DE69404053T2

DE69404053T2 - Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsenmatrixen

Info

Publication number: DE69404053T2
Application number: DE69404053T
Authority: DE
Inventors: Avi Y Feldblum; Keith Owen Mersereau; Casimir Roman Nijander; Wesley Peter Townsend
Original assignee: AT&T Corp
Current assignee: AT&T Corp
Priority date: 1993-03-01
Filing date: 1994-02-16
Publication date: 1997-10-30
Anticipated expiration: 2014-02-17
Also published as: JPH06308302A; DE69404053D1; EP0614096B1; JP2798600B2; US5286338A; EP0614096A1

Description

Technisches Gebiet

Die vorliegende Erfindung betrifft Mikrolinsenanordnungen und insbesondere durch reaktives Ionenstrahlätzen hergestellte Mikrolinsenanordnungen.

Stand der Technik

Es besteht in zunehmendem Maß Bedarf an Miniatur- oder Mikrolinsen für Aufgaben wie die Auskoppelung von Licht aus einem Laser zu einer Lichtleitfaser, und die Auskoppelung von Licht aus einer Lichtleitfaser zu einem Fotodetektor. Das U.S.- Patent von Basavanhally, Nr. 5 135 590, erteilt am 4. August 1992, beschreibt ein Verfahren für das Anordnen von Lichtleitfasern in einer Matrixkonfiguration, wie es zum Beispiel zum Freiraum-Schalten erforderlich ist. Solche Verwendungszwecke würden normalerweise eine Matrixanordnung von Mikrolinsen erfordern, um aus den Lichtleitfaserenden ausgestrahltes Licht einzuschließen. Es wurden daher beträchtliche Anstrengungen unternommen, um Verfahren zur Herstellung von. Mikrolinsenanordnungen zu entwickeln, die als eine Einheit verwendet werden können, oder aus denen einzelne Linsen zur Verwendung ausgewählt werden.
Ein vielversprechendes Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsenanordnungen umfaßt die Schritte des Ausbildens einer Anordnung von Fotoresistelementen auf einem Siliziumoxidsubstrat, des Schmelzens der Elemente, um zu verursachen, daß sie gekrümmte oder kuppelförmige obere Oberflächen aufweisen, und nachfolgendes Verfestigen der Elemente. Die Fotoresistelemente und das Substrat werden dann einer reaktiven Ionenstrahlätzung unterworfen, d.h. Ätzung durch ein reaktives Gas, bei dem die Reaktion durch die Anwendung von Hochfrequenzleistung verstärkt wird. Die Fotoresistelemente verursachen ein differentielles Ätzen in dem Substrat, so daß, nachdem alles Fotoresist geätzt wurde, die Kuppelformen der ursprünglichen Fotoresistelemente in dem Siliziumoxidsubstrat nachgebildet sind. Dieses Verfahren wird zum Beispiel in EP-A-458 51# beschrieben.
Es wurde festgestellt, daß das reaktive Ionenstrahlätzverfahren (RIE - Reactive Ion Etching) der Herstellung von Mikrolinsenanordnungen oft zu Linsen führt, die unerwünschte Aberrationen aufweisen. Solche Aberrationen können zu erheblichen Verlusten von optischer Energie führen, und können die Funktionen von optischen Apparaten einschränken. Dementsprechend besteht in der Industrie ein fortwährender Bedarf an verläßlichen Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsenanordnungen hoher Qualität.

Zusammenfassung der Erfindung

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird während des oben beschriebenen reaktiven Ionenstrahlätzvorgangs die Gaszusammensetzung in der reaktiven Ionenstrahlätzkammer verändert, um die Krümmung der in dem Siliziumoxidsubstrat ausgebildeten Linsenelemente einzustellen, und um die Aberrationen solcher Linsenelemente zu verringern. Zum Beispiel können zwei Gase, CHF&sub3; und Sauerstoff, der reaktiven Ionenstrahlätzkammer zugeführt werden, und der Anteil von Sauerstoff wird während des Ionenstrahlätzvorgangs erheblich und gezielt verringert, was die Aberrationen der durch den Vorgang ausgebildeten Linsenelemente verringert.
Diese und andere Aufgaben, Merkmale und Vorzüge der Erfindung werden besser aus der Betrachtung der folgenden ausführlichen Beschreibung in Verbindung mit den angefügten Zeichnungen verständlich.

Kurze Beschreibung der Zeichnung

FIG. 1 ist eine Schnittansicht eines Teils eines Siliziumoxidsubstrats, auf dem Fotoresistelemente für den Zweck der Herstellung einer Mikrolinsenanordnung ausgebildet wurden;
FIG. 2 ist eine Draufsicht von FIG. 1;
FIG. 3 und 4 stellen die Struktur von FIG. 1 in aufeinanderfolgenden Stufen der Herstellung einer Mikrolinsenanordnung dar;
FIG. 5 ist eine schematische Ansicht von Gerät zum reaktiven Ionenstrahlätzen von Mikrolinsenanordnungen gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der Erfindung;
FIG. 6 ist eine schematische Ansicht von Interferometergerät zum Feststellen von Aberrationen in einer Mikrolinse gemäß einem Aspekt der Erfindung; und
FIG. 7-9 sind Ansichten von durch das Gerät von FIG. 6 gebildeten Interferenzstreifenmustern.

Ausführliche Beschreibung

Nunmehr bezugnehmend auf FIG. 1 und 2 ist der erste Schritt bei der Herstellung einer Mikrolinsenanordnung durch den RIE-Vorgang das Ausbilden einer Anordnung von Fotoresistelementen 11 auf einem Siliziumoxidsubstrat 12. Bezugnehmend auf FIG. 3 werden die Fotoresistelemente geschmolzen, was dazu führt, daß sie die gezeigten gekrümmten oder kuppelförmigen Formen annehmen. Daß heißt, die Oberflächenspannung verursacht, daß die obere Oberfläche des geschmolzenen Fotoresist eine gekrümmte Form bildet. Die Fotoresistelemente werden dann gehärtet, um sie in dieser Konfiguration zu stabilisieren.
Als nächstes wird die Struktur in eine Reaktionskammer für reaktives Ionenstrahlätzen des in FIG. 5 gezeigten Typs gelegt, die deren obere Oberfläche einem Ätzgas aussetzt, dessen Reaktivität durch die Anwendung von Hochfrequenzleistung verstärkt wird. Die reaktiven Ionen des Gases ätzen sowohl die Fotoresistelemente als auch das Siliziumoxidsubstrat, so daß, nach einer gewissen Zeitdauer, die Oberfläche der Struktur die durch die gestrichelte Linie 14 der FIG. 3 gezeigte ist. Weiteres reaktives Ionenstrahlätzen ätzt tiefer in das Substrat hinein und ätzt die Fotoresistelemente 11 vollständig weg, was eine Matrix von Höckern in dem Substrat 12 zurückläßt Bezugnehmend auf FIG. 4 bilden diese Höcker Mikrolinsen auf der oberen Oberfläche des Siliziumoxidsubstrats 12. Praktisch enthält jede Mikrolinse den Teil des Substrats 12, über dem sie liegt.
Es ist zu verstehen, daß das Substrat 12 aus einem beliebigen einer Vielfalt von als Mikrolinsen nutzbaren Materialien bestehen kann, wie etwa Galliumarsenid, Silizium, Indiumphosphid, Zinkselenid, verschiedene Glassorten oder Saphir. Das Material muß normalerweise für das zu verwendende Licht transparent sein, es sei denn, daß die Linse zur Verwendung als ein Spiegel zu beschichten ist oder anderweitig als ein Reflektor verwendet werden soll. In diesem Fall muß das Substrat nicht für das Licht transparent sein.
Die Elemente 11 von FIG. 1 werden zweckmäßig in Fotoresist durch Maskieren und Entwickeln ausgebildet. Es können aber auch andere Materialien wie beispielsweise Polymere (z.B. Acrylate), die zur Herstellung von kuppelformigen Elementen schmelzbar sind, alternativ als Elemente 11 verwendet werden. Mikrolinsen weisen typischerweise Durchmesser von fünfzig bis mehrere hundert Mikrometer auf, und sind regelmäßig in Abständen von zehn oder zwanzig bis zu mehreren hundert Mikrometern beabstandet, wobei das Substrat 12 ensprechend angemessen für die nachfolgende Verwendung mehrere hundert Mikrometer dick ist.
Bezugnehmend auf FIG. 5 wird die reaktive Ionenstrahlätzung auf bekannte Weise durchgeführt, und zwar in einer Reaktionskammer 17 mit gegenüberliegenden Elektroden 18 und 19. Ein Gas, wie zum Beispiel eine Mischung aus CHF&sub3; und Sauerstoff, das von den Quellen 21 und 22 zugeführt und durch Ventilvorrichtungen 23 gesteuert wird, wird in die Reaktionskammer eingeströmt, um einen geringen Gasdruck innerhalb der Reaktionskammer herzustellen, die ansonsten entleert ist. Das zu ätzende Substrat 12 wird auf ein Isolierglied 20 (typischerweise eine Quartzplatte) gelegt und sowohl der Gasatmosphäre als auch der wie gezeigt der Elektrode 18 zugeführten HF-Leistung ausgesetzt. Die Parameter betragen typischerweise Druck, fünfunddreißig Mikrometer Quecksilbersäule; HF- Leistung, 240 Watt; Frequenz, 13,56 Megahertz; Gasströmungsgeschwindigkeit, 5-50 Normkubikzentimeter pro Minute. Das Gasgemisch kann typischerweise aus sechsundneunzig Prozent CHF&sub3; und vier Prozent O&sub2; bestehen. Diese Parameter werden normalerweise empirisch für verschiedene Anforderungen optimiert. Bekannterweise können als Ätzgase verschiedene andere aktive Ätzgase eingesetzt werden, darunter SiCl&sub4;, BCl&sub3;, Cl&sub2;, CHCl&sub2;F, die allein oder zusammen mit anderen Gasen wie zum Beispiel O&sub2; und SF&sub6; verwendet werden können. Die Reaktionskammer 17 kann von einem Typ sein, der von der Plasma Technology Company in Avon, England erhältlich ist. Bei dem verwendeten Resist handelte es sich um Shipley 1650, das von der Shipleä Company in Newton, Massachusetts erhältlich ist.
Das Problem, mit dem sich die Erfindung befaßt, ist die Neigung des Geräts von FIG. 5, Linsenanordnungen herzustellen, die optische Aberrationen aufweisen. Es kann gezeigt werden, daß bei einer aberrationsfreien Siliziumoxid-Mikrolinse deren obere Oberflächengeometrie durch eine negative Kegelschnittkonstante gekennzeichnet wäre, was für ein hyperbolisches, parabolisches oder elliptisches Profil naturgemäß ist. Kegelschnittkonstanten werden zum Beispiel in der Veröffentlichung "OSLO Series II and III Operating Manual", erste Auflage, Copyright 1991, Sinclair Optics Inc., Fairport, New York besprochen. Eine Kugeloberfläche hätte im Gegensatz dazu eine Kegelschnittkonstante von Null, während wie oben geätzte Linsen unerwünschterweise tendenziell positive Kegel schnittkonstanten aufweisen.
Aberrationen können in dem in FIG. 6 gezeigten Interferometergerät analysiert werden, in dem kohärentes Licht aus einer Quelle 25 in einem Strahlteiler 26 aufgeteilt, durch eine Mikrolinse 15 einer Mikrolinsenanordnung geleitet und auf einen Schirm 28 projiziert wird. Ein Teil des Strahls aus der Quelle 25, der als Vergleichsstrahl bekannt ist, wird zu einem Strahlteiler 29 geleitet, wo er sich mit dem durch die Mikrolinse 15 projizierten Strahl überlagern kann. Es kann gezeigt werden, daß mit einer richtig fokussierten aberrationsfreien Linse die auf den Schirm 28 projizierten Interferenzstreifen wie in FIG. 8 gezeigt aus im wesentlichen parallelen Streifen bestehen. Aberrationen verursachen, daß die Interferenzstreifen wie in FIG. 7 und 9 gezeigt gekrümmte oder gebogene Linien und Schleifen auf dem Schirm 28 bilden.
Es wurde festgestellt, daß das Oberflächenprofil der Mikrolinsen eingestellt werden kann, indem der Anteil von in das Gerät von FIG. 5 eingeströmtem Sauerstoff während des Ätzens verändert wird, um dadurch Aberrationen zu verringern oder zu eliminieren. Genauer gesagt wird während des Ätzens der Sauerstoff um typischerweise mindestens fünfzehn Prozent verringert. Aufgrund der Schwierigkeit, geringfügige Änderungen der Ätzgeschwindigkeit vorherzusagen, wird empfohlen, für jeden Mikrolinsenentwurf den Sauerstoff während der Produktion zu verringern, und die Linsen in dem Gerät von FIG. 6 zu prüfen, um empirisch die erforderliche verhältnismäßige Verringerung des Sauerstoffs zu bestimmen, um die Aberrationen auf das gewünschte Ausmaß zu verringern. Diese Verfahrensweise wird durch die folgenden drei Beispiele illustriert, die alle eine RIE-Atmosphäre von O&sub2; und CHF&sub3; einsetzen.

BEISPIEL I

Das Ziel war hier, Mikrolinsen aus Siliziumoxid (SiO&sub2;) mit einem Durchmesser von dreihundertneunzig Mikrometer, einem Krümmungsradius von sechshundertfünfzig Mikrometer plus oder minus fünfzig Mikrometer, einer Brennweite von 1,4 Millimeter bei einer optischen Wellenlänge von sechshundertdreiunddreißig Nanometer und einer Längendifferenz des optischen Wegs (OPD - optical path length difference) von Scheitel zu Tal von weniger als einer halben Wellenlänge bei sechshundertdreiunddreißig Nanometer, was ein Maß für die Aberration ist, herzustellen.
Anfänglich wurde versucht, reaktives Ionenstrahlätzen einzusetzen, um durch das Verfahren nach dem Stand der Technik Fotoresist-Linsenformen auf vierzöllige SiO&sub2;-Scheiben zu übertragen. Dies erfolgte durch Neunhundertneunundneunzig Minuten langes Ätzen mit 3,23 Prozent Sauerstoff, wobei die restlichen 96,77 Prozent aus CHF&sub3; bestanden; das heißt, die Gesamt- Gasströmungsrate bestand aus 3,23 Prozent O&sub2; und 96,77 Prozent CHF&sub3;. Die Fotoresisthöhe vor dem Ätzen betrug 30,5 Mikrometer, was nach dem Ätzen eine Linsenhöhe (als Linsenbiegung bekannt) von 32,6 Mikrometer ergab. Unter Verwendung des Geräts von FIG. 6 wurde festgestellt, daß die Linse etwa fünf Wellenlängen Wellenfrontaberration bei einer optischen Wellenlänge von sechshundertdreiunddreißig Nanometer aufwies. Dies entspricht einer Kegelfläche mit einer Kegelschnittkonstante von +3,8 , während wie bereits erwähnt eine verschwindende oder negative Kegelschnittkonstante erforderlich war. Das Interferenzstreifenmuster wies, wie in FIG. 7 gezeigt, eine starke Streifenkrümmung nach rechts auf.
In dem zweiten Experiment wurden die Linsen unter Verwendung von drei verschiedenen RIE- Gaszusammensetzungen von Sauerstoff und CHF&sub3; geätzt, und zwar dreihundert Minuten lang mit 5,3 Prozent Sauerstoff, gefolgt von dreihundertsechzig Minuten lang 4,4 Prozent Sauerstoff, gefolgt von fünfhundert Minuten lang 3,6 Prozent Sauerstoff, wobei es sich bei dem Rest jeweils um CHF&sub3; handelte. Die sich ergebenden Linse hatte eine Durchbiegung von 33,6 Mikrometer und eine OPD von zwei Wellenlängen. Diese Linse war zwar eine Verbesserung gegenüber dem vorhergehenden Experiment, genügte aber nicht den Spezifikationen; das Interferenzmuster wies immer noch eine deutliche Krümmung nach rechts auf.
In dem dritten Experiment wurde das RIE-Ätzen mit 5,36 Prozent Sauerstoff dreihundert Minuten lang durchgeführt, dreihundertsechzig Minuten lang mit 4,6 Prozent Sauerstoff und fünfhundert Minuten lang mit 3,6 Prozent Sauerstoff. Die sich ergebenden Linse hatte eine Durchbiegung von 33,6 Mikrometer, einen Krümmungsradius von sechshundertzweiundfünfzig Mikron sowie weniger als eine halbe Wellenlänge Aberration und genügte daher den Spezifikationen. Das Streifenmuster bestand wie in FIG. 8 gezeigt aus parallelen, fast vertikalen Linien.

BEISPIEL II

Es sollte eine Mikrolinse aus Hartglas mit einem Durchmesser von zweihundertdreißig Mikrometer, einem Krümmungsradius von zweihundertfünfzig Mikrometer plus oder minus fünfzig Mikrometer und einer durch eine OPD von weniger als einer Viertelwellenlänge bei einer Wellenlänge von sechshundertdreiunddreißig Nanometer gekennzeichnete Wellenfrontaberration hergestellt werden. Es wurde eine erste Ätzung siebenhundertvierzig Minuten lang mit 3,64 Prozent Sauerstoff durchgeführt (der Rest CHF&sub3;). Dies ergab eine OPD von etwa 1,5 Wellenlängen; das heißt, es bestanden unkorrigierte Aberrationen, die zu einem Streifenmuster wie in FIG. 7 führten.
Im nächsten Experiment wurde mit 5,3 Prozent Sauerstoff zweihundertachtzig Minuten lang geätzt, dreihundertzwanzig Minuten lang mit 4,4 Prozent und vierhundert Minuten lang mit 3,6 Prozent. Dies ergab etwa 1,5 Wellenlängen Aberration, war jedoch eine Überkorrektur, weil die Streifen in der im Vergleich zum ersten Experiment entgegengesetzten Richtung verliefen, wie in FIG. 9 dargestellt ist. Im nächsten Experiment wurden 4,3 Prozent Sauerstoff neunzig Minuten lang, 3,8 Prozent Sauerstoff neunzig Minuten lang und 3,6 Prozent Sauerstoff fünfhundertsechzig Minuten lang verwendet. Dies ergab weniger als eine Wellenlänge Aberration, war aber zuwenig korrigiert, und die Streifen waren wie in FIG. 7 nach rechts gekrümmt. Im nächsten Experiment wurde die folgende Formel eingesetzt: 4,7 Prozent Sauerstoff zweihundertachtzig Minuten lang, 4,1 Prozent dreihundertzwanzig Minuten lang und 3,6 Prozent vierhundert Minuten lang. Dies ergab praktisch eine aberrationsfreie Linse mit parallelen Streifen wie in FIG. 7. Man erhielt deshalb die folgenden empirischen Regeln:
Um eine vizuwenig korrigierte" Linse zu korrigieren, erhöhe man die Geschwindigkeit, mit der Sauerstoff vom Beginn des Ätzens zum Ende reduziert wird. Eine solche Linse weist eine Neigung auf, die in der Mitte der Linse zu flach ist (oder am Rand der Linse zu gekrümmt). Um eine "überkorrigierte" Linse zu korrigieren, muß das Gegenteil unternommen werden, das heißt, man verringere die Sauerstoffreduktionsgeschwindigkeit.

BEISPIEL III

Hier wurde versucht, Mikrolinsen mit einem Durchmesser von zweihundertfünfundsechzig Mikrometer herzustellen. Die Wellenfrontaberration sollte nicht schlechter als eine Viertelwellenlänge bei sechshundertdreiunddreißig Nanometer werden. Es wurde mit einer Formel begonnen, die ähnlich wie die Formel war, die für das Beipiel I funktioniert hatte. Diese Formel war 5,1 Prozent Sauerstoff zweihundertsechsundsiebzig Minuten lang, 4,4 Prozent zweihundertsechsundsiebzig Minuten lang und 3,8 Prozent vierhundertzweiunddreißig Minuten lang. Das Ergebnis war etwa 1,5 bis zwei Wellenlängen überkorrigiert (Streifen wie in FIG. 9). Im nächsten Experiment wurden die Sauerstoffkonzentrationen verringert, so daß 4,2 Prozent Sauerstoff fünfhundertsechsundfünfzig Minuten lang, 3,8 Prozent zweihundertsechsundfünfzig Minuten lang und 3,6 Prozent vierhundertzwei Minuten lang verwendet wurde. Das Ergebnis war viel besser, jedoch dieses Mal um eine halbe Wellenlänge zuwenig korrigiert (Streifen wie in FIG. 7).
Beim nächsten Experiment wurden 4,3 Prozent Sauerstoff einhundertdreiundneunzig Minuten lang, 3,8 Prozent einhundertdreiundneunzig Minuten lang und 3,6 Prozent dreihundertvier Minuten lang eingesetzt. Dies ergab im wesentlichen aberrationsfreie Linsen (Streifen wie in FIG. 8).
Weitere Experimente wurden bei Sauerstoffreduktion von 4,4 auf 3,6 durchgeführt, wobei jedoch die Änderungen öfter und in kleineren Schritten vorgenommen wurden. In einem solchen Experiment wurden acht verschiedene Gasverhältnisse, und in einem anderen sieben verschiedene Gasverhältnisse eingesetzt. Es wurde festgestellt, daß bei sich einer kontinuierlichen Änderung des Ätzgasverhältnisses annähernden Änderungen Linsenoberflächen mit weniger abrupten Änderungen der Neigung hergestellt werden konnten, und dabei gerade parallele Interferenzstreifen erhalten wurden. Wie bereits erwähnt können vielfältige andere Zusammensetzungen als RIE-Atmosphäre verwendet werden, und vielfältige andere Materialien für die Maskierungselemente. Solche Änderungen würden sich in einer unterschiedlichen Einstellung der RIE-Atmosphäre zur Eliminierung von Aberrationen wiederspiegeln. Derartige Entscheidungen können von Fachleuten getroffen werden, ohne besondere Experimente der beschriebenen Verfahrensweise durchzuführen. Im Prinzip kann auch eine Oberflächenmessung der Krümmung von Mikrolinsen als Alternative zu den beschriebenen interferometri schen Messungen durchgeführt werden, obwohl jetzt noch aufgrund der Genauigkeit und Verläßlichkeit der gegenwärtigen Geräte interferometrische Messungen vorzuziehen sind. Vielfältige andere Ausführungsformen und Modifikationen können von Fachleuten hergestellt werden, ohne den durch die Ansprüche definierten Schutzbereich der Erfindung zu verlassen.

Claims

1. Verfahren zum Ausbilden einer Linsenmatrix, das die folgenden Schritte umfaßt: Ausbilden einer Mehrzahl von ersten Elementen (11) aus einem ersten Material, das über einem Substrat (12) aus einem zweiten Material liegt; zumindest teilweises Schmelzen der ersten Elemente, um zu verursachen, daß sie gekrümmte obere Oberflächen aufweisen, und nachfolgendes Verfestigen der ersten Elemente; Einbringen des Substrats und der ersten Elemente in eine reaktive Ionenstrahlätzkammer (17) mit Gaseinlaßgerät (21, 22, 23); reaktives Ionenätzen des Substrats und besagter Mehrzahl von ersten Elementen, so daß differentielles Ätzen des Substrats Linsenelemente in dem Substrat produziert; gekennzeichnet durch:

gezieltes Ändern der Gaszusammensetzung in der reaktiven Ionenstrahlätzkammer, um die Krümmung von in dem Substrat ausgebildeten Linsenelementen einzustellen, und um Aberrationen solcher Linsenelemente zu reduzieren.

2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei: mindestens zwei verschiedene Gase durch das Gaseinlaßgerät zugeführt werden;

und der Schritt des Änderns der Gaszusammensetzung den Schritt des Änderns des Verhältnisses der besagten beiden verschiedenen Gase umfaßt.

3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei: das zweite Material Siliziumoxid ist, und das erste Material ein Fotoresistmaterial ist.

4. Verfahren nach Anspruch 2, wobei: die beiden Gase CHF&sub3; und Sauerstoff sind.

5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei: während des reaktiven Ionenstrahlätzschritts der Anteil von zugeführtem Sauerstoff um mehr als etwa fünfzehn Prozent reduziert wird.

6. Verfahren nach Anspruch 4, wobei: zu Beginn des reaktiven Ionenstrahlätzschritts der Anteil von zugeführtem Sauerstoff im Bereich von 3,8 Prozent bis 5,3 Prozent liegt, und am Ende des reaktiven Ionenstrahlätzschritts der Anteil von zugeführtem Sauerstoff im Bereich von 3,1 Prozent bis 3,6 Prozent liegt, und der Rest des zugeführten Gases CHF&sub3; ist.

7. Verfahren nach Anspruch 1 oder 6, wobei: während des reaktiven Ionenstrahlätzschritts das Substrat und die Elemente Hochfrequenzleistung ausgesetzt werden, was die besagte Ionenstrahlätzung verstärkt.

8. Verfahren nach Anspruch 2 oder 6, weiterhin mit folgenden Schritten:

Verwenden von reaktivem Ionenstrahlätzen zum Aüsbilden einer Mehrzahl von verschiedenen Linsenelementen in einer Mehrzahl verschiedener Substrate;

nach jedem reaktiven Ionenstrahlätzschritt, das Feststellen der Aberrationen in den dadurch ausgebildeten Elementen;

und Verwenden von Informationen aus besagter Feststellung von Aberrationen zum Einstellen der Änderung der Gaszusammensetzung während eines nachfolgenden Ionenstrahlätzschritts.

9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei: der Schritt des Feststellens von Aberrationen in dem Linsenelement den Schritt des Projizierens von Licht durch ein Linsenelement in einem Interferometer und das Verursachen, daß das besagte projizierte Licht mit Licht eines Vergleichsstrahls interferiert und Interferenzstreifen bildet, umfaßt.

10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei: während des reaktiven Ionenstrahlätzschritts das Verhältnis der beiden Gase im wesentlichen kontinuierlich geändert wird.