DE69815738T2 - Werkstückhalterung und Poliervorrichtung mit derselben - Google Patents

Werkstückhalterung und Poliervorrichtung mit derselben Download PDF

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DE69815738T2 DE69815738T DE69815738T DE69815738T2 DE 69815738 T2 DE69815738 T2 DE 69815738T2 DE 69815738 T DE69815738 T DE 69815738T DE 69815738 T DE69815738 T DE 69815738T DE 69815738 T2 DE69815738 T2 DE 69815738T2
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drive
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Norio Fujisawa-shi Kimura
Toshiya Takeuchi
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  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

  • Ausgangspunkt der Erfindung
  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Werkstückhaltevorrichtung insbesondere für die Verwendung in einer Poliervorrichtung zum Erzeugen einer flachen Spiegeloberfläche auf einem Werkstück, wie beispielsweise einem Halbleiterwafer.
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • In der vergangenen Jahren gab es einen bemerkenswerten Fortschritt in der Dichte von integrierten Schaltungseinrichtungen, was zu einem Trend der Verringerung der Zwischenlinienabstände führt und, in dem Fall der Verwendung optischer Lithographieprozesse, welche kleinere als 0,5 μm Linienabstände umfassen, ist insbesondere die flache Tiefenschärfe mit der Anforderung assoziiert, dass die Fokussierebene der Steppereinrichtung sehr flach ist. Es wird dann notwendig, eine sehr flache Oberfläche auf dem Halbleiterwafer vorzusehen und ein solches Verfahren zur Durchführung der Planarisierung ist die Verwendung einer Poliervorrichtung.
  • 5 zeigt eine herkömmliche Poliervorrichtung mit einem Drehtisch 132 mit einem Poliertuch 131 an dessen Oberfläche angebracht, und einem oberen Ring bzw. Topring 133 zum Halten eines Wafers W und zum Drücken desselben auf den Drehtisch 132. Das Polieren wird durchgeführt durch Drehen des Drehtischs 132 und des Topringgliedes 100 unabhängig voneinander während eine Polierlösung Q von einer Versorgungsdüse 134 auf das Poliertuch aufgebracht wird, um das Oberflächenmaterial sowohl chemisch als auch mechanisch zu entfernen.
  • Wie z. B. in den 6 und 7 dargestellt ist, ist das Topringglied 100, das in der japanischen Offenlegungsschrift H6-198561 offenbart ist, mit einer Drückvorrichtung und einer Antriebsvorrichtung gekoppelt über eine Antriebswelle 102 (Keilnutwelle). Ein Flanschabschnitt 104 ist an dem unteren Ende der Antriebswelle 102 vorgesehen, um sich seitlich zu erstrecken und eine Anzahl von sich radial erstreckenden Antriebsstiften 106 sind an der Seitenoberfläche des Flanschabschnitts 104 vorgesehen. An der Oberseite des Topringgliedes 100 ist eine entsprechende Anzahl von sich vertikal erstreckenden Eingriffsstiften 108 vorgesehen, so dass die Drehung der Antriebswelle 102 die Antriebsstifte 106 mit den Eingriffsstiften 108 in Eingriff bringt, um die Antriebskraft von der Antriebswelle 102 auf das Topringglied 100 zu übertragen.
  • Ferner sind Hohlräume 110, 112, welche jeweils eine sphärische Innenoberfläche besitzen vorgesehen, und zwar an der Unterseite der Antriebswelle 102 bzw. an der Oberseite des Topringgliedes 100, so dass eine abnutzungsresistente Kugel 114 darin platziert werden kann, um eine sphärische Lagereinrichtung 116 zu bilden. Diese sphärische Lagereinrichtung 116 stellt sicher, dass selbst dann, wenn der Drehtisch bezüglich der Antriebswelle 102 verkippt wird, das Topringglied 100 in der Lage ist der Neigung zu folgen, um einen engen Kontakt zwischen dem Werkstück und dem Drehtisch beizubehalten.
  • Die Poliervorrichtung mit einem solchen Aufbau führt das Polieren des Werkstücks W durch, indem das Werkstück W auf den Drehtisch gedrückt wird, und zwar über das Topringglied 100 mit einer bestimmte Druckkraft, während der Topring und der Drehtisch gedreht werden, um eine flache und spiegelpolierte Oberfläche zu erzeugen.
  • Ein Durchgangsloch 118 ist in dem Mittelabschnitt der Antriebswelle 102 vorgesehen und der Oberabschnitt des Durchgangslochs 118 ist mit einer externen Einrichtung, wie beispielsweise einer Fluidversorgungseinrichtung oder einer Saugeinrichtung verbunden und der untere Abschnitt des Durchgangslochs 118 ist mit einem Ende eines Rohrs 120 verbunden, um mit dem Abstandsbereich zwischen dem Topringglied 100 und dem zu polierenden Werkstück W zu kommunizieren. Unterschiedliche Vorgänge werden durch das Rohr 120 durchgeführt, wie beispielsweise die Handhabung von Fluid zwischen der externen Vorrichtung und der Poliervorrichtung, ein Unterdruckhalten des Wafers W an dem Topringglied 100 oder das Drücken des Wafers W auf den Drehtisch durch Vorsehen eines Hochdruckfluids während des Poliervorgangs.
  • Bei einer solchen herkömmlichen Poliervorrichtung kann, da die Druckkraft der Antriebswelle 102 so aufgebaut ist bzw. angelegt wird, dass sie über das sphärische Lager 116 zwischen der Antriebswelle 102 und dem Topring 100 übertragen wird, ein enger Kontakt des Wafers W mit der Drehtischobertläche beibehalten werden. Zur selben Zeit kann jedoch, da die Reibungskräfte, die zwischen dem Wafer W und dem Poliertuch auf dem Drehtisch wirken, das Topringglied 100 einem Drehmoment ausgesetzt werden, was dazu neigt die Struktur 100 um das sphärische Lager 116 zu drehen und abhängig von der Polierbedingung bzw. dem Zustand kann ein stabiles Polieren nicht durchgeführt werden.
  • Das Drehmoment ist proportional zu dem Radialabstand zwischen der Mitte des Lagers 116 und der Polieroberfläche des Wafers W und daher kann z. B. das Polieren stabiler gemacht werden, indem das Topringglied 100 dünner gemacht wird zum Reduzieren des Drehmoments. Ein solcher Ansatz besitzt jedoch das Problem einer möglichen Verformung des Topringgliedes 100 in Folge der Verringerung der Steifheit, sowie anderer Probleme, die mit fehlendem Platz zur Herstellung des Verbindungsloches 122 zwischen dem Rohr und dem Innenraum des Topringgliedes 100 in Beziehung steht oder dem Einbetten der Antriebsstifte 108 an dem Topringglied 100, was zu Schwierigkeiten bei der Herstellung oder der Reduktion der strukturellen Festigkeit des Toprings führt.
  • Da darüber hinaus die Druckkraft durch die Antriebswelle 102 über das sphärische Lager 116 in der herkömmlichen Poliervorrichtung übertragen wird, kann der Wafer W eng gegen die Drehtischoberfläche gedrückt werden. Obwohl diese Anordnung einen hohen Grad an Freiheit für ihr Kippen erlaubt, wird jedoch, da nur ein Antriebsstift an der Topringseite mit einem Eingriffsstift an der Antriebswellenseite in Eingriff kommt, dann wenn die Drehung des Toprings aus irgendeinem Grund instabil wird, der Kontakt zwischen den zwei Stiften ungleichmäßig und die Übertragung der Drehkraft wird instabil was die Drehinstabilität des Toprings noch verstärkt.
  • Darüber hinaus besitzt die herkömmliche Poliervorrichtung einen Metallantriebsstift 102 mit einem Durchgangsloch 118 in dessen Mittelabschnitt. Wenn es Stiftlöcher in der Innenoberfläche des Durchgangslochs 118 gibt, bietet das Anlegen eines Rostschutzüberzugs an die Oberfläche des Durchgangslochs 118 keine ausreichende Abdeckung um eine Rostbildung zu unterdrücken. In einem solchen Fall wird reines Wasser, welches durch das Durchgangsloch 118 in den Raum zwischen dem Topringglied 100 und dem Wafer W gerichtet wird, mit Rostsubstanzen kontaminiert, was die Gefahr einer Verschlechterung der Eigenschaften des Waferprodukts bewirkt.
  • US-A-5,423,558 zeigt einen Halbleiterwafercarrier mit einer Welle. Ein Durchlass innerhalb der Welle sieht eine Vakuumquelle vor und ist mit einer Vakuumleitung gekoppelt. US-A-4,194,324 bezieht sich auf einen Carrier bzw. Träger für zu polierende Halbleiterwafer. Eine Mittelwelle ist vorgesehen, um die eine Spindel drehbar zur Drehung gelagert ist. Die Mittelwelle ist mit einer Wellenbohrung versehen und eine Vakuumquelle kommuniziert durch eine Dreheinheit mit der Wellenbohrung.
  • US-A-5,441,444 zeigt eine Poliermaschine mit einem kleineren Halteabschnitt. Die Poliermaschine weist einen Wellenabschnitt auf, in dessen Axialrichtung ein Durchgangsloch gebohrt ist. Ein Verbindungsraum ist mit einem Saugrohr verbunden durch einen Verbinder, der luftdicht durch einen O-Ring an das Saugrohr gepasst ist. Und der Verbinder ist luftdicht an eine Tragplatte angepasst und zwar durch einen weiteren O-Ring. Somit sind der Verbindungsraum und das Saugrohr mit einem kleinen Freiraum dazwischen miteinander verbunden.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist eine Werkstückhalteeinrichtung gemäß Anspruch 1 vorgesehen. Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen beansprucht.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Es ist ein erstes Ziel der vorliegenden Erfindung eine Werkstückhalteeinrichtung vorzusehen, welche die Durchführung eines stabilen Polierens ermöglicht ohne die strukturelle Festigkeit des Toprings oder den Raum, der notwendig ist zum Bearbeiten des Durchgangslochs oder zum Implantieren der Eingriffsstifte aufzugeben, während erlaubt wird, dass ein enger Kontakt zwischen dem Werkstück und dem Poliertuch auf dem Drehtisch hergestellt wird.
  • Das erste Ziel wurde erreicht in einer Werkstückhalteeinrichtung, die Folgendes aufweist: Ein Topringglied, das eine Halteplatte aufweist zum Halten des Werkstücks an einer Vorderseite und einer Abdeckplatte, die an der Rückseite der Halteplatte befestigt ist durch Eingriff mit einem Eindruckabschnitt, der an einer Rückseite der Halteplatte ausgebildet ist mit einem Vorsprungabschnitt, der an einer Vorderseite der Abdeckplatte ausgebildet ist; eine Antriebswelle zum Tragen des Topringgliedes während eine Übertragung einer Druckkraft zu dem Topringglied erlaubt wird; und eine, eine gekrümmte Oberfläche aufweisende Lagereinheit, die zwischen einem Endteil der Antriebswelle und einer Rückseite der Abdeckplatte vorgesehen ist zum Koppeln der Antriebswelle und des Topringgliedes, während eine Schwenk- bzw. Kippbewegung des Topringgliedes relativ zu dem Drehtisch erlaubt wird, wobei wenigstens ein Teil der die gekrümmte Oberfläche aufweisenden Lagereinheit innerhalb des Eindrück- bzw. Ausnehmungsabschnitts positioniert ist.
  • Bei der vorliegenden Poliervorrichtung ist die die gekrümmte Oberfläche aufweisende Lagereinheit näher an dem Drehtisch angeordnet, indem der Topring dünner ausgebildet ist indem er einen Ausnehmungsabschnitt an der Abdeckplattenseite aufweist und dadurch dass wenigstens ein Teil der Lagereinheit innerhalb des Ausnehmungsabschnitt positioniert ist. Dadurch wird das durch den Drehtisch an dem Werkstück ausgeübte Drehmoment reduziert, was das Verhalten des Werkstücks stabilisiert. Darüber hinaus passt der Ausnehmungsabschnitt der Halteplatte und der Vorsprungsabschnitt an der Halteplatte ineinander, so dass die Steifheit des Toprings nicht beeinträchtigt wird. Die vorliegende Werkstückhalte einrichtung ermöglicht somit die Durchführung eines stabilen Polierens eines Werkstücks ohne irgendwelche wichtigen Faktoren aufzugeben, wie beispielsweise: Beibehalten der Materialanforderungen für die Herstellung der Strömungslöcher und anderer Teile in dem Topring und der enge Kontakt zwischen dem Poliertuch und dem Werkstück. Die die gekrümmte Oberfläche aufweisende Lagereinheit ist üblicherweise ein sphärisches bzw. kugelförmiges Lager, aber andere Lagerkonfigurationen können adaptiert werden und zwar in Abhängigkeit von den Bedingungen bzw. Anforderungen.
  • Bei der obigen Poliervorrichtung kann ein weiterer Ausnehmungsbereich auf einer Rückseitenoberfläche der Abdeckplatte ausgebildet sein und ein weiterer Vorsprungsbereich kann an dem Bodenende der Antriebswelle ausgebildet sein zur Einführung in den Ausnehmungsbereich, so dass die die gekrümmte Oberfläche aufweisende Lagereinheit zwischen dem Ausnehmungsbereich und dem Vorsprungsbereich eingeschlossen ist. Diese Anordnung erlaubt eine Reduktion hinsichtlich der Dicke des Mittelbereichs, wodurch der Stabilisierungseffekt noch weiter verbessert wird.
  • Ein zweites Ziel der Erfindung liegt im Vorsehen einer Werkstückhalteeinrichtung die die Durchführung eines stabilen Polierens ermöglicht durch verlässliche Übertragung der Antriebskraft von der Antriebswelle zu dem Topring während die Freiheit einer Kipp- bzw. Schwenkbewegung zwischen dem Topring und der Antriebswelle beibehalten wird.
  • Das zweite Ziel wurde bei einer Werkstückhalteeinrichtung erreicht, die Folgendes aufweist: Ein Topringglied zum Halten eines Werkstücks; eine Antriebswelle zum Tragen des Topringgliedes um frei kippbar um das Topringglied zu sein und zwar über eine Lagereinheit mit gekrümmter Oberfläche; und ein Kraftübertragungsmechanismus, der zwischen einem Bodenende der Antriebswelle und dem Topringglied angeordnet ist zum Übertragen einer Drehkraft von der Antriebswelle zu dem Topringglied, wobei der Kraftübertragungsmechanismus ein Antriebsglied umfasst, dass sich in eine gegebene Richtung von einer Antriebwellenseite erstreckt und ein angetriebenes Glied, dass sich von einer Topringgliedseite zu einem Eingriff sort erstreckt, um mit dem Antriebsglied in Eingriff zu kommen, wenn die Antriebswelle gedreht wird und wobei wenigstens das Antriebsglied und/oder das angetriebene Glied so angeordnet ist, dass es das andere Glied von beiden Seiten in einer Umfangsrichtung kontaktiert, um eine relative Umfangs- bzw. Drehbewegung des Topringgliedes bezüglich der Antriebswelle einzuschränken.
  • Diese Konfiguration erlaubt eine verlässliche Übertragung der Antriebskraft von der Antriebswelle zu dem Topringglied ohne Lösen des Kontaktes zwischen dem Antriebsglied und dem angetriebenen Glied. Die Abmessungen, die Form und Ausrichtung des Antriebsgliedes und des angetriebenen Gliedes kann auf unterschiedliche Arten verändert werden, aber im Allgemeinen werden Stiftformen verwendet. Es wird bevorzugt, dass das Material der Konstruktion ausreichend steif ist, um einen verlässliche Kraftübertragung zu ermöglichen, während eine freie Schwenkbewegung in Folge einer gewissen elastischen Deformation erlaubt wird.
  • Diese Glieder stehen in bevorzugter Weise in einer sich überkreuzenden Art und Weise in Eingriff. Normalerweise erstreckt sich das Antriebsglied radial nach außen und das angetriebene Glied erstreckt sich nach oben von der Oberseite des Toprings. Ein Satz von Antriebsgliedern und angetriebenen Gliedern ist ausreichend aber zwei oder mehr Sätze von Gliedern können mit gleichem Abstand um die Umfangsperipherie verteilt sein, um die Übertragungsstabilität zu verbessern.
  • Das Antriebsglied und das angetriebene Glied können in einem Punktkontakt mit jeder Erhebungslinie stehen. In diesem Fall kann der Grad der Freiheit der Schwenkbewegung verbessert werden und insbesondere kann das Kippen in der Vertikalrichtung der Antriebswelle und ein Verdrehen einschließlich einer Umfangsversetzung bis zu einem gewissen Grad aufgenommen bzw. ermöglicht werden.
  • Das Antriebsglied und das angetriebene Glied können über ein elastisches Kissen bzw. Abfederglied in Kontakt stehen. In diesem Fall wird der Grad der Freiheit der Schwenkbewegung beibehalten und Vibrationen können durch elastische Defor mation des Abfederglieds absorbiert werden, um die Werkstückhaltekapazität des Topringgliedes zu stabilisieren.
  • Das eine Glied kann in ein Loch eingebettet sein, das zur losen Aufnahme des anderen Gliedes darinnen vorgesehen ist. Hierdurch erstrecken sich diese Glieder nicht aus der Vorrichtung zum Interferieren heraus und die Positionierung und der Aufbau des anderen Gliedes werden vereinfacht und die Produktionskosten der Poliervorrichtung können verringert werden.
  • Es ist ein drittes Ziel der vorliegenden Erfindung eine Werkstückhalteeinrichtung vorzusehen, welche ermöglicht, das reines Wasser dort hindurch geliefert wird, um eine Kontamination des Werkstücks zu verhindern.
  • Das dritte Ziel wurde bei einer Werkstückhalteeinrichtung erreicht, die Folgendes aufweist: Ein Topringglied zum Halten eines Werkstücks; eine Antriebswelle zum Tragen des Topringgliedes um ein freies Schwenken bzw. Kippen des Topringgliedes zu ermöglichen und zwar über eine eine gekrümmte Oberfläche aufweisende Lagereinheit; und ein Kraftübertragungsmechanismus, der zwischen einem Endteil der Antriebswelle und dem Topringglied angeordnet ist zum Übertragen einer Drehkraft von der Antriebswelle zu dem Topringglied, wobei ein Durchgangsloch in einem Mittelbereich der Antriebswelle ausgebildet ist und ein Fluid- bzw. Strömungsmittelrohr in das Durchgangsloch eingeführt ist und zwar in einer solchen Art und Weise, dass ein Ende des Fluidrohrs mit einer externen Einrichtung einschließlich einer Fluidversorgungsquelle in Verbindung steht und ein entgegengesetztes Ende des Fluidrohrs mit einem Raum in Verbindung steht, der zwischen dem Topringglied und dem Werkstück ausgebildet ist.
  • Gemäß der Werkstückhalteeinrichtung ist ein Durchgangsloch durch den Mittelabschnitt der Antriebswelle hindurch ausgebildet und ein Fluidrohr aus einem geeigneten Material, das sich von dem Material der Antriebswelle unterscheidet, ist innerhalb des Durchgangslochs vorgesehen und reines Wasser wird durch das Fluidrohr zu dem Raum zwischen dem Topring und dem Werkstück oder Substrat geliefert, so dass eine Vermischung von Rost in dem Wasser verhindert wird und eine Kontamination des Werkstücks verhindert wird, wodurch die physikalische Präzision der Politur sowie dessen Qualität der chemischen Reinheit verbessert wird.
  • Bei einer obigen Vorrichtung kann das Fluidrohr aus irgendeinem rostfreien und flexiblen Material hergestellt sein.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist eine Querschnittsansicht eines ersten Ausführungsbeispiels der Poliervorrichtung der vorliegenden Erfindung.
  • 2 ist eine Querschnittsansicht des oberen Abschnitts der Vorrichtung gemäß 1.
  • 3 ist eine Draufsicht auf die wesentlichen Teile der Vorrichtung gemäß 1.
  • 4 ist eine perspektivische Ansicht des in 1 dargestellten Ausführungsbeispiels.
  • 5 ist eine schematische Querschnittsansicht einer herkömmlichen Poliervorrichtung.
  • 6 ist eine Querschnittsansicht eines Toprings in der herkömmlichen Poliervorrichtung.
  • 7 ist eine Draufsicht auf die Vorrichtung gemäß 6.
  • Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Werkstückhalteeinrichtung zur Verwendung in einer Poliervorrichtung werden im Folgenden dargestellt unter Bezugnahme auf die 1 bis 4. Die Werkstückhalteeinrichtung weist ein oberes Ringglied bzw. ein Topringglied 10 mit einer insgesamt scheibenförmigen Form, einer Antriebswelle 12 zum Tragen des Topringgliedes 10 und zum Übertragen der Dreh- und Druckkräfte auf das Topringglied 10, und ein Universalgelenk 14 auf, welche die Antriebswelle 12 mit dem Topringglied 10 verbindet und zwar in einer solchen Art und Weise, dass eine Kippbewegung des Topringgliedes relativ zur Antriebswelle 12 aufgenommen bzw. erlaubt wird. In der folgenden Darstellung werden horizon tale Oberflächen unterschiedlicher Bauteile so bezeichnet, dass eine Unterseite, welche näher am Werkstück liegt, die Vorderseite ist und eine Oberseite die von dem Werkstück entfernt ist die Rückseite ist. Ober- und Unterseiten entsprechen somit den Rück- bzw. den Vorderseiten.
  • Jeder dieser Abschnitte wird in größerer Einzelheit nachfolgend beschrieben.
  • Bei diesem Ausführungsbeispiel weist das Topringglied 10 eine Halteplatte 16 mit einer allgemeinen scheibenförmigen Form zum Halten eines Werkstücks, wie beispielsweise eines Wafers mittels einer Saugkraft, einer Abdeckplatte 18 mit einer allgemeinen scheibenförmigen Form, die an der Halteplatte 16 angebracht ist, um einen Raum S an der Oberseite der Halteplatte 16 zu bilden und eine Fixier- bzw. Anbringungsplatte 20 mit einer hohlen Scheibenform auf, zum Abdecken der Abdeckplatte 18 und zum Anbringen derselben an der Halteplatte 16. Ein Führungsring 22 ist an der unteren Außenperipherie bzw. dem unteren Außenumfang der Halteplatte 16 befestigt um den Außenumfang des Werkstücks zu umgeben, wenn die Halteplatte 16 den Wafer an ihrer Unterseite hält. Ein Vertiefungs- oder Ausnehmungsabschnitt 24 ist in der Oberseite (Rückseite im Bezug auf die Vorderseite, welche das Werkstück hält) der Halteplatte 16 ausgebildet und eine Stufenoberfläche 26 ist um den Außenumfang der Halteplatte 16 herum ausgebildet. Andererseits ist ein Vorsprungsabschnitt 28 zum Einpassen in den Vertiefungsabschnitt 24 in dem Mittelbereich der Vorderseite der Abdeckplatte 18 ausgebildet und ein dünner Flanschabschnitt 30, der mit Schrauben bzw. Bolzen an der Stufenoberfläche 26 angebracht werden soll, ist um den Umfangsabschnitt der Abdeckplatte 18 vorgesehen. Die obere (Rück-) Seite der Abdeckplatte 18 besitzt einen mittleren vertieften bzw. ausgenommenen Bereich 32 und einen ringförmigen Schulterabschnitt 34, der dessen Umfang umgibt und ein Außenbereich ist als eine gestufte Oberfläche 36 ausgebildet zur Befestigung an der Anbringungsplatte 20.
  • Die Tiefe des Vertiefungsabschnitts 24 in der Halteplatte 16 ist größer ausgebildet als die Höhe des Vorsprungsabschnitts 28 in der Abdeckplatte 18, wodurch ein Raum S mit bestimmter Dicke zwischen dem Vertiefungsabschnitt 24 und dem Vorsprungsabschnitt 28 ausgebildet wird. Die Halteplatte 16 besitzt eine große Anzahl von Strömungslöchern 38, die vertikal durch die Platte 16 hindurch ausgebildet sind und sie stehen in Verbindung mit dem Fluidloch 40 in der Anbringungsplatte 20 über den Raum S, der zwischen der Abdeckplatte 18 und der Halteplatte 16 ausgebildet ist. Die Strömungslöcher 38 stehen in Verbindung mit der Rückseite des Werkstücks, das an der Vorderseite der Halteplatte 16 gehalten wird. Der Raum S, der in größerer Einzelheit nachfolgend beschrieben wird, dient zum Halten eines Rückseitendrucks darinnen, wenn er mit einer Evakuiereinrichtung verbunden ist, erzeugt er einen Saugkraft, und wenn er mit einer Druckfluidquelle verbunden ist erzeugt er eine Druckkraft.
  • Die Antriebswelle 12 ist durch den Topringkopfabschnitt 42 getragen, der an der Poliervorrichtung angebracht ist, um frei drehbar und vertikal bewegbar zu sein und sie ist mit der Ausgangswelle der Antriebsquelle (Motor mit Reduktionsgetriebe, nicht gezeigt) über eine Riemenscheibeneinrichtung 44 verbunden. Die Vertikalbewegung wird durch die Wirkung der Kolbenstange 48a in dem Topringzylinder 48, der zwischen dem Topringkopf 42 und dem Antriebswellenhalter 46 angeordnet ist (siehe 2), erzeugt. Insbesondere ist der Hauptkörper des Topringzylinders 48 an dem Schulterabschnitt des Antriebswellenhalters 46 angebracht und die Spitze der Kolbenstange 48a ist an der Unterseite des Topringkopfabschnitts 42 angebracht.
  • Die Antriebswelle 12 ist als ein hohles Glied ausgebildet und ein Durchgangsloch 50, das in dessen Mittelabschnitt ausgebildet ist, steht in Verbindung mit einer externen Druckquellenvorrichtung 54 über eine Drehgelenk bzw. eine Drehverbindung 52. Ein korrosionsresistentes bzw. rostfreies Fluidrohr 56, aus einem Polymerharz, wie beispielsweise Teflon oder Polypropylen, ist in das Durchgangsloch 50 eingeführt. Das obere Ende des Fluidrohrs 56 ist mit einem Drehgelenk bzw. einer Drehverbindung 52 verbunden und das Bodenende ist in separate Rohre 56a und 56b aufgeteilt, welche mit dem Fluidloch 40 in der Anbringplatte 20 verbunden sind. Bei diesem Aufbau wird Druckfluid durch die Drehverbindung 52 zu dem oberen Ende des Durchgangslochs 50 geliefert, so dass keine Notwendigkeit besteht ein Horizontalloch an der Seite der Antriebswelle 12 vorzusehen, wodurch sich ein vereinfachter Aufbau und geringe Produktionskosten ergeben.
  • Die externe Druckquellenvorrichtung 54 wird bei diesem Ausführungsbeispiel durch eine Evakuierungseinrichtung 58, eine Druckluftquelle 60 und eine Reinwasserversorgungsquelle 62 vorgesehen, die jeweils selektiv mit den Strömungslöchern 38 in der Halteplatte 16 verbunden werden können durch die Auswahlventile 64a, 64b, 64c, die Drehverbindung 52, die Lieferrohre 56, 56a und 56b. Eine Polierlösungsversorgungsdüse (nicht gezeigt) ist oberhalb des Drehtischs angeordnet, um zu ermöglichen, dass eine Polierlösung auf die Oberfläche des Poliertuchs auf dem Drehtisch geliefert wird.
  • Eine Antriebsplatte 68 mit einem sich nach außen erstreckenden Flanschabschnitt 66 ist an dem Bodenende der Antriebswelle 12 angebracht. Das Universalgelenk 14 ist zwischen der Antriebsplatte 68 und der Abdeckplatte 18 des Topringgliedes 10 vorgesehen zum schwenk- bzw. kippbaren Tragen des Topringgliedes 10 und zum Übertragen der Druckkraft darauf. Das Universalgelenk 14 besitzt einen sphärischen bzw. kugelförmigen Lagermechanismus 70 und einen Drehübertragungsmechanismus 72 zum Übertragen der Drehkraft von der Antriebswelle 12 auf das Topringglied 10.
  • Der sphärische Lagermechanismus 70 wird zunächst beschrieben. In der Mitte der Rückseite der Antriebsplatte 68 ist ein Vorsprungsbereich 76 in einer solchen Art und Weise ausgebildet, dass die Unterseite eine sanfte sphärische Oberfläche bildet und in der Mitte dieses Vorsprungsbereichs 76 ist ein sphärischer Hohlraum 80 ausgebildet zum freien, gleitbaren Halten einer Lagerkugel 78 aus einem eine hohe Härte aufweisenden Material, wie z. B. Keramik. Der Vertiefungsbereich 32 in der Mitte der Oberseite der Abdeckplatte 18 besitzt Breiten- und Tiefenabmessungen, welche ausreichen, um den Vorsprungsbereich 76 der Antriebsplatte 68 aufzunehmen und in der Mitte des Vertiefungsbereichs 32 ist auch ein sphärischer Hohlraum 82 vorgesehen, der mit dem sphärischen Hohlraum 80 zusammenpasst, um die Lagerkugel 78 aufzunehmen. Das Bodenende der Lagerkugel 78 ist inner halb des Vertiefungsabschnitts 24 der Halteplatte 16, d. h. unterhalb des Niveaus der Stufenoberfläche 26 positioniert.
  • Durch Ausbildung des Vertiefungsabschnitts 24 in der Halteplatte und des Vorsprungsbereichs 76 in der Abdeckplatte, wodurch der Topring dünn ausgebildet ist und durch Anordnen wenigstens eines Teils der sphärischen Lagereinheit innerhalb des Vertiefungsabschnitts der Halteplatte 16 wird es möglich, die sphärische Lagereinheit nahe an den Drehtisch heran zu bringen. Der Abstand L zwischen der Mitte der Lagerkugel 78 und der Vorderseite der Halteplatte 16 ist so konstruiert, dass er kleiner als 26 mm ist.
  • Wie in den 1, 3 und 4 dargestellt ist, ist der Schulterabschnitt 34, der um den Vertiefungsbereich 32 der Abdeckplatte 18 herum vorspringt mit mehreren Stiften 84, 86 (sechs in diesem Ausführungsbeispiel) versehen, welche mit gleichem Winkel bzw. Winkelabstand platziert sind und die in entsprechende Löcher 88, 90 eingeführt sind, die an entsprechenden Stellen in dem Flanschabschnitt 66 der Antriebsplatte 68 vorgesehen sind. Diese Stifte 84, 86 sind so verteilt, dass Aufhängstifte 84 zum Aufhängen des Topringgliedes 10 und Antriebsstifte 86 zum Übertragen des Drehmoments an das Topringglied 10 abwechselnd platziert sind. Die Aufhängstifte 84 stehen aus der Oberseite der Antriebsplatte 68 hervor und einen Feder 94 ist zwischen die Anschlagplatte 92, die an dem oberen Ende des Stifts angeordnet ist, und der Antriebsplatte 68 platziert, um (einen Teil der) Last zu tragen, die durch das Topringglied 10 ausgeübt wird und zwar mit der elastischen Kraft der Feder 94.
  • Gemäß den 3 und 4 sind zwei parallele Antriebsstifte 98 horizontal in den Löchern 90 der Antriebsplatte 68 eingebettet und zwar an beiden Umfangsseiten der Antriebsstifte 86. D. h., wie in 4 dargestellt ist, sind zwei kleine bzw. feine Löcher 99 in einer solchen Art und Weise vorgesehen, dass sie sich an der Seitenoberfläche des Flanschabschnitts 66 und in ein Loch 90, das an dem Flanschabschnitt 66 der Antriebsplatte 68 angeordnet ist, öffnet, und die Antriebsstifte 98 sind in diese kleinen Löcher 99 eingeführt und in diesen befestigt bzw. fixiert.
  • Wie in 4 dargestellt ist, ist der Antriebsstift 86 mit einem Kissen bzw. Abfederelement 96 versehen, das aus solchen elastischen Materialien, wie beispielsweise Gummi hergestellt ist, und zwar um dessen Umfang und jedes Kissen 96 besitzt eine Kissenabdeckung 97 an seinem Umfang. Der Antrebsstift 98 berührt den Außenumfang der Kissenabdeckung 97. Der Drehübertragungsmechanismus 72 weist somit Antriebsstifte 98 und die angetriebenen Stifte 86 auf, um das Drehmoment sanft bzw. glatt und mit Bestimmtheit von der Antriebswelle 12 zu dem Topringglied 10 zu übertragen.
  • Als nächstes wird der Betrieb der Poliervorrichtung mit dem oben dargestellten Aufbau beschrieben.
  • Durch Verbinden der Evakuiereinrichtung 58 der externen Druckquellenvorrichtung 54 mit der Drehverbindung 52 wird das Werkstück an der Unterseite der Halteplatte 16 durch ein Ansaugen an den Strömungslöchern 38 in der Halteplatte 16 gehalten, und die Antriebsleistung wird an die Antriebswelle 12 angelegt, um die Halteplatte 16 zu drehen. Da in diesem Fall das Fluidrohr 56 aus Teflon oder Polypropylen hergestellt ist, ist es ausreichend fest, um unter der Belastung der Evakuierung nicht zusammen zu fallen.
  • Gemäß 2 wird der Topringzylinder 48 so betätigt, dass die Kolbenstange 48a in den Topringzylinder 48 gezogen wird, und dann wird, da der Topringkopf 42 an dem Polienrorrichtungsrahmen befestigt ist, der Topringzylinder 48 zusammen mit dem Antriebswellenhalter 46 abgesenkt. Das Werkstück wird dazu gebracht den Drehtisch zuerst zu berühren und dann wird es weiter gegen den Drehtisch gedrückt. Die Zugkraft, die durch die Kolbenstange 48a ausgeübt wird, wird auf das Werkstück übertragen und zwar in der Form einer Druckkraft, und zwar mittels der Antriebswelle 12, der Lagerkugel 78, dem Flanschabschnitt 30 der Abdeckplatte 18 und der Halteplatte 16. Das Werkstück wird somit mit einem vorgegebenen Druck auf das Poliertuch auf dem Drehtisch gedrückt. Mittlerweile wurde, als das Topringglied 10 angefangen hat sich abzusenken, die Drehtischdrehung gestartet und die Polierlösung wird durch die Versorgungsdüse auf das Poliertuch auf dem Drehtisch aufgebracht. Die zu polierende Oberfläche (Unterseite) des Werkstücks wird unter Gegenwart der Polierlösung poliert, so dass der Polierprozess begonnen wird.
  • Da bei diesen Poliervorgang die Druckkraft von der Antriebswelle 12 durch das sphärische Lager 70 übertragen wird, das zwischen der Antriebswelle 12 und dem Topringglied 10 vorgesehen ist, kann selbst dann wenn die vertikale Ausrichtung der Antriebswelle 12 zu der Tuchoberfläche des Drehtischs beeinträchtigt ist, z. B. die Halteplatte 16 sich um eine Mitte der Lagerkugel 78 schwenken bzw. verkippen, so dass das Werkstück in engen Kontakt mit der Tuchoberfläche gehalten wird.
  • Da ferner der Vertiefungsabschnitt 24 und der Vorsprungsabschnitt 28 so ausgebildet sind, dass sie in entgegengesetzter Weise zueinander passen und zwar an der Halteplatte 16 bzw. der Abdeckplatte 18, wird die Dicke des Mittelbereichs der Halteplatte 16 reduziert. Da ferner ein Teil der sphärischen Lagerstruktur innerhalb des Vertiefungsabschnitts 24 vorgesehen ist, wird der Abstand zwischen der Mitte des sphärischen Lagers 70 und der Werkstückoberfläche kurz ausgebildet. Daher wird auch das Drehmoment um das sphärische Lager 70 herum reduziert, so dass das Verhalten des Werkstücks stabilisiert wird. Das Ergebnis liegt darin, dass eine stabile Politur durchgeführt werden kann ohne Aufgeben der Festigkeit der Halteplatte, während alle wesentlichen Polieranforderungen aufrecht erhalten werden, wie beispielsweise das Sicherstellen des Abstands zum Liefern der Polierlösung in dem Topringglied 10 und dem Halten des Werkstücks in engem Kontakt mit dem Poliertuch auf dem Drehtisch.
  • Ferner wird der Abstand zwischen der Mitte des sphärischen Lagers 70 und der Werkstückoberfläche kurz ausgebildet, da die Lagerkugel 78 zwischen dem vertieften Bereich 32 in der Abdeckplatte 18 und dem Vorsprungsbereich 76 am Bodenende der Antriebswelle 12 vorgesehen ist, was auch die stabile Ausrichtung des Werkstücks fördert. Ferner wurde dem Umfangsabschnitt des Topringgliedes 10 eine ausreichende Dicke gegeben, was den Schulterabschnitt 34 und die Stufenoberfläche 36 vorsieht, um weder die Steifheit noch den erforderlichen Raum für die Herstellung des Verbindungslochs 40 oder zum Implantieren der Antriebsstifte 86 aufzugeben.
  • Bei diesem Design bzw. diesem Aufbau der Werkstückhalteeinrichtung sind selbst dann, wenn sich die Halteplatte 16 verkippt die angetriebenen Stifte 86 und die Antriebsstifte 98 in der Vertikalrichtung relativ bewegbar, so dass das Drehmoment der Antriebswelle 12 verlässlich auf die Halteplatte 16 übertragen wird, indem einfach die Kontaktpunkte zueinander verändert bzw. zu einer neuen Stelle gebracht werden. Da ferner die angetriebenen Stifte 86 und die Antriebsstifte 98 mit rechten Winkeln in Punktkontakt zueinander stehen, ist die Reibung gering und die Freiheit des Schwenkens bzw. Kippens wird beibehalten.
  • Bei diesem Ausführungsbeispiel sind die angetriebenen Stifte 86 mit einem elastischen Kissen 96, wie beispielsweise Gummi umgeben, um Vibrationen zwischen der Antriebswelle und dem Topring zu absorbieren. Darüber hinaus ist die Außenoberfläche des Kissens 96 mit einer rohrförmigen Kissenabdeckung 97 abgedeckt und die Antriebsstifte 98 kontaktieren die Kissenabdeckung 97 an beiden Umfangsseiten., Daher sind die angetriebenen Stifte 86 und die Antriebsplatte 68 in der Lage sich frei vertikal relativ zueinander zu bewegen, während sie einen elastischen Kontakt beibehalten.
  • Darüber hinaus ist die Bodenendseite des Vorsprungsbereichs 76 der Antriebsplatte 68 als eine sphärische Oberfläche (Flanke) 74 mit einem großen Krümmungsradius ausgebildet, so dass der Trennungsabstand von der Oberseite der Abdeckplatte 18 sich allmählich von der Mitte zu dem Umfang erhöht und somit gibt es selbst dann, wenn der sphärische Hohlraum 82 ausreichend groß ausgebildet ist, keine mechanische Interferenz zwischen der gekrümmten Oberfläche 74 und dem Vertiefungsbereich 32, so dass die Druckkraft verlässlich von der Antriebswelle 12 auf die Lagerkugel 78 übertragen wird.
  • Um einen verlässlichen Kontakt des Werkstücks mit dem Poliertuch sicher zu stellen, kann das Fluidrohr 56 zu einer Luftdruckquelle 60 geschaltet werden, so dass komprimierte Luft an die Rückseite des Werkstücks geliefert werden kann über die Strömungslöcher 38 und den Abstand S.
  • Wenn der Poliervorgang beendet wird, wird die Antriebswelle 12 angehoben und die Antriebsplatte 68, die integral mit der Antriebswelle 12 ist, wird auch angehoben, und die Abdeckplatte 18 und das Topringglied 10 werden elastisch getragen ungefähr horizontal durch die Stifte 94 und die Aufhängestifte 84. In diesem Zustand wird das Topringglied 10 von dem Drehtisch zurückgezogen und durch Betätigen der Druckquellenvorrichtung 54 je nach Notwendigkeit zum Halten/Lösen des Werkstücks von dem Topringglied 10 wird das Werkstück zwischen dem Topringglied 10 und einer externen Einrichtung gehandhabt.
  • Durch Verbinden der Evakuierungseinrichtung 58 mit der externen Druckquellenvorrichtung 54 mit der Drehverbindung 52 wird das Werkstück an der Unterseite der Halteplatte 16 gehalten und durch Verbinden der Reinwasserversorgungsquelle 62 der externen Druckquellenvorrichtung 54 mit der Drehverbindung 52 wird reines Wasser dazu gebracht durch das Fluidrohr 56, den Abstand S und die Strömungslöcher 38 in der Halteplatte 16 zu strömen, um gegen die Rückseite des Werkstücks zu drücken, um das Werkstück leicht von der Halteplatte 16 zu lösen.
  • Da bei diesem Ausführungsbeispiel die Halteeinrichtung so aufgebaut ist, dass die Druckkraft von dem Flanschabschnitt 30 in der Abdeckplatte 18 zu der Stufenoberfläche 26 in der Halteplatte 16 übertragen wird, kann ein gleichförmiger Druck an die Halteplatte 16 an der gesamten Oberfläche des Werkstücks angelegt werden im Vergleich mit dem herkömmlichen Aufbau, bei dem der Druck durch die Mitte der Halteplatte durch die Lagerkugel 78 angelegt wird, da die Kräfte um den Umfang der Halteplatte 16 herum verteilt sind, um die Größe der Ablenkung der Halteplatte 16 zu reduzieren.
  • Bei der vorliegenden Poliervorrichtung ist das Fluidrohr 56 aus einem korrosionsresistenten bzw. rostfreien Material hergestellt und daher wird, selbst wenn Wasser oder Luft durch das Durchgangsloch geliefert wird, kein Rost an dessen Innenseite ausgebildet. Eine Kontamination wird somit verhindert und die Polierprä zision sowie die schlussendliche Qualität des polierten Werkstücks kann verbessert werden.
  • Obwohl bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel der Antriebsabschnitt und der angetriebene Abschnitt zum Übertragen des Drehmoments von der Antriebswelle 12 zu der Halteplatte 16 auf Stiftkontakten basiert, ist es nicht notwendig sich auf einen solchen Aufbau festzulegen bzw. einzuschränken. Andere mögliche Formen bzw. Konstruktionen, wie beispielsweise eine Plattenform oder andere spezielle Formen sind auch möglich. Ferner sind die Antriebsstifte 98 zum Eingriff mit den angetriebenen Stiften 86 bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel parallel angeordnet, aber sie können auch nicht parallel angeordnet sein und sie sind auch nicht auf zwei Stifte beschränkt. In umgekehrter Weise können z. B. die Antriebsstifte von der Seite einer Platte 68 vorstehen und mehrere angetriebene Stifte können an der Oberseite der angetriebenen Platte 18 vorgesehen sein, um den Antriebsstift zu halten. Ferner besitzt bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel die Antriebswelle 12 eine separate, daran angebrachte Antriebsplatte 68 obwohl die Antriebsplatte 68 auch integral mit der Antriebswelle 12 ausgebildet sein könnte.

Claims (5)

  1. Eine Werkstückhaltevorrichtung, die Folgendes aufweist: ein oberes bzw. Topringglied (10) zum Halten eines Werkstücks; eine Antriebswelle (12) zum Tragen des oberen Ringglieds; und einen Kraftübertragungsmechanismus (72) angeordnet zwischen der Antriebswelle und dem oberen Ringglied zum Übertragen einer Drehkraft von der Antriebswelle auf das obere Ringglied, dadurch gekennzeichnet, dass ein durchgehendes Loch (50) in einem Mittelbereich der Antriebswelle ausgebildet ist, und dass ein Strömungsmittel- bzw. Fluidrohr (56) in das hindurchgehende Loch in der Weise eingesetzt ist, dass ein Ende des Fluidrohrs (56) mit einer externen Vorrichtung in Verbindung steht einschließlich einer Strömungsmittelversorgungsquelle, und wobei das entgegengesetzt liegende Ende des Fluidrohrs (56) mit dem oberen Ringglied in Verbindung steht, und wobei ferner das Fluidrohr (56) aus einem korrosionsbeständigen und flexiblen Material hergestellt ist.
  2. Werkstückhaltevorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Fluidrohr (56) aus PTFE (Polytetrafluorethylen) oder Polypropylen hergestellt ist.
  3. Werkstückhaltevorrichtung nach Anspruch 1, wobei das entgegengesetzt liegende Ende des Fluidrohrs (56) in separate Rohre bzw. Schläuche aufgeteilt ist.
  4. Werkstückhaltevorrichtung nach Anspruch 1, wobei ein Strömungsmittel oder Vakuum an die Rückseite des Werkstücks durch das erwähnte Rohr bzw. den Schlauch geliefert wird.
  5. Eine Poliervorrichtung zur Erzeugung einer Spiegeloberfläche auf einem Werkstück, wobei die Vorrichtung eine Werkstückhaltevorrichtung und ein Polierwerkzeug aufweist, und wobei ferner die Werkzeughaltevorrichtung die Merkmale eines der Ansprüche 1 bis 4 besitzt.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0868973B1 (de) * 1997-02-04 2003-06-25 Ebara Corporation Werkstückhalterung und Poliervorrichtung mit derselben
JP3795198B2 (ja) * 1997-09-10 2006-07-12 株式会社荏原製作所 基板保持装置及び該基板保持装置を備えたポリッシング装置
US6409585B1 (en) * 1998-12-21 2002-06-25 Ebara Corporation Polishing apparatus and holder for holding an article to be polished
CN112536881B (zh) * 2020-11-26 2022-03-04 灵璧县德军家具制造有限公司 一种家具加工用弧面切割设备及其使用方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4194324A (en) * 1978-01-16 1980-03-25 Siltec Corporation Semiconductor wafer polishing machine and wafer carrier therefor
US4270314A (en) * 1979-09-17 1981-06-02 Speedfam Corporation Bearing mount for lapping machine pressure plate
US4373991A (en) * 1982-01-28 1983-02-15 Western Electric Company, Inc. Methods and apparatus for polishing a semiconductor wafer
JPH0489652U (de) * 1990-12-17 1992-08-05
EP0911115B1 (de) * 1992-09-24 2003-11-26 Ebara Corporation Poliergerät
JP3370112B2 (ja) * 1992-10-12 2003-01-27 不二越機械工業株式会社 ウエハーの研磨装置
JPH06143126A (ja) * 1992-11-09 1994-05-24 Mitsubishi Materials Corp 研磨装置
US5423558A (en) * 1994-03-24 1995-06-13 Ipec/Westech Systems, Inc. Semiconductor wafer carrier and method
JP3642611B2 (ja) * 1994-09-08 2005-04-27 株式会社荏原製作所 ポリッシング方法および装置
US5651724A (en) * 1994-09-08 1997-07-29 Ebara Corporation Method and apparatus for polishing workpiece
JP3690837B2 (ja) * 1995-05-02 2005-08-31 株式会社荏原製作所 ポリッシング装置及び方法
EP0787561B1 (de) * 1996-02-05 2002-01-09 Ebara Corporation Poliermaschine
EP0868973B1 (de) * 1997-02-04 2003-06-25 Ebara Corporation Werkstückhalterung und Poliervorrichtung mit derselben

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US6024633A (en) 2000-02-15
EP0868973A3 (de) 1999-01-20
EP0868973B1 (de) 2003-06-25
KR19980071050A (ko) 1998-10-26
KR100478990B1 (ko) 2005-07-07
DE69815738D1 (de) 2003-07-31
EP0868973A2 (de) 1998-10-07

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