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Diese Erfindung bezieht sich grundsätzlich auf das Aufbringen
von Filmen auf Substraten durch Vakuumzerstäubung und mehr im
einzelnen auf das Aufbringen von elektrisch leitenden Filmen
durch ein Magnetron unter Verwendung von zwei Targets.
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Es gibt viele Anwendungen, wo Filme auf Substraten durch
Zerstäubungstechniken aufgebracht werden. Eine solche Anwendung
ist das Beschichten von großen Substraten, beispielsweise von
Glas für Gebäudefenster, Fahrzeugwindschutzscheiben und
dergleichen. Mehrere dünne Filmschichten werden übereinander
aufgebracht, um die Reflexion und/oder den Durchgang
verschiedener Lichtwellenlängenbänder zu beherrschen. Jede
dieser Schichten wird durch Zerstäubung entsprechend einer
üblichen kommerziellen Technik in einer Vakuumkammer hergestellt.
Bei solchen Anwendungen ist es wünschenswert, den Film mit
einer über die Substratoberfläche sorgfältig gesteuerten
Dicke herzustellen. In den meisten Fällen ist es
wünschenswert, daß die Dicke über das gesamte Substrat gleichförmig
ist, aber in anderen Fällen sind gewisse gesteuerte
Dickenveränderungen über der Substratoberfläche gewünscht.
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Ein solches Magnetron enthält ein Target, das aus einem zu
zerstäubenden Elementen zusammengesetzt ist und das in der
Nachbarschaft der Magnetkonstruktion gehalten wird, welche
eine Erosionszone des Targets definiert. Das bedeutet, die
Magnetkonstruktion begrenzt und richtet die Ionen eines
Plasmas, das angrenzend an die Targetoberfläche erzeugt wird, mit
hoher Geschwindigkeit gegen das Target in dessen
Erosionszone, um Atome des gewünschten, zu zerstäubenden Elements
herauszuschlagen. Eine elektrische Stromzufuhr ist mit dem als
Kathode geschalteten Target sowie mit einer Anodenoberfläche
innerhalb der Vakauumkammer als Anode verbunden. Ein gewisser
Teil der freien Elektronen innerhalb des Targetplasmas
wandert im allgemeinen um die definierte Erosionszone herum die
manchmal als "Laufbahn" bezeichnet wird. Jedoch tritt ein
gewisser Prozentsatz dieser Elektronen aus der magnetischen
Begrenzung heraus, während sie um die Laufbahn wandern, und
werden dann von der Anode eingefangen. Es ist bekannt, daß
Größe und Position der Anode das Profil der Auftragsrate über
dem Substrat neben den anderen Faktoren beeinträchtigen
können.
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Ein Magnetrongerät mit zwei umlaufenden zylindrischen Targets
ist aus der WE-O-A 92/01 081 von der allgemeinen Bauart
bekannt, die auf dem Fachgebiet mit einer Anode in Form der
Reaktionskammer selbst oder als einzige gesonderte Anode
bekannt ist.
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Ein Magnetrongerät mit einem umlaufenden zylindrischen Target
ist außerdem aus der WO-A-92/09 718 wiederum der allgemeinen
Bauart bekannt, die auf dem Fachgebiet bekannt ist und eine
mehrteilige Anodenbaugruppe aufweist.
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Das Target kann eine statische Form haben, oftmals mit einer
ebenen Oberfläche. Es wird jedoch im allgemeinen bevorzugt,
das Target auf der Außenfläche eines Zylinders zu bilden, der
um seine Längsachse gedreht wird. Die Targetoberfläche wird
daher ständig durch das stationäre magnetische Feld bewegt.
Die Targetoberfläche wird dann gleichförmiger erodiert und
deshalb besser ausgenutzt. Zwei umlaufende
Magnetronbaugruppen werden oftmals nebeneinander innerhalb einer einzigen
Vakuumkammer angeordnet.
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Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Schaffung
eines Zwei-Target-Magnetron und auf Verfahren zur Verwendung
eines solchen Systems, das eine solche Auftragsrate über
einem Substrat ergeben kann, wenn dieses an den Targets
vorbeibewegt wird. Sie bezieht sich auch auf das Vorsehen einer
verbesserten Anodenkonstruktion für ein
Zwei-Target-Magnetron.
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Gemäß der Erfindung ist ein Magnetrongerät mit mindestens
einem ersten und einem zweiten Target vorgesehen, aus denen
Material zerstäubt wird, um einen Film auf einem Substrat
abzulagern, wobei das erste und das zweite Target jeweils
symmetrisch um eine Achse geformt sind und die Targets mit
ihren Achsen parallel orientiert und mit einem Zwischenraum
zwischen den Targets in einer zu den Achsen orthogonalen
Richtung gehalten werden, und mit einer Anodenanordnung, die
aufweist:
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eine erste und eine zweite längliche Anode, die mit ihren
Längen parallel zu den Achsen positioniert sind, wobei die
erste und die zweite Anode einen Abstand von den Targets
entlang deren von dem Zwischenraum entfernten Seiten haben, und
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mindestens einer dritten länglichen Anode, die parallel zu
den Achsen positioniert und in dem Zwischenraum zwischen dem
ersten und dem zweiten Target angeordnet ist.
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Es hat sich gezeigt, daß eine längliche Anode, die entlang
einer Seite einer Targetkonstruktion verläuft, prinzipiell in
einem verhältnismäßig kleinen Anodenbereich wirksam ist.
Dieser Bereich liegt an einem Ende der Targetlaufbahn entlang
einer Seite, in welche die wandernden, um die Laufbahn
trifftenden Elektronen beim Ausführen einer Biegung an einem Ende
der Rennbahn gerichtet werden. Für ein längliches Target und
eine schmale lange Rennbahn hat sich gezeigt, daß etwa 90%
des gesamten Anodenstroms von diesen verhältnismäßig kleinen
Bereichen der Anodenoberfläche aufgenommen werden. Dies führt
zu einer sehr ungleichmäßigen Auftragsrate auf einem
Substrat, wobei der Auftrag am Ende des Targets mit dem aktiven
Anodenbereich sehr schwer wird und sehr schnell auf nur einen
kleinen Bruchteil dieser Rate an einer Position am
entgegengesetzten Ende des Targets abfällt.
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Wenn zwei solche Targetstrukturen zusammen verwendet werden,
die jede ihre eigene längliche Anode haben, die einem äußeren
Rand des Targets benachbart sind, der am weitesten vom
anderen Target entfernt ist, erzeugt jedes Ende des Targets eine
starke Ablagerung, aber in der Mitte herrscht eine geringere
Auftragsrate. Es wurde festgestellt, daß das Positionieren
einer länglichen Anoden zwischen den beiden Targets die
Verteilungsrate im wesentlichen gleichförmig in Richtung entlang
der Länge der Targets macht. Mann würde meinen, daß eine
solche Mittelanode die Auftragsrate an den Enden der Targets
einfach weiter steigern würde, ohne die Verteilung
gleichförmiger zu machen. Wie bei den Außenanoden ist nur ein kleiner
Bereich nahe den Enden der Mittelanode bei der Sammlung des
größten Teils des von der Anode aufgenommenen Stroms aktiv.
Jedoch liegt ein unerwartetes Ergebnis einer Mittelanode
darin, daß sie die Auftragsrate über dem Substrat im
wesentlichen gleichförmig macht. Das ist ein sehr wünschenswertes
Ergebnis für viele Anwendungen, insbesondere beim Auftragen
von Filmen auf großen flachen Substraten, beispielsweise von
Fenstern für kommerzielle Gebäude.
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Zum besseren Verständnis der Erfindung wird nun lediglich
beispielshalber auf die anliegenden Zeichnungen Bezug
genommen, in welchen zeigt:
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Fig. 1 die Hauptkomponenten eines Zwei-
Target-Magnetrons in
schematischer Darstellung (Stand der
Technik),
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Fig. 2A einen Querschnitt eines
Magnetrons der in Fig. 1
dargestellten Bauart, aber mit einem
einzigen Target und einer anderen
Anodenkonfiguration,
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Fig. 2B eine Untersicht des Magnetrons
nach Fig. 2A mit einem einzigen
Target, in Richtung der Pfeile
2B-2B gesehen,
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Fig. 2C verschiedene Kurven von
Auftragsratenprofilen bei
verschiedenen Kombinationen von Anoden
in dem Ein-Target-Magnetron nach
den Fig. 2A und 2B,
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Fig. 3 einen Querschnitt eines Zwei-
Target-Magnetrons der Fig. 1
dargestellten Bauart mit einer
ersten Anodenanordnung,
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Fig. 3B eine Untersicht eines
Zwei-Target-Magnetrons nach Fig. 3A, in
Richtung der Pfeile 3B-3B
gesehen,
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Fig. 3C mehrere Auftragsratenkurven für
andere Anodenkonfigurationen in
dem System, nach den Fig. 3A
und 3B,
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Fig. 4A ein Querschnitt durch ein Zwei-
Target-Magnetron der in Fig. 1
dargestellten Bauart, aber mit
einer zweiten Anodenanordnung,
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Fig. 4B eine Untersicht des Zwei-Target-
Magnetrons nach Fig. 4A in
Richtung der Pfeile 4B-4B gesehen,
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Fig. 4C eine Auftragsratenprofilkurve
eines Systems nach den Fig.
4A und 48,
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Fig. 5A einen Querschnitt durch ein
Zwei-Target-Magnetron der in
Fig. 1 dargestellten Bauart,
aber mit einer dritten
Anodenanordnung, und
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Fig. 5B eine Untersicht eines
Zwei-Target-Magnetrons nach Fig. 5A, in
Richtung der Pfeile 5B-gesehen.
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Fig. 1 zeigt die wesentlichen Komponenten, die ein
Zwei-Target-Magnetron bilden. Ein Substrat 11 wird in Pfeilrichtung
durch eine Vakuumkammer bewegt, die mit Wänden 13 im
gestrichelten Umriß dargestellt ist. Ein erstes zylindrisches
Target 15 wird durch Endkörper 17 und 19 um eine Achse 21 der
zylindrischen Targetoberfläche gehalten. In gleicher Weise
wird ein zweites Target 23 durch Endkörper 25 und 27 um eine
Achse 29 der zylindrischen Targetoberfläche drehbar gehalten.
Die Targets 15 und 23 werden mit Bezug auf ihre Endkörper mit
konstanter Drehzahl gedreht. Ein Mechanismus zum Antrieb der
Targets und zum Bewirken einer Flüssigkeitsinnenkühlung der
Targets sowohl durch ihre Endkörper 17 und 25 sowie von deren
Endkörpern 17 und 25 ist durch einen Block 31 allgemein
dargestellt. In der Kammer wird mittels eines bei 33
angedeuteten Vakuumsystems ein Vakuum aufrecht erhalten.
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Zum Auftrag eines Films auf der Oberseite des Substrats 11
notwendiges Gas wird durch ein bei 35 angedeutetes
Gaszufuhrsystem in die Kammer zugeführt. Dieses Gas ist entweder inert
oder es ist ein Gas, das mit dem von den Targetoberflächen
zerstäubten Element reagiert, oder beides. Eine Anzahl von
Substratstützrollen 37 werden mittels eines Antriebsmotors 39
gedreht, um das Substrat 11 in zu den Drehachsen 21 und 29
der Targets orthogonaler Richtung durch die Kammer zu
befördern. Eine elektrische Stromzufuhr 41 ist mit ihren negativen
Anschlüssen über die Körper 19 und 27 mit den jeweiligen
Targetflächen 15 und 23 verbunden, die so die Kathode des
Magnetrons bilden. Der positive Anschluß der Stromversorgung 41
ist mit einer Anode 43 verbunden, die in Fig. 1 allgemein
dargstellt wird. Position und Form der Anode sind Gegenstand
der vorliegenden Erfindung, wie sie nachstehend noch
beschrieben wird. Die äußeren Wände 13, welche die
Vakuumkammern bilden, sind auf einem Metall hergestellt und werden auf
Massepotential gehalten. Der Auftrag von Filmen kann
erfolgen, in dem die Stromquelle 41 einen Wechselstrom entweder
mit niedriger Frequenz oder bis in den Hochfrequenzbereich
abgibt, aber höhere Auftragsraten erhält man bei Einsatz
einer Gleichstromquelle.
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Jedes der Targets 15 und 23 enthält eine längliche
Permanentmagnetkonstruktion, die sich entlang der Länge des Targets
erstreckt. Eine solche Konstruktion ist in Fig. 2A allgemein
dargestellt, wo ein Schnitt durch ein Target ähnlich dem
Target 15 eine solche Konstruktion 15 von einem
Flüssigkühlmittelrohr 47 getragen zeigt. Die Magnetkonstruktion 45
erstreckt sich über im wesentlichen die gesamte Länge des
Targets 15. Drei Magnetpole finden Anwendung, wobei ein Nordpol
zwischen zwei Südpolen angeordnet ist. Die Magnetkonstruktion
45 wird feststehend gehalten und dreht sich nicht mit dem
zylindrischen Target 15 mit. Die Magnetfelder bilden schmale
Zonen 49 und 51, die entlang der Länge der Targetoberfläche
zwischen den magnetischen Nord- und Südpolen verlaufen. Dabei
handelt es sich um Zonen, die Ionen innerhalb des in der
Kammer gebildeten Plasmas begrenzen. Die Ionen innerhalb dieser
Zonen werden so veranlaßt, mit hoher Geschwindigkeit auf die
Targetoberfläche aufzutreffen, wodurch sie Atome des Elements
oder der Elemente herausschlagen, aus dem bzw. denen die
Targetoberfläche gebildet ist.
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Wie man aus der Untersicht des Targets 15 in Fig. 2B sieht,
wird auf der Oberfläche des Targets 15 durch die Magnetzonen
49 und 51 eine Erosionszone geschaffen. Diese Erosionszone
bildet einen kontinuierlichen Start, der die länglichen
parallelen Bereiche 49 und 51 durch Bereich 53 und 55 an den
Enden der Magnetkonstruktion 45 verbindet. Die
Errosionszonenbereiche 49, 51, 53 und 55 bilden zusammen eine
kontinuierliche "Laufbahn", entlang welcher Elektronen in einer
durch die Pfeile angedeuteten einzigen Richtung wandern.
Diese Richtung hängt von der relativen Position der
Magnetpole der Magnetkonstruktion ab. Die Richtung wäre
entgegengesetzt, wenn die Magnetkonstruktion 45 einen Südpol in der
Mitte und an beiden Seiten einen Nordpol hätte.
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Bevor die verbesserte Anodenkonstruktion in dem Zwei-Target-
Magnetron beschrieben wird, ist es hilfreich, zunächst einige
Endeckungen zu beschreiben, die mit Bezug auf bei einem
einzigen Target verwendeten Anoden gemacht worden sind. Die
Fig. 2A, 2B und 2C zeigen den Einsatz einer einfach-
Target-Konstruktion in einer Vakuumkammer des Systems nach
Fig. 1. Auf beiden Seiten des Targets sind Anoden 57 und 59
angeordnet. Diese Anoden sind elektrisch miteinander und mit
dem positiven Anschluß der Stromzufuhr 41 (Fig. 1) anstelle
der dort dargestellten Anode 43 verbunden. Jede der Anoden 57
und 59 verläuft im wesentlichen über die volle Länge der auf
der Oberfläche des Targets 45 gebildeten Laufbahn. Sie können
aus einem durchgehenden Stück aus metallischem Material
hergestellt sein, daß entweder fest genug ist, um selbsttragend
zu sein, oder mit Hilfe anderer starrer Bauteile abgestützt
sind. Die Oberfläche jeder dieser Anoden braucht nicht
durchlaufend zu sein, sondern kann stattdessen aus zwei oder mehr
Abschnitten aus Metallblechen gebildet sein, die entlang der
Anodenlänge jeweils durch einen kleinen Spalt getrennt sind,
um Wärmedehnung zuzulassen. Solche Anodensegmente sind
untereinander elektrisch durch Drahtlitze oder dergleichen
verbunden. Jede der Anoden ist mit ihrer Länge parallel zur
Drehachse 21 des Targets 15 und im wesentlichen Senkrecht zum
Substrat 11 positioniert dargestellt, auf welchem ein Film
aufgebracht wird, aber diese geometrischen Beschränkungen
sind für die hier beschriebene Arbeitsweise nicht wesentlich.
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Es hat sich gezeigt, daß nur ein kleiner Teil der länglichen
Anoden 57 und 59 eine große Mehrheit des von den Anoden
geführten Elektrodenstroms aufnehmen. Um auf Fig. 2B Bezug zu
nehmen, die über eine kurze Länge der Anode 57 verlaufende
schraffierte Fläche 61 zeigt eine Aufnahme von etwa 90% der
Elektronen aus dem benachbarten Plasma, welche die gesamte
Anode 57 aufnimmt. In gleicher Weise nimmt der kleine
schraffierte Bereich 63 die Anode 59 etwa 90% der von der gesamten
Anode 59 aufgenommenen Elektronen auf. Es hat sich gezeigt,
daß dies der Fall ist, ob nun eine oder beide der Anoden 57
und 59 verwendet werden. Die aktiven Anodenbereiche scheinen
sich in einem Pfad der Driftelektronen zu befinden, die
entlang der Laufbahn des Targets wandern, die aber an den
scharfen Biegungen an den Laufbahnenden 53 und 55 aus der Laufbahn
austreten. Die drastisch ungleichförmige Stromverteilung
wurde durch Experimente festgestellt, bei welchen die länglichen
Anoden in separate Abschnitte unterteilt wurden und der von
jedem Abschnitt aufgenommener Strom gemessen wurde.
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Die Ergebnisse bei Benutzung entweder einer der Anoden 57 und
59 allein oder beider Anoden zusammen sind in Fig. 2C
dargestellt. Wenn nur die Anode 57 positioniert und an die
Stromquelle angeschlossen ist, folgt die Auftragsrate über dem
Substrat in Richtung der Länge des Targets 15 dem Profil der
Kurve 65. In ähnlicher Weise wird bei Benutzung der Anode 59
allein ein Auftragsratenprofil gemäß der Kurve 67 erhalten.
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Nachdem entdeckt wurde, daß nur der kleine Bereich 61 und 63
der Anoden 57 und 59 den größten Teil des Anodenstroms
führen, können diese sehr ungleichförmigen
Auftragsratenprofilkurven 65 und 67 auf der Grundlage erklärt werden, daß ein
Anodenplasma existiert, das an den aktiven Anodenbereichen
positioniert ist, und daß die Auftragsrate von Material auf
einen Substrat am höchsten ist, wo dieses Plasma vorhanden
ist.
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Es ist daher zu erwarten, daß, wenn beide Anoden 57 und 59
eingesetzt werden, ein Auftragsratenprofil über dem Substrat
entsprechend der Kurve 69 vorhanden ist. Es wäre zu erwarten,
daß die Auftragsrate an die Enden des Targets 15 höher ist,
wo die aktiven Anodenbereiche 61 und 63 vorhanden sind, und
in der Mitte niedriger ist. Man erwartet, daß das Profil 69
grob die Summe der beiden Kurven 65 und 67 darstellt, die bei
Verwendung jeweils nur einer der Anoden 57 und 59 erhalten
werden. Jedoch hat sich gezeigt, daß eine gleichförmige
Verteilungsrate über dem Substrat entlang der Länge des Targets
15 erreicht wird, wie durch die Kurve 71 in Fig. 2C
dargestellt ist. Der Betrieb des ein-Target-Magnetronsystems nach
den Fig. 2A und 2B ist deshalb verschieden von dem, was
man aufgrund der obigen Beobachtungen des Betriebs mit jeder
der beiden Anoden separat erwarten würde.
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Die Fig. 3A, 3B und 3C zeigen Konstruktion und
Arbeitsweise des Magnetronsystems nach Fig. 1, wenn beide
Targetbaugruppen benutzt werden. Längliche Anoden 71 und 73 sind
jeweils entlang der Außenflächen jedes der Targets 15 und 23
positioniert, die am weitesten voneinander entfernt sind. Es
hat sich gezeigt, das aktive Bereiche 75 und 77 in der Anode
entlang der Anodenoberflächen 71 und 73 vorhanden sind, wie
zuvor mit Bezug auf Fig. 2B beschrieben. Wenn nur die Anode
71 verwendet wird, stellt sich das Profil der Auftragsrate
über dem Substrat durch die Kurve 79 nach Fig. 3C dar. Der
Auftrag verläuft zum Ende der Targets hin schräg, wo der
aktive Anodenbereich 75 vorhanden ist. In gleicher Weise erhält
man, wenn nur die Anode 73 benutzt wird, das durch die Kurve
81 dargestellte Auftragsratenprofil. Wenn beide Anoden
benutzt werden, hält man das Auftragsratenprofil 83, das grob
die Summe der Kurven 79 und 81 darstellt. Jedes der Targets
15 und 23 mit der zugehörigen Anode 71 und 73 scheint
unabhängig vom anderen zu arbeiten. Eine solche unabhängige
Arbeitsweise ist das, was man auch erwarten würde.
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Unter Bezug auf die Fig. 4A, 4B und 4C wird nun die
Wirkung des Hinzufügens einer dritten Anode 85 zwischen den
Targets in der Konfiguration nach den Fig. 3A und 3B
untersucht. Diese mittlere Anode weist aktive Strombereiche an
beiden Enden auf, wobei der Bereich 87 etwa 90% des Stroms
aufnimmt, den die Anode 85 vom Driftstrom in der Laufbahn des
Targets 15 erhält. In ähnlicher Weise empfängt der kleine
Bereich 89 etwa 90% des Stroms, daß die Anode 85 von dem
Driftstrom in einer ähnlichen Laufbahn der Oberfläche des
Targets 23 aufnimmt. Sämtliche Anoden 71, 73 und 85 sind
vorzugsweise elektrisch mit den positiven Anschlüssen von zwei
Stromquellen zusammengeschaltet. Eine der Stromquellen ist
mit dem negativen Anschluß an das Target 15 angeschlossen,
und die andere ist mit dem negativen Anschluß mit dem Target
verbunden.
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Man würde erwarten, daß die Hinzufügung der aktiven
Anodenbereiche 87 und 89 in der Nachbarschaft der Enden der Targets
15 und 23 einfach die ungleichmäßige Auftragsrate, die durch
die Kurve 83 in Fig. 3C dargestellt ist, noch betonen würde.
Jedoch wird stattdessen die Verteilungsrate entsprechend der
oben mit Bezug auf die Fig. 2A, 2B und 2C beschriebenen
Entdeckung gleichförmig, wie durch die Kurve 91 in Fig. 4C
dargestellt ist.
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Das zweite Target 23 weist ebenfalls eine Magnetkonstruktion
93 (Fig. 3A und 4 A) auf, die von einer Kühlleitung 95
getragen wird, und die sich im wesentlichen über die gesamte
Länge des Targets erstreckt. Eine Laufbahn 97 entlang der
Targetoberfläche wird durch die magnetische Konstruktion in
gleicher Weise gebildet, wie das für das Target 15
beschrie
ben ist. Man sieht also, daß die aktiven Anodenbereiche 87
und 89, die Elektronenstrom von dem dem Target 23
zugeordneten Plasma erhalten, an den entgegengesetzten Enden der
Laufbahn 97 auf entgegengesetzten Seiten hiervon in der Bahn
der Elektronen gelegen sind, die an den scharfen Biegungen an
den Laufbahnenden wegtrifften.
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Die Anordnung der Nord- und Südpole der Magnetbaugruppen 45
und 93 steuern die Richtung dieses Trifftstrom, die durch
Pfeile in den Fig. 3B und 4D dargestellt ist. Wenn bei
einer dieser Magnetbaugruppen die relativen Polaritäten
geändert werden, so daß ein Südpol in der Mitte, und Nordpole an
den Außenseiten angeordnet sind, würde der Driftstrom entlang
der Laufbahn in gegenüber der dargestellten Richtung
entgegengesetzter Richtung verlaufen. Das Ergebnis bei der
Ausführungsform der Fig. 4A und 4B liegt darin, daß beide
Bereiche 87 und 89 sich am gleichen Ende Mittelanode 85 anstatt an
entgegengesetzten Enden ausbilden würden. Das ist aus einer
Anzahl von Gründen unerwünscht, wobei ein Hauptgrund darin
liegt, daß es wahrscheinlich ist, daß eine begrenzte
Kapazität der Anodenkonstruktion überschritten wird.
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Eine bevorzugte Anodenanordnung für ein Zwei-Target-Magnetron
ist in den Fig. 5A und 5B dargestellt. Statt einer
einzigen länglichen Anode sind Targets 15 und 23 werden zwei
benachbarte längliche Anoden 99 und 101 verwendet. Diese Anoden
erzeugen jeweils Hochstrombereiche 87' und 89' entsprechend
den Bereichen 87 und 89 in Fig. 4B. Die Stromversorgung 41
enthält zwei getrennte Gleichstromquellen 103 und 105. Die
Quelle 103 ist mit ihrem positiven Anschluß mit beiden Anoden
71 und 99 verbunden und mit dem negativen Anschluß mit der
Targetoberfläche 15 verbunden. In ähnlicher Weise ist die
Quelle 105 mit dem positiven Anschluß mit beiden Anoden 73
und 101 verbunden und mit dem negativen Anschluß mit der
Targetoberfläche 23 verbunden. Diese Anordnung erzeugt das
gleiche Auftragsratenprofil 91 wie in dem System nach den
Fig. 4A und 4B. Mit gesonderten Mittelanoden 99 und 101
kann jedoch die relative magnetische Polarität der
Magnet
konstruktionen 45 und 93 anders gewählt werden, da die
gesonderten Anoden den Strom von ihren jeweiligen Targets
führen.
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Die vorstehende Beschreibung bezieht sich auf eine
Konstruktion mit zwei umlaufenden zylindrischen Targets, aber das
gleiche Prinzip findet Anwendung, wenn zwei längliche
stationäre Targetoberflächen verwendet werden, entweder in einer
ebenen Konfiguration oder in sonstiger Weise.
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Die oben beschriebenen Zwei-Target-Magnetronanordnungen
können eingesetzt werden, um eine breite Vielfalt von Filmarten
auf verschiedenen Größen und Formen von Substraten
aufzubringen. Das Aufbringen dielektrischer Filme durch reaktive
Zerstäubung ist jedoch schwierig, weil die Anodenoberflächen
nach einer kurzen Betriebsdauer mit dem Dielektrikum
beschichtet werden und daher unwirksam werden, zumindest wenn
eine Gleichstromquelle verwendet wird. Daher arbeiten diese
Konfigurationen am besten beim Aufbringen elektrisch
leitender Filme. Bekannte Beispiele sind Titannitrid (TiN) und
Zinnoxid (SnO&sub2;). Für Langzeitauftrag ist es am besten, wenn
die Filme einen spezifischen Widerstand haben, der kleiner
als 10.000 Ohm-cm ist.