DE60211993T2 - Elektromechanische, konforme gittervorrichtung mit verbesserter optischer leistung und verbessertem kontrast - Google Patents

Elektromechanische, konforme gittervorrichtung mit verbesserter optischer leistung und verbessertem kontrast Download PDF

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft die Konstruktion einer mikromechanischen Vorrichtung für die räumliche und zeitliche Modulation eines einfallenden Lichtstrahls mittels Beugung. Insbesondere beschreibt die vorliegende Erfindung eine elektromechanisch konforme Gittervorrichtung mit einer Trägerstruktur, die auf eine verbesserte optische Leistung und einen verbesserten Kontrast ausgelegt ist.
  • In diversen Anwendungen, wie Anzeige, optische Verarbeitung, Drucken, optische Datenspeicherung und Spektroskopie werden elektromechanische Raumlichtmodulatoren mit einer Vielzahl von Konstruktionen eingesetzt. Diese Modulatoren erzeugen räumliche Variationen in der Phase und/oder Amplitude eines einfallenden Lichtstrahls mithilfe von Arrays einzeln adressierbarer Vorrichtungen.
  • Eine Klasse elektromechanischer Raumlichtmodulatoren beinhaltet Vorrichtungen mit einer periodischen Folge reflektierender Elemente, die elektromechanische Phasengitter bilden. In diesen Vorrichtungen wird der einfallende Lichtstrahl wahlweise reflektiert oder in eine Anzahl einzelner Ordnungen gebeugt. Je nach Anwendung vermag das optische System eine dieser Beugungsordnungen oder mehrere dieser Beugungsordnungen zu sammeln und zu verwenden. Elektromechanische Gitter können in metallisierten Elastomergelen gebildet werden; siehe US-A-4,626,920, erteilt am 2. Dezember 1986 an Glenn, und US-A-4,857,978, erteilt am 15. August 1989 an Goldbart et al. Die Elektroden unter dem Elastomer sind derart bemustert, dass das Anlegen einer Spannung das Elastomer verformt, wodurch ein nahezu sinusförmiges Phasengitter entsteht. Diese An von Vorrichtungen wird erfolgreich in Farbprojektionsanzeigen verwendet.
  • Aus suspendierten mikromechanischen Bandelementen lässt sich ein elektromechanisches Phasengitter mit einer viel schnelleren Ansprechzeit herstellen, wie in US-A-5,311,360, erteilt am 10. Mai 1994 an Bloom et al., beschrieben. Diese Vorrichtung, die auch als Gitterlichtventil bekannt ist, kann mit CMOS-ähnlichen Prozessen auf Silicium hergestellt werden. Verbesserungen in der Vorrichtung wurden später von Bloom et al. beschrieben, die folgendes umfassen: 1) bemusterte, erhabene Bereiche unterhalb der Bänder, um den Kontaktbereich zu minimieren und Haftreibung zwischen den Bändern und dem Substrat erkennbar zu machen, und 2) eine alternative Vorrichtungskonstruktion, in der der Abstand zwischen den Bändern verkleinert wurde, und bei der alternative Bänder betätigt wurden, um einen guten Kontrast zu erzeugen; siehe US-A-5,459,610, erteilt am 17. Oktober 1995. Bloom et al. stellte zudem ein Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung vor; siehe US-A-5,677,783 vom 14. Oktober 1997. Mit linearen Gitterlichtventilen dieser Art ist die Beugungsrichtung nicht zur Arrayrichtung rechtwinklig, was die Komplexität des zur Trennung der Beugungsordnungen erforderlichen optischen Systems erhöht. Zudem ist der aktive Bereich des Arrays relativ schmal, was eine gute Ausrichtung der Zeilenbeleuchtung über die gesamte Länge des Arrays voraussetzt, üblicherweise innerhalb von 10–30 μm über eine Länge von wenigen Zentimetern. Die Zeilenbeleuchtung muss zudem über das gesamte lineare Array sehr geradförmig sein.
  • Es besteht daher Bedarf nach einem linearen Array aus Gittervorrichtungen, die einen großen aktiven Bereich mit einer Beugungsrichtung aufweisen, die rechtwinklig zur Arrayrichtung verläuft. Die Vorrichtung ist zudem in der Lage, Licht von hohem Kontrast und hoher Geschwindigkeit wirksam in einzelne Ordnungen zu beugen. Die Herstellung der Vorrichtung ist zudem kompatibel mit CMOS-ähnlichen Prozessen.
  • Diese Aufgabe wird mit der in den anhängenden Ansprüchen dargelegten Erfindung gelöst.
  • Die Erfindung wird im folgenden anhand in der Zeichnung dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine perspektivische, teilweise ausgeschnittene Ansicht eines Raumlichtmodulators mit elektromechanisch konformen Gittervorrichtungen, die zwei Vorrichtungen in einem linearen Array darstellt, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 2 eine Draufsicht eines Raumlichtmodulators mit elektromechanisch konformen Gittervorrichtungen, die vier einzeln betreibbare Vorrichtungen in einem linearen Array darstellt, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 3a und 3b Schnittansichten durch Linie 3-3 in 2 zur Darstellung des Betriebs einer elektromechanisch konformen Gittervorrichtung in einem unbetätigten Zustand bzw. in einem betätigten Zustand, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 4a und 4b Schnittansichten durch Linie 4-4 in 2 zur Darstellung der Vorrichtung in einem unbetätigten Zustand bzw. in einem betätigten Zustand, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 5 eine Kurve zur Darstellung der Position eines Bandelements als eine Funktion der angelegten Spannung, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 6 eine Kurve zur Darstellung des Bandelementprofils in einem betätigten Zustand, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 7 eine Kurve zur Darstellung des Beugungswirkungsgrads der konformen Gittervorrichtung als eine Funktion der Halterungsbreite für verschiedene Kombinationen von Beugungsordnungen, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 8 eine Kurve zur Darstellung des Bandelementprofils in einem betätigten Zustand für eine Vorrichtung mit zunehmendem Beugungswirkungsgrad, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 9 eine Draufsicht eines alternativen Beispiels des Raumlichtmodulators, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 10 eine Schnittansicht durch Linie 10-10 in 9 für eine konforme Gittervorrichtung, die mit vorstehenden Zwischenhalterungen gefertigt ist, was einen reduzierten Kontrast bewirkt, wobei die Fig. nicht Teil der Erfindung ist;
  • 11a bis 11c Draufsichten verschiedener Geometrien von Zwischenhalterungen, wobei 11a nicht Teil der Erfindung ist; und
  • 12 eine Seitenansicht einer konformen Gittervorrichtung mit Zwischenhalterungen, die in zwei Unterhalterungen unterteilt sind.
  • Die Gitterstruktur in einem Gitterlichtventil ist durch die Bemusterung der Bandelemente bestimmt. Eine vollständig andere Klasse elektromechanischer Gittervorrichtungen lässt sich durch Definition einer Gitterstruktur in den Halterungen unterhalb der verlängerten Bandelemente erzielen. Diese konformen Gittervorrichtungen basieren auf dem Prinzip eines versteckten Gitters. In dem nicht betätigten Zustand ist die Gitterstruktur vollständig gegen Sicht verdeckt, wobei die Vorrichtung wie ein Spiegel funktioniert. In dem betätigten Zustand verformen sich die langgestreckten Bandelemente derart, dass sie die Gitterstruktur der Halterungen freigeben, wodurch ein teilweise konformes Beugungsgitter entsteht. Konforme Gittervorrichtungen sind daher funktionell vergleichbar mit metallisierten Elastomergelgittern, haben jedoch das höhere Geschwindigkeitspotenzial von Gitterlichtventilen. Außerdem ist die Herstellung mit CMOS-ähnlichen Prozessen kompatibel. Einige konforme Gittervorrichtungen weisen nicht die maximal mögliche optische Leistung und den maximal möglichen Kontrast auf, weil die Halterungsstruktur unterhalb der langgestreckten Bandelemente möglicherweise nicht optimal ist. Es besteht daher Bedarf nach einer besseren Halterungsstruktur. 1, die nicht Teil der Erfindung ist, zeigt die Struktur von zwei seitlich benachbarten konformen Gittervorrichtungen 5a und 5b in einem nicht betätigten Zustand. In diesem Beispiel können die Vorrichtungen durch Anwendung einer elektrostatischen Kraft betrieben werden. Die Gittervorrichtungen 5a und 5b werden auf einem Substrat 10 gebildet, das aus Glas, Metall, Kunststoff oder Halbleitermaterialien hergestellt ist, und welches mit einer unteren Leitschicht 12 bedeckt ist, die als eine Elektrode zur Betätigung der Vorrichtungen dient. Die untere Leitschicht 12 kann aus derartigen Materialien, wie Aluminium, Titan, Gold, Silber, Wolfram, dotiertem Silicium oder Indiumzinnoxid hergestellt sein. Die untere Leitschicht 12 ist mit einer dielektrischen Schutzschicht 14 bedeckt, gefolgt von einer Abstandsschicht 18.
  • Auf der Abstandsschicht 18 ist eine Bandschicht 20 ausgebildet, die von einer Reflexionsschicht 22 bedeckt ist. In dem vorliegenden Beispiel ist die Reflexionsschicht 22 auch ein Leiter, um Elektroden für die Betätigung der konformen Gittervorrichtungen 5a und 5b bereitzustellen. Die Reflexions- und Leitschicht 22 ist bemustert, um den beiden konformen Gittervorrichtungen 5a und 5b Elektroden bereitzustellen. Die Bandschicht 20 umfasst vorzugsweise ein Material mit einer ausreichenden Zugfestigkeit, um eine große Rückstellkraft bereitzustellen. Beispiele für Bandmaterialien sind Siliciumnitrid, Titanaluminid und Titanoxid. Die Dicke und Zugspannung der Bandschicht 20 sind so gewählt, dass die Leistung durch Beeinflussung der elektrostatischen Kraft zur Betätigung sowie die Rückstellkraft optimiert werden. Diese Kräfte beeinträchtigen die Spannungsanforderung, die Geschwindigkeit und die Resonanzfrequenz der konformen Gittervorrichtungen 5a und 5b.
  • Jede der beiden Vorrichtungen 5a und 5b hat ein zugehöriges, langgestrecktes Bandelement 23a bzw. 23b, das aus der Reflexions- und Leitschicht 22 und der Bandschicht 20 bemustert ist. Die langgestreckten Bandelemente 23a bzw. 23b werden von den Endhalterungen 24a und 24b gehaltert, die aus der Abstandsschicht 18 und einer oder mehreren Zwischenhalterungen 27 ausgebildet sind. In 1 werden drei Zwischenhalterungen 27 gezeigt, die aus der Abstandsschicht 18 ausgebildet sind. Diese Zwischenhalterungen 27 sind gleichmäßig beabstandet, um vier gleichbreite Kanäle 25 zu bilden. Die langgestreckten Bandelemente 23a und 23b sind an den Endhalterungen und an den Zwischenhalterungen 27 befestigt. Die Endhalterungen 24a und 24b sind nicht nur an ihren Kanten, die auf den Kanal 25 ausgerichtet sind, definiert. Eine Vielzahl quadratischer Distanzelemente 29 ist unten auf den Kanälen 25 aus der Abstandsschicht 16 ausgebildet. Diese Distanzelemente 29 reduzieren die Möglichkeit, dass Bandelemente bei Betätigung ankleben. Die Distanzelemente können zudem in nicht quadratischen Formen bemustert sein, beispielsweise rechtwinkligen oder runden Formen.
  • Eine Draufsicht eines linearen Arrays konformer Gittervorrichtungen aus vier Vorrichtungen 5a, 5b, 5c und 5d wird in 2 gezeigt, die nicht Teil der Erfindung ist. Die langgestreckten Bandelemente sind über dem Teil des Diagramms unterhalb der Linie 2-2 teilweise entfernt dargestellt, um die darunter liegende Struktur zu zeigen. Für die beste optische Leistung bei maximalem Kontrast sind die Zwischenhalterungen 27 vollständig unterhalb der langgestreckten Bandelemente 23a, 23b, 23c und 23d verdeckt. Bei Betrachtung von oben sind die Zwischenhalterungen daher in den Lücken 28 zwischen den konformen Gittervorrichtungen 5a5d nicht sichtbar. Hier hat jede der konformen Gittervorrichtungen drei Zwischenhalterungen 27 mit vier gleichbreiten Kanälen 25. Einige konforme Gittervorrichtungen können auch nur eine einzelne Zwischenhalterung 27 aufweisen. Der Mitte-Mitte-Abstand Λ der Zwischenhalterungen 27 oder äquivalent dazu der Mitte-Mitte-Abstand der Kanäle 25 der konformen Gittervorrichtung bildet die Periode Λ der konformen Gittervorrichtungen in dem betätigten Zustand. Wie später detailliert erläutert wird, hat die Breite b der Zwischenhalterungen 27 eine wichtige Wirkung auf den Beugungswirkungsgrad. Die langgestreckten Bandelemente 23a23d sind mechanisch und elektrisch voneinander isoliert, was einen unabhängigen Betrieb der vier konformen Gittervorrichtungen 5a5d ermöglicht. Die untere Leitschicht 12 aus 1 kann allen diesen Vorrichtungen gemeinsam sein.
  • 3a ist eine Seitenansicht durch Linie 3-3 aus 2 von zwei Kanälen 25 der konformen Gittervorrichtung 5a im unbetätigten Zustand. 3b zeigt die gleiche Ansicht im betätigten Zustand. Für den Betrieb der Vorrichtung wird eine elektrostatische Kraft erzeugt, indem eine Spannungsdifferenz zwischen der unteren Leitschicht 12 und der Leitschicht 22 des langgestreckten Bandelements 23a erzeugt angelegt wird. In dem unbetätigten Zustand (siehe 3a) ohne Spannungsdifferenz ist das Bandelement 23a zwischen den Halterungen flach aufgehängt. In diesem Zustand wird ein einfallender Lichtstrahl 30 hauptsächlich in Spiegelrichtung 32 reflektiert. Um den betätigten Zustand zu erhalten, wird eine Spannung an die konforme Gittervorrichtung 5b angelegt, die das langgestreckte Bandelement 23a verformt und ein teilkonformes Gitter mit Periode Λ erzeugt. 3b zeigt die Vorrichtung im vollständig betätigten Zustand mit dem langgestreckten Bandelement 23a in Kontakt mit den Distanzelementen 29. Die Höhendifferenz zwischen dem Boden des Elements 23a und der Oberkante der Distanzelemente 29 ist derart gewählt, dass die Distanz ca. ¼ der Wellenlänge λ des einfallenden Lichts beträgt. Die optimale Höhe hängt von der konkreten Form der betätigten Vorrichtung ab. Im betätigten Zustand wird der einfallende Lichtstrahl 30 hauptsächlich in die +1. Ordnung 35a und in die –1. Ordnung 35b gebeugt, wobei zusätzliches Licht in der +2. Ordnung 36a und –2. Ordnung 36b gebeugt wird. Eine kleine Menge Licht wird sogar in höheren Ordnungen gebeugt und ein Teil davon reflektiert. Für Licht, das rechtwinklig auf die Oberfläche der Vorrichtung einfällt, ist der Winkel θm zwischen dem einfallenden Lichtstrahl und dem gebeugten Lichtstrahl der mten Ordnung gegeben durch sinθm = mλ/Λ, wobei m eine ganze Zahl ist. Eine oder beide Beugungsordnungen können, je nach Anwendung, gesammelt und von dem optischen System verwendet werden. Wenn die angelegte Spannung entfernt wird, bringen die Kräfte aufgrund der Zugbelastung und des Biegemoments das Bandelement 23a in seinen ursprünglichen, unbetätigten Zustand zurück.
  • 4a und 4b, die nicht Teil der Erfindung sind, zeigen eine gedrehte Seitenansicht durch die Linie 4-4 aus 2 der konformen Gittervorrichtung 5b im unbetätigten bzw. betätigten Zustand. Das langgestreckte Bandelement 23a wird von der Endhalterung 24b und der (in dieser Perspektive nicht gezeigten) benachbarten Zwischenhalterung 27 gehaltert. Durch Anlegen einer Spannung wird die Vorrichtung betätigt, wie in 4b gezeigt.
  • In einem Beispiel wird das lineare Array aus konformen Gittervorrichtungen durch Anordnen der Vorrichtungen, wie in 13 gezeigt, ausgebildet, wobei die Richtung der Gitterperiode Λ (die y-Richtung) rechtwinklig zur Arrayrichtung (x-Richtung) verläuft. Die Beugungsordnungen verlaufen dann in verschiedenen Winkeln in der y-z-Ebene und rechtwinklig zur Arrayrichtung. Sogar mit einem größeren linearen Array, der möglicherweise aus mehreren Tausend Vorrichtungen besteht, die durch ein schmales Lichtband beleuchtet werden, werden die Beugungsordnungen räumlich über eine relativ kurze Distanz geteilt. Dieses Merkmal vereinfacht die Konstruktion des optischen Systems und ermöglicht Konstruktionen, in denen die Trennung der Ordnungen räumlich erfolgen kann, ohne dass Schlieren-Optiken erforderlich sind.
  • In einem linearen Array aus konventionellen Gitterlichtventilvorrichtungen verläuft die Gitterperiode parallel zu den Arrayrichtungen, wodurch zur räumlichen Trennung der Beugungsordnungen eine wesentlich größere Distanz erforderlich ist. Als Vergleichsbeispiel sei angenommen, dass ein Array aus konformen Gittervorrichtungen 4 cm lang ist (2000 Vorrichtungen zu je 20 μm Breite), die von einer 100 μm breiten Lichtzeile beleuchtet werden. Für Vorrichtungen mit einer Periode, die derart gewählt ist, dass die Beugungsordnungen rechtwinklig um 1 Grad getrennt sind, werden die Ordnungen räumlich um ca. 6 mm getrennt. Ein ähnliches 4 cm langes Array aus Gitterlichtventilen nach dem Stand der Technik mit einem Winkelabstand von 4 Grad zwischen den Beugungsordnungen würde eine räumliche Trennung von mindestens 60 cm erfordern, ohne die Verwendung einer Schlieren-Optik.
  • Weil die Gitterperiode Λ in einem konformen Gitterarray rechtwinklig zur Arrayrichtung verläuft, kann das Array viele Perioden breit sein, ohne dass wesentliche Einschränkungen bezüglich der Anzahl der möglichen Perioden bestehen. Durch Erhöhen der Anzahl der Perioden verbessern sich die optischen Ausrichtungstoleranzen und es wird ein gewisses Maß an Redundanz für den Fall eines lokalen Vorrichtungsausfalls bereitgestellt. Wenn ein Teil einer konformen Gittervorrichtung nicht mehr funktioniert, kann der optische Strahl auf einen funktionsfähigen Teil neu positioniert werden.
  • Um den elektromechanischen und optischen Betrieb der konformen Gittervorrichtung im Detail zu verstehen, ist es hilfreich, die erwartete Leistung einer realistischen Konstruktion mit folgenden Materialien und Parametern zu prüfen:
    Werkstoff des Substrats 10: Silicium
    Untere Leitschicht 12: dotiertes Silicium
    Schutzschicht 14: Siliciumdioxid, Dicke = 50 nm
    Abstandsschicht 18: Siliciumdioxid, Dicke = 150 nm
    Bandschicht 20: Siliciumnitrid, Dicke = 100 nm, Zugbelastung = 600 MPa
    Reflexions- und Leitschicht 22: Aluminium, Dicke = 50 nm
    Gitterperiode Λ = 20 μm
    Aufgehängte Länge des langgestreckten Bandelements 23a = 16 μm
    Breite des langgestreckten Bandelements 23aw = 30 nm
    Breite der Zwischenhalterung 27b = 4 μm
  • Diese Art der Konstruktion ermöglicht die Fertigung mit CMOS-Verfahren und die Integration in CMOS-Schaltungen. Die Resonanzfrequenz der Bandelemente in dieser konkreten Konstruktion beträgt ca. 11 MHz. Die meisten Praxiskonstruktionen arbeiten mit Resonanzfrequenzen zwischen 2 MHz und 15 MHz. Wegen dieser hohen Resonanz kann die Schaltzeit der Vorrichtung recht kurz sein.
  • 5 und 6, die nicht Teil der Erfindung sind, zeigen den modellierten elektromechanischen Betrieb dieser konkreten Vorrichtung. 5 ist eine Kurve der Position des langgestreckten Bandelements an der Mitte eines Kanals als Funktion der angelegten Spannung mit Darstellung der zugehörigen Hysterese. Wenn die Spannung von 0 V erhöht wird, steigt in einem ersten Betriebszustand der Mittenversatz nahezu quadratisch, wodurch das langgestreckte Bandelement verformt wird, bis die Pulldown-Spannung von 20,1 V in einem zweiten Betriebszustand erreicht wird. Bei dieser Spannung überwindet die elektrostatische Kraft die Zugrückstellkraft, und das langgestreckte Bandelement schlägt in das Substrat. Durch weitere Erhöhung der angelegten Spannung ändert sich die Form des verformten Bandes, kann aber die Mittenposition nicht ändern. Wenn das Bandelement in Kontakt mit dem Substrat ist, kann die Spannung unter den Pulldown-Wert gesenkt werden, während der Kontakt erhalten bleibt, bis bei 10,8 V eine Trennung erfolgt. Diese Hysterese lässt sich nutzen, um die optische Leistung der Vorrichtung zu verbessern. Sie kann zudem in bestimmten Anwendungen als Schalter genutzt werden.
  • 6, die nicht Teil der Erfindung ist, zeigt das Profil des langgestreckten Bandelements in dem zweiten Betriebszustand, d.h. im betätigten Zustand bei 22,1 V. Die Länge des erhabenen Bereichs 42 entspricht in etwa der Breite der Zwischenhalterung b = 4 μm. Die Länge des abgesenkten Bereichs 44 in Kontakt mit dem Substrat entspricht in etwa 8,2 μm. Um die maximal mögliche Beugungsleistung zu erzielen, muss, wie in 7 gezeigt, die Länge des erhabenen Bereichs 42 allerdings verlängert werden, um den Arbeitszyklus des Gitters zu verbessern.
  • 7 zeigt eine Kurve der Beugungsleistung der konformen Gittervorrichtung als eine Funktion der Änderung der Breite der Zwischenhalterung b, während die Periode Λ = 20 μm erhalten bleibt. Es sei angenommen, dass die angelegte Spannung 110% der Pulldown-Spannung beträgt, dass die Beleuchtungswellenlänge 550 nm beträgt, dass der Reflexionsgrad 100% beträgt und dass die Lücken 55 zwischen den langgestreckten Bandelementen vernachlässigt werden können. Leistungskurven werden für vier Fälle dargestellt: ein optisches System, das 1) die Strahlen der Ordnung –1 und +1 sammelt; das 2) die Strahlen der Ordnung –2, –1, +1 und +2 sammelt; das 3) die Strahlen der Ordnung –3, –2, –1, +1, +2 und +3 sammelt und 4) das die Strahlen aller Ordnungen sammelt, ausgenommen der Ordnung 0. Aus 7 wird deutlich, dass das Beispiel von 6 mit b = 4 μm nicht die bestmögliche Beugungsleistung erzielt. Um eine gute Beugungsleistung zu erzielen, ist die Breite der Zwischenhalterungen im Allgemeinen so gewählt, dass Λ/4 ≤ b ≤ Λ/2. Für das langgestreckte Bandelement mit Periode Λ = 20 μm wird eine gute Leistung mit 5μm ≤ b ≤ 10μm erzielt. Der jeweilige Wert von b, der die maximale Beugungsleistung erzielt, hängt von den jeweiligen Bandmaterialien, der Bandgeometrie und davon ab, welche Strahlen von dem optischen System gesammelt werden. Das Bandmaterial kann von Bedeutung sein, weil es die Ausdehnung des erhabenen Bereichs 42 über die Breite der Zwischenhalterung b betrifft. Im Allgemeinen liegt die maximal erzielte Beugungsleistung bei b ∼ Λ/3.
  • 8, die nicht Teil der Erfindung ist, zeigt das Profil des langgestreckten Bandelements in einem betätigten Zustand mit wechselweise erhabenen und abgesenkten Bereichen 42 bzw. 44 für eine konforme Gittervorrichtung mit Λ = 20 μm und b = 7 μm zur Erzielung einer verbesserten Beugungsleistung. Die Länge des abgesenkten Bereichs 44 entspricht im Wesentlichen der Länge des erhabenen Bereichs 42.
  • 9, die nicht Teil der Erfindung ist, zeigt ein alternatives Beispiel, das eine Draufsicht eines linearen Arrays aus vier Vorrichtungen zeigt, ähnlich denen in 2. Jeder konformen Gittervorrichtung 5a, 5b, 5c und 5d sind jetzt zwei langgestreckte Bandelemente (51a, 52a), (51b, 52b), (51c, 52c) bzw. (51d, 52d) zugeordnet. Die Unterteilung jeder Vorrichtung ermöglicht die Fertigung breiterer Vorrichtungen ohne wesentliche Beeinträchtigung der optischen Leistung. Das bevorzugte Fertigungsverfahren ist das Ätzen einer Opferschicht aus dem Kanal, wodurch die Bandelemente freigesetzt werden. Die Lücken 55 zwischen den Elementen ermöglichen dem Ätzmittel, zur Opferschicht zu gelangen. Eine Erhöhung der Lückenzahl 55 kann daher den Ätzprozess verbessern. In der Praxis kann es notwendig sein, die konformen Gittervorrichtungen in mehr als zwei Teile zu unterteilen. Die langgestreckten Bandelemente sind über dem Teil des Diagramms unterhalb der Linie 2-2 teilweise entfernt dargestellt, um die darunter liegende Struktur zu zeigen. Für die beste optische Leistung bei maximalem Kontrast sind die Zwischenhalterungen 27 vollständig unterhalb der langgestreckten Bandelemente 51a, 52a, 51b, 52b, 51c, 52c, 51d und 52d verborgen. Bei Betrachtung von oben dringen die Zwischenhalterungen 27 daher nicht in die Lücken 55 ein. Die Gitterelemente innerhalb einer einzelnen konformen Gittervorrichtung sind mechanisch isoliert, aber elektrisch gekoppelt. Sie arbeiten daher im Gleichklang, wenn eine Spannung angelegt wird.
  • 10, die nicht Teil der Erfindung ist, zeigt eine Seitenansicht durch Linie 10-10 aus 9 von zwei Kanälen 25 der konformen Gittervorrichtung 5a im unbetätigten Zustand. In diesem konkreten Beispiel ist die Vorrichtung nicht perfekt gefertigt, so dass sich in Nähe der Zwischenhalterungen 27 ein kleiner Höhenversatz ε befindet. Das langgestreckte Bandelement 52a hat im unbetätigten Zustand ein schwaches Gitter der Periode Λ, was bewirkt, dass ein kleiner Teil eines einfallenden Lichtstrahls in den Ordnungen –2, –1, +1 und +2 gebeugt wird. Dies führt zu einer Kontrastminderung der Vorrichtung. Derselbe Fertigungsfehler kann in den konformen Gittervorrichtungen der 1 und 2 vorhanden sein. Eine Möglichkeit zur Minimierung der Wirkung dieser schwachen Gitterbildung auf den Kontrast besteht darin, die Breite b der Zwischenhalterungen so klein wie möglich zu machen. Wie zuvor erläutert, verringert sich allerdings durch Reduzierung der Breite b die Beugungsleistung der Vorrichtung. Eine alternative Lösung, die eine hohe Beugungsleistung bewahrt, wird nachfolgend beschrieben.
  • 11a11c zeigt drei Konstruktionen, die denselben Wert b für die Zwischenhalterungen 27 aus 10 aufweisen. Jede dieser Konstruktionen führt somit zur gleichen Beugungsleistung im unbetätigten Zustand. 11a, die nicht Teil der Erfindung ist, zeigt die Zwischenhalterungen 27 aus 10. 11b zeigt ein Ausführungsbeispiel, in dem die Zwischenhalterungen 27 in ein Paar aus korrespondierenden Unterhalterungen 27a und 27b unterteilt sind. Diese Unterteilung verbessert den Kontrast der Vorrichtung durch Reduzierung der Beugungsleistung der schwachen Gitterbildung in dem unbetätigten Zustand. Jedes dieser Paare korrespondierender Unterhalterungen 27a und 27b könnte kleiner als 1 μm breit sein. 11c zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, bei dem die Zwischenhalterungen 27 in weitere Unterhalterungen unterteilt sind. Die Unterhalterungen könnten auch aus der Außenwand der Zwischenhalterungen ausgebildet sein.
  • Diese Art der Unterteilung ermöglicht die Herstellung einer Vorrichtung, die gleichzeitig einen hohen Kontrast und eine hohe Leistung aufweist. Für das Beispiel aus 8 mit hoher Leistung beträgt Λ = 20 μm und b = 7 μm, wobei jede der Zwischenhalterungen 27 entsprechende Zwischenhalterungen 27a und 27b von 1 μm Breite aufweisen könnte, die um 5 μm voneinander getrennt sind. Die Unterhalterungen können auch anders als quadratisch oder rechtwinklig ausgebildet sein.
  • Außerdem kann sich die Konstruktion der Unterhalterungen auf die Spannung auswirken, die verwendbar ist, um die langgestreckten Bandelemente in dem betätigten Zustand zu halten. Die Spannung muss niedrig genug sein, damit die langgestreckten Bandelemente zwischen den Unterhalterungen aufgehängt bleiben. Gute Konstruktionen von Unterhalterungen weisen nur eine geringe Ablenkung zwischen einzelnen Paaren von Unterhalterungen auf, aber zwischen den Zwischenhalterungen kommt es zu einer vollständigen Ablenkung. Das zuvor besprochene Beispiel mit hoher Leistung und Λ = 20 μm, b = 7 μm und zwei 1 μm breiten Unterhalterungen, die um 5 μm beabstandet sind, erfüllt die Voraussetzung einer sehr geringen Ablenkung zwischen den Unterhalterungen im betätigten Zustand für einen großen Bereich von Spannungen. Für eine größere Spannungsbandbreite könnten drei 1 μm breite Unterhalterungen verwendet werden, die um 2 μm zueinander beabstandet sind.
  • 12 zeigt eine Seitenansicht von zwei Kanälen 25 einer konformen Gittervorrichtung 5a in dem unbetätigten Zustand, wobei die Zwischenhalterungen 27 in zwei Unterhalterungen 27a und 27b unterteilt sind, wie in 11b gezeigt. Diese Vorrichtung weist einen höheren Kontrast als die Vorrichtung aus 10 auf, weil ein größerer Prozentsatz des langgestreckten Bandelements 52a auf gleicher Höhe liegt. In der Praxis kann die relative Verbesserung größer als in 12 dargestellt sein, weil die Zugkraft des langgestreckten Bandelements 52a eine gewisse Abflachung bewirkt, wodurch sich die Gesamthöhe ε verringert. Es sei darauf hingewiesen, dass das langgestreckte Bandelement im betätigten Zustand (in 12 nicht gezeigt) nahezu flach zwischen den Unterhalterungen 27a und 27b einer einzelnen korrespondierenden Zwischenhalterung 27 bleibt, während es Kontakt mit den Distanzelementen 29 zwischen zwei benachbarten Zwischenhalterungen 27 hat.

Claims (7)

  1. Elektromechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) mit verbesserter optischer Leistungsfähigkeit und verbessertem Kontrast, mit: a) einem langgestreckten, eine Licht reflektierende Oberfläche aufweisenden Bandelement (23a); b) zwei endseitigen Halterungen (24a) und (24b) zum Haltern des langgestreckten Bandelements (23a) an beiden Enden über einem Substrat; c) mindestens einer Zwischenhalterung (27), an der das langgestreckte Bandelement befestigt ist und die in mindestens zwei Unterhalterungen (27a und 27b) unterteilt ist; und d) Mitteln zum Aufgingen einer Kraft auf das langgestreckte Bandelement (23a), um zu bewirken, dass sich das Element zwischen einem ersten und einem zweiten Betriebszustand verformt, wobei im zweiten Betriebszustand das langgestreckte Bandelement (23a) die Zwischenhalterung (27) mechanisch umschlingt, während es nahezu eben zwischen den Unterhalterungen (27a) und (27b) innerhalb der Zwischenhalterung (27) aufgehängt bleibt, um ein optisches Gitter zu bilden.
  2. Mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) nach Anspruch 1, worin die Breite b für die Zwischenhalterung (27) entlang einer Richtung der Gitterperiode Λ gewählt ist derart, dass Λ/4 ≤ b ≤ Λ/2.
  3. Mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) nach Λnspruch 1, worin die Breite b für die Zwischenhalterung (27) entlang einer Richtung der Gitterperiode Λ gewählt ist derart, dass b ∼ im Wesentlichen Λ/3 entspricht.
  4. Mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) nach Anspruch 1, die in ihrem ersten Betriebszustand als ebener Reflektor und in ihrem zweiten Betriebszustand als Beugungsgitter wirkt.
  5. Mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) nach Anspruch 1, worin das langgestreckte Bandelement (23a) an den Unterhalterungen (27a) und (27b) und an den endseitigen Halterungen (24a) und (24b) befestigt ist.
  6. Mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) nach Anspruch 1, worin das langgestreckte Bandelement (23a) in seinem ersten Betriebszustand eben aufgehängt ist und die mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) in ihrem zweiten Betriebszustand ein kontinuierlich variierendes Profil mit mindestens zwei Perioden aufweist.
  7. Mechanische gleichförmige Gittervorrichtung (5a) nach Anspruch 1, worin das langgestreckte Bandelement (23a) eine Vielzahl parallel voneinander beabstandeter Abschnitte aufweist.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7119936B2 (en) * 2004-12-15 2006-10-10 Eastman Kodak Company Speckle reduction for display system with electromechanical grating
US7621641B1 (en) 2005-08-02 2009-11-24 Eastman Kodak Company High luminance display apparatus using LCD panel
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Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4626920A (en) 1984-01-30 1986-12-02 New York Institute Of Technology Solid state light modulator structure
US4857978A (en) 1987-08-11 1989-08-15 North American Philips Corporation Solid state light modulator incorporating metallized gel and method of metallization
US5311360A (en) 1992-04-28 1994-05-10 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for modulating a light beam
US6172796B1 (en) * 1998-12-18 2001-01-09 Eastman Kodak Company Multilevel electro-mechanical grating device and a method for operating a multilevel mechanical and electro-mechanical grating device
US6307663B1 (en) * 2000-01-26 2001-10-23 Eastman Kodak Company Spatial light modulator with conformal grating device
US6411425B1 (en) * 2000-09-27 2002-06-25 Eastman Kodak Company Electromechanical grating display system with spatially separated light beams

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