DE69900799T2

DE69900799T2 - Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von positiv arbeitenden Druckplatten

Info

Publication number: DE69900799T2
Application number: DE1999600799
Authority: DE
Inventors: Guido Hauquier; Marc Van Damme; Joan Vermeersch; Eric Verschueren
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1998-04-15
Filing date: 1999-02-23
Publication date: 2002-08-14
Anticipated expiration: 2019-02-24
Also published as: JP2000131831A; DE69900799D1; JP4208339B2

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.
Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit einem zugenommenen Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in den belichteten Bereichen und nicht-belichteten Bereichen in einem wäßrigen Entwickler.

ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK

Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.
Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.
Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein. Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weitverbreitet eingesetzt.
Während der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.
Es sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung in der belichteten Bereichen löslich gemacht wird. Während der darauffolgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.
Die obenbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise ist zwar umständlich und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.
Es sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines fotografischen Films im obenbeschriebenen Verfahren verzichten zu können und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu reproduzierende Bild verkörpernden Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung. Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer Silberhalogenidschicht zu überziehen. Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer vollflächigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt. Solch ein Verfahren ist beispielsweise in der JP-A 60-61752 beschrieben, beinhaltet jedoch den Nachteil, daß eine komplexe Entwicklung und zugehörige Entwicklerflüssigkeiten benötigt werden.
In der GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht oder eine Gasruß enthaltende Schicht auf eine lichtempfindliche Schicht vergossen wird. Diese Metallschicht wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren beinhaltet aber noch immer den Nachteil, daß die Bildmaske auf umständlichem Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden muß.
Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, daß sie vor Licht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit problematisch und weisen sie eine niedrigeres Auflösungsvermögen auf. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorläufern ab.
So beschreibt zum Beispiel die Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem infrarotabsorbierenden Pigment wie z. B. Gasruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.
Die US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht - sichtbarem Licht - oder IR-Licht und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wäßrig-alkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728, jedoch mit dem Unterschied, daß sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden, gegenüber Infrarotlaserlicht empfindlichen Bildereugungselements offenbart. Die IR-empfindliche Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die GB-A 1 208 415 offenbart ein Verfahren zur Aufzeichnung von Information mit informationsmäßiger Erhitzung eines Aufzeichnungsmaterials, das einen Träger und eine mit oder ohne Zwischenschicht darüber vergossene wärmeempfindliche Aufzeichnungsschicht enthält, die so zusammengesetzt ist, daß durch eine solche informationsmäßige Erhitzung eine Aufzeichnung der Information mit unterschiedlicher Wasserdurchlässigkeit in verschiedenen Bereichen der Aufzeichnungsschicht erhalten wird, Verarbeitung des Aufzeichnungsmaterials mit einer wäßrigen Flüssigkeit, die durch die wasserdurchlässigen oder wasserdurchlässigeren Bereiche der Aufzeichnungsschicht dringt und so zusammengesetzt ist, daß in den entsprechenden Bereichen von zumindest den Oberflächenbereichen des unterliegenden Trägers oder der unterliegenden Zwischenschicht eine permanente physikalische und/chemische Änderung bewirkt wird, und Entfernung der ganzen Aufzeichnungsschicht, um den informationsmäßig geänderten Träger oder die informationsmäßig geänderte Zwischenschicht freizulegen.
In JP-A-01-46739 wird ein Verfahren zum Verhüten von durch Schaum verursachten linienweisen Ungleichmäßigkeiten offenbart und zwar durch Auflösen in einem Gießlösungsmittel von einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die zumindest ein strahlungsempfindliches Material, ein Fluortensid und ein Entschäumungsmittel enthält, wonach die Lösung auf einen Träger vergossen und getrocknet wird.
In JP-A-02-29750 wird ein Verfahren zur Anfertigung einer strahlungsempfindlichen, zur Verwendung mit einer positiven strahlungsempfindlichen Druckplatte geeigneten Zusammensetzung offenbart, wobei eine o-Naphthochinondiazidsulfonsäure, ein alkalilösliches Harz und ein nicht-ionisches Tensid wie ein Polyoxyethylennaphthol benutzt werden.
In der EP-A 527 369 wird ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer positivarbeitenden lichtempfindlichen Schicht mit rauher Oberfläche offenbart, die als lichtempfindliche Verbindung zumindest ein 1,2-Chinondiazid, als wasserunlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches oder quellbares Bindemittel ein Polykondensat oder Polymer und einen Füllstoff enthält, wobei die lichtempfindliche Schicht in einem Schichtgewicht von 3 g/m² oder weniger (i) als Füllstoff Kieselsäure mit einem mittleren Durchmesser zwischen 3 und 5 um und einem äußersten Grenzwert von 15 um in einer solchen Menge enthält, daß eine Becksche Schlüpfrigkeit zwischen 20 und 100 s erhalten wird, und (ii) fernerhin ein Tensid mit Polysiloxaneinheiten enthält.
In der EP-A 823 327 wird eine positive strahlungsempfindliche Zusammensetzung mit einem Unterschied in Solubilisierbarkeit in einem alkalischen Entwickler zwischen einem belichteten und nichtbelichteten Bereich offenbart, wobei die Zusammensetzung als den Unterschied in Solubilisierbarkeit bewirkende Komponenten (a) ein fotothermisches Umwandlungsmaterial und (b) eine hochmolekulare Verbindung enthält, deren Solubilisierbarkeit in einem alkalischen Entwickler hauptsächlich durch eine Änderung, außer einer chemischen Änderung, änderbar ist.
In der EP-A 678 380 wird weiterhin ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht auf einen gekörnten Metallträger unter einer laserablatierbaren Oberflächenschicht angebracht ist. Bei bildmäßiger Belichtung wird die Oberflächenschicht zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert. Die Druckplatte wird anschließend mit einer Reinigungsflüssigkeit verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch die hydrophile Oberflächenschicht freizulegen.
In EP-A 0 864 420, die den aktuellen Stand der Technik gemäß Art. 54 (3) EPC darstellt, wird der Einsatz von durch ICI (später Zeneca, zur Zeit Avecia Ltd.) erhältlichen Solsperse-Tensiden in thermischen lithografischen Druckplatten beschrieben.

AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur einfachen Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches, in selektiver, schneller, praktischer und ökologischer Weise entwickelbares Bilderzeugungselement zur Herstellung von positiven lithografischen Druckplatten mit hervorragenden Druckeigenschaften bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit hoher Empfindlichkeit gegenüber Infrarotstrahlung bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement bereitzustellen, das einen merklichen Unterschied in Entwickelbarkeit in einem Entwickler zwischen den belichteten Bereichen und den nicht-belichteten Bereichen aufweist.
Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.

KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung verschafft ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das aus einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht mit einem in einer wäßrig- alkalischen Lösung löslichen Polymer und auf der gleichen Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die gegenüber IR-Strahlung empfindlich ist und nicht durch einen alkalischen Entwickler durchdringbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht und/oder die Deckschicht ein Tensid enthält (enthalten), mit der Voraussetzung, daß als Tensid nicht Solsperse 5000 oder Solsperse 28000 benutzt wird.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG

Es hat sich herausgestellt, daß ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung zur Herstellung einer hochqualitativen lithografischen Druckplatte in einfacher Weise erhalten werden kann.
Die erste Schicht und/oder die Deckschicht (ebenfalls als zweite Schicht bezeichnet) enthält (enthalten) ein Tensid. Das Tensid kann ein kationisches, ein anionisches oder ein amfoteres Tensid sein, ist jedoch vorzugsweise ein nicht-ionisches Tensid. Das Tensid wird vorzugsweise aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkyltensiden, Alkylphenyltensiden und ganz besonders bevorzugt Polysiloxantensiden gewählt. Besonders bevorzugt wird eine Kombination von zumindest zwei Polysiloxantensiden. Das Tensid ist vorzugsweise in der Deckschicht enthalten. Die Menge Tensid liegt vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,3 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,003 und 0,050 g/m².
Die erfindungsgemäße Deckschicht enthält einen IRabsorbierenden Farbstoff oder ein IR-absorbierendes Pigment und ein Bindemittelharz. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-absorbierenden Farbstoffen und Pigmenten benutzt werden, bevorzugt jedoch wird der Einsatz eines einzelnen IR-absorbierenden Farbstoffes oder Pigments. Als IR-absorbierende Farbstoffe werden IR-absorbierende Cyaninfarbstoffe bevorzugt. Besonders nutzbare IR-absorbierende Cyaninfarbstoffe sind Cyaninfarbstoffe mit zwei Indoleningruppen. Ganz besonders bevorzugt wird Verbindung I der folgenden Struktur.
Besonders nutzbare IR-absorbierende Pigmente sind Gasruß, Metallcarbide, Metallboride, Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch ohne den A-Bestandteil, z. B. WO2,9. Es können gleichfalls leitfähige polymere Dispersionen benutzt werden, wie leitfähige polymere Dispersionen auf der Basis von Polypyrrol oder Polyanilin. Die erzielte lithografische Leistung und insbesondere die erzielte Auflagenfestigkeit hängt von der Wärmeempfindlichkeit des Bilderzeugungselements ab. In dieser Hinsicht hat es sich herausgestellt, daß mit Gasruß sehr gute und günstige Ergebnisse erzielbar sind.
Ist der Deckschicht ein IR-absorbierender Farbstoff einverleibt, so enthält sie vorzugsweise ebenfalls einen Farbstoff oder ein Pigment, der (das) im sichtbaren Spektralbereich absorbiert, wodurch das nach IR-Bestrahlung und Entwicklung in einem wäßrig-alkalischen Entwickler erhaltene Bild visuell geprüft werden kan.
Die IR-absorbierenden Farbstoffe oder Pigmente sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 99 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 50 und 95 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, enthalten.
Die Deckschicht kann vorzugsweise als Bindemittel ein wasserunlösliches Polymer wie einen Celluloseester, ein Copolymer aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Silikonharze usw. enthalten. Bevorzugt als Bindemittel wird Nitrocelluloseharz.
Die Gesamtmenge der Deckschicht variiert vorzugsweise zwischen 0,010 und 5 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,020 und 1 g/m².
In der Deckschicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in der wäßrig-alkalischen Lösung, in diesem Falle im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler, bewirkt.
In der vorliegenden Erfindung wird die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit während der bildmäßigen IR-Belichtung dermaßen erhöht, daß die bebilderten Teile während der Entwicklung entfernt werden, ohne die nicht-bebilderten Teile zu solubilisieren und/oder zu beschädigen.
Die Entwicklung mit der wäßrig-alkalischen Lösung erfolgt vorzugsweise innerhalb eines Zeitraums zwischen 5 und 120 s.
Zwischen der Deckschicht und dem lithografischen Träger liegt in der vorliegenden Erfindung eine erste Schicht vor, die in einer wäßrigen Entwicklerlösung löslich ist, besonders bevorzugt in einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung mit vorzugsweise einem pH zwischen 7,5 und 14. Diese erste Schicht liegt zwar vorzugsweise an der Deckschicht an, jedoch können andere Schichten zwischen der Deckschicht und der ersten Schicht eingefügt werden. Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Bindemittel sind vorzugsweise hydrophobe Bindemittel, wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS--Platten verwendet werden, z. B. Novolakpolymere, Hydroxystyroleinheiten enthaltende Polymere, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44 45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Bindemittel ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und eine partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Weiterhin ist diese in wäßrig-alkalischer Lösung lösliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist vorzugsweise thermisch härtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 550 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die erste Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt 3,4,5- Trimethoxybenzoesäure, oder ein Benzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 20 : 80. Die Gesamtmenge der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Im Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung kann der lithografische Träger ein eloxierter Aluminiumträger sein. Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Der eloxierte Aluminiumträger kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95ºC, siliziert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise fernerhin ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30ºC und 50ºC erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, daß eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070, DE-A 4 423 140, DE-A 4 417 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 4 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 und US-P 4 458 005.
Nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält der lithografische Träger mit einer hydrophilen Oberfläche einen biegsamen Träger, wie z. B. einen Papierträger oder eine Kunststoffolie, der (die) mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden, Letzteres Bindemittel wird besonders bevorzugt.
Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere wie zum Beispiel Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere in Frage. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.
Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise wenigstens 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.
Eine vernetzte hydrophile Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und. Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselsäure benutzt werden. Die kolloidale Kieselsäure kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselsäure mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselsäure zugesetzt werden, z. B. Kieselsäure, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von wenigstens 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.
Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger kann zwischen 0,2 um und 25 um variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 um und 10 um.
Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.
Als biegsamer Träger eines lithografischen Trägers nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststoffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, eine Celluloseacetatfolie, eine Polystyrolfolie, eine Polycarbonatfolie usw. Der Kunststoffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.
Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselsäure, wie in den EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselsäure in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Weiterhin liegt das Verhältnis von Kieselsäure zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselsäure vorzugsweise wenigstens 300 m²/g, besonders bevorzugt wenigstens 500 m²/g.
Die erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung ist eine bildmäßige Abtastbelichtung unter Verwendung eines im Infrarotbereich (IR) oder nahen Infrarotbereich, d. h. im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl einer kurzen als einer langen Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 us und 20 us.
Nach der bildmäßigen Entwicklung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement durch Spülung mit einer wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt. Als wäßrig-alkalische Lösungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche, die zum Entwickeln herkömmlicher positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Somit werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit in der wäßrig-alkalischen Lösung während der Belichtung erhöht ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten wird.
In der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten Entwicklers von größter Bedeutung.
Demnach sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des Alkalis und das Verhältnis der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, daß nur unter Verwendung des Entwicklers mit der obigen Zusammensetzung eine Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung niedrig ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden kann.
Die Entwickler und die Nachfüllösungen für den Entwickler, die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise wäßrige Lösungen, die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M&sub2;O enthalten, wobei der Entwickler SiO&sub2; und M&sub2;O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5 enthält und ein SiO&sub2;-Verhältnis zwischen 0,5 und 5 Gew.-% aufweist. Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler können gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche anderen alkalischen Mittel sind anorganische alkalische Mittel wie Ammoniumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniumhydroxid.
Von großer Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO&sub2;]/[M&sub2;O] im Entwickler, das in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und 1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten, während bei einem Molverhältnis von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich nicht völlig gelöst oder entfernt werden kann. Zudem liegt das SiO&sub2;- Verhältnis im Entwickler und in der Nachfüllösung vorzugsweise zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO&sub2;-Verhältnisses ermöglicht es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten, sogar wenn über einen langen Zeitraum eine größe Menge von erfindungsgemäßen Druckplatten verarbeitet wird.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Entwickler eine wäßrige Lösung eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO&sub2;]/[M&sub2;O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO&sub2;- Verhältnis zwischen 1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muß selbstverständlich eine Nachfüllösung benutzt werden, deren alkalische Stärke größer oder gleich der alkalischen Stärke des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung zu beschränken, ist es vorteilhaft, daß das Molverhältnis [SiO&sub2;]/[M&sub2;O] der Nachfüllösung kleiner oder gleich dem Molverhältnis [SiO&sub2;]/[M&sub2;O] des Entwicklers ist oder das SiO&sub2;- Verhältnis hoch ist, wenn das Molverhältnis des Entwicklers dem Molverhältnis der Nachfüllösung gleich ist.
In den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfüllösungen können je nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser bei 20ºC von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche organischen Lösungsmittel sind Carbonsäureester wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol, alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol, halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder kombiniert benutzt werden. Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel werden dem Entwickler oder der Nachfüllösung für den Entwickler in der Regel in einer Höchstmenge von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.
Zwecks der Verbesserung von deren Entwicklungseigenschaften kann in den erfindungsgemäß verwendeten Entwicklern und Nachfüllösungen gleichzeitig ein Tensid benutzt werden. Beispiele für solche Tenside sind u. a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol (C&sub8; ~ C&sub2;&sub2;) wie Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81 (Handelsname von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze von Phosphorsäureestern mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat, Alkylarylsulfonsäuresalze wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat, Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat, Sulfonsäuresalze von Alkylamiden wie C&sub1;&sub7;H&sub3;&sub3;CON(CH&sub3;)CH&sub2;CH&sub2;SO&sub3;Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen Säureestern wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat. Diese Tenside können allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden Sulfonsäuresalze. Diese Tenside können in einer in der Regel nicht über 5 Gew.-%, vorzugsweise nicht über 3 Gew.-% hinauskommenden Menge verwendet werden.
Zur Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwickler und Nachfüllösungen können gleichzeitig die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.
Beispiele für solche Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A-58-75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A 58 190 952 (US-A 4 469 776) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH&sub3;)&sub6;]Cl&sub3;, wie in JN-A 59 121 336 (US-A 4 606 995) beschrieben, ionisierbare Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, lila oder IIIb des Periodensystems, wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, anionische oder amfotere Tenside wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain, wie in JN-A 50 51 324 beschrieben, Tetramethyldecyndiol, wie in US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60 213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchloridprodukte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 (US-A 4 467 027) beschrieben, und alkalilösliche Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein und Thioglycolsäure, anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A 58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat, wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen, wie in JN-A 59 84 241 (US-A 4 500 625) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 10 beschrieben, und Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.
Im Verfahren zur Entwicklungsverarbeitung der vorliegenden Erfindung kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfüllösung für Entwickler benutzt werden. Beispiele für solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfüllösung mit zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der Menge von verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird, wie in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931) beschrieben, ein Verfahren, in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone gelöst wird, und die Nachfüllösung proportional zum nachgewiesenen Ausmaß der Herauslösung der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95 349 (US-A 4 537 496) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfüllösung durchzuführen, wie in GB-A 2 208 249 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Druckplatte kann ebenfalls in Form einer nahtlosen Büchse als Druckplatte in einem Druckzyklus eingesetzt werden. Bei dieser Anwendung wird die Druckplatte mittels eines Lasers in zylindrischer Form zusammengelötet. Diese zylindrische Druckplatte, deren Durchmesser dem Durchmesser der Drucktrommel gleich ist, wird auf die Drucktrommel geschoben, anstatt auf herkömmlichem Wege als in herkömmlicher Weise angefertigte Druckplatte auf der Druckpresse angeordnet zu werden. Genauere Angaben über Büchsenplatten finden sich in "Grafisch Nieuws", Keesing Verlag, 15, 1995, Seite 4 bis 6.
Nach der Entwicklung eines bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wäßrig-alkalischen Lösung und Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte zum Verbessern der Dauerhaftigkeit noch bei einer Temperatur zwischen 200ºC und 300ºC über einen Zeitraum von 30 Sekunden bis 5 Minuten eingebrannt werden. Das Bilderzeugungselement kann ebenfalls einer vollflächigen Nachbelichtung mit UV-Strahlung unterzogen werden, um das Bild zu härten und somit die Auflagenhöhe der Druckplatte zu steigern.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.

Beispiele

Beispiel 1

Herstellung des lithografischen Trägers

Eine 0,30 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wäßrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50ºC entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35ºC und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wäßrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra vors 0,5 um zu erhalten.
Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wäßrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60ºC geätzt und anschließend 30 s bei 25ºC mit entmineralisiertem Wasser gespült.
Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45ºC, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wäßrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m² Al&sub2;O&sub3; enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, anschließend mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, mit einer Polyvinylphosphonsäure enthaltenden Lösung und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet, danach mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20ºC gespült und getrocknet.

Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements 1

Auf den obenbeschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 um eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 um die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,885 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120ºC getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000TM (von Zeneca Specialities, GB), 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000TM und 14 mg/m² FLUORAD FC 431TM.
FLUORAD FC 431TM ist ein nicht-ionischer alifatischer polymerer Perfluorester von 3M,, USA.

Beispiel 2

Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements 2

Auf den lithografischen Träger von Beispiel 1 vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 um eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 86% ALNOVOL SPN452TM und 12% 3, 4, 5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 um die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,3 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird bei einer Temperatur von 120ºC getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m² des IR-Farbstoffes Verbindung 1, 10 mg/m² des Farbstoffes BASONYL-BLAU 636TM (ein von BASF vertriebener Triarylmethanfarbstoff), 2 mg/m² TEGOGLIDE 265TM (ein Polyether-Siloxan-Copolymer) und 5 mg/m² TEGOGLIDE 410TM (ein polyethermodifiziertes Polysiloxan) (beide Silikontenside werden von Tego Chemie Service GmbH vertrieben).
Dieses Material wird mit einem (von Creo vertriebenen) CREO TRENDSETTER 3244-TTM-Außentrommel-Druckplattenbelichter bei einer Energiedichte von 186 mJ/cm² bei 2400 dpi und 150 TpM bebildert.
Das mit IR-Strahlung bebilderte Material wird dann in einem TECHNIGRAPH NPX-32TTM-Entwicklungsgerät, in dem OZASOL EP26TM Entwickler (OZASOL EP26TM wird von Agfa vertrieben) benutzt wird, bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min. und einer Temperatur von 25ºC entwickelt.
Die IR-belichteten Bereiche lösen sich sehr schnell heraus, ohne die nicht-IR-belichteten Bereiche zu beschädigen. Dadurch wird eine positivarbeitende Druckplatte erhalten.
Diese Platte wird in eine Heidelberg GTO46-Druckpresse eingespannt und mit einer herkömmlichen Druckfarbe (K+E 800) und einem herkömmlichen Feuchtwasser (Rotamatic) in einem Druckzyklus eingesetzt. Es werden. Kopien guter Qualität erhalten, d. h. keine Schaumbildung in den IR-belichteten Teilen und eine gute Farbanziehung in den nicht-bebilderten Teilen.

Vergleichendes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement 3

Bei diesem vergleichenden Element 3 wird auf den Einsatz der Tenside TEGOGLIDE 265TM und TEGOGLIDE 410TM in der IR-empfindlichen Deckschicht des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements 2 verzichtet. Dieses Material wird mit einem CREO TRENDSETTER 3244-TTM- Außentrommel-Druckplattenbelichter bei einer Energiedichte von 186 mJ/cm² bei 2400 dpi und 150 TpM bebildert.
Das mit IR-Strahlung bebilderte Material wird dann in einem TECHNIGRAPH NPX-32TM-Entwicklungsgerät, in dem OZASOL EP26TM- Entwickler (OZASOL EP26TM wird von Agfa vertrieben) benutzt wird, bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min. und einer Temperatur von 25ºC entwickelt.
Die IR-belichteten Bereiche lösen sich sehr schnell heraus. Dabei ist eine schwere Beschädigung der nicht-IR-belichteten Bereiche zu beobachten. Dadurch wird eine nutzlose Druckplatte erhalten.
Diese Platte wird in eine Heidelberg GTO46-Druckpresse eingespannt und mit einer herkömmlichen Druckfarbe (K+E 800) und einem herkömmlichen Feuchtwasser (Rotamatic) in einem Druckzyklus eingesetzt. Es werden Kopien schlechter Qualität erhalten, d. h. keine gute Farbanziehung in den nicht-bebilderten Teilen.
Ergebnisse: die Dichte der Schicht und die Dmax- und Dmin-Werte nach der Bebilderung und Entwicklung werden mit einem MacBeth 918SB- Cyanfilter gemessen.

Claims

1. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das aus einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht mit einem in einer wäßrig-alkalischen Lösung löslichen Polymer und auf der gleichen Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die gegenüber IR-Strahlung empfindlich ist und nicht durch einen alkalischen Entwickler durchdringbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht und/oder die Deckschicht ein Tensid enthält (enthalten), mit der Voraussetzung, daß als Tensid nicht Solsperse 5000 oder Solsperse 28000 benutzt wird.

2. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Tensid aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkyltensiden und Alkylphenyltensiden gewählt wird.

3. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Tensid ein Polysiloxantensid ist.

4. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Tensid in einer Menge zwischen 0,003 und 0,050 g/m² enthalten ist.

5. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer in der ersten Schicht ein hydrophobes Polymer ist.

6. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophobe Polymer ein Novolakharz oder ein Hydroxystyroleinheiten enthaltendes Polymer ist.

7. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht eine Verbindung aus der Gruppe bestehend aus niedermolekularen Säuren und Benzophenonen enthält.

8. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der lithografische Träger ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger ist.

9. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der elektrochemisch gekörnte und eloxierte Aluminiumträger mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet ist.

10. Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.

a) bildmäßige Belichtung eines nach einem der Ansprüche 1 bis 9 definierten wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements mit IR- Strahlung,

b) Entwicklung des bildmäßig belichteten wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements mit einem wäßrig-alkalischen Entwickler, wodurch die belichteten Bereiche der Deckschicht und die unterliegenden Bereiche der ersten Schicht gelöst werden und die unbelichteten Bereiche der ersten Schicht ungelöst zurückbleiben.