydrophobe Bindemittel wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden
PS-Platten verwendet werden, z. B. Novolak-Polymere, Hydroxystyrol-Einheiten
enthaltende Polymere, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische
Beispiele für
diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44
45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe
Bindemittel ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und eine
partielle Löslichkeit/Quellbarkeit
in einer alkalischen Lösung
und/oder durch partielle Löslichkeit
in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
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Ferner
ist diese in einer wässrig-alkalischen
Lösung
lösliche
Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem
Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist vorzugsweise
wärmehärtbar. Diese
vorzugsweise gegenüber
sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine
strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren,
Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich
zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine
gegenüber
Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
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Die
erste Schicht enthält
vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders
bevorzugt eine Benzoesäure,
ganz besonders bevorzugt eine 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure, oder
ein Benzophenon.
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Das
Verhältnis
zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und
dem Polymer in der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen
2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 20 :
80. Die Gesamtmenge der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen
0,1 und 10 g/m2, besonders bevorzugt zwischen
0,3 und 2 g/m2.
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Im
Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung kann der lithografische
Träger
für alle
Ausführungsformen
ein eloxierter Aluminiumträger
sein. Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist
ein elektrochemisch gekörnter
und eloxierter Aluminiumträger.
Der eloxierte Aluminiumträger
kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften
der Trägeroberfläche unterzogen
werden. So kann der Aluminiumträger
zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei
erhöhter
Temperatur, z. B. 95°C,
silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung
vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit
einer wahlweise ferner ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet
wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden.
Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei einer leicht
erhöhten Temperatur
zwischen etwa 30°C
und 50°C
erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der
Aluminiumoxidoberfläche
mit einer Bicarbonatlösung.
Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern
von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern
von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch
Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind,
verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, dass eine oder mehrere
dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden
können.
Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A
1 084 070, DE-A 44 23 140, DE-A 44 17 907, EP-A 659 909, EP-A 537
633, DE-A 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 und US-P-4 458 005.
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Nach
einer weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung enthält
der lithografische Träger
mit einer hydrophilen Oberfläche
einen biegsamen Träger,
wie z. B. einen Papierträger
oder eine Kunststofffolie, der (die) für alle Ausführungsformen mit einer vernetzten
hydrophilen Schicht überzogen
ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann
aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd,
Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat
vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Bindemittel wird
besonders bevorzugt.
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Als
hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere wie zum Beispiel
Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid,
Methylolmethacrylamid, Acrylsäure,
Methacrylsäure,
Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere
in Frage. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches
ist vorzugsweise höher oder
gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise
zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.
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Die
Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise
zumindest 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel,
liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders
bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil
hydrophiles Bindemittel.
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Eine
vernetzte hydrophile Schicht in einem nach dieser Ausführungsform
benutzten lithografischen Träger
enthält
vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit
und Porosität
der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselerde
benutzt werden. Die kolloidale Kieselerde kann in Form einer beliebigen
handelsüblichen
Wasserdispersion von kolloidaler Kieselerde mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu
40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die
kolloidale Kieselerde zugesetzt werden, z. B. Kieselerde, die wie
in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69,
von Stöber
beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen
mit einem mittleren Durchmesser von wenigstens 100 nm, wobei es
sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden
handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der vernetzten
hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe
Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen
für Wasser
in Hintergrundbereichen dienen.
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Die
Stärke
einer vernetzten hydrophilen Schicht in einem nach dieser Ausführungsform
benutzten lithografischen Träger
kann zwischen 0,2 μm
und 25 μm
variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 μm und 10 μm.
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Besondere
Beispiele für
erfindungsgemäß nutzbare
geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P
1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A
514 490 beschrieben.
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Als
biegsamer Träger
eines lithografischen Trägers
nach dieser Ausführungsform
bevorzugt man insbesondere eine Kunststofffolie, z. B. eine substrierte
Polyethylenterephthalatfolie, eine substrierte Polyethylennaphthalatfolie,
eine Celluloseacetatfolie, eine Polystyrolfolie, eine Polycarbonatfolie
usw. Der Kunststofffolienträger
kann lichtundurchlässig
oder lichtdurchlässig
sein.
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Besonders
bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter
Polyesterfilmträger.
Zur erfindungsgemäßen Verwendung
besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein
hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselerde, wie in EP-A 619
524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselerde
in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen
200 mg/m2 und 750 mg/m2.
Ferner liegt das Verhältnis
von Kieselerde zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und
beträgt
die spezifische Oberfläche
der kolloidalen Kieselerde vorzugsweise wenigstens 300 m2/g, besonders bevorzugt wenigstens 500 m2/g.
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In
einer zweiten Ausführungsform
sind die erste Schicht und die zweite Schicht ein und dieselbe Schicht.
In dieser Ausführungsform
wird ein wärmeempfindliches
Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten
bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine
Deckschicht enthält,
die gegenüber
IR-Strahlung empfindlich ist, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches
Polymer enthält
und undurchdringbar für
einen alkalischen Entwickler ist.
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Die
IR-empfindliche Schicht der vorliegenden Erfindung enthält einen
IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches
Polymer. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten
benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen
IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Als geeignete IR-Farbstoffe und
IR-Pigmente sind die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung genannten zu nennen.
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Die
IR-Farbstoffe sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 60
Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 3 und 50 Gewichtsteilen,
bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, in
der Deckschicht enthalten.
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Die
in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Polymere sind vorzugsweise
hydrophobe und farbanziehende Polymere wie die in herkömmlichen
positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z.
B. carboxylsubstituierte Polymere usw. Besonders bevorzugt wird
ein Phenolharz wie ein Hydroxystyrol-Einheiten enthaltendes Polymer
oder ein Novolakpolymer. Ganz besonders bevorzugt wird ein Novolakpolymer. Typische
Beispiele für
diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44
45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe
Polymer ist ferner durch Unlöslichkeit
in Wasser und eine zumindest partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer
alkalischen Lösung
und/oder durch eine zumindest partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination
mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
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Ferner
ist diese IR-empfindliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem
Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist fernerhin
vorzugsweise wärmehärtbar. Diese
vorzugsweise gegenüber
sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine
strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren,
Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich
zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine
gegenüber
Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
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Die
IR-empfindliche Schicht enthält
vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders
bevorzugt eine Benzoesäure,
ganz besonders bevorzugt 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon, besonders
bevorzugt Trihydroxybenzophenon.
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Das
Verhältnis
zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und
dem Polymer in der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise
zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95
und 30 : 70. Die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen
0,1 und 10 g/m2, besonders bevorzugt zwischen
0,3 und 2 g/m2.
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In
der IR-empfindlichen Schicht wird während der bildmäßigen Belichtung
ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit
der IR-empfindlichen Schicht im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler
bewirkt.
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Zur
Herstellung einer lithografischen Druckplatte wird das wärmeempfindliche
Bilderzeugungselement bildmäßig belichtet
und entwickelt.
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Die
erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung
ist eine bildmäßige Abtastbelichtung
unter Verwendung eines im Infrarotbereich (IR) und/oder nahen Infrarotbereich,
d. h. im Wellenlängenbereich
zwischen 700 und 1500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt
sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung
des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl kurzer als
langer Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser
mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 μs und 20 μs.
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Nach
der bildmäßigen Entwicklung
wird das wärmeempfindliche
Bilderzeugungselement durch Spülung
mit einer. wässrig-alkalischen
Lösung
entwickelt. Als wässrig-alkalische
Lösungen
zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche,
die zum Entwickeln herkömmlicher
positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden,
vorzugsweise SiO2 als Silikate enthalten
und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Somit
werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit
in der wässrig-alkalischen
Lösung
während
der Belichtung erhöht
ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten
wird.
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In
der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten
Entwicklers von größter Bedeutung.
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Aus
diesem Grund sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen
langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des
Alkalis und das Verhältnis
der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen
haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, dass nur
unter Verwendung des Entwicklers mit obiger Zusammensetzung eine
Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden
Nachfülllösung niedrig
ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von
zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden
kann.
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Die
Entwickler und die Nachfülllösungen für den Entwickler,
die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise
wässrige
Lösungen,
die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide
der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M2O
enthalten, wobei der Entwickler SiO2 und
M2O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5
und einem SiO2-Verhältnis zwischen 0,5 und 5 Gew.-%
enthält.
Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat,
Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide
werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.
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Die
erfindungsgemäß verwendeten
Entwickler können
gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche
anderen alkalischen Mittel sind anorganische alkalische Mittel wie
Ammoniumhydroxid, tertiäres
Natriumphosphat, sekundäres
Natriumphosphat, tertiäres
Kaliumphosphat, sekundäres
Kaliumphosphat, tertiäres
Ammoniumphosphat, sekundäres
Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat
und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-,
Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder
Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di-
oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniumhydroxid.
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Von
großer
Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO2]/[M2O] im Entwickler, das
in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und
1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis
unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten,
während
bei einem Molverhältnis
von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird
und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich
nicht völlig
abgelöst
oder entfernt werden kann. Darüber
hinaus liegt das SiO2-Verhältnis im
Entwickler und in der Nachfülllösung vorzugsweise
zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO2-Verhältnisses
ermöglicht
es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten,
sogar wenn über
einen langen Zeitraum eine große
Menge erfindungsgemäßer Druckplatten
verarbeitet wird.
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In
einer besonders bevorzugten Ausführungsform
wird als Entwickler eine wässrige
Lösung
eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO2]/[M2O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO2-Verhältnis zwischen
1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muss selbstverständlich eine
Nachfülllösung benutzt
werden, deren alkalische Stärke
größer oder
gleich der alkalischen Stärke
des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden
Nachfülllösung zu
beschränken,
ist es vorteilhaft, dass das Molverhältnis [SiO2]/[M2O] der Nachfülllösung kleiner oder gleich dem
Molverhältnis
[SiO2]/[M2O] des
Entwicklers ist oder das SiO2-Verhältnis hoch
ist, wenn das Molverhältnis
des Entwicklers dem Molverhältnis
der Nachfülllösung gleich
ist.
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In
den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfülllösungen können je
nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit
in Wasser bei 20°C
von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche
organischen Lösungsmittel
sind Carbonsäureester
wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat,
Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone
wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole
wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether,
Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol,
alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol, halogenierte
Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese
organischen Lösungsmittel können allein
oder kombiniert benutzt werden. Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders
bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel
werden dem Entwickler oder der Nachfülllösung für den Entwickler in der Regel
in einer Höchstmenge
von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.
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Es
können
ebenfalls Tenside in die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler und
Nachfülllösungen eingebettet
werden, um deren Entwicklungseigenschaften zu verbessern. Beispiele
für solche
Tenside sind u. a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol
(C8~C22) wie Natriumsalz
von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz
von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81TM (Warenzeichen
von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze
von Phosphorsäureestern
mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat,
Alkylarylsulfonsäuresalze
wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat,
Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat,
Sulfonsäuresalze
von Alkylamiden wie C17H33CON(CH3)CH2CH2SO3Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen
Säureestern
wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat.
Diese Tenside können
allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden
Sulfonsäuresalze.
Diese Tenside können
in einer in der Regel nicht über
5 Gew.-%, vorzugsweise
nicht über
3 Gew.-% hinauskommenden Menge verwendet werden.
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Zur
Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung
benutzten Entwickler und Nachfülllösungen können gleichzeitig
die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.
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Beispiele
für solche
Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A
58 75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A
58 190 952 (US-A 4 469 776) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH3)6]C13,
wie in JN-A 59 121 336 (US-A 4 606 995) beschrieben, ionisierbare
Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, IIIa oder IIIb des Periodensystems,
wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, anionische oder amfotere
Tenside wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain,
wie in JN-A 50 51 324 beschrieben, Tetramethyldecyndiol, wie in
US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60
213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchlorid-Produkte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol,
wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein
Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat,
wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze
wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 (US-A 4 467 027) beschrieben,
und alkalilösliche
Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein
und Thioglycolsäure,
anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A
58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat,
wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende
Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen,
wie in JN-A 59 84 241 (US-A 4 500 625) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze
wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 010 beschrieben, und
Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.
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Im
erfindungsgemäßen Entwicklungsverarbeitungsverfahren
kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfülllösung für Entwickler
benutzt werden. Beispiele für
solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfülllösung mit
zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der
Menge der verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird,
wie in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931) beschrieben, ein Verfahren,
in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die
lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone
gelöst
wird, und die Nachfülllösung proportional zum
nachgewiesenen Ausmaß der
Herauslösung
der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95
349 (US-A 4 537 496) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der
Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert
durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfülllösung durchzuführen, wie
in GB-A 2 208 249 beschrieben.
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Die
erfindungsgemäße Druckplatte
kann ebenfalls in Form einer nahtlosen hülsenförmigen Druckplatte in einem
Druckzyklus eingesetzt werden. Bei dieser Anwendung wird die Druckplatte
mittels eines Lasers zu einer zylindrischen Form zusammengelötet. Diese
zylindrische Druckplatte, deren Durchmesser dem Durchmesser der
Drucktrommel gleich ist, wird auf die Drucktrommel geschoben, anstatt
auf herkömmlichem Wege
als in herkömmlicher
Weise angefertigte Druckplatte auf der Druckpresse angeordnet zu
werden. Genauere Angaben über
hülsenförmige Druckplatten
finden sich in "Grafisch
Nieuws", Herausgeber
Keesing, 15, 1995, Seite 4 bis 6.
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Nach
Entwicklung eines bildmäßig belichteten
Bilderzeugungselements mit einer wässrig-alkalischen Lösung und
Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung
als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte
zum Verbessern der Dauerhaftigkeit noch bei einer Temperatur zwischen
200°C und
300°C über einen
Zeitraum von 30 Sekunden bis 5 Minuten eingebrannt werden. Das Bilderzeugungselement
kann ebenfalls einer vollflächigen
Nachbelichtung mit UV-Strahlung unterzogen werden, um das Bild zu
härten
und somit die Auflagenhöhe
der Druckplatte zu steigern.
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Die
vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele
veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle
Teile und Prozentsätze
bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.
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VERGLEICHENDES BEISPIEL
1
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Herstellung
des lithografischen Trägers
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Eine
0,30 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in
einer wässrigen,
5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50°C entfettet und mit entmineralisiertem
Wasser gespült.
Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35°C und einer Stromdichte von
1.200 A/m2 in einer wässrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l
Borwasserstoffsäure
und 5 g/l Aluminiumionen enthält,
mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie
mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 μm zu erhalten.
-
Nach
Spülung
mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer
wässrigen,
300 g/l Schwefelsäure
enthaltenden Lösung
180 s bei 60°C
geätzt
und anschließend
30 s bei 25°C
mit entmineralisiertem Wasser gespült.
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Anschließend wird
die Folie bei einer Temperatur von 45°C, einer Spannung von etwa 10
V und einer Stromdichte von 150 A/m2 etwa
300 s in einer wässrigen,
200 g/l Schwefelsäure
enthaltenden Lösung
eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m2 Al2O3 enthaltende Oxidationsfolie
zu erhalten, dann mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, anschließend zuerst
mit einer Polyvinylphosphonsäure
enthaltenden Lösung
und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet,
dann mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20°C gespült und getrocknet.
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Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den obenbeschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von
14 μm eine
Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol
(Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM (vertrieben von Clariant,
Deutschland) und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
-
Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,734 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
-
Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE 5000TM (vertrieben
von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE
28000TM, 2,0 mg/m2 TEGO
WET 265TM (vertrieben von Tego, Deutschland)
und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM.
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BEISPIEL 2
-
Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
-
Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
-
Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
100 mg/m2 Siliciumdioxid, chemisch angefertigtes
AEROSIL® 200,
11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE 5000TM (vertrieben
von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE
28000TM, 2,0 mg/m2 TEGO
WET 265TM (vertrieben von Tego, Deutschland)
und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM.
-
AEROSIL® ist
ein Handelsprodukt von Degussa, Deutschland.
-
BEISPIEL 3
-
Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
-
Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,735 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
-
Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
200 mg/m2 des mikronisierten, mit Poly(tetrafluorethylen)
modifizierten Polyethylenwachses NEWKEM TF320TM,
11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE 5000TM (vertrieben
von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE
28000TM, 2,0 mg/m2 TEGO
WET 265TM (vertrieben von Tego, Deutschland)
und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM.
-
NEWKEM
TF320TM wird vertrieben von Croda Resins
Ltd.
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BEISPIEL 4
-
Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
-
Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
-
Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
100 mg/m2 Bariumsulfat, 11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE
5000TM (vertrieben von Zeneca Specialities,
GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE 28000TM,
2,0 mg/m2 TEGO WET 265TM (vertrieben
von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE
410TM.
-
Als
Bariumsulfat wird SPEZIALSORTE A1TM von
Merck verwendet.
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BEISPIEL 5
-
Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 9,2 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
82% ALNOVOL SPN452TM, 11% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure und
7% Bariumsulfat.
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Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
-
Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
100 mg/m2 Bariumsulfat, 11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE
5000TM (vertrieben von Zeneca Specialities,
GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE 28000TM,
2,0 mg/m2 TEGO WET 265TM (vertrieben
von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE
410TM.
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BEISPIEL 6
-
Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
-
Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,235 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
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Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
100 mg/m2 des feinteiligen Silikons TOSPEARL
105TM, 11,5 mg/m2 Nitrocellulose,
2,1 mg/m2 SOLSPERSE 5000TM (vertrieben
von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE
28000TM, 2,0 mg/m2 TEGO
WET 265TM (vertrieben von Tego, Deutschland)
und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM.
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TOSPEARL
105TM ist ein feinteiliges Silikon mit einem
mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 μm, das von Toshiba Silicone
Co. Ltd. vertrieben wird.
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BEISPIEL 7
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Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
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Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,012 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
-
Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
55 mg/m2 synthetisierte Keramik, 11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE
5000TM (vertrieben von Zeneca Specialities,
GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE 28000TM,
2,0 mg/m2 TEGO WET 265TM (vertrieben
von Tego, Deutschland) und 5,0 mg/m2 TEGO
GLIDE 410TM.
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Die synthetisierte Keramik
ist Poly(methylmethacrylat-co-methylmethacrylattrimethoxysilan)
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BEISPIEL 8
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Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
-
Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,010 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
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Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
44 mg/m2 derselben synthetisierten Keramik
wie in Beispiel 7, 11 mg/m2 AEROSIL® 200,
11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE 5000TM (vertrieben
von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE
28000TM, 2,0 mg/m2 TEGO
WET 265TM (vertrieben von Tego, Deutschland)
und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM.
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BEISPIEL 9
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Es
wird der gleiche Träger
wie im vergleichenden Beispiel 1 benutzt.
-
Herstellung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
-
Auf
den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in
einer Nassschichtstärke
von 14 μm
eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45).
Die so erhaltene Schicht enthält
88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
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Auf
diese Schicht vergießt
man dann in einer Nassschichtstärke
von 20 μm
die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,010 gew.-%igen Lösung in
Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht
wird bei einer Temperatur von 120°C
getrocknet.
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Die
so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m2 Russ,
39 mg/m2 derselben synthetisierten Keramik
wie in Beispiel 7, 16 mg/m2 Tetraethylorthosilikat,
11,5 mg/m2 Nitrocellulose, 2,1 mg/m2 SOLSPERSE 5000TM (vertrieben
von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m2 SOLSPERSE
28000TM, 2,0 mg/m2 TEGO
WET 265TM (vertrieben von Tego, Deutschland)
und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM.
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Als
Tetraethylorthosilikat wird DYNASILTM von
Hüls AG
verwendet.
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Messung des Reibungskoeffizienten
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements
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Der
dynamische Reibungskoeffizient der oben erwähnten Materialien auf rostfreiem
Stahl wird nach ASTM D1894 gemessen.
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Prüfung der Transporteigenschaften
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In
einer Experimentvorrichtung wird eine 740 mm × 640 mm-Platte über eine
Länge von
2 m zu einer Lasertrommel geführt.
Die Platte wird vertikal angeordnet und zwischen zwei Stahlgriffen
geklemmt. Zwecks stabilen Transports werden Klemmen mit einer minimalen
Länge von
etwa 20 cm verwendet. Die Kontaktbreite zwischen diesen Klemmen
und der Platte beträgt
etwa 3 mm. Der Druck auf den Klemmen wird auf 4,5*105 Pa eingestellt.
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In
vergleichendem Beispiel 1 gelangt die Platte nicht in korrekter
Weise bis an die Endposition der Transportbahn.
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Für die Belichtung
der Platte ist ein manuelles Laden der Lasertrommel notwendig.
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Belichtung
des wärmeempfindlichen
Bilderzeugungselements Alle die obenerwähnten Materialien werden mit
einem Creo 3244-TTM-Außentrommel-Druckplattenbelichter
bei 2400 dpi und den in nachstehender Tabelle angegebenen Leistungen
bebildert.
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Entwicklung
des bildmäßig belichteten
Elements
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Nach
Belichtung des fertigen Bilderzeugungselements wird das Element
in einer wässrig-alkalischen Entwicklerlösung entwickelt.
Diese Entwicklung erfolgt bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min.
und einer Temperatur von 25°C
in einem TECHNIGRAPH NPX-32TM-Entwicklungsgerät, das mit
OZASOL EP262ATM (OZASOL EP262ATM wird
von Agfa vertrieben) und Wasser in der Spülzone und OZASOL RC795TM-Gummi im Gummierbereich gefüllt ist.
Alle die erhaltenen Druckplatten weisen ein intaktes Bild ohne Ätzfehler
auf.