DE69110566T2 - Struktur und Verfahren zur Versiegelung eines Glas/Siliziumgefässes. - Google Patents

Struktur und Verfahren zur Versiegelung eines Glas/Siliziumgefässes.

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing

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  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft das Verschließen einer Umhüllung, die einen Teil aus Silizium umfaßt, der mit einer Glasplatte verschlossen ist. Strukturen dieser Art findet man zur Zeit in vielen Meßvorrichtungen, in denen man von der bei der Ätzung und der Behandlung von Silizium zur Herstellung von Mikromeßgeräten, wie Mikromagnetometern, Mikrobeschleunigungsmeßgeräten, Mikrodruckmeßgeräten etc. gewonnenen Erfahrung profitiert.
  • Figur 1 dient dazu, die Aufgabe darzustellen, die mit der Erfindung gelöst werden soll. Diese Figur stellt einen fiktive Mikrokomponente dar, die eine obere Glasplatte 1 umfaßt, die dazu bestimmt ist, anodisch auf eine Siliziumplatte 2 geschweißt zu werden, die allein oder zusammen mit einer oder mehreren anderen Platten, wie der dargestellten Glasplatte 3 den unteren Teil der Komponente ausmacht. Z.B. und ohne daß es eine Beschränkung darstellt, wurde in schematischer Weise gezeigt, daß die Siliziumplatte 2 einen überstehenden inneren Teil 5 aufweist, wobei das Mikromeßgerät z.B. dazu dient, Bewegungen dieses dünnen Blättchens 5 als Folge des Anlegens von Druck, Beschleunigung oder eines magnetischen Feldes zu entdekken. In allen diesen Fällen muß der innere Hohlraum 7 der Komponente unter kontrollierter Atmosphäre, z.B. unter Vakuum stehen.
  • Das Verschließen des Hohlraumes wird dadurch erreicht, daß der untere Umfang 8 der Glasplatte 1 durch anodisches Schweißen an den oberen Umfang 9 der Siliziumplatte 2 geschweißt wird. Dazu muß man zunächst die Platte 1 gemäß einer geeigneten und genauen Positionierung auf die Platte 2 aufbringen. Die fraglichen Komponenten weisen in der Tat häufig in Draufsicht Außendimensionen in der Größenordnung von Millimetern auf.
  • Während man in Figur 1 eine schematische, individuelle Komponente dargestellt hat, werden derartige Komponenten außerdem im allgemeinen satzweise, ausgehend von einen Durchmesser von 10 bis 15 cm aufweisenden Siliziumscheiben hergestellt, von denen jede die Struktur von jeder elementaren Komponente in sich wiederholender Weise aufweist, und die Platten werden danach zusammengefügt, verschweißt und dann in Einzelkomponenten geschnitten. Man stellt fest, daß die Platten gut polierte Oberund Unterseiten aufweisen, insbesondere auf der Höhe des Umfangs der Komponenten, die zusammengefügt werden müssen. Daraus geht hervor, daß selbst vor dem Verschweißen direkt beim Zusammenfügen eine optische Verklebung auftritt. Es ist daher selbst vor dem Verschweißen schwierig, in jedem der Hohlräume der verschiedenen Komponenten ein Vakuum zu erzeugen, sobald die Platten zusammengefügt sind. So muß man die Platten üblicherweise in einer unter Vakuum stehenden Umhüllung zusammenfügen, was dieses Verfahren in erheblichem Maße kompliziert. Ein anderes herkömmliches Mittel besteht darin, eine Öffnung in der oberen Glasplatte vorzusehen und diese Öffnung nach Durchführung des anodischen Verschweißens in einer unter Vakuum stehenden Umhüllung zu verschließen. Dieses zweite Verfahren impliziert in gleicher Weise komplexe Handhabungen einer unter Vakuum stehenden Umhüllung.
  • Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und ein Gefüge von Komponenten bereitzustellen, die es ermöglichen, die verschiedenen Platten, aus denen die Komponente oder ein Satz identischer Komponenten besteht, bei normaler Atmosphäre zusammenzufügen, z.B. in einem Reinraum, während man mit einem Binokular beobachtet, sodann Einbringen der Komponente oder des Satzes von Komponenten in eine unter Vakuum stehende Umhüllung, wo man ohne zusätzliche Handhabung gleichzeitig das anodische Verschweißen und das Verschließen der Hohlräume durchführt.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe, stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Verschließen unter Vakuum eines geschlossenen Hohlraums durch anodisches Verschweißen des unteren Umfangs einer Glasplatte mit dem oberen Umfang einer Siliziumplatte bereit, das die folgenden Schritte umfaßt: Bereitstellen einer Öffnung in der Glasplatte gegenüber dem erwähnten Hohlraum; Bereitstellen eines gegenüber der Öffnung in der Siliziumplatte angebrachten Ankers, wobei der Anker mit mindestens einem Teil der Siliziumplatte über mindestens eine zum Biegsamsein ausreichend dünne Siliziumlamelle einstückig vorliegt; Aufbringen der Glasplatte auf die Siliziumplatte unter Normaldruck; Einbringen des vormontierten Aufbaus in eine unter Vakuum stehende Umhüllung; Anlegen einer anodischen Schweißspannung zwischen der Glasplatte und der Siliziumplatte, wodurch bewirkt wird, daß der Anker gegen die Unterseite der Glasplatte in Höhe der Öffnung gedrückt wird und anodisch an den Umfang der Öffnung geschweißt wird, während die Platten verschweißt werden.
  • Die vorliegende Erfindung stellt ebenfalls eine Verschlußvorrichtung zum Verschließen eines geschlossenen Hohlraums unter Vakuum durch anodisches Verschweißen des unteren Umfangs einer Glasplatte mit dem oberen Umfang einer Siliziumplatte bereit, wobei die Glasplatte gegenüber dem Hohlraum eine sie durchdringende Öffnung aufweist und die Siliziumplatte einen gegenüber der Öffnung angeordneten Anker aufweist, wobei dieser Anker über mindestens eine zum Biegsamsein ausreichend dünne Siliziumlamelle mit mindestens einem Teil der Siliziumplatte einstükkig vorliegt.
  • Diese und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden in der im Hinblick auf die beigefügten Figuren erstellten, nachfolgenden Beschreibung spezieller Ausführungsformen in größerem Detail dargelegt, wobei:
  • Figur 1, die zur Darstellung der gestellten Aufgabe bestimmt ist, vorstehend beschrieben worden ist;
  • Figur 2 eine Schnittansicht einer Mikrokomponente darstellt, die die erf indungsgemäße Struktur im nichtverschlossenen Zustand umfaßt;
  • Figur 3 eine Teilansicht der Mikrokomponente gemäß Figur 2 im verschlossenen Zustand darstellt; und
  • Figur 4 eine schematische Draufsicht des Verschlußelements der Figuren 2 und 3 darstellt.
  • Figur 2 stellt in sehr schematischer Form ein Mikrodruckmeßgerät dar. Dieses ist im dargestellten Beispiel aus einer oberen Glasplatte 11, einer ersten Siliziumplatte 12, einer zweiten Siliziumplatte 13 und einer unteren Glasplatte 14 aufgebaut. In der zweiten Siliziumplatte 13 ist eine Membran 15 ausgebildet, die zusammen mit der unteren Glasplatte 14 eine Umhüllung zum Messen von Druck 16 definiert, die mit der Außenseite über eine Öffnung 17 verbunden ist. Außerdem definieren die erste und zweite Siliziumplatte 12 und 13 zusammen einen Teil 18, von dem sich zum Umfang der ersten Siliziumplatte ein Blättchen 19 erstreckt, das von der Bewegung des Teils 18 abhängigen Spannungen unterworfen ist. Ein System aus Elektroden ermöglicht es, z.B. die Resonanzfrequenz des Blättchens 19 und damit den auf die Membran wirkenden Druck zu bestimmen. Damit das System funktioniert, muß der Hohlraum 20, in dem sich das Blättchen 19 befindet, unter eine kontrollierte Atmosphäre, vorzugsweise einen Unterdruck, gesetzt werden.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird in der Platte 11 eine Öffnung 21 und in der ersten Siliziumplatte 12 ein Anker 22 bereitgestellt, der mit dem Rahmen der Platte 12 oder mit einem mit diesem Rahmen einstückig ausgebildeten Zwischenstück über eine Siliziumlamelle 23 verbunden ist, wodurch es ermöglicht wird, die Umhüllung unter Unterdruck zu setzen.
  • Figur 2 stellt eine Mikrokomponente dar, wobei die verschiedenen Platten, aus denen sie besteht, präzise, z.B. mit einem Binokular, angeordnet worden sind.
  • Danach wird die Komponente in eine unter Vakuum stehende Umhüllung gebracht, die mit Mitteln ausgerüstet ist, um ein anodisches Verschließen zu gewährleisten, d.h., z.B. mit Mitteln, um die Komponente oder den Satz von Komponenten (die auf Stücken großer Abmessungen gebildet worden sind, die nach dem Verschweißen zerschnitten werden sollen) auf eine Temperatur von 400-500ºC zu bringen, und Mitteln, um zwischen der Siliziumplatte 12 und der Glasplatte 11 eine Potentialdifferenz von einigen 100 Volt anzulegen.
  • So wird der Hohlraum 20 in einem ersten Schritt evakuiert und dann, sobald man die Spannung zum anodischen Verschweißen anlegt, der Siliziumanker 22 durch elektrostatische Kräfte gegen die Unterseite der Glasplatte 11 gedrückt, wodurch die Öffnung 21 verschlossen wird und ein anodisches Verschweißen erfolgt, wobei gleichzeitig die einander gegenüberliegenden Oberflächen des Umfangs der Platten 11 und 12 miteinander verschweißt werden. Figur 3 stellt eine erfindungsgemäße Struktur nach durchgeführtem Verschließen dar.
  • Die Art, wie der Anker 22 und die biegsame Lamelle 23 hergestellt wird, wird hier nicht im Detail beschrieben, weil die Verfahren zur Herstellung einer derartigen Struktur auf dem Gebiet des Ätzens von Silizium wohlbekannt und die gleichen Verfahren wie diejenigen sind, die zur Herstellung des Restes der Siliziumplatte 12 verwendet werden. A priori wird in einer Struktur, die, wie in Figur 2 dargestellt, ein dünnes Blättchen 19 enthält, die Lamelle 23 in exakt gleicher Weise wie das dünne Blättchen 19 hergestellt.
  • Selbstverständlich kann die vorliegende Erfindung auf verschiedene Weise variiert werden, insbesondere was die Form der Lamelle 23 betrifft, die anstatt, wie in Figur 4 dargestellt, grade zu sein, gekrümmt sein kann, um ihre Biegsamkeit zu verbessern, und die Form des Ankers 22, der z.B. kreisförmig sein kann. Es können außerdem verschiedene Verbindungslamellen zwischen dem Anker 22 und verschiedenen Teilen der Struktur der Siliziumplatte 12 vorgesehen werden.

Claims (2)

1. Vorrichtung zum Verschließen eines geschlossenen Hohlraums unter Vakuum durch anodisches Verschweißen des unteren Umfangs einer Glasplatte (11) mit dem oberen Umfang einer Siliziumplatte (12), wobei die Glasplatte gegenüber dem Hohlraum eine sie durchdringende Öffnung (21) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Siliziumplatte einen gegenüber der Öffnung angeordneten Anker (22) aufweist, wobei dieser Anker über mindestens eine zum Biegsamsein ausreichend dünne Siliziumlamelle (23) mit mindestens einem Teil der Siliziumplatte einstückig verbunden ist.
2. Verfahren zum Verschließen eines geschlossenen Hohlraums unter Vakuum durch anodisches Verschweißen des unteren Umfangs einer Glasplatte (11) mit dem oberen Umfang einer Siliziumplatte (12), wobei die Glasplatte gegenüber dem Hohlraum eine Öffnung (21) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß es die folgenden Schritte umfaßt:
Bereitstellen eines gegenüber der Öffnung in der Siliziumplatte angebrachten Ankers (22), wobei der Anker über mindestens eine zum Biegsamsein ausreichend dünne Siliziumlamelle (23) mit mindestens einem Teil der Siliziumplatte einstückig verbunden ist; Aufbringen der Glasplatte auf die Siliziumplatte unter Normaldruck;
Einbringen des vormontierten Aufbaus in eine unter Vakuum stehende Umhüllung; und
Anlegen einer anodischen Schweißspannung zwischen der Glasplatte und der Siliziumplatte, wodurch der Anker gegen die Unterseite der Glasplatte in Höhe der Öffnung gedrückt wird und anodisch an den Umfang der Öffnung geschweißt wird, während die Platten verschweißt werden.
DE1991610566 1990-07-20 1991-07-16 Struktur und Verfahren zur Versiegelung eines Glas/Siliziumgefässes. Expired - Fee Related DE69110566T2 (de)

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