Verfahren zur Nachbehandlung belichteter Chromatkolloidschichten durch
Anfeuchtung und Nachbelichtung Es ist bereits bekannt, photographische Kopien dadurch
zu verbessern, daß man das sensible Material nach der Belichtung nachreifen läßt.
Beispielsweise ist ein Nachreifungsverfahren für mit Chromaten sensibilisierte Kolloidschichten
bekannt, bei welchem nach der eigentlichen Kopierbelichtung eine Dämpfung in kalter,
vorzugsweise übersättigter Wasserdampfatmosphäre, -mit einer zusätzlichen gleichförmigen
Belichtung verbunbunden, angewendet wird. Noch einfacher kommt man zum Ziel, wenn
man, anstatt allgemein eine Wasserdampfatmosphäre anzuwenden, nur den belichteten
Film leicht anfeuchtet. Bei der Anfeuchtung nehmen die bei der vorangegangenen Kopierbelichtung
vom Licht getroffenen und infolgedessen gehärteten Teile der Kolloidschicht die
Feuchtigkeit nicht auf, während die vom Licht nicht getroffenen und weich gebliebenen
Teile die Feuchtigkeit aufsaugen. Da mit steigendem Feuchtigkeitsgehalt die Sensibilität
der Kolloidschichten sinkt, so wirkt die nach dem Anfeuchten stattfindende Nachbelichtung
auf die schon früher gehärteten Stellen sehr stark, während die beim Kopieren unbelichteten
und daher weich gebliebenen Stellen des Kolloidüberzuges .wegen der aufgenommenen
Feuchtigkeit nur in ganz geringem Grade nachgehärtet werden.Process for the post-treatment of exposed chromate colloid layers
Moistening and post-exposure It is already known to produce photographic copies
to improve that you can ripen the sensitive material after exposure.
For example, there is a post-ripening process for colloid layers sensitized with chromates
known, in which after the actual copy exposure a damping in cold,
preferably supersaturated steam atmosphere, with an additional uniform
Exposure connected, is applied. Getting there is even easier if
instead of generally using a steam atmosphere, only the exposed
Film slightly moistened. In the case of moistening, the decrease in the previous copy exposure
parts of the colloid layer struck by light and consequently hardened
Moisture does not absorb, while those not struck by light and remained soft
Parts that soak up moisture. Because with increasing moisture content the sensitivity
of the colloid layers sinks, this is how the post-exposure that takes place after moistening has an effect
very heavily on the previously hardened areas, while those that were not exposed during copying
and therefore areas of the colloid coating that have remained soft because of the absorbed
Moisture can only be post-hardened to a very slight extent.
Es hat sich herausgestellt, daß die beim Anfeuchten der lichtempfindlichen
Schicht auf die Oberfläche der gehärteten Stellen gelangende Feuchtigkeit einen
zwar geringen, aber doch merklichen schädlichen Einfluß ausübt. Die Schädigung besteht
erstens darin, daß die Feuchtigkeit, wenn auch nur in geringem Grade, in die gehärtete
Schicht eindringt, deren Sensibilität dann wegen des erhöhten Feuchtigkeitsgehaltes
sinkt. Eine weitere Herabsetzung der Sensibilität wird dadurch bewirkt, daß die
eindringende Feuchtigkeit eine auslaugende Wirkung auf die Sensibilatoren ausübt.
Ein weiterer Mißstand besteht darin, daß bei dem allmählichen Auftrocknen der Feuchtigkeit
auf der Oberfläche der gehärteten Stellen Flecken entstehen können.It has been found that when moistening the photosensitive
Layer on the surface of the hardened areas
has a slight, but noticeable, harmful influence. The damage persists
firstly, that the moisture, even if only to a small extent, is in the hardened
Layer penetrates, the sensitivity of which is due to the increased moisture content
sinks. A further reduction in sensitivity is caused by the
penetrating moisture has a leaching effect on the sensitizers.
Another drawback is that the moisture gradually dries up
stains may appear on the surface of the hardened areas.
Nach der Erfindung werden diese Mißstände dadurch verhindert, daß
für eine schnelle Entfernung der auf der Oberfläche der gehärteten Stellen befindlichen
Feuchtigkeitsspuren gesorgt wird. Vorzugsweise geschieht dies dadurch, daß man dem
Anfeuchtungsmittel Stoffe mit niedrigem Verdampfungspunkt zusetzt, beispielsweise
einen Alkohol oder Äther; doch sind auch eine große Anzahl anderer leicht verdampfender
Stoffe als Zusatz geeignet.According to the invention, these shortcomings are prevented in that
for quick removal of those on the surface of the hardened areas
Traces of moisture is taken care of. This is preferably done by the
Humidifying agent adds substances with a low evaporation point, for example
an alcohol or ether; but a great number of others are also more easily vaporized
Substances suitable as an additive.
Man kann das schnelle Auftrocknen der Flüssigkeitsspuren auf den gehärteten
Oberflächen auch dadurch erreichen, daß man zunächst in der üblichen Weise anfeuchtet
und das Material dann mit einer Lösung von niedriger Verdampfungstemperatur nachbehandelt,
beispielsweise abspült.The traces of liquid can quickly dry up on the hardened
Surfaces can also be achieved by first moistening them in the usual way
and the material is then post-treated with a solution with a low evaporation temperature,
for example rinse off.
Die Trocknung kann auch in irgendeiner anderen Weise erfolgen, beispielsweise
durch
Verwendung eines gegebenenfalls- warmen Luftstromes, durch
Anwendung von Wärtne, in beliebiger geeigneter Form oder durch: mechanisches Auftrocknen,
beispielsweise ifij dem man das angefeuchtete sensible 1Vlatexi zwischen Trockenwalzen
hindurchführt.The drying can also take place in some other way, for example
by
Use of a warm air stream if necessary
Application of water, in any suitable form or by: mechanical drying,
for example if you put the moistened sensitive 1Vlatexi between drying rollers
leads through.
Durch alle diese Verfahren erreicht man= die schnelle Entfernung der
Feuchtigkeitsspuren von denjenigen Teilen der Xolloidschicht, an denen sie eine
Wirkung nicht ausüben sollen. Die folgende Nachbelichtung kann infolgedessen unbeeinträchtigt
auf diese bei der ersten Belichtung vorgehärteten Kolloidstellen einwirken.Through all of these methods one achieves = the rapid removal of the
Traces of moisture from those parts of the xloid layer where they are attached
Should not have an effect. As a result, the subsequent post-exposure can be unaffected
act on these colloid areas that were pre-hardened during the first exposure.