DE69128164T2 - Verfahren und Apparat zur Detektion von Lageabweichungen - Google Patents
Verfahren und Apparat zur Detektion von LageabweichungenInfo
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Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11544590A JP2867597B2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 位置検出方法 |
JP2272928A JPH04148812A (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 位置検出装置 |
JP2272927A JPH04148811A (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 位置検出装置 |
JP2272929A JPH04148813A (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 位置検出装置 |
JP2272926A JPH04148810A (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 位置検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69128164D1 DE69128164D1 (de) | 1997-12-18 |
DE69128164T2 true DE69128164T2 (de) | 1998-04-02 |
Family
ID=27526690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69128164T Expired - Fee Related DE69128164T2 (de) | 1990-05-01 | 1991-04-29 | Verfahren und Apparat zur Detektion von Lageabweichungen |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5481363A (de) |
EP (1) | EP0455443B1 (de) |
DE (1) | DE69128164T2 (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3368017B2 (ja) * | 1993-10-29 | 2003-01-20 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 |
JPH07135168A (ja) * | 1993-11-11 | 1995-05-23 | Canon Inc | アライメント方法及びそれを用いた位置検出装置 |
JPH1022213A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Canon Inc | 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JPH11241908A (ja) | 1997-12-03 | 1999-09-07 | Canon Inc | 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
US6856392B1 (en) | 1998-11-09 | 2005-02-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element with alignment mark, and optical system having such optical element |
US6724479B2 (en) * | 2001-09-28 | 2004-04-20 | Infineon Technologies Ag | Method for overlay metrology of low contrast features |
US7573580B2 (en) * | 2003-11-17 | 2009-08-11 | Asml Holding N.V. | Optical position measuring system and method using a low coherence light source |
CN101206995B (zh) * | 2006-12-20 | 2010-05-19 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 监测晶圆托盘平整性的方法 |
JP5812599B2 (ja) * | 2010-02-25 | 2015-11-17 | キヤノン株式会社 | 情報処理方法及びその装置 |
CN109373892A (zh) * | 2018-08-14 | 2019-02-22 | 武汉船用机械有限责任公司 | 一种基于机器视觉的辅助划线系统及其运行方法 |
US20200402871A1 (en) * | 2019-06-24 | 2020-12-24 | Magic Leap, Inc. | Polymer patterned disk stack manufacturing |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4037969A (en) * | 1976-04-02 | 1977-07-26 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Zone plate alignment marks |
US4326805A (en) * | 1980-04-11 | 1982-04-27 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method and apparatus for aligning mask and wafer members |
US4514858A (en) * | 1983-03-15 | 1985-04-30 | Micronix Partners | Lithography system |
US4870289A (en) * | 1987-09-25 | 1989-09-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for controlling relation in position between a photomask and a wafer |
JP2546364B2 (ja) * | 1988-02-16 | 1996-10-23 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置 |
EP0358514B1 (de) * | 1988-09-09 | 2000-12-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Vorrichtung und Gerät zur Positionsdetektion |
EP0358511B1 (de) * | 1988-09-09 | 2001-07-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Vorrichtung zur Detektion der Positionsrelation zwischen zwei Objekten |
JP2704002B2 (ja) * | 1989-07-18 | 1998-01-26 | キヤノン株式会社 | 位置検出方法 |
US5225892A (en) * | 1990-02-05 | 1993-07-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Positional deviation detecting method |
-
1991
- 1991-04-29 EP EP91303846A patent/EP0455443B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-29 DE DE69128164T patent/DE69128164T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-05-13 US US08/242,066 patent/US5481363A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0455443B1 (de) | 1997-11-12 |
EP0455443A2 (de) | 1991-11-06 |
EP0455443A3 (en) | 1992-07-08 |
DE69128164D1 (de) | 1997-12-18 |
US5481363A (en) | 1996-01-02 |
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
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