DE69719984T2 - Streifenmusterdiskriminator für diffraktionsrasterinterferometer - Google Patents

Streifenmusterdiskriminator für diffraktionsrasterinterferometer Download PDF

Info

Publication number
DE69719984T2
DE69719984T2 DE69719984T DE69719984T DE69719984T2 DE 69719984 T2 DE69719984 T2 DE 69719984T2 DE 69719984 T DE69719984 T DE 69719984T DE 69719984 T DE69719984 T DE 69719984T DE 69719984 T2 DE69719984 T2 DE 69719984T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pixels
interferogram
interferometer
movement
diffraction gratings
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69719984T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69719984D1 (de
Inventor
J. Mark TRONOLONE
F. Jon FLEIG
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tropel Corp
Original Assignee
Tropel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tropel Corp filed Critical Tropel Corp
Publication of DE69719984D1 publication Critical patent/DE69719984D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69719984T2 publication Critical patent/DE69719984T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02083Interferometers characterised by particular signal processing and presentation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/0207Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/30Grating as beam-splitter

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Description

  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Das Analysieren von, durch Interferometer erzeugten, Interferogrammen mittels eines Paares von Beugungsgittern zum Trennen und Wiedervereinigen von Test- und Referenzstrahlen zur Messung von Objektoberflächen.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Interferometer können ausgerichtete Beugungsgitter zum Trennen und Wiedervereinigen von Referenz- und Teststrahlen verwenden, die eine gesamte Oberfläche eines zwischen den Beugungsgittern angeordneten Objekts messen können. Je nach Konfiguration der Gitter und der Objektoberfläche können positive, negative oder Strahlen nullter Ordnung, die durch die Gitter hindurchtreten, verschiedene Interferenzmuster erzeugen. Neben anderen Mustern wird in einem Interferogramm normalerweise ein Objekt-Streifenmuster durch einen Teststrahl, der von der Objektoberfläche reflektiert wird, und einen Referenzstrahl, der unbehindert durch die Objektoberfläche hindurchdringt, gebildet ist. Es muss einen Weg geben, die vom Objekt stammenden Interferenzstreifenmuster, die für Messzwecke nützlich sind, von anderen Interferenzstreifenmustern zu unterscheiden, die aufgrund der Gitterausrichtung entstehen und keine Objektinformation beinhalten. Dies ist besonders deshalb wichtig, da die Ausrichtungsgittermuster nicht problemlos eliminiert werden können.
  • Mit genauer Kenntnis der Positionen und Merkmale der Gitter, des Objekts und des Abbildungssystems ist es theoretisch möglich, zu berechnen, welche Interferenzmuster Objektinformation enthalten. In der Praxis ist derartig genaue Information aber nur schwer und kostspielig zu erlangen. Die vorliegende Streifenmuster-Unterscheidungseinheit bietet eine Alternative, welche Objekt-Streifenmuster zu deutlich geringeren Kosten wirksam identifiziert.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die Methode der Erfinder zum Unterscheiden zwischen Objekt-Streifenmustern und Ausrichtungs-Streifenmustern, die durch ein Paar von Beugungsgittern erzeugt werden, schließt das Bewegen des Objekts mit ein, um die Objektstreifen zu bewegen, während die Ausrichtungsstreifen unbeweglich bleiben. Die Erfinder haben herausgefunden, dass das Bewegen des Objekts in X- und Y-Richtung in einer Ebene senkrecht zu einer optischen Achse der Beugungsgitter dazu führt, dass sich das Objekt-Streifenmuster verändert, während andere, von den Gittern selbst verursachte Streifenmuster unverändert bleiben. Dieser Vorteil wurde genutzt, indem die Veränderungen in der Bestrahlungsstärke von Pixeln in einer Anordnung beobachtet wurden, auf der das Interferogramm abgebildet wird, während das Objekt bewegt wurde. Aus diesen Beobachtungen haben die Erfinder bestimmt, welche Pixel von einem Streifenmuster bestrahlt werden, das Objektinformation enthält. Wenn diese Bestimmung durchgeführt ist, kann die Objektoberfläche durch Phasenmodulation des Interferogramms gemessen werden, während nur Daten von den Pixeln erfasst werden, die vom Objekt-Streifenmuster bestrahlt werden. Die Daten können anschließend analysiert werden, um die Information bezüglich der gemessenen Objektoberfläche anzuzeigen.
  • Das Verfahren der Erfinder zum Unterscheiden von Objekt-Streifenmustern von anderen Streifenmustern schließt das Bewegen eines Objekttisches ein, der das Objekt trägt, so dass das Objekt so weit in X- und Y-Richtung bewegt wird, dass sich die Helligkeit von Bereichen im Objekt-Streifenmuster verändert. Diese Bewegungen können von einem Computer gesteuert werden, der Informationen von einem Abbildungssystem empfängt, das eine Pixelanordnung umfasst, auf der das Interferogramm abgebildet wird. Der Objekttisch oder das Objektpodest, die das Objekt tragen, umfasst vorzugsweise eine variable Apertur, um die Beleuchtung, die zwischen den Beugungsgittern hindurchtritt, auf einen Mindestdurchmesser zu begrenzen, der zum Messen der Oberfläche des Objekts erforderlich ist. Ein Computer, der vorzugsweise zur Bedienung des Interferometers verwendet wird, kann die durch das Objekt-Streifenmuster bestrahlten Pixel identifizieren, nachdem das Objekt bewegt worden ist. Der Computer kann zudem die Bewegung des Objekttisches in Reaktion auf den Informationseingang vom Abbildungssystem steuern, um sicherzustellen, dass es zu ausreichenden Bewegungen für diesen Zweck kommt. Darüber hinaus kann der Computer die Phase des Interferogramms modulieren, indem er vorzugsweise eines der Beugungsgitter, während die Daten erfasst und für eine Messung der Objektoberfläche analysiert werden, entlang der optischen Achse bewegt.
  • ABBILDUNGEN
  • 1 ist eine schematische Ansicht eines Interferometers, das mit der Streifenmuster-Diskriminiereinheit der Erfindung ausgestattet ist.
  • 2 ist eine schematische Ansicht eines Objekttisches, der in X- und Y-Richtung bewegt wird, um ein Objekt-Streifenmuster gemäß der Erfindung zu diskriminieren.
  • 3 ist eine schematische Ansicht einer Pixelanordnung, auf der ein Interferogramm, das ein Objekt-Streifenmuster enthält, zum Diskriminieren bzw. Unterscheiden gemäß der Erfindung abgebildet wird.
  • 4 ist eine schematische Ansicht von Strahlen, die zwischen den ausgerichteten Beugungsgittern hindurchtreten, wobei ein Strahl auf einer Objektoberfläche auftrifft, um das Interferogramm aus 3 zu erzeugen.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
  • Ein Interferometer 10, wie es schematisch in 1 veranschaulicht ist, beinhaltet ein Paar von ausgerichteten Beugungsgittern 11 und 12, die entlang einer strichliert dargestellten optischen Achse 13 angeordnet sind. Eine Quelle 14, die vorzugsweise kollimiertes, monochromatisches Licht ausstrahlt, wird durch die Beugungsgitter 11 und 12 gelenkt. In Abhängigkeit von der Konfiguration der Gitter können die geteilten Strahlen ungebeugte Strahlen nullter Ordnung und gebeugte Strahlen positiver oder negativer Ordnung umfassen. Die Strahlen nullter Ordnung sind häufig für Referenzzwecke nützlich, und gebeugte Strahlen können streifend auf der Oberfläche des zwischen den Gittern angeordneten Objekts 15 auftreffen.
  • Die verschiedenen geteilten Strahlen werden durch das Beugungsgitter 12 wiedervereinigt, um im Abbildungssystem 16 ein Interferogramm zu erzeugen. Ein Bereich des Interferogramms enthält Objektstreifen eines Teststrahls, der auf die Objektoberfläche auftrifft, die mit einem Referenzstrahl wiedervereinigt sind. Andere Streifenbereiche des Interferogramms werden von wiedervereinigten Strahlen erzeugt, die nicht auf der Objektoberfläche auftreffen und keine Objektinformation enthalten. Diese Streifenmuster ergeben sich aus der Konfiguration und der Ausrichtung der Beugungsgitter 11 und 12.
  • In der Praxis können die Gitter 11 und 12 so gestaltet sein, dass sie die Transmission von Strahlen nullter Ordnung unterdrücken und durch eine Blaze-Ausbildung die Strahlen positiver und negativer Ordnung verstärken. Die Gitter 11 und 12 sind häufig mit kreisförmigen Linien konzentrisch zur optischen Achse 13 ausgebildet, um insbesondere Objekt-Rotationsflächen zu messen. Es sind jedoch auch andere Gitterkonfigurationen möglich. Jede ausreichende Übereinstimmung zwischen Gittergestalt und einer Oberfläche des Objekts 15 kann zu unerwünschten Interferenzstreifen aufgrund der Gitterausrichtung zusammen mit einem Objekt-Streifenmuster führen, das Information eines von der Objektoberfläche reflektierten Strahls enthält. Aus diesem Grund wird das Unterscheiden zwischen dem erwünschten Objekt-Streifenmuster und dem unerwünschten Ausrichtungs- Streifenmuster notwendig, um eine verlässliche Messung der Objektoberfläche zu erzielen.
  • Eine Möglichkeit dies zu erreichen, ist es, das Objekt 15 leicht zu bewegen, wodurch die Streifen des Objekt-Interferenzmusters verändert werden, ohne dass die Streifen des Ausrichtungs-Interferenzmusters bewegt werden. Daraus können die Erfinder feststellen, welche im Abbildungssystem 16 angeordneten Pixel vom Objekt-Streifenmuster bestrahlt werden. Die Daten dieser Pixel können dann gesammelt werden, um die Oberfläche eines Objekts 15 zu messen und zu analysieren.
  • Wenn das Objekt 15 lediglich in eine Richtung bewegt wird, bleiben die Objektstreifen entlang einer Achse unverändert, so dass das Objekt-Streifenmuster nicht vollständig bewegt wird. Dies kann behoben werden, indem das Objekt 15 in zwei Richtungen X und Y bewegt wird, die vorzugsweise senkrecht zu einander in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse 13 liegen.
  • Ein Objekttisch 20, der durch Anpassungselemente oder Motoren 21 und 22 bewegt wird, ermöglicht die notwendige Bewegung des Objekts 15 in X- und Y-Richtung. Ein Computer 25 steuert vorzugsweise die Bewegung des Objekttisches 20 als Reaktion auf vom Abbildungssystem 16 erhaltene Information. Eine Plattform 19 trägt das Objekt 15 auf dem Objekttisch 20 und umfasst ein Fenster 18, das das Objekt 15 trägt, und überträgt Licht, das zwischen den Beugungsgittern hindurchtritt. Die optische Achse 13 kann für ein bequemes Anbringen des Objekts 15 auf dem Fenster 18 vertikal ausgerichtet sein; jedoch nicht notwendigerweise, da die optische Achse 13 auch horizontal oder in andere Richtungen als vertikal ausgerichtet sein kann.
  • Die Plattform 19 schließt außerdem vorzugsweise eine einstellbare Apertur 23 ein, die das zwischen den Gittern hindurchtretende Licht auf den zum Messen des Objekts 15 erforderlichen Mindestdurchmesser begrenzt. Die Apertur 23 ist vorzugsweise eine Iris, die anpassbar den äußeren Bereich des ausgestrahlten Lichts abschirmt.
  • Das Abbildungssystem 16 umfasst eine Anordnung 30 von Pixeln 31, auf der in 3 ein Beispiel eines Interferogramms abgebildet ist. Das Interferogramm umfasst ein Objekt-Streifenmuster 35 sowie Ausrichtungs-Streifenmuster 32 und 33. Ein derartiges Interferogramm kann aus der in 4 schematisch dargestellten Anordnung entstehen, bei der ein Objekt 15 mit einem zylindrischen Innendurchmesser 36 gemessen wird. Zwei gebeugte Strahlen treten durch das hohle Innere des Objekts 15 hindurch, ohne dass sie auf der Oberfläche 36 auftreffen und interferieren mit Strahlen nullter Ordnung, die zwar nicht dargestellt sind, jedoch ungebeugt zwischen den Gittern 11 und 12 parallel zur optischen Achse ihrer Ausrichtung hindurchtreten. Dadurch entstehen die Ausrichtungs-Streifenmuster 32 und 33, wie sie auch in der 3 veranschaulicht sind.
  • Ein Teststrahl, der streifend auf der Objektoberfläche 36 auftritt und von dieser reflektiert wird, vereinigt sich mit einem nicht dargestellten Referenzstrahl nullter Ordnung, um ein Objekt-Streifenmuster 35 zu erzeugen, das ebenso in 3 veranschaulicht ist. Die ringförmige Gestalt des Interferenzstreifenmusters entsteht dadurch, dass das Objekt 15 aus Rotationsflächen besteht, deren Mittelpunkt auf der Gitterachse zentriert ist. Ähnliche Objekt- und Ausrichtungs-Streifenmuster ergeben sich aus Interferogrammen, die externe Objektoberflächen messen, wobei die meisten Objekt-Messanordnungen Strahlen, die nicht auf einer Objektoberfläche auftreffen, zu den Streifen eines Interferogramms beitragen lassen, das das wichtige Objekt-Streifenmuster eines Teststrahls umfasst, der auf einer Objektoberfläche auftrifft.
  • Eine Möglichkeit, unerwünschte Streifenmuster aus dem Interferogramm zu entfernen, ist es, die Apertur 23 zu begrenzen, so dass nur der zum Messen eines Objekts erforderliche Mindestdurchmesser an Licht hindurchtritt. Das Begrenzen der Apertur 23 kann ein äußeres Streifenmuster 33 in den 3 und 4 eliminieren, indem Licht, das entlang der Außenseite des Objekts 15 übertragen wird, beseitigt wird. In vielen Fällen ist es dennoch nicht möglich, sämtliche unerwünschten Streifenmuster durch das Begrenzen der Apertur 23 zu eliminieren. Dies ist in den 3 und 4 durch die Streifenmuster 32 und 35 ersichtlich, die trotz der Aperturgröße vorhanden sind. Unabhängig davon, was mit der Apertur 23 geschieht, muss das Objekt-Streifenmuster 35 zum Messen der Oberfläche 36 des Objekts 15 vom Ausrichtungs-Streifenmuster 32 unterschieden werden.
  • Um dies zu erreichen, kann die Bestrahlungsstärke der Pixel 31 überwacht werden, wenn das Objekt 15 in X- und Y-Richtung bewegt wird. Diese Bewegungen werden vorzugsweise vom Computer 25 gesteuert, während dieser Informationen von den Pixeln 31 erhält, so dass das Objekt 15 ausreichend weit bewegt werden kann, um die Bestrahlungsstärkewerte der Objekt-Streifen zwischen hell und dunkel zu verändern. Wenn die Objekt-Streifen durch eine Bewegung des Objekts moduliert werden, detektieren die Pixel 31 der Anordnung 30, die durch das Objekt-Streifenmuster 35 bestrahlt werden, eine deutlich unterschiedliche Bestrahlung. Daraus identifiziert der Computer 25 welche der Pixel 31 durch das Objekt-Streifenmuster 35 beleuchtet werden. Wenn diese Identifzierung durchgeführt worden ist, werden lediglich Daten von identifizierten Pixeln in der Messung der Objekt-Oberfläche verwendet.
  • Die Messung umfasst eine Phasenmodulation des Interferogramms, vorzugsweise durch ein Bewegen des Beugungsgitters 12 entlang der optischen Achse mittels eines Motors 26. Der Computer 25 steuert vorzugsweise die Phasenmodulations-Bewegung des Gitters 12, während er Daten von den Pixeln empfängt, die als vom Objekt-Streifenmuster 35 beleuchtet identifiziert worden sind. Der Computer 25 analysiert daraufhin die Daten und zeichnet Informationen über die Objektoberfläche auf bzw. zeigt diese an.
  • Der Computer 25 kann auf unterschiedliche Art und Weise herausfinden, welche der Pixel 31 vom Objekt-Streifenmuster 35 beleuchtet werden. Dazu gehören folgende Möglichkeiten:
    • 1. Subtrahieren der Intensität eines jeden Pixels in einem Rahmen von demselben Pixel in einem vorherigen Rahmen, und Aufsummieren des absoluten Wertes der Differenz für jeden Pixel.
    • 2. Summieren der Quadrate der Differenzen für jeden Pixel.
    • 3. Subtrahieren der Intensität eines jeden Pixels in einem Rahmen von demselben Pixel in einem ersten Rahmen, wobei der absolute Wert der maximalen Intensitätsdifferenz für diesen Pixel festgehalten wird.
    • 4. Festhalten der maximalen und minimalen Intensität eines jeden Pixels in einem Rahmen. Wenn alle Rahmen erfasst worden sind, Subtrahieren des Minimums vom Maximum, um die Modulation zu erhalten.
  • Jedes beliebige dieser Verfahren kann herangezogen werden, um die Pixel zu bestimmen, deren Modulation einen vorbestimmten oder Daten-abhängigen Schwellenwert, vermutlich aufgrund der Beleuchtung durch das Objekt-Streifenmuster 35 während der Bewegung des Objekts 15, überschreitet. Die identifizierten Pixel dienen dann als Maske, um andere Pixel der Anordnung 30 auszuschließen, während die Messdaten von den identifizierten Pixeln gesammelt werden.
  • Die Bewegung des Objekts muss nicht genau gesteuert werden, um die vom Objekt-Streifenmuster beleuchteten Pixel identifizieren zu können. Die Bewegung sollte jedoch ausreichen, um eine Änderung der Phase des Streifenmusters um einen Streifen zu erzielen, und eine zusätzliche Bewegung kann zulässig sein. Das Bewegen des Objekts entlang einer orthogonalen Translationsachse führt zur Bildung eines Pols, entlang welchem keine Phasenveränderung im Objekt- Streifenmuster auftritt. Bei einem ringförmigen Streifenmuster ist es denkbar, dass ein kompletter Ring an identifizierten Pixeln aus einer Bewegung in eine einzige Richtung berechnet werden könnte, selbst wenn es an den Polen zu keinen Streifenveränderungen kommt. Es ist jedoch praktischer und deshalb auch bevorzugter, das Objekt entlang beider orthogonaler Translationsachsen zu bewegen, so dass im gesamten Bereich des Objekt-Streifenmusters Phasenänderungen auftreten. Die Bewegungen können nacheinander oder gleichzeitig erfolgen.
  • Ein bevorzugtes Verfahren zum Identifizieren von Objekt-Streifen-Betrachtungspixel 31, die in einer Anordnung 30 einer CCD-Kamera in einem Abbildungssystem 16 angeordnet sein können, wird untenstehend erklärt. Das Verfahren verwendet einen externen und vorbestimmten Eingang, der einen Modulationsschwellenwert für das Ausmaß an Bestrahlungsintensitätsveränderung, das ein Pixel registrieren muss, festlegt, wenn das Objekt auf den Pixel zu bewegt wird, von welchem angenommen wird, dass er das Objekt-Streifenmuster 35 misst. Das Ergebnis des Identifizierungsverfahrens ist eine zweidimensionale Maskenanordnung, deren jedes Element einem der Pixel 31 entspricht. Jedes Element der Maskenanordnung steht für einen von zwei Werten: ObjektStreifenDaten oder AndereDaten. Bei den nachfolgenden Datenerfassungen und Berechnungen werden die Phasenwerte nur für die Bildpixel 31 berechnet, deren zugehöriger Maskenwert ObjektStreifenDaten ist. Bildpixel, deren zugehöriger Maskenwert AndereDaten ist, werden ignoriert.
  • Die Amplitude der Bestrahlungsmodulation bei jedem Pixel wird aus der Differenz zwischen den maximalen und minimalen Intesitätswerten berechnet, die von den Pixeln registriert werden, wenn das Objekt bewegt wird. Dies kann wie folgt bestimmt werden:
    Figure 00090001
    Figure 00100001
  • Nun ist eine „Rohmaskenanordnung" berechnet worden. Rauschen in den elektro-optischen Komponenten sowie Vibrationen der mechanischen Komponenten des Interferometers führen normalerweise dazu, dass einige Pixel, die nicht Teil des Objekt-Streifenmusters sind, irrtümlich enthalten, und andere, die Teil des Objekt-Streifenmusters sind, irrtümlich ausgenommen sind. Die Rohmaske kann durch eine Berechnung verbessert werden, die eine verlässlichere Unterscheidung zwischen Pixeln, die das Objekt-Streifenmuster beobachten, und anderen Pixeln, die das Objekt-Streifenmuster nicht beobachten, ermöglicht.
  • Bei Objekten, bei denen eine Rotationsfläche zu messen ist, gestaltet sich das erwünschte Objekt-Streifenmuster ringförmig. Durch das Anwenden von gut bekannten Bildverarbeitungstechniken zur Randauffindung und Fehlerquadratanalyse auf die Rohmaskenanordnung, kann der Mittelpunkt, Innen- und Außenradius des Objekt-Streifenmusters geschätzt werden. Mit der so erhaltenen Schätzung der Position und des Ausmaßes des Objekt-Streifenmusters kann eine „gefilterte" Maskenanordnung erzeugt werden, die in der folgenden Phasen-Datenerfassung verwendet werden kann. Die „gefilterte" oder verbesserte Maskenanordnung ist verlässlicher in Bezug auf die Unterscheidung zwischen Objekt-Streifen beobachtenden Pixeln und anderen Pixeln, und kann wie folgt erstellt werden:
    Figure 00110001
    Figure 00120001
  • Die verbesserte Maskenanordnung enthält nun den Wert ObjektStreifenDaten für alle Pixel zwischen dem geschätzten Innen- und Außenradius des Objekt-Streifenmusters, und den Wert AndereDaten für sämtliche anderen.
  • Das Verfahren zum Verschieben des Objekts und zum Evaluieren, wann die Rohmaske vollständig ist, kann von einer Bedienungsperson manuell durchgeführt werden, oder vom Computer automatisch gesteuert werden. Wird der Vorgang von einer Bedienungsperson manuell vorgenommen, gibt es keine spezifischen Anforderungen bezüglich der Verschiebung des Objekts und der zu synchronisierenden Rahmeneinfangung, noch besteht eine genaue Anforderung, wie oft das Objekt bewegt werden muss oder ob der Abstand bei jeder Bewegung zu verändern ist. Die Bedienungsperson kann das Objekt kontinuierlich und langsam in einem der mehrfachen Streifenempfindlichkeit entsprechenden Bereich bewegen, während der Computer die Rahmeneinfangung vornimmt und anzeigt, welche Pixel sich über den Modulationsschwellenwert hinaus moduliert haben. Die Bedienungsperson kann solange mit der Bewegung des Objekts fortfahren, bis die angezeigte Maske ungefähr dem erwarteten Muster eines geschlossenen Rings entspricht.
  • Bei der Identifizierung der ObjektStreifenDaten-Pixel für die Maske, ist die Intensität jedes Punktes im Objekt-Streifenmuster durch folgende Gleichung gegeben:
    Intensität = A·B·Cos(Θ)
    worin:
    A für den Gleichspannungspegel der Beleuchtung des Feldes steht;
    B der Interferenzkontrast ist; und
    Θ die relative Phase der Interferenz ist.
  • Die relative Interferenzphase an jedem Punkt im Objekt-Streifenmuster ist, wenn das Objekt in Bezug auf die X- und Y-Achse bewegt wird, durch folgende Gleichung gegeben:
    Figure 00130001
    worin:
    X die X-Achsenposition ist;
    Y die Y-Achsenposition ist; und
    Φ der Winkel der Senkrechten zur Objektoberfläche in der X-Y-Ebene in Bezug auf die X-Achse ist.

Claims (13)

  1. Verfahren zum Unterscheiden eines Objekt-Interferenzstreifenmusters von anderen Streifenmustern in einem Interferogramm, das von einem Interferometer unter Verwendung eines Paares von Beugungsgittern zum Trennen und Wiedervereinigen von Test- und Referenzstrahlen erzeugt wird, wobei das Verfahren umfasst: a. das Bewegen eines zu messenden Objektes, so dass Bewegungen in X- und in Y-Richtung in einer Ebene senkrecht zu einer optischen Achse des Interferometers auftreten, und sich die Bewegungen über ausreichende Abstände erstrecken, um die Helligkeit von Bereichen des Objekt-Interferenzstreifenmusters innerhalb des Interferogramms zu verändern; b. das Identifizieren jener Pixel eines Abbildungssystems, die als Folge der Objektbewegung eine Veränderung in der Bestrahlungsstärke erfahren; und c. die Verwendung von Bestrahlungsstärkedaten nur von den identifizierten Pixeln beim Analysieren des Interferogramms, um eine Messung einer Oberfläche des Objektes zu erzielen.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, das eine Phasenverschiebung des Interferogramms während der Datenerfassung umfasst.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, das eine Bewegung eines der Beugungsgitter entlang der optischen Achse umfasst, um die Phasenverschiebung zu erreichen.
  4. Verfahren nach Anspruch 1, das das Bestimmen eines Mittelpunkts, eines Innenradius und eines Außenradius einer Maske, die an die identifizierten Pixeln ange passt ist, und die Verwendung von Bestrahlungsstärkedaten nur von Pixeln innerhalb der Maske zum Messen einer Objekt-Rotationsfläche umfasst.
  5. Verfahren nach Anspruch 1, das das Einstellen einer Öffnung umfasst, die das zwischen den Beugungsgittern hindurchtretende Licht auf das zum Messen des Objekts erforderliche Minimum begrenzt.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, das die Computersteuerung der Bewegung eines Objekttisches umfasst, der das Objekt trägt, um die Bewegungen in X- und in Y-Richtung durchzuführen.
  7. Interferometer, bei dem ein Beugungsgitter-Paar zum Trennen und Wiedervereinigen von Test- und Referenzstrahlen verwendet wird, sodass ein Teststrahl auf eine Oberfläche eines Objekts auftrifft, das zwischen den Beugungsgittern angeordnet ist, wobei das Interferometer umfasst: a. ein Abbildungssystem, das eine Anordnung von Pixeln umfasst, auf der ein Interferogramm abgebildet wird, wobei das Interferogramm ein Objekt-Interferenzstreifenmuster und andere Streifenmuster umfasst; b. einen Objekttisch, um das Objekt in einer Ebene senkrecht zu einer optischen Achse der Beugungsgitter in X- und in Y-Richtung zu bewegen; c. eine Identifizierungs-Einheit für die Pixel, deren Bestrahlungsstärke sich als Folge der Bewegung in X- und in Y-Richtung des Objekts verändert; und d. einen Interferogramm-Analysierer, der nur auf die identifizierten Pixel anspricht, um die Messung einer Oberfläche des Objekts zu erzielen.
  8. Interferometer nach Anspruch 7, das eine variable Öffnung umfasst, um die Beleuchtung, die zwischen den Beugungsgittern hindurchtritt, auf einen Mindestdurchmesser zu begrenzen, der zum Messen der Oberfläche des Objekts erforderlich ist.
  9. Interferometer nach Anspruch 8, worin die variable Öffnung eine Irisblende ist, die zur Bewegung mit dem Objekt befestigt ist.
  10. Interferometer nach Anspruch 7, das einen Computer umfasst, der zur Steuerung der Bewegung des Objekttisches in die X- und die Y-Richtung angeordnet ist.
  11. Interferometer nach Anspruch 10, das einen Eingang für die Pixelbestrahlungsstärke an den Computer umfasst, um eine Änderung der Pixelbestrahlung als Folge der Objektbewegung anzuzeigen.
  12. Interferometer nach Anspruch 10, das eine Bewegung eines der Beugungsgitter in die Richtung der optischen Achse durch Steuerung des Computers zur Phasenverschiebung des Interferogramms während der Datenerfassung umfasst.
  13. Interferometer nach Anspruch 7, worin die Pixel-Identifizierungs-Einheit eine ringförmige Maske auf die identifizierten Pixel für ein Objekt mit einer Rotationsfläche aufbringt und Pixel innerhalb der Maske für die Erzielung von Bestrahlungsstärke-Messdaten identifiziert.
DE69719984T 1996-06-27 1997-06-26 Streifenmusterdiskriminator für diffraktionsrasterinterferometer Expired - Fee Related DE69719984T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US671488 1996-06-27
US08/671,488 US5724137A (en) 1996-06-27 1996-06-27 Fringe pattern discriminator for interferometer using diffraction gratings
PCT/US1997/011226 WO1997049970A1 (en) 1996-06-27 1997-06-26 Fringe pattern discriminator for interferometer using diffraction gratings

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69719984D1 DE69719984D1 (de) 2003-04-24
DE69719984T2 true DE69719984T2 (de) 2004-01-08

Family

ID=24694724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69719984T Expired - Fee Related DE69719984T2 (de) 1996-06-27 1997-06-26 Streifenmusterdiskriminator für diffraktionsrasterinterferometer

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5724137A (de)
EP (1) EP0907875B1 (de)
JP (1) JP3035360B2 (de)
KR (1) KR20000022191A (de)
DE (1) DE69719984T2 (de)
WO (1) WO1997049970A1 (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5889591A (en) * 1996-10-17 1999-03-30 Tropel Corporation Interferometric measurement of toric surfaces at grazing incidence
US6819438B2 (en) * 2000-06-02 2004-11-16 Gsi Lumonics Corporation Technique for fabricating high quality optical components
US6639682B2 (en) 2000-06-02 2003-10-28 Gsi Lumonics, Inc. System of fabricating plane parallel substrates with uniform optical paths
JP4578674B2 (ja) * 2000-12-18 2010-11-10 富士フイルム株式会社 分離された領域を持つ縞画像の解析方法
KR20030087895A (ko) * 2002-05-09 2003-11-15 캐리 컴퓨터 이엔지. 컴퍼니 리미티드 더블 인터페이스 씨에프 카드
US6757067B2 (en) * 2002-08-06 2004-06-29 Corning Incorporated Fringe pattern discriminator for grazing incidence interferometer
US11371878B2 (en) 2016-08-29 2022-06-28 Elbit Systems Land And C4I Ltd. Optical detection of vibrations

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD106769A3 (de) * 1972-01-04 1974-07-05 Verfahren und anordnung zur pr]fung beliebiger mantelfl[chen rotationssymmetrischer festk\rper mittels synthetischer hologramme
DE2627609A1 (de) * 1976-06-19 1977-12-29 Ibm Deutschland Interferometrisches verfahren

Also Published As

Publication number Publication date
EP0907875B1 (de) 2003-03-19
US5724137A (en) 1998-03-03
JP3035360B2 (ja) 2000-04-24
DE69719984D1 (de) 2003-04-24
JPH11514086A (ja) 1999-11-30
KR20000022191A (ko) 2000-04-25
WO1997049970A1 (en) 1997-12-31
EP0907875A1 (de) 1999-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60125025T2 (de) System für simultanprojektionen von mehrfach phasenverschobenen mustern für die dreidimensionale inspektion eines objektes
DE69828673T2 (de) Beurteilungsvorrichtung für die Reifenkonfiguration und Reifenklassierungsverfahren
DE69734504T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum messen der streifenphase in der abbildung eines objekts
EP0416302B1 (de) Verfahren für die optische Qualitätsprüfung von grossflächigen Scheiben aus einem transparenten Werkstoff wie Glas
DE3505331C2 (de) Verfahren und Gerät zur Vermessung des bei der Eindringhärteprüfung in einer Probe hinterlassenen Eindrucks
DE9017720U1 (de) Vorrichtung zur direkten Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung
DE102008015499A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der 3D-Koordinaten eines Objekts
DE102006031142B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur dreidimensionalen Vermessung und Erfassung der kompletten Objektoberfläche eines kugelförmigen Messobjektes wie eines Sportballs
EP0534284A2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Absolut-Koordinaten eines Objektes
DE19739250C2 (de) Optische Erfassung von Freiformflächen
DE102009033098A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln von Eigenschaften von strukturierten Oberflächen
DE102008051513A1 (de) Oberflächenmessgerät mit zwei Messeinheiten
DE19637682A1 (de) Verfahren zur Bestimmung der räumlichen Koordinaten von Gegenständen und/oder deren zeitlicher Änderung und Vorrichtung zur Anwendung dieses Verfahrens
DE112004001034T5 (de) 3D- und 2D-Meßsystem und -verfahren mit erhöhter Sensitivität und erhöhtem Dynamikbereich
DE102017112404A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur dreidimensionalen untersuchung
DE69719984T2 (de) Streifenmusterdiskriminator für diffraktionsrasterinterferometer
DE102018222231A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur optischen Vermessung einer Innenkontur einer Brillenfassung
DE102016216842B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben eines Spektrometers
DE102011086226B3 (de) Aufnahme eines spektral aufgelösten Bildes durch Auslesen von verschiedenen Teil-Arrays in mehreren Interferometer-Durchläufen
DE102004033526A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Analyse zumindest partiell reflektierender Oberflächen
DE68910791T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Detektieren und Klassifizieren der Kräuselung einer behandelten Oberfläche.
DE102014108789A1 (de) Mehrstufiges Verfahren zur Untersuchung von Oberflächen sowie entsprechende Vorrichtung
DE102004049227B4 (de) Verfahren zur Bestimmung der Lageänderung eines Objekts in einem Gepäckstück
DE102010014215A1 (de) Verfahren und System zum Bestimmen von optischen Eigenschaften eines Linsensystems
DE102015215810A1 (de) Bildverarbeitungsvorrichtung, Bildverarbeitungsverfahren und Bildverarbeitungsprogramm

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee