DE69900557T2 - Vorrichtung zur Kontrolle und/oder Bearbeitung eines Musters - Google Patents
Vorrichtung zur Kontrolle und/oder Bearbeitung eines MustersInfo
- Publication number
- DE69900557T2 DE69900557T2 DE69900557T DE69900557T DE69900557T2 DE 69900557 T2 DE69900557 T2 DE 69900557T2 DE 69900557 T DE69900557 T DE 69900557T DE 69900557 T DE69900557 T DE 69900557T DE 69900557 T2 DE69900557 T2 DE 69900557T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- imaging device
- gyroscope
- testing
- movements
- control means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 6
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/37—Measurements
- G05B2219/37134—Gyroscope
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/86—Scanning probe structure
- Y10S977/872—Positioner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein System zur Überprüfung und/oder Bearbeitung einer Probe auf einem mit einer Prüf- oder Abbildungsvorrichtung versehenen Tisch.
- Hochauflösende Lithographie- und Mikrobearbeitungswerkzeuge (z. B. ein Elektronenstrahl - Lithographiesystem, ein Stepper für den fernen UV-Bereich), Uberprüfungs- und Prozeßsteuerungsmittel (z. B. ein CD-SEM, Hilfsmittel zur Auffindung und Nachprüfung von Defekten) sowie Analyse- und Prüfmittel (ein SEM, VIB, AFM, hochauflösende Hilfsmittel, welche Lichtquellen im UV-Bereich, im fernen UV-Bereich bzw. im EIN-Bereich verwenden) benötigen Tische zur Halterung und Bewegung der zu überprüfenden und/oder zu bearbeitenden Probe.
- Mit steigenden Anforderungen an das Auflösungsvermögen dieser Systeme erhöhen sich auch ständig die Anforderungen an die Tische im Hinblick auf Stabilität und Positioniergenauigkeit. Zulässige Meßunsicherheiten und Stabilitätsabweichungen liegen hierbei unter 100 Nanometern und werden möglicherweise unter 1 Nanometer sinken. Die mechanische Ausführung und die Mechanik des Tisches kann dieser Herausforderung nicht länger alleine gerecht werden, so daß es notwendig ist, Positionssteuermittel zur Unterstützung der Positioniergenauigkeit und Tischstabilität einzusetzen.
- Die Tischpositionssteuerung erfolgt hauptsächlich mit Hilfe zweier Hilfsmittel, nämlich eines linearen optischen Kodierers und eines Laser-Interferometers. Ein linearer Kodierer besteht aus optischen Gittern bzw. optischen Einteilungen, die mit dem Tisch verbunden sind und deren Bewegung durch geeignete am nicht beweglichen Teil der Tischanordnung vorgesehene optische Sensoren gelesen wird. Die Laser-Interferometersteuerung nutzt die Interferenz zwischen einem reflektierten Strahl, der durch einen mit dem Tisch verbundenen Spiegel erzeugt wird, und einem Referenzstrahl. Da die Wellenlänge des Laserstrahls als Maßeinheit verwendet wird, bieten Laserinterferometer eine viel bessere Positioniergenauigkeit (im Bereich von 10 nm) als optische Kodierer, die eine Genauigkeit im Bereich von 100 nm aufweisen.
- Der Nachteil linearer Kodierer besteht in ihrer begrenzten Genauigkeit. Laser-Interferometer sind hingegen bedeutend genauer, aber dabei auch sehr komplex und kostenintensiv. Die Genauigkeit wird hierbei durch Veränderungen im Brechungsindex des optischen Lichtpfades sowie durch die Qualität der Spiegel begrenzt. Im übrigen werden Laser-Interferometer vorzugsweise für x-y- Koordinatenmessungen eingesetzt. Einrichtungen für eine dreidimensionale Koordinatenmessung der Tischposition sind hingegen sehr schwer zu realisieren.
- Aus der EP-A-0 559 402 und der US-A-3 936 716 sind Stabilisiersysteme zur Stabilisierung einer Plattform mit Hilfe von Gyroskopmitteln bekannt.
- Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein System gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1 bzw. 7 zu schaffen, das präzise, einfache und kostengünstige Positionssteuermittel umfaßt.
- Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, Mittel vorzusehen, die sowohl die genaue Steuerung der Position des Tisches relativ zur Prüf- oder Abbildungsvorrichtung als auch die mechanische Ermittlung und die Stabilisierung mechanischer Störungen (z. B. Schwingungen, Abdrift) ermöglichen.
- Die genannten Aufgaben werden durch die Merkmale des Anspruches gelöst.
- Die Positionssteuermittel lassen sich vorzugsweise in einem Prüfsystem (Korspuskularstrahlsystem, Atomkraft- Mikroskopen, hochauflösende Hilfsmittel) einsetzen
- Die Gyroskopmittel sind zur Messung von Bewegungen in einer, zwei oder drei Dimensionen ausgelegt.
- Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist wenigstens ein Motor zur Bewegung des Tisches und/oder der Prüf- oder Abbildungsvorrichtung vorgesehen, der mit den Positionssteuermitteln in Wirkverbindung steht.
- Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
- Das System zur Überprüfung und/oder Bearbeitung von Proben gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel umfaßt eine Prüf- oder Abbildungsvorrichtung. Die Prüf- und/oder Abbildungsvorrichtung gemäß dem beschriebenen Ausführungsbeispiel besteht aus einer Rastersonde oder einer Säule mit Strahlerzeugungsmitteln und Mitteln zur Strahlablenkung. Ist eine Säule vorgesehen, so ist diese mit Säulengyroskopmitteln zur Ermittlung von Bewegungen der optischen Säule ausgestattet. Zudem stehen die Steuermittel in Wirkverbindung mit den Ablenkmitteln, um unkontrollierte Bewegungen (Schwingungen, Abdrift) des Tisches relativ zur Säule zu kompensieren.
- Weitere Ausführungsbeispiele und Vorteile der Erfindung werden im folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigen
- Fig. 1 eine Schemadarstellung des beweglichen Tisches,
- Fig. 2 eine schematische Seitenansicht des in Fig. 1 gezeigten beweglichen Tisches,
- Fig. 3 eine Schemadarstellung des beweglichen Tisches gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel und
- Fig. 4 eine Schemadarstellung der eine optische Säule umfassenden Vorrichtung.
- Die im folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele umfassen jeweils einen beweglichen Tisch. Allerdings kann stattdessen auch die Prüf- oder Abbildungsvorrichtung (d. h. die Säule) bewegt werden. In einem solchen Fall sind die Gyroskopmittel zumindest an der Prüf- oder Abbildungsvorrichtung befestigt.
- Die Fig. 1 und 2 zeigen einen Tisch 1 mit einer Tragplatte 1a und einer Probenplatte 1b. Auf der Probenplatte 1b ist eine zu untersuchende Probe 2 gehaltert. Der Tisch läßt sich mit Hilfe eines ersten Motors 1d und eines zweiten Motors 1e in X- und Y-Richtung bewegen. Zusätzlich kann ein dritter Motor für eine Bewegung in Z-Richtung vorgesehen werden. Ein derartiger beweglicher Tisch ist aus dem Stand der Technik bereits bekannt.
- Am beweglichen Tisch 1 sind Tischgyroskopmittel 3 befestigt, wobei die Gyroskopmittel vorzugsweise an der Rückseite der Probenplatte 1b gehaltert sind.
- Gyroskopmittel sind in der Lage, Bewegungen mit hoher räumlicher und zeitlicher Auflösung zu entdecken und zu messen. Jüngste Entwicklungen in der mikroelektromechanischen Technologie versprechen eine erhebliche Reduzierung von Größe, Gewicht und Kosten derartiger Sensoren. Es existieren bereits tunneleffektgestützte Gyroskope, bei denen die hohe Verschiebungssensibilität bei der Quantentunnelung zur Erzielung der gewünschten Auflösung eingesetzt wird.
- Die Gyroskopmittel 3 sind zur Messung von Bewegungen des Tisches 3 in einer, zwei oder drei Dimensionen ausgelegt. Diese Messung läßt sich entweder durch Verwendung von Gyroskopelementen realisieren, die in allen gewünschten Richtungen ansprechen, oder durch den Einsatz von Gyroskopelementen für eine oder zwei der zu messenden Dimensionen. Üblicherweise überwachen die Gyroskopmittel zumindest die Bewegungsrichtungen, in denen sich durch die Tischmotoren Bewegungen durchführen lassen. Allerdings kann es von Vorteil sein, selbst dann, wenn sich der Tisch nur in X- und Y-Richtung bewegen läßt, unkontrolliert e Bewegungen auch in der dritten Richtung (Z-Richtung) zu erfassen.
- Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel, bei dem Gyroskopmittel 3, 3', 3" an unterschiedlichen Stellen am beweglichen Tisch 1b gehaltert sind. Bei einer solchen Anordnung kann man Messungen an drei voneinander unabhängigen Stellen durchführen, wodurch sich die Position jedes Punktes am Tisch mit sehr hoher Genauigkeit bestimmen läßt. Einwirkungen und Meßfehler aufgrund von Leergangbewegungen (Drehungen des Tisches um undefinierte Achsen) lassen sich mit einer solchen Anordnung eliminieren. Natürlich ist es auch möglich, zwei oder mehr als drei unabhängige Gyroskopelemente zur Messung derselben Dimensionen einzusetzen. Durch Verwendung von drei Gyroskopen für jede Dimension ist es möglich, die dreidimensionale Position jedes Punktes des Tisches oder der Vorrichtung zu bestimmen.
- Das System zur Überprüfung und/oder Bearbeitung einer Probe gemäß Fig. 3 umfaßt zudem ein Positionssteuermittel, das die Ausgangssignale vom Tischgyroskopmittel 3 empfängt. Das Steuermittel 4 steht in Wirkverbindung mit den Motoren 1d und 1e des Tisches. Dementsprechend ist es möglich, den Tisch sehr präzise zu bewegen und zudem unkontrollierte Bewegungen zu kompensieren, die beispielsweise auf Schwingungen oder Abdrift zurückgehen.
- Das System zur. Überprüfung und/oder Bearbeitung von Proben umfaßt zudem eine Prüf- oder Abbildungsvorrichtung. Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel besteht diese Vorrichtung in einem Beobachtungshilfsmittel oder einer optischen Säule 5, bei der normalerweise ein Strahl (Licht, Elektronenstrahl, Ionenstrahl) oder eine Sonde zum Einsatz kommt. Zur Messung der Tischposition relativ zur optischen Säule sind Säulengyroskopmittel 6 an der optischen Säule 5 befestigt. Durch Bewertung der Ausgangssignale von den Tischgyroskopmitteln 3 und den Säulengyroskopmitteln 6 durch Steuermittel 4 ist es möglich, die Position des Tisches 1 relativ zur optischen Säule 5 zu bestimmen. Die Säulengyroskopmittel 6 sind zudem in der Lage, Bewegungen in einer, zwei oder drei Dimensionen zu messen.
- Dementsprechend lassn sich Kipp- und/oder Drehbewegungen des Tisches und/oder der Prüf- oder Abbildungsvorrichtung messen.
- Die in Fig. 4 gezeigte optische Säule enthält zudem Mittel 5a zur Erzeugung eines Strahls 7 (z. B. eines Lichtstrahls oder Korpuskularstrahls) und Ablenkmittel 5b zur Ablenkung des Strahls 7.
- Zur Kompensierung mechanischer Schwingungen und Abdrift, die Störungen in das System einführen und Verzerrungen und Auflösungsverluste verursachen, wird eine Rückkopplungsschleife vorgeschlagen. Das Steuermittel 4 empfängt dabei die Ausgangssignale der Tisch- und/oder der Säulengyroskopmittel 3, 6 und erzeugt Korrektursignale, die den zeitabhängigen Bewegungen des Tisches 3 relativ zur optischen Säule 5 proportional sind. Nach Verstärkung und Kalibrierung dieser Signale werden sie den Ablenkmitteln 5b zugeführt, um die Interferenzwirkungen von Schwingungen oder Abdrift zu kompensieren.
Claims (6)
1. System zur Überprüfung und/oder Bearbeitung einer
auf einem Tisch (1) befindlichen Probe (2) mit Hilfe
einer Prüf- oder Abbildungsvorrichtung (5), wobei
die Prüf- oder Abbildungsvorrichtung durch eine
optische Säule (5) gebildet wird, welche
Strahlerzeugungsmittel (5a) und Mittel (5b) zur Ablenkung des
Strahls umfaßt, und wobei die Position des Tisches
relativ zur Prüf- oder Abbildungsvorrichtung mit
Hilfe von Positionssteuermitteln (4) gesteuert wird,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Positionssteuermittel Gyroskopmittel (3) umfassen, welche am Tisch
und/oder der Prüf- oder Abbildungsvorrichtung
befestigt sind und mit den Ablenkmitteln in
Wirkverbindung stehen, um ungewollte Bewegungen des Tisches
relativ zur Säule zu kompensieren.
2. System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Gyroskopmittel (3) dazu ausgelegt sind,
Bewegungen in einer, zwei oder drei Dimensionen zu messen.
3. System nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
für jede zu messende Dimension wenigstens zwei
Gyroskopelemente (3, 3', 3") vorgesehen sind.
4. System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Positionssteuermittel (4) dazu ausgelegt sind,
Bewegungen des Tisches und/oder der Prüf- oder
Abbildungsvorrichtung zu messen und zu steuern.
5. System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens ein Motor zur Bewegung des Tisches (1)
und/oder der Prüf- oder Abbildungsvorrichtung (5)
vorgesehen ist, welcher mit den
Positionssteuermitteln (4) in Wirkverbindung steht.
6. System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Steuermittel (4) dazu ausgelegt sind, Kipp-
und/oder Drehbewegungen des Tisches (1) und/oder der
Prüf- oder Abbildungsvorrichtung (5) zu messen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP99116065A EP1085294B1 (de) | 1999-08-16 | 1999-08-16 | Vorrichtung zur Kontrolle und/oder Bearbeitung eines Musters |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69900557D1 DE69900557D1 (de) | 2002-01-17 |
DE69900557T2 true DE69900557T2 (de) | 2002-05-23 |
Family
ID=8238785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69900557T Expired - Fee Related DE69900557T2 (de) | 1999-08-16 | 1999-08-16 | Vorrichtung zur Kontrolle und/oder Bearbeitung eines Musters |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6509969B1 (de) |
EP (1) | EP1085294B1 (de) |
JP (1) | JP2001116869A (de) |
DE (1) | DE69900557T2 (de) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE402760T1 (de) * | 2000-08-15 | 2008-08-15 | Bioforce Nanosciences Inc | Vorrichtung zur bildung von nanomolekularen netzwerken |
TW527526B (en) * | 2000-08-24 | 2003-04-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7561270B2 (en) | 2000-08-24 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
US6941823B1 (en) * | 2001-11-07 | 2005-09-13 | Veeco Instruments Inc. | Apparatus and method to compensate for stress in a microcantilever |
ATE390562T1 (de) * | 2004-11-19 | 2008-04-15 | Ebm Papst St Georgen Gmbh & Co | Anordnung mit einem luefter und einer pumpe |
EP2097790A2 (de) * | 2006-12-18 | 2009-09-09 | KLA-Tencor Corporation | Vorrichtung und verfahren zur substratverarbeitung |
DE102007046927A1 (de) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Kalibrierung einer Positionsmesseinrichtung einer optischen Einrichtung |
US8089637B2 (en) * | 2008-12-26 | 2012-01-03 | Hermes Microvision, Inc. | Apparatus for detecting a sample |
JP5384412B2 (ja) | 2010-03-31 | 2014-01-08 | 日置電機株式会社 | 検査装置および検査方法 |
CN102393610B (zh) * | 2011-11-12 | 2014-02-12 | 哈尔滨工业大学 | 光刻机工件台陀螺进动式主动稳定装置 |
CN102402134A (zh) * | 2011-11-12 | 2012-04-04 | 哈尔滨工业大学 | 光刻机工件台陀螺定轴式稳定装置 |
US9529280B2 (en) * | 2013-12-06 | 2016-12-27 | Kla-Tencor Corporation | Stage apparatus for semiconductor inspection and lithography systems |
US9625421B2 (en) * | 2014-04-16 | 2017-04-18 | U.S. Department Of Energy | Manually operated small envelope scanner system |
DE102018210098B4 (de) * | 2018-06-21 | 2022-02-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Untersuchen und/oder zum Bearbeiten einer Probe |
KR102684779B1 (ko) * | 2019-11-05 | 2024-07-12 | 한국전력공사 | 레이저 센서 자동정렬 시스템 및 이를 구비하는 연소상태 계측 시스템 |
CN116420069A (zh) * | 2020-09-28 | 2023-07-11 | Asml荷兰有限公司 | 具有投影系统的位置控制的量测工具 |
WO2023170054A1 (de) * | 2022-03-08 | 2023-09-14 | Quantum Technologies Gmbh | Quantencomputersystem und verfahren zum betrieb eines verlegbaren quantencomputers |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3936716A (en) * | 1970-11-24 | 1976-02-03 | U.S. Philips Corporation | Stabilisation system |
GB2252845B (en) * | 1985-04-17 | 1993-01-20 | Ferranti Plc | Electro-mechanical position servo means |
US5368271A (en) * | 1992-03-02 | 1994-11-29 | Hughes Aircraft Company | Gimbal vibration isolation system |
US5426302A (en) * | 1993-04-28 | 1995-06-20 | Board Of Regents, University Of Texas | Optically guided macroscopic-scan-range/nanometer resolution probing system |
US5557156A (en) * | 1994-12-02 | 1996-09-17 | Digital Instruments, Inc. | Scan control for scanning probe microscopes |
-
1999
- 1999-08-16 EP EP99116065A patent/EP1085294B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-08-16 DE DE69900557T patent/DE69900557T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-08-04 JP JP2000237794A patent/JP2001116869A/ja not_active Withdrawn
- 2000-08-11 US US09/637,393 patent/US6509969B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1085294B1 (de) | 2001-12-05 |
JP2001116869A (ja) | 2001-04-27 |
EP1085294A1 (de) | 2001-03-21 |
US6509969B1 (en) | 2003-01-21 |
DE69900557D1 (de) | 2002-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69900557T2 (de) | Vorrichtung zur Kontrolle und/oder Bearbeitung eines Musters | |
DE69208413T2 (de) | Gerät zur automatischen Prüfung von Photomaske | |
DE102016124549B4 (de) | Messsystem | |
DE102017100991B3 (de) | Messvorrichtung und Verfahren zur Erfassung wenigstens einer Längenmessgröße | |
DE102012111008A1 (de) | Optisches Messverfahren und optische Messvorrichtung zum Erfassen einer Oberflächentopographie | |
DE102005052757B4 (de) | Vorrichtung zur Positionsmessung eines Objekts mit einem Laser-Interferometersystem | |
DE102011011065B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur hochpräzisen Vermessung von Oberflächen | |
EP2193404B1 (de) | Kalibrierung einer positionsmesseinrichtung einer optischen einrichtung | |
DE102008010284A1 (de) | XY-Tisch mit einer Messanordnung zur Positionsbestimmung | |
DE102004023739A1 (de) | Messgerät und Verfahren zum Betreiben eines Messgeräts zur optischen Inspektion eines Objekts | |
DE102007036850B4 (de) | Verfahren zur Korrektur von Nichtlinearitäten der Interferometer einer Koordinaten-Messmaschine | |
DE10050749B4 (de) | Laserinterferenzeinrichtung | |
WO2005124274A2 (de) | Kalibrierverfahren, messverfahren, optische messvorrichtung und betriebsverfahren für eine senderanordnung | |
DE112018004038T5 (de) | Messung der Position von Objekten im Raum | |
DE102018114809B4 (de) | Messsystem, insbesondere Koordinatenmessgerät | |
DE102007036815B4 (de) | Verfahren zur Bestimmung des durch die Substrattopologie und eine Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehlers bei der Vermesung von Positionen von Kanten von Strukturen eines Substrats | |
DE102015209219A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung einer Oberfläche einer Maske | |
DE102005037160B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur taktilen Erfassung | |
EP1585938A1 (de) | Optisches messverfahren und prazisionsmessmaschine zur ermittlung von idealformabweichungen technisch polierter oberflachen | |
DE102019116471B4 (de) | Messvorrichtung für ein Rastersondenmikroskop und Verfahren zum rastersondenmikroskopischen Untersuchen einer Messprobe mit einem Rastersondenmikroskop | |
EP0148285B1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Messung von Oberflächenprofilen | |
DE3309951C2 (de) | Optoelektronisches Dehnungsmeßgerät mit berührungsloser Abtastung eines oder mehrerer am Meßobjekt angebrachter Meßgitter | |
DE102014203117B4 (de) | Vorrichtung zum Bestimmen einer Topographie einer Objektoberfläche | |
DE102021214296A1 (de) | Messverfahren und Messvorrichtung zur Messung der Oberflächenrauheit | |
DE102017114023A1 (de) | Verfahren und Detektor zur mit Interferometrie korrelierten Bildaufnahme |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |