DE60230290D1 - Buncher mit zwei voneinander beabstandeten elektroden mit schlitzförmigen öffnungen und verfahren zur ionenbündelung in einem ionenimplantationssystem - Google Patents
Buncher mit zwei voneinander beabstandeten elektroden mit schlitzförmigen öffnungen und verfahren zur ionenbündelung in einem ionenimplantationssystemInfo
- Publication number
- DE60230290D1 DE60230290D1 DE60230290T DE60230290T DE60230290D1 DE 60230290 D1 DE60230290 D1 DE 60230290D1 DE 60230290 T DE60230290 T DE 60230290T DE 60230290 T DE60230290 T DE 60230290T DE 60230290 D1 DE60230290 D1 DE 60230290D1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ion
- buncher
- bundling
- fixed electrodes
- implantation system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/14—Vacuum chambers
- H05H7/18—Cavities; Resonators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/047—Changing particle velocity
- H01J2237/0473—Changing particle velocity accelerating
- H01J2237/04735—Changing particle velocity accelerating with electrostatic means
- H01J2237/04737—Changing particle velocity accelerating with electrostatic means radio-frequency quadrupole [RFQ]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/049—Focusing means
- H01J2237/0492—Lens systems
- H01J2237/04924—Lens systems electrostatic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US31441701P | 2001-08-23 | 2001-08-23 | |
| PCT/US2002/026903 WO2003019612A1 (en) | 2001-08-23 | 2002-08-23 | Split double gap buncher and method for ion bunching in an ion implantation system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE60230290D1 true DE60230290D1 (de) | 2009-01-22 |
Family
ID=23219874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE60230290T Expired - Lifetime DE60230290D1 (de) | 2001-08-23 | 2002-08-23 | Buncher mit zwei voneinander beabstandeten elektroden mit schlitzförmigen öffnungen und verfahren zur ionenbündelung in einem ionenimplantationssystem |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6635890B2 (enExample) |
| EP (1) | EP1419514B1 (enExample) |
| JP (1) | JP4378618B2 (enExample) |
| CN (1) | CN1545720A (enExample) |
| DE (1) | DE60230290D1 (enExample) |
| TW (1) | TW569274B (enExample) |
| WO (1) | WO2003019612A1 (enExample) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6949895B2 (en) * | 2003-09-03 | 2005-09-27 | Axcelis Technologies, Inc. | Unipolar electrostatic quadrupole lens and switching methods for charged beam transport |
| US7273835B2 (en) * | 2004-08-04 | 2007-09-25 | Honeywell International Inc. | Azeotrope-like compositions of difluoromethane |
| JP5100963B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2012-12-19 | 株式会社Sen | ビーム照射装置 |
| ATE537550T1 (de) | 2005-07-08 | 2011-12-15 | Nexgen Semi Holding Inc | Vorrichtung und verfahren zur kontrollierten fertigung von halbleitern mittels teilchenstrahlen |
| US7402821B2 (en) * | 2006-01-18 | 2008-07-22 | Axcelis Technologies, Inc. | Application of digital frequency and phase synthesis for control of electrode voltage phase in a high-energy ion implantation machine, and a means for accurate calibration of electrode voltage phase |
| KR100755069B1 (ko) * | 2006-04-28 | 2007-09-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불균일한 이온주입에너지를 갖도록 하는 이온주입장치 및방법 |
| KR100755070B1 (ko) * | 2006-04-28 | 2007-09-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | 번들 빔을 이용한 불균일 이온주입장치 및 방법 |
| WO2008140585A1 (en) | 2006-11-22 | 2008-11-20 | Nexgen Semi Holding, Inc. | Apparatus and method for conformal mask manufacturing |
| US10991545B2 (en) | 2008-06-30 | 2021-04-27 | Nexgen Semi Holding, Inc. | Method and device for spatial charged particle bunching |
| US10566169B1 (en) | 2008-06-30 | 2020-02-18 | Nexgen Semi Holding, Inc. | Method and device for spatial charged particle bunching |
| CN103906339A (zh) * | 2013-09-28 | 2014-07-02 | 中国科学院近代物理研究所 | 离子加速器注入装置及使用方法 |
| JP6242314B2 (ja) * | 2014-09-11 | 2017-12-06 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置及びイオンビームの調整方法 |
| CN104703380B (zh) * | 2015-02-11 | 2017-12-19 | 中国科学院近代物理研究所 | 单腔多束型漂移管离子加速装置 |
| US10763071B2 (en) | 2018-06-01 | 2020-09-01 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Compact high energy ion implantation system |
| US10651011B2 (en) * | 2018-08-21 | 2020-05-12 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Apparatus and techniques for generating bunched ion beam |
| US10804068B2 (en) * | 2018-11-20 | 2020-10-13 | Applied Materials, Inc. | Electostatic filter and method for controlling ion beam properties using electrostatic filter |
| US11476087B2 (en) * | 2020-08-03 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Ion implantation system and linear accelerator having novel accelerator stage configuration |
| US11189460B1 (en) * | 2020-11-06 | 2021-11-30 | Applied Materials, Inc. | System, apparatus and method for variable length electrode in linear accelerator |
| US11825590B2 (en) * | 2021-09-13 | 2023-11-21 | Applied Materials, Inc. | Drift tube, apparatus and ion implanter having variable focus electrode in linear accelerator |
| US12493005B1 (en) | 2022-06-07 | 2025-12-09 | Nexgen Semi Holding, Inc. | Extended range active illumination imager |
| CN115985740B (zh) * | 2022-11-17 | 2025-06-10 | 浙江工业大学 | 一种利用激光电离注入获得电子微聚束的方法 |
| CN116031126B (zh) * | 2022-12-27 | 2025-09-23 | 北京烁科中科信电子装备有限公司 | 一种高能离子注入机的聚束谐振装置 |
| CN117596764B (zh) * | 2023-11-17 | 2024-08-13 | 中国科学院近代物理研究所 | 一种交叉指型h模射频四极加速器及加速系统 |
| CN118712039B (zh) * | 2024-08-29 | 2024-12-20 | 青岛四方思锐智能技术有限公司 | 变径聚焦组件、射频加速段及离子注入机 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2442505A1 (fr) * | 1978-11-23 | 1980-06-20 | Commissariat Energie Atomique | Groupeur-degroupeur de faisceau d'ions a intervalles dissymetriques et fonctionnant dans une large gamme de vitesse |
| US4419584A (en) | 1981-07-14 | 1983-12-06 | Eaton Semi-Conductor Implantation Corporation | Treating workpiece with beams |
| US5389793A (en) * | 1983-08-15 | 1995-02-14 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for ion implantation |
| US4667111C1 (en) | 1985-05-17 | 2001-04-10 | Eaton Corp Cleveland | Accelerator for ion implantation |
| US4712042A (en) | 1986-02-03 | 1987-12-08 | Accsys Technology, Inc. | Variable frequency RFQ linear accelerator |
| US5189302A (en) | 1991-10-28 | 1993-02-23 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Small system for tritium accelerator mass spectrometry |
| US5339336A (en) | 1993-02-17 | 1994-08-16 | Cornell Research Foundation, Inc. | High current ion ring accelerator |
| US5504341A (en) | 1995-02-17 | 1996-04-02 | Zimec Consulting, Inc. | Producing RF electric fields suitable for accelerating atomic and molecular ions in an ion implantation system |
| US5554857A (en) | 1995-10-19 | 1996-09-10 | Eaton Corporation | Method and apparatus for ion beam formation in an ion implanter |
| US5637879A (en) * | 1996-03-20 | 1997-06-10 | Schueler; Bruno W. | Focused ion beam column with electrically variable blanking aperture |
| US5703375A (en) | 1996-08-02 | 1997-12-30 | Eaton Corporation | Method and apparatus for ion beam neutralization |
| US5998798A (en) | 1998-06-11 | 1999-12-07 | Eaton Corporation | Ion dosage measurement apparatus for an ion beam implanter and method |
| US6423976B1 (en) * | 1999-05-28 | 2002-07-23 | Applied Materials, Inc. | Ion implanter and a method of implanting ions |
| TW523796B (en) * | 2000-12-28 | 2003-03-11 | Axcelis Tech Inc | Method and apparatus for improved ion acceleration in an ion implantation system |
| US6583429B2 (en) * | 2001-08-23 | 2003-06-24 | Axcelis Technologies, Inc. | Method and apparatus for improved ion bunching in an ion implantation system |
-
2002
- 2002-08-21 US US10/224,779 patent/US6635890B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-23 JP JP2003522973A patent/JP4378618B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-23 TW TW091119103A patent/TW569274B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-08-23 DE DE60230290T patent/DE60230290D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-23 CN CNA028162749A patent/CN1545720A/zh active Pending
- 2002-08-23 WO PCT/US2002/026903 patent/WO2003019612A1/en not_active Ceased
- 2002-08-23 EP EP02753518A patent/EP1419514B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW569274B (en) | 2004-01-01 |
| EP1419514B1 (en) | 2008-12-10 |
| US6635890B2 (en) | 2003-10-21 |
| JP2005501381A (ja) | 2005-01-13 |
| JP4378618B2 (ja) | 2009-12-09 |
| CN1545720A (zh) | 2004-11-10 |
| EP1419514A1 (en) | 2004-05-19 |
| WO2003019612A1 (en) | 2003-03-06 |
| US20030038254A1 (en) | 2003-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60230290D1 (de) | Buncher mit zwei voneinander beabstandeten elektroden mit schlitzförmigen öffnungen und verfahren zur ionenbündelung in einem ionenimplantationssystem | |
| DE69904711D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur leistungssteuerung in einem mobilen telekommunikationssystem | |
| DE69611024D1 (de) | Verfahren und Gerät zur Ionenstrahl-Formgebung in einem Ionenimplantierungsgerät | |
| DE69939682D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Paketvermittlung mit Mehrfachanschluss | |
| DE60006514D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur verwaltung von paketübertragung in einem zellularsystem | |
| DE60103592D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Verringerung von Rauschen in einem Schaltregler | |
| DE60028498D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Segmentierung und Wiederzusammensetzung von Paketen in einem Kommunikationsvermittler | |
| DE60306971D1 (de) | System und Verfahren zur Lokalisierung von Geräten in einem Netzwerk | |
| DE69940825D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur belastungsverteilung in einem netzwerk | |
| DE69927863D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der Sendeleistung in einem CDMA-Endgerät | |
| DE69808352D1 (de) | Vorrichtung zur Zellkultur und ihre Anwendung in einem Verfahren zur Kultur von Zellen | |
| DE69920079T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der schnurlosen Endgerätssendeleistung in einem Telekommunikationssystem | |
| DE60044272D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Säuberung von kontaminierten Oberflächen in einem Ionen-Implantierungsgerät | |
| DE19780990T1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur drahtlosen Nachrichtenübermittlung in einem Versorgungsbereich mit mehreren Sektoren | |
| DE69929029D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behebung von kodeinterferenz in einem cdma kommunikationssystem | |
| DE69838439D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Geräten in einem Hausnetzwerk | |
| DE69918904D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur massenbestimmungskorrektur in einem fulgzeitmassenspektrometer | |
| DE60202535D1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur ionendissoziation in einer quadrupolionenfalle | |
| DE69939703D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur durchführung von selektion und verteilung in einem kommunikationssystem | |
| DE60235909D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur unterschiedlichen Kommunikation in einem Funknetzwerk | |
| DE19983717T1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung | |
| DE60218573D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Mehrfachsendung | |
| DE69937833D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur skalierbaren formkodierung | |
| DE60234752D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von gewickelter elektrodengruppe | |
| DE69919732D1 (de) | Batterieelektrode sowie verfahren und vorrichtung zur herstellung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition |