DE69026229T2 - Verfahren zum Laser-Durchbrennen von Schmelzverbindungen beim Herstellen von integrierten Schaltungen - Google Patents

Verfahren zum Laser-Durchbrennen von Schmelzverbindungen beim Herstellen von integrierten Schaltungen

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Description

    Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltungen, das Herstellungsmerkmale durch die Anwendung von Strahlung einschließt.
  • Stand der Technik
  • Seit ihrer Erfindung hat sich die Komplexität von integrierten Schaltungen sehr erhöht, und sie weisen heutzutage viel mehr Bauelemente auf, als sie ursprünglich hatten. Mit dem weiteren Anstieg der Anzahl von Bauelementen in den Schaltungen und der weiter abnehmenden Größe der einzelnen Bauelemente der Schaltungen wird es immer schwieriger, integrierte Schaltungschips herzustellen, bei denen jedes Bauelement zufriedenstellende Eigenschaften aufweist. Das heißt, wie gut bekannt ist, auf einem einzelnen Wafer wird eine Mehrzahl von Chips hergestellt, und jeder Chip weist eine integrierte Schaltung mit zahlreichen einzelnen Bauelementen auf. Jede einzelne integrierte Schaltung kann jedoch ein oder mehrere defekte Bauelemente aufweisen, die die gesamte integrierte Schaltung für den Handel unbrauchbar machen. Die Ausbeute an brauchbaren Chips pro Wafer verringert sich daher mit steigender Anzahl von defekten Bauelementen, und dies ist eindeutig unerwünscht, da eine niedrige Ausbeute die Kosten einer integrierten Schaltung erhöht.
  • Es ist daher nach Verfahren gesucht worden, die die Ausbeute an integrierten Schaltungen erhöhen. Bei einem Verfahren wird die Ausbeute sowohl durch Verfeinern als auch durch bessere Steuerung der Verarbeitungsverfahren erhöht. Bei einem anderen Verfahren sind redundante Bauelemente auf dem Chip enthalten. Wenn defekte Bauelemente gefunden werden, werden die redundanten Bauelemente systematisch entweder in die integrierte Schaltung eingeschaltet oder aus ihr ausgeschaltet. Die redundanten Bauelemente werden typischerweise aus der integrierten Schaltung ausgeschaltet oder in sie eingeschaltet, indem ein elektrischer Stromkreis unterbrochen bzw. hergestellt und somit die Schaltung repariert wird. Diese Reparatur wird häufig mittels Strahlung, z.B. elektromagnetischer Energie, zum Unterbrechen einer leitfähigen Verbindung durchgeführt. Die Verbindung ist einfach eine leitfähige Leitung oder Leiterbahn, z.B. aus Aluminium oder Polysilizium, auf einem Substrat. Die Energie wird typischerweise von einem Laser in ausreichenden Mengen zum Schmelzen oder Verdampfen des gewünschten Teils der Verbindung zugeführt. Damit der Reparaturvorgang in einer komplexen Schaltung Erfolg hat, kann er die Reparatur von Hunderten von Verbindungen beinhalten. Während Reparaturen im allgemeinen nur bei komplexen Schaltungen ausgeführt werden, wird die Herstellung von einfacheren Schaltungen oft durch gezieltes Einschalten oder Ausschalten einzelner Bauelemente abgeschlossen, um eine kundenspezifische integrierte Schaltung zu ergeben. Dazu können Zehntausende von Verbindungen gehören, bei Reparatur als auch bei kundenspezifischer Auslegung ist es wünschenswert, daß die Unterbrechung der Verbindungen konsequent durchgeführt wird.
  • Obwohl das Konzept der Verwendung eines Lasers zur Unterbrechung von Verbindungen einfach ist, stößt es in der Praxis doch auf Schwierigkeiten und macht daher seine Anwendung schwieriger, als man zuerst denken würde. Der Energieaufwand muß dazu ausreichen, die Verbindungen konsequent zu zerstören, muß aber auch geringer sein, als die Energie, die entweder das darunterliegende oder das umgebende Material beschädigen würde. Es besteht daher ein Bereich zulässiger Energien. Das Verbleiben innerhalb dieses Bereichs wird durch Schwankungen bei den physikalischen Eigenschaften der Verbindungsstruktur und auch Schwankungen bei der Ausgangsenergie des Lasers und der Zielgenauigkeit des Lasers kompliziert.
  • Es sind Verfahren entwickelt worden, um die Auswirkungen von Laserstrahlung auf Metall- und Halbleiteroberflächen zu untersuchen. Bei dem möglicherweise ersten entwickelten Verfahren wurde die zeitliche Anderung der von der Oberfläche während der Bestrahlung reflektierten Lichtstärke untersucht. Ein solches Verfahren wird zeitaufgelöster Reflexionsgrad genannt und ist seit der Veröffentlichung eines Artikels in Applied Physics Letters. 5, Seiten 54-56, 1. August 1964, von Sooy et al. im Gebrauch. Sooy interessierte sich für die Verwendung eines Halbleiters als Güteschalter, und der Reflexionsgrad von einer Halbleiteroberfläche bestimmte seine Nützlichkeit als Resonanzraumspiegel. Die Zeitabhängigkeit des Reflexionsgrades wurde von Sooy der erhöhten Trägerkonzentration und dem von der Strahlung bewirkten Schmelzen der Halbleiteroberfläche zugeschrieben. Von Birnbaum und Stocker wurde im Journal of Applied Physics. 39, Seiten 6032-6036, Dezember 1968, über den Reflexionsgrad von Halbleitern berichtet. Sie stellten einen verbesserten Reflexionsgrad von Halbleiteroberflächen fest, den sie einer durch Halbleiterschmelzen gebildeten flüssigen Schicht auf der Oberfläche mit metallischen Eigenschaften zuschrieben.
  • Auch untersuchten sie den Reflexionsgrad von mehreren Metallen und stellten eine Verringerung des Reflexionsgrades fest, den sie einer Beschädigung der Metalloberfläche zuschrieben.
  • Bei beiden Untersuchungen wurde eine experimentelle Anordnung mit zwei Lasern angewandt, bei der ein Laser als Pumpe und der andere Laser als Sonde wirkte. Das heißt von einem Laser, d.h. einer Pumpe, wurde eine Reaktion im Zielmaterial erzeugt, und die Erzeugung dieser Reaktion wurde durch Messen der Stärke des reflektierten Strahls von dem anderen Laser, d.h. Sonde einer, überwacht. Zweistrahlverfahren sind bei Verbindungsdurchbrennen schwierig zu implementieren, da der Sondenstrahl und der Pumpenstrahl einander überlappen müssen; aufgrund des kleinen Strahls und der geringen Strukturgröße ist dies schwer zu erreichen.
  • Über eine Untersuchung von ionenimplantiertem Silizium mit einem einzelnen Laser wurde von Liu et al. in Applied Physics Letters, 34, Seiten 363-365, 15. März 1979, berichtet. Der genaue experimentelle Aufbau wird nicht im einzelnen beschrieben, aber der Artikel enthält die Aussage, daß die Proben unter annähernd normalem Einfallswinkel bestrahlt wurden und daß sowohl die einfallenden als auch die reflektierten Impulse getrennt von Fotodioden erfaßt wurden. Es wurde festgestellt, daß sich bei Erhöhen der einfallenden Energie der Schmelzbeginn des Übergangs amorph/flüssig auf einen früheren Teil des Impulses verlegte, d.h. der Übergang trat zeitlich früher auf. Auch stellten die Autoren einen ver besserten Reflexionsgrad fest, der der Gegenwart geschmolzenen Siliziums zugeschrieben wurde. Obwohl die Untersuchung technisch interessant war, interessierten sich Liu et al. für die Untersuchung des Laser-Ausheilens von ionenimplantiertem Silizium; d.h. dem epitaxialen Neuwachsen in der Flüssigphase von Silizium nach dem Schmelzen, und die Laserbestrahlung von Mustern auf mehreren Ebenen, wie den sich bei Unterbrechung von Verbindungen ergebenden, wurde in der Untersuchung nicht besprochen. In keinen der besprochenen Untersuchungen wurden Erscheinungen untersucht, die einer Verbindungsexplosion vergleichbar sind.
  • In der Literatur gibt es Lehren von Verfahren, die bei dem Durchbrennen von Verbindungen nützlich sind. Beispielsweise wird in dem Frederick S. Fischer am 1. August 1989 erteilten US-Patent 4,853,758 ein beispielhaftes Verfahren zur Verwendung eines Lasers zum Durchbrennen von Verbindungen mit einem großen Bereich annehmbarer Energien beschrieben. Bei einer beispielhaften Ausführungsform werden in dem Verfahren Verbindungen auf oberen Ebenen auf dielektrische Sockel gesetzt, wodurch für die Verbindungen auf unteren Ebenen die Stärke des darüberliegenden Dielektrikums verringert ist. Durch die verringerte Stärke des Dielektrikums wird die Laser-Mindestenergie verringert, die zum sauberen Durchbrennen der Verbindungen auf beiden Ebenen erforderlich ist.
  • Es ware jedoch ein Vorgang wünschenswert, der die zeitliche überwachung des Verbindungsdurchbrennvorgangs beinhaltet.
  • Beschreibung der Erfindung
  • Ein Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltungen nach der Erfindung ist in Anspruch 1 aufgeführt. Bevorzugte Ausbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen aufgeführt. Bei einer bevorzugten Ausführungsform umfaßt das Verfahren den weiteren Schritt des Vergleichens der einfallenden und reflektierten Energiestärken zur Bestimmung des Ausmaßes an Substratbeteiligung. Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform erlaubt, wenn eine Verbindung nicht durchgebrannt ist, die Auswertung der Strahlstärken eine Bestimmung, ob der Ausfall auf einem Zielausrichtungsfehler, auf Verunreinigung oder auf niedriger einfallender Energie beruhte. Die Strahlungsquelle ist typischerweise ein Laser, und seine Ausgangsenergie kann erhöht werden, wenn die Verbindung aus anderen Gründen als Zielausrichtungsfehlern oder Verunreinigung nicht unterbrochen wurde, oder verringert werden, wenn bedeutende Substratbeteiligung auftrat.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnung
  • Figur 1 ist eine schematische Darstellung von für die Ausübung des Verfahrens der vorliegenden Erfindung geeignetem Gerät;
  • Figur 2 ist eine schematische Darstellung eines Teils einer nach dem Verfahren der vorliegenden Erfindung hergestellten integrierten Schaltung;
  • Figur 3 ist die Aufzeichung der reflektierten Energiestärke senkrecht in willkürlichen Einheiten über Zeit horizontal in willkürlichen Einheiten;
  • Figur 4 ist die Aufzeichnung der zweiten Ableitung der reflektierten Energiestärke senkrecht über Zeit horizontal; und
  • Figur 5 ist die Aufzeichung des gestörten Reflexionsgrades senkrecht in willkürlichen Einheiten über Zeit horizontal.
  • Aus Gründen der übersichtlichkeit sind die Einzelelemente nicht maßstabgetreu gezeichnet.
  • Ausführliche Beschreibung
  • Figur 1 ist eine schematische Darstellung von zur Ausübung des Verfahrens der vorliegenden Erfindung nützlichem Gerät. Die Elemente des dargestellten Geräts sind aus Gründen der übersichtlichkeit schematisch dargestellt. Es sind der Laser 1, der die Strahlungsquelle ist; der Strahlenteiler 3; der Fotodetektor 5, der die reflektierte Strahlung erfaßt; der Fotodetektor 9, der die einfallende Strahlung erfaßt; die Linse 11; das Substrat 13 und der Steuerrechner 15 gezeigt. Mit den Fotodetektoren 5 und 9 sind Digitalisiervorrichtungen 17 bzw. 19 verbunden, deren elektrischen Ausgangssignale zum Lasersteuerrechner gehen. Die Strahlung läuft vom Laser zum Strahlenteiler, wo ein Teil direkt zum Fotodetektor 9 geht, der den einfallenden Strahl erfaßt, während ein weiterer Teil des Strahls zum Substrat läuft und vom Substrat durch den Strahlenteiler zum Fotodetektor 5 zurückreflektiert wird, der die reflektierte Strahlung erfaßt.
  • Die genaue Digitalisierungsrate ist nicht kritisch, muß aber hoch genug sein, damit die schnellen zeitlichen Erscheinungen erfaßt werden können. Bei der im folgenden beschriebenen Ausführungsform funktionierte eine Periode von 1 ns zufriedenstellend. Fachleute werden leicht eine passende Rate auswählen.
  • Die dargestellten Elemente sind den Fachleuten gut bekannt, und letztere werden leicht entsprechende Elemente auswählen. Einige kurze Bemerkungen über die Elemente werden als wünschenswert angesehen. Die Fotodetektoren müssen eine Ansprechzeit aufweisen, die für die kurze Dauer von tyischerweise 5 ns der Änderung des Reflexionsgrades bei Zerstörung der Verbindung ausreicht. Der Laser sollte eine solche Emissionswellenlänge aufweisen, daß die emittierte Strahlung von der Verbindung absorbiert oder reflektiert wird und auch einer hohen Folgefrequenz fähig sein. Ein Nd:YAG-Laser, der bei 1,064 µm emittiert, kann direkt benutzt werden. Als Alternative kann der Laser mit einem Frequenzdoppler verwendet werden. Für einen angemessenen Durchsatz, d.h. die Anzahl von pro Sekunde durchgebrannten Verbindungen, sollte der Laser in der Lage sein, mindestens 20 Impulse pro Sekunde zu erzeugen. Die zur Anwendung kommenden Impulse wiesen eine Halbwertsbreite von 35 ns auf. Die Linse 11 reduziert den Strahl auf eine angemessene Größe. Der Strahl sollte einen Durchmesser aufweisen, der mit der Querabmessung der Verbindung vergleichbar ist. Die Form des Strahls ist jedoch nicht kritisch. Verfahren zur Bewegung des Strahls zu den gewünschten Stellen können von den Fachleuten leicht ausgewählt und implementiert werden. Verbindungsstellen werden in den Rechnerspeicher eingegeben und darin gespeichert. Für die erste Strahlausrichtung werden Verfahren angewandt, die den Fachleuten gut bekannt sind.
  • Der Lasersteuerrechner steuert die Energie der Laserimpulse und führt auch andere notwendige Funktionen durch. Aus Gründen der übersichtlichkeit ist nur ein einzelner Rechner dargestellt. Selbstverständlich können die notwendigen Rechnerfunktionen, wenn gewünscht, unter mehreren Rechnern aufgeteilt werden. Die elektrischen Ausgangssignale von den beiden Fotodetektoren werden in Digitalisiervorrichtungen eingespeist, und die Informationen von den Digitalisiervorrichtungen gehen zum Rechner, der alle notwendigen Bearbeitungen der digitalisierten Informationen durchführt. Beispielsweise berechnet er die erste Ableitung der reflektierten und einfallenden Impulsstärken, die zweite Ableitung der reflektierten Energiestärke und den gestörten Reflexionsgrad usw. Der gestörte Reflexionsgrad und seine Nützlichkeit werden später ausführlicher beschrieben. Die ungestörte reflektierte Impulsstärke ist die reflektierte Impulsstärke, die zu erwarten gewesen wäre, wenn es keine Wärmeeffekte in der Verbindung oder dem Substrat gegeben hätte. Im wesentlichen ist der gestörte Reflexionsgrad die eigentliche reflektierte Impulsstärke geteilt durch die ungestörte reflektierte Impulsstärke, wobei die Teilung auf punktweiser Grundlage stattfindet; d.h. es werden die Spitzenstärken des eigentlichen reflektierten Impulses und des ungestörten reflektierten Impulses ermittelt, und die beiden Impulse werden auf zeitlicher punktweiser Grundlage bei Zusammentreffen der beiden Spitzenstärken geteilt. Vom Steuerrechner können die Informationen über die einfallende Strahlungsstärke auch zur Aufrechterhaltung der Laserausgangsleistungsstärke auf einem gewünschten Pegel benutzt werden.
  • Auch kann er die Impulsstärkeinformationen zur überprüfung von Zielausrichtungsgenauigkeit, Staub auf den Verbindungen, Laserausgangsenergie usw. benutzen. Wenn die Energie unter dem Schwellwert zum Durchbrennen der Verbindung liegt, ist die Ausgangsleistung vom Laser wahrscheinlich unter den Sollwert abgewandert und wird auf den Sollwert erhöht. Wenn die Energie oberhalb des Schwellwerts liegt und die Verbindung nicht durchbrannte, dann lag ein Zielausrichtungsfehler oder eine Verunreinigung auf der Verbindung vor. Fachleute werden unter diesen Möglichkeiten unterscheiden können, indem sie die eigentliche reflektierte Energie mit der bei Verunreinigung oder Zielausrichtungsfehlern erwarteten vergleichen. Diese Umstände werden verschiedene Wärmereaktionen aufweisen.
  • In Figur 2 ist eine schematische Darstellung eines Teils einer integrierten Schaltung gezeigt. Es sind dargestellt: Substrat 201 erste und zweite dielektrische Schichten 203 bzw. 205; Leiterbahn 209 und Deckschicht 211. Die Einzelelemente, z.B. Source, Gate und Drain der Vorrichtungen sind aus Gründen der übersichtlichkeit nicht dargestellt, sind aber den Fachleuten gut bekannt. Die dielektrischen Schichten sind typischerweise Oxid- oder Nitridmaterialien. Verfahren zur Herstellung solcher Schichten sind den Fachleuten gut bekannt und brauchen nicht beschrieben zu werden. Die Leiterbahnen umfassen ein leitfähiges Material wie beispielsweise dotiertes Polysilizium, Aluminium, ein Silizid oder Wolfram. Ein Teil der Leiterbahn 209 wird durch das Verfahren der vorliegenden Erfindung durchgebrannt; ein Teil der Leiterbahn 209 wird nichtleitend gemacht. Wie ersichtlich, ist das sie umgebende dielektrische Material entfernt worden und sie sitzt auf einem dielektrischen Sockel. Nach Vollendung der Sockelbildung wurde eine dünne Deckschicht aus nichtleitendem Material, z.B. Oxid, auf der Oberfläche abgelagert. Etwas leitendes Material der Leiterbahn wird bei Durchbrennen der Verbindung verdampft und unvermeidlicherweise verspritzt. Durch die Gegenwart der Deckschicht werden durch das Verspritzen verursachte Kurzschlüße zwischen Leiterbahnen verhindert.
  • Qualitativ wird bei Al-Verbindungen erwartet, daß bei steigender Impulsenergie der Reflexionsgrad abnimmt, selbst wenn das beleuchtete Metall schmilzt. In der Tat nahm der Reflexionsgrad anfangs ab. Ein Teil der Abnahme wird einem Einschnüren der Querabmessung der Verbindung aufgrund der Oberflächenspannung bei Schmelzen der Leiterbahn zugeschrieben. Wenn die Zielverbindung durchbrennt, gibt es ein deutliches Signal bei der reflektierten Stärke, d.h. eine schnelle Abnahme. Bei weiterer Erhöhung der Energie ist eine zweite Spitze der reflektierten Energiestärke zu sehen, die einer bedeutenden Substratbeteiligung, d.h. Erwärmung, zugeschrieben wird. Damit erlaubt das Verfahren ein Erkennen, ob die Verbindung durchbrannte oder nicht, und wenn ja, ob bedeutende Substratbeteiligung auftrat. Bedeutende Substratbeteiligung bedeutet, daß Substrateigenschaften durch die Strahlung nachteilig beeinträchtigt werden könnten.
  • Die obigen Bemerkungen werden durch Betrachtung des Folgenden veranschaulicht. In Figur 3 ist die Stärke des reflektierten Strahls senkrecht in willkürlichen Einheiten über der Zeit horizontal, ebenfalls in willkürlichen Einheiten, aufgezeichnet. Die Struktur glich der in Figur 2 dargestellten, obwohl die Deckschicht weggelassen war. Der benutzte Laser war ein Nd:YAG-Laser, der bei 1,064 µm mit einer Stärke von 0,80 µJ emittierte. Die Impulsdauer betrug ca. 200 ns. Die Verbindungen umfaßten Al-Leiterbahnen mit einer Dicke von 1,75 µm und Höhe von 0,5 µm auf einem Siliziumsubstrat. Die höchste ohne Verbindungsdurchbrennen benutzte Energie betrug 0,70 µJ, und die Verbindung wurde bei 0,75 µJ zerstört. Wie ersichtlich ist, besteht etwas Struktur im Impuls, und die gestrichelten Linien zeigen eine Erstspitze und eine Zweitspitze an, wobei die letztere Spitze zeitlich später als die erstere Spitze auftritt. Sobald die Verbindung verschwindet, wird thermisch in das Substrat eingegriffen und der Reflexionsgrad verändert sich. Der Begriff "Spitze" wird zweckdienlicherweise benutzt und ist bei dieser Energie eine Fehlbezeichnung, da, wie ersichtlich, die Zweitspitze in Wirklichkeit eine Schulter ist.
  • Die Bestimmung, ob eine Verbindung durchgebrannt ist, wird durch Auswertung der einfallenden und reflektierten Energiestärken getroffen. Es wird ein beispielhaftes Verfahren untersucht, in dem die zweite Ableitung der reflektierten Energiestärke untersucht wird. Es können natürlich andere Verfahren benutzt werden. Die Ableitungen werden numerisch berechnet. Es wird ein Zeitfenster definiert, und innerhalb des Fensters werden interessierende Ereignisse gesucht. Nach der zweckmäßigen Definition beginnt das Fenster, wenn die Impulsstärke zum ersten Mal 10% des gemessenen Höchstwertes erreicht, und endet bei irgendeinem definierten Zeitabstand, z.B. ns, nach der Impulshöchststärke. Die Struktur der Figur 3 wird bei Untersuchung der zweiten Ableitung deutlicher. In Figur 4 ist die zweite Ableitung senkrecht in willkürlichen Einheiten über der Zeit horizontal in willkürlichen Einheiten aufgezeichnet. Die gestrichelten Linien deuten die Zeiten an, bei denen die Erst- und Zweitspitzen in der Figur 3 auftreten. Nach der Erstspitze gibt es drei Nulldurchgänge in der Figur 4; d.h. die zweite Ableitung wechselt nach der Erstspitze und innerhalb des (nicht angedeuteten) Fensters dreimal von + nach - oder umgekehrt. Alle folgenden Bezugnahmen auf Nulldurchgänge betreffen Nulldurchgänge nach der Erstspitze und innerhalb des Fensters. Wenn es drei Null durchgänge innerhalb des Fensters gibt, wird die Verbindung verschwunden sein. Es wird angenommen, daß die Wechsel sich wie folgt erklären lassen. Der Reflexionsgrad nimmt anfänglich nach der Erstspitze aufgrund der Impulsform und Verbindungsabsorption ab. Die erste Ableitung erreicht einen negativen Mindestwert und steigt dann bei Impulsende auf Null an. Wenn die Reflexion ansteigt, was einer Substratreflexion entspricht, dann gibt es einen örtlichen Höchstwert in der ersten Ableitung des reflektierten Impulses. Der örtliche Höchstwert der reflektierten Energiestärke innerhalb des Fensters läßt sich leicht durch Zählen der Nulldurchgänge der zweiten Ableitung ermitteln. Er kann auch durch Untersuchung der ersten Ableitung gefunden werden. In der Figur 4 besteht ein örtlicher Mindestwert zwischen den zweiten und dritten Nulldurchgängen, und durch diesen Beweis der erhöhten Substratreflektion wird angezeigt, daß die Verbindung verschwunden ist. Bei reflektierter Energiestärke ist beträchtliches Rauschen vorhanden, und bei der zweiten Ableitung ist ebenfalls beträchtliches Rauschen vorhanden. Durch die Wahl des Fensters wird jedoch der größte Teil des Rauschens ausgeschlossen, und innerhalb des Fensters besteht ein annehmbares Signal-Rausch-Verhältnis.
  • Durch das Vorhandensein eines örtlichen Mindestwertes zwischen den zweiten und dritten Nulldurchgängen kann bestimmt werden, daß die Verbindung unterbrochen worden ist. Diese obige Information allein jedoch nicht ermöglicht die Auswahl eines geeigneten Bereichs von Energien. Die zusätzlich erforderlichen Informationen werden durch Durchführung einer Versuchsreihe mit allmählich steigenden Energien erhalten; die Verbindung wird schließlich unterbrochen, und es wird die zur Unterbrechung der Verbindung benötigte Mindestmenge an Energie ermittelt. Aufgrund von Schwankungen der Eigenschaften einzelner Verbindungen, Verunreinigung, Impulsenergie und Zielausrichtungs fehlern wird jedoch wünschenswerterweise eine höhere Energie als der Mindestwert benutzt. Die Energie sollte nicht hoch genug sein, daß zerstörerisch in das Substrat eingegriffen wird; d.h. die Energie sollte nicht hoch genug sein, daß eine nachteilige permanente Anderung der Eigenschaften des Substrats eintritt. Die angewandte Energie sollte dazu ausreichen, die Verbindungen konsequent zu unterbrechen, aber nicht so hoch sein, daß ein nachteiliger permanenter Eingriff in das Substrat stattfindet.
  • Bedeutende Substratbeteiligung wird durch Betrachtung des sogenannten "gestörten Reflexionsgrades" bestimmt. Es wird eine Energie ausgewählt, die zu niedrig ist, bedeutende Wärmeauswirkungen, z.B. Schmelzen, in der Verbindung zu erzeugen, aber hoch genug ist, ein gutes Signal-Rausch-Verhältnis aufzuweisen. Es werden Grundpegel berechnet, und sowohl die einfallenden als auch reflektierten Kurven werden auf ihren Grundpegel gesetzt. Der Grundpegel wird wünschenswerterweise unter Verwendung eines gleitenden Durchschnittswertes zur Minimierung der Auswirkungen von Rauschen berechnet. Nach Ausrichten der beiden Spitzen wird die reflektierte Abtastung durch die einfallende Abtastung auf punktweiser Grundlage geteilt, um den ungestörten reflektierten Impuls, d.h. die Transformationsgruppe des ungestörten reflektierten Impulses, zu erzeugen. Da die ausgewählte Laserenergie zu niedrig für die Erzeugung bedeutender Wärmeauswirkungen war, gibt die punktweise Multiplizierung dieser Gruppe mit dem digitalisierten einfallenden Impuls den von der Zielverbindung reflektierten Impuls wieder, der keine bedeutenden Wärmeauswirkungen aufweist.
  • Beihöheren einfallenden Laserenergien, bei denen bedeutende Wärmeauswirkungen in der Zielverbindung bestehen können oder nicht bestehen können wird der digitalisierte einfallende Impuls punktweise mit dieser Gruppe multipliziert, um den ungestörten reflektierten Impuls zu erzeugen. Der ungestörte reflektierte Impuls gibt daher den reflektierten Impuls wieder, der erwartet werden würde, wenn es bei dieser Energie keine bedeutenden Wärmeauswirkungen gäbe. Der wirkliche reflektierte Impuls unterscheidet sich vom ungestörten reflektierten Impuls aufgrund des Vorhandenseins von Wärmeauswirkungen. Der gemessene reflektierte Impuls wird nunmehr punktweise durch den ungestörten reflektierten Impuls geteilt, um den gestörten Reflexionsgrad zu ermitteln. Der gestörte Reflexionsgrad kann nunmehr mit der Gegenwart von Wärmeauswirkungen gleichgesetzt werden. Die Figur 5 ist eine graphische Darstellung des gestörten Reflexionsgrads bei einer einfallenden Energie von 1,10 µJ, wobei der gestörte Reflexionsgrad senkrecht über der Zeit horizontal in willkürlichen Einheiten aufgetragen ist. Der gestörte Reflexionsgrad weist eine Erstspitze zur gleichen Zeit wie der ungestörte Reflexionsgrad auf. Bei Anstieg der einfallenden Energie von dem Pegel, bei dem die Verbindungen durchgebrannt werden, wird eine nach der ersten oder Erstspitze auftretende Zweitspitze deutlich. Wenn die Höhe der Zweitspitze der der Erstspitze entspricht oder sich ihr nähert, wird sichtbarer Substratschaden auftreten. Bei der dargestellten Kurve des gestörten Reflexionsgrades überschreitet die Höhe der Zweitspitze die der Erstspitzes, und es gab sichtbaren Substratschaden. Die einfallende Energie sollte daher so ausgewählt werden, daß die Höhe der Substratbeteiligung auf einer oder unterhalb einer zulässigen Höhe liegt. Dies läßt sich zweckdienlicherweise durch überwachung der relativen Höhen der beiden Spitzen durchführen. Eine solche Energie wird von Fachleuten leicht ausgewählt. Selbstverständlich kann diese Energie weit unterhalb des Pegels für sichtbaren Substratschaden liegen, d.h. die Zweitspitze kann viel kleiner als die Erstspitze sein.
  • Die Verbindungen können aus Polysilizium oder einem Silizid anstatt aus einem Metall bestehen. Die Auswertung der Energiestärken kann im Vergleich zu Aluminium für andere Materialien anders sein. Die Einzelheiten lassen sich jedoch von Fachleuten leicht ausarbeiten. Zusätzlich sind, obwohl ein Laser die bevorzugte Strahlungsquelle ist, andere Strahlungsquellen möglich. Weiterhin kann, wenn gewünscht, die in Figur 2 gezeigte Deckschicht oder der Sockel weggelassen werden.

Claims (7)

1. Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltungen, bei dem Teile der Schaltung Schmelzverbindungen sind, die durch Anlegen einfallender Strahlungs energie durchgebrannt werden, wobei das besagte Verfahren folgende Schritte umfaßt:
Beleuchten der besagten Teile der besagten integrierten Schaltung, die mit einem Strahlungstrahl durchgebrannt werden sollen, wobei die besagten Teile ein elektrisch leitfähiges Material (209) auf einem nicht leitfähigen Substrat (13) umfassen; und
Auswerten der einfallenden und reflektierten Strahlungsstärken des besagten Strahls, um zu ermitteln, ob die besagten Teile durchgebrannt worden sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der besagte Strahlungstrahl von einem Laser kommt, und mit dem weiteren Schritt des Erhöhens der Ausgangsleistung des besagten Lasers, wenn die besagten Teile nicht durchgebrannt worden sind, oder Verringern der Ausgangsleistung des besagten Lasers (1), wenn ein bedeutender Eingriff in das Substrat aufgetreten ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei die Strahlungsquelle einen Laser (1) umfaßt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, mit dem weiteren Schritt des Vergleichens der besagten einfallenden und reflektierten Energiestärken, um zu ermitteln, ob ein bedeutender Eingriff in das Substrat (13) aufgetreten ist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei der besagte Schritt des Vergleichens den gestörten Reflexionsgrad benutzt.
6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der besagte Auswerteschritt eine Ableitung mindestens einer der besagten einfallenden und reflektierten Strahlstärken benutzt.
7. Verfahren nach Anspruch 4, mit dem weiteren Schritt des überwachens der einfallenden Impulsenergie und Ermittelns, ob sie oberhalb oder unterhalb des Schwellwertes für das Durchbrennen der Schmelzverbindungen liegt.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004032184B4 (de) * 2003-07-02 2013-05-23 Disco Corp. Laserstrahlbearbeitungsverfahren und Laserstrahlbearbeitungsmaschine bzw. -vorrichtung

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5886320A (en) * 1996-09-03 1999-03-23 International Business Machines Corporation Laser ablation with transmission matching for promoting energy coupling to a film stack
US5998759A (en) * 1996-12-24 1999-12-07 General Scanning, Inc. Laser processing
US6025256A (en) * 1997-01-06 2000-02-15 Electro Scientific Industries, Inc. Laser based method and system for integrated circuit repair or reconfiguration
US6046429A (en) * 1997-06-12 2000-04-04 International Business Machines Corporation Laser repair process for printed wiring boards
US6057180A (en) * 1998-06-05 2000-05-02 Electro Scientific Industries, Inc. Method of severing electrically conductive links with ultraviolet laser output
US6300590B1 (en) * 1998-12-16 2001-10-09 General Scanning, Inc. Laser processing
US6387715B1 (en) * 1999-09-30 2002-05-14 Advanced Micro Devices, Inc. Integrated circuit defect detection via laser heat and IR thermography
US20040134894A1 (en) * 1999-12-28 2004-07-15 Bo Gu Laser-based system for memory link processing with picosecond lasers
US6281471B1 (en) * 1999-12-28 2001-08-28 Gsi Lumonics, Inc. Energy-efficient, laser-based method and system for processing target material
US7838794B2 (en) * 1999-12-28 2010-11-23 Gsi Group Corporation Laser-based method and system for removing one or more target link structures
US7723642B2 (en) * 1999-12-28 2010-05-25 Gsi Group Corporation Laser-based system for memory link processing with picosecond lasers
US7671295B2 (en) 2000-01-10 2010-03-02 Electro Scientific Industries, Inc. Processing a memory link with a set of at least two laser pulses
US20030222324A1 (en) * 2000-01-10 2003-12-04 Yunlong Sun Laser systems for passivation or link processing with a set of laser pulses
US20060141681A1 (en) * 2000-01-10 2006-06-29 Yunlong Sun Processing a memory link with a set of at least two laser pulses
US6972268B2 (en) 2001-03-29 2005-12-06 Gsi Lumonics Corporation Methods and systems for processing a device, methods and systems for modeling same and the device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE241562C (de) * 1909-07-31 1911-12-05
JPS5317078A (en) * 1976-07-30 1978-02-16 Toshiba Corp Etching end point detection circuit
US4155779A (en) * 1978-08-21 1979-05-22 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Control techniques for annealing semiconductors
JPS61111563A (ja) * 1984-11-05 1986-05-29 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の金属配線切断方法
US4816422A (en) * 1986-12-29 1989-03-28 General Electric Company Fabrication of large power semiconductor composite by wafer interconnection of individual devices
US4853758A (en) * 1987-08-12 1989-08-01 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Laser-blown links
US4902631A (en) * 1988-10-28 1990-02-20 At&T Bell Laboratories Monitoring the fabrication of semiconductor devices by photon induced electron emission

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004032184B4 (de) * 2003-07-02 2013-05-23 Disco Corp. Laserstrahlbearbeitungsverfahren und Laserstrahlbearbeitungsmaschine bzw. -vorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
DE69026229D1 (de) 1996-05-02
EP0435469A3 (en) 1992-04-01
EP0435469A2 (de) 1991-07-03
US5021362A (en) 1991-06-04
JPH0652760B2 (ja) 1994-07-06
EP0435469B1 (de) 1996-03-27
JPH04130752A (ja) 1992-05-01

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